JPWO2006098475A1 - パネルおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【解決手段】液晶表示パネルは、ＴＦＴ基板１と、ＴＦＴ基板に対向配置されたカラーフィルタ（ＣＦ）基板と、ＴＦＴ基板およびＣＦ基板に挟まれ、両基板の周辺部に形成されたシール材と、ＴＦＴ基板およびＣＦ基板の間に介在する液晶層とを備える。ＣＦ基板はシール材が設けられる周辺部に遮光層を有する。この遮光層は、ＴＦＴ基板の配線と重なる領域に隙間を有する。

Description

本発明はパネルおよびその製造方法に関する。特に、一滴充填方式により液晶層が形成された液晶パネルに関する。

液晶パネルを製造する工程の中には、パネル内に液晶材料を充填する工程がある。液晶材料の充填方法としては、ディップ式やディスペンサ式が挙げられる。これらの方法では、シール材を介して一対の基板を貼り合わせた後に、毛細管現象と圧力差とを利用して、シール材の開口部からパネル内に液晶材料を充填し、さらに開口部を封止する手法が採られている。しかし画面サイズの大型化に伴って、液晶材料充填のタクトタイムが長いことが問題となっている。

近年、パネル内に液晶材料を充填する他の方法として、一滴充填方式（ＯＤＦ方式や滴下貼り合わせ方式とも呼ばれている。）が開発されている。一滴充填方式とは、シールパターンに開口を設けずに、重ね合わせる前の一方の基板に形成されたシールパターン枠内に液晶材料を滴下し、減圧下で一対の基板を重ね合わせた後に、シール材を硬化させる方式である。一滴充填方式によれば、画面サイズの大型化に対応でき、液晶材料充填のタクトタイムが飛躍的に短縮できるという利点がある。

しかし、一滴充填方式においては、シール材が硬化するまでは未硬化のシール材が液晶材料と接触するので、シール材中の成分が液晶層中に混入するおそれがある。したがって、液晶配向の状態が不安定になったり、滲みやムラ、フリッカーなどが発生したりすることにより、液晶パネルの表示品位低下のおそれがある。

一滴充填方式において未硬化のシール材と液晶材料との接触を防ぐための技術が特許文献１〜４に開示されている。具体的には、シール材の液晶層側にシールバリアを設けることにより、未硬化のシール材と液晶材料との接触を防ぐことが開示されている。
特開平６−１９４６１５号公報 特開２００２−４０４４２号公報 特開２００３−３１５８１０号公報 特開２００４−２３３６４８号公報

しかし、この方法では、シールバリアを形成する工程が増えるので、製造コストを上昇させるという問題がある。

一方、モバイルパネルのように狭額縁のパネルでは、非表示領域をできる限り低減するために、パネルの周縁から距離を空けずに、遮光層（ブラックマトリクス）が表示部の周辺部に設けられる。図７（ａ）はモバイル液晶パネルを模式的に示す平面図であり、図７（ｂ）は図７（ａ）中のＹで囲まれた部分におけるＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板１００の模式的な拡大図であり、図７（ｃ）は図７（ａ）中のＹで囲まれた部分におけるカラーフィルタ基板２００の模式的な拡大図である。図７（ｃ）に示すようにカラーフィルタ基板２００のシール材３００の領域にブラックマトリクス５００が設けられるので、カラーフィルタ基板２００に対向して配置されるＴＦＴ基板１００側から紫外光などの光を照射して、シール材３００を硬化させる必要がある。

ＴＦＴ基板１００の周辺部には各種の配線４００が形成されているので、ＴＦＴ基板１００側から光（紫外光）を照射した場合、配線４００により遮光されてシール材３００の光重合反応が十分に進行しない部分がある。すなわち、従来はＴＦＴ基板１００側からしか光（紫外光）を照射することができず、またＴＦＴ基板１００の配線４００により遮光されたシール材３００は十分な硬化が得られなかった。そのため、シール材３００中に光（紫外線）硬化剤だけでなく、熱硬化剤を含有させて、紫外線硬化とともに熱硬化を併用するしかなかった。

しかし、熱硬化時の加熱によってシール材３００の粘度の低下がいったん起こった後に、硬化が進行して粘度が上昇していく。この過程で液晶温度が上昇してネマティック・等方相転移温度（ＮＩ点）を越えるので、シール材３００の硬化が十分進行するより先に、シール材３００中の不純物が液晶層中へ混入するおそれがある。

本発明の目的の一つは、シール材中の未硬化な部分を低減することである。また本発明の他の目的は、製造コストの上昇を抑えつつ、シール材中の成分が液晶層中に混入するおそれが低減された液晶パネルを提供することであり、究極的には、良好な表示品位を維持して、液晶パネルの信頼性を確保することである。

本発明は、シール材が設けられる周辺部において、第１基板の配線に対してネガポジの関係になる隙間（スリット）を有する遮光層を第２基板に形成することによって、上記課題を解決する。具体的には、本発明のパネルは、第１基板と、前記第１基板に対向配置された第２基板と、前記第１基板および前記第２基板に挟まれ、かつ前記第１基板および前記第２基板の周辺部に形成されたシール材とを備える。前記第１基板は遮光性を有する配線を少なくとも前記周辺部に有している。一方、前記第２基板は前記周辺部に遮光層を有しており、前記遮光層は前記配線と重なる領域に隙間を有する。本発明のパネルによれば、パネルの両面側から光を照射してシール材を硬化させることができるので、シール材中の未硬化な部分を低減することができる。

本発明のパネルは、前記第１基板および前記第２基板の間に介在する液晶層をさらに備えた液晶パネルであっても良い。本発明の液晶パネルにおけるシール材は、液晶材料を注入するための開口を持たないループ状（閉じた枠状）であっても良い。言い換えれば、本発明の液晶パネルは、一滴充填方式により液晶層が形成されても良い。また、液晶材料を注入するための開口をシール材が有しており、ディップ式やディスペンサ式によりシール材の開口から液晶材料を充填しても良い。

シール材は紫外線などの光を照射することで光硬化反応が進行する光硬化型シール材だけでなく、光照射と加熱との両方で硬化反応が進行する光／熱併用硬化型シール材であっても良い。言い換えれば、シール材が光硬化剤だけでなく、熱硬化剤を含む組成物であっても良い。但し、熱硬化時の加熱により、未硬化シール材中の不純物が液晶層中へ混入するおそれがあるので、光／熱併用硬化型シール材よりも光硬化型シール材が好ましい。

特に、本発明の液晶パネルは、両面側からの照射が可能であるので、光硬化型シール材を用いることにより硬化時間をより短縮することができ、液晶層と未硬化のシール材との接触時間を短縮することができる。したがって、本発明の液晶パネルは、シール材中の成分が液晶層中に混入するおそれがより低減されるので、より確実に表示品位を維持することができる。

本発明の液晶パネルは、前記シール材に沿って形成され、前記シール材側に傾斜面を有する隔壁を前記シール材の内側にさらに備えていても良い。この液晶パネルは、シール材の内側（液晶層側）に形成された隔壁を有するので、第１基板と第２基板とを貼り合わせてからシール材を硬化させるまでの間に、未硬化シール材中の成分が液晶層と接触するのを防ぐことができる。また隔壁のシール材側の面が傾斜しているので、隔壁のシール側の面がパネル面に対して垂直である場合に比して、隔壁とシール材との接触面積がより大きくなる。これにより、隔壁とシール材との接着信頼性が向上するので、第１基板および第２基板の相対的な位置ずれをより確実に防ぐことができる。さらに、シール材の幅を短縮することが可能となるので、表示に寄与しない、液晶表示パネル周辺の非表示領域の縮小が可能となる。すなわち、液晶表示パネルの小型化が可能となる。

本発明は、第１基板と、前記第１基板に対向配置された第２基板と、前記第１基板および前記第２基板に挟まれ、かつ前記第１基板および前記第２基板の周辺部に形成されたシール材と、前記第１基板および前記第２基板の間に介在する液晶層とを備えた液晶パネルを製造する方法をも提供する。この製造方法は、遮光性を有する配線を前記第１基板の少なくとも前記周辺部に形成する工程と、前記配線に重なる領域に隙間を有する遮光層を前記第２基板の前記周辺部に形成する工程と、前記第１基板および前記第２基板のうちいずれか一方の基板の前記周辺部に光硬化剤を含む未硬化シール材をループ状に塗布する工程と、前記未硬化シール材に包囲された領域内に液晶材料を滴下する工程と、前記第１基板および前記第２基板を貼り合わせる工程と、前記未硬化シール材に対して前記第１基板および前記第２基板の両側から光を照射することによって、前記未硬化シール材を硬化させて、前記シール材を形成する工程とを含む。なお、本発明において「光」は、可視光、紫外線、Ｘ線を包含する。

本発明の製造方法によれば、一滴充填方式を採用した液晶パネルの製造方法において、光照射のみによりシール材を十分に硬化させることができるので、光／熱併用硬化型シール材を用いた場合よりも、シール材中の不純物が液晶層中へ混入するおそれを低減することができる。したがって、より確実に表示品位を維持して、液晶パネルの信頼性を確保することができる。

本発明によればシール材中の未硬化な部分を低減することができる。また本発明を液晶パネルに適用した場合、製造コストの上昇を抑えつつ、シール材中の成分が液晶層中に混入するおそれを低減することができる。したがって、良好な表示品位を維持して、液晶パネルの信頼性を確保することができる。

図１（ａ）は実施形態１の液晶表示パネルを模式的に示す平面図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）中のＸで囲まれた部分におけるＴＦＴ基板の模式的な拡大図であり、図１（ｃ）は図１（ａ）中のＸで囲まれた部分におけるカラーフィルタ基板の模式的な拡大図である。 図１（ａ）中のＩＩ−ＩＩ線断面図である。 図３（ａ）〜図３（ｅ）は図１（ａ）中のＡ〜Ｅでそれぞれ囲まれた部分におけるＴＦＴ基板の模式的な拡大図である。 実施形態１の液晶表示パネルの製造工程を模式的に示す断面図である。 実施形態２の液晶表示パネルの周辺部における模式的な断面図である。 実施形態２の液晶表示パネルの製造工程を模式的に示す断面図である。 図７（ａ）はモバイル液晶パネルを模式的に示す平面図であり、図７（ｂ）は図７（ａ）中のＹで囲まれた部分におけるＴＦＴ基板の模式的な拡大図であり、図７（ｃ）は図７（ａ）中のＹで囲まれた部分におけるカラーフィルタ基板の模式的な拡大図である。

符号の説明

１ ＴＦＴ基板
２ ＣＦ基板
３ シール材
４ 配線
５ 遮光層
６ 隙間
７ 液晶層
８ 隔壁
１１ 静電気対策用回路ブロック
１２ 対向共通電極用配線
１３ 未硬化シール材
１４ ソースバスライン
１５ ゲートバスライン
１６ 検査用配線
１７ 液晶材料
１８ 感光性樹脂膜
８１ 傾斜面
８２ 側面
１００ ＴＦＴ基板
２００ カラーフィルタ基板
３００ シール材
４００ 配線
５００ ブラックマトリクス

以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。以下の実施形態では、液晶表示パネルを例示して説明する。しかし、本発明におけるパネルは、液晶表示パネル以外の他の表示パネルにも適用することができる。具体的には、表示媒体として液晶材料以外の光学媒体を採用した表示素子、例えば、プラズマ表示パネル（ＰＤＰ）、無機または有機のエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示パネル、エレクトロクロミック表示（ＥＣＤ）パネル、電気泳動表示パネルなどの表示パネルに適用できる。また、本発明のパネルは、画像表示を目的とした表示パネルに限定されず、他の目的に用いられるパネルにも適用することができる。例えば、画素を光学的に順次シフトさせる画像シフトパネルや三次元映像を表示可能とするパララックスバリアパネルにも適用することもできる。なお、画像シフトパネルは、典型的には、光の偏光状態を変調する液晶パネルと、この液晶パネルから出射された光の偏光状態に応じて光路をシフトさせる複屈折素子との組合せを少なくとも一組有する。またパララックスバリアパネルは、左目用画素および右目用画素を有する映像表示素子と組み合わせることにより、立体映像を表示することができる。

（実施形態１）
図１（ａ）は実施形態１の液晶表示パネルを模式的に示す平面図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）中のＸで囲まれた部分におけるＴＦＴ基板１の模式的な拡大図であり、図１（ｃ）は図１（ａ）中のＸで囲まれた部分におけるカラーフィルタ基板２の模式的な拡大図である。また図２は図１（ａ）中のＩＩ−ＩＩ線断面図である。

本実施形態の液晶表示パネルは、第１基板としてのＴＦＴ基板１と、ＴＦＴ基板１に対向配置された第２基板としてのカラーフィルタ（ＣＦ）基板２と、ＴＦＴ基板１およびＣＦ基板２に挟まれ、両基板１，２の周辺部に形成されたシール材３と、ＴＦＴ基板１およびＣＦ基板２の間に介在する液晶層７とを備える。

ＴＦＴ基板１は、それぞれが行方向に延びる複数のゲートバスライン（不図示）と、ゲートバスラインと交差して延びる複数のソースバスライン（不図示）と、ゲートバスラインおよびソースバスラインの交差部近傍に設けられたＴＦＴ（不図示）と、ＴＦＴを介してソースバスライン（不図示）に接続され、マトリクス状に配置された画素透明電極（不図示）と、画素透明電極を覆う液晶配向膜（不図示）とを有する。さらに、典型的には、ＴＦＴ基板１上のシール材３の外側に、ゲートバスラインおよびソースバスラインにそれぞれ信号を入力するための端子や駆動回路（いずれも不図示）が形成されている。

ＣＦ基板２は、カラーフィルタ層（不図示）と、各色のカラーフィルタ層の境界領域に形成されたブラックマトリクスと、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）などからなる対向共通電極と、ポリイミドやポリアミック酸などからなる液晶配向膜（不図示）とを有する。
液晶配向膜はラビング処理を通常行って使用するが、垂直配向膜を使う場合やＰＤＬＣ（ポリマ分散型液晶）表示モードではラビング処理を行わないこともある。

ＴＦＴ基板１およびＣＦ基板２はいずれも光透過性を有する。基板１，２の材料としては、石英ガラスやソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、低アルカリガラス、無アルカリガラスなどのガラス、ポリエステルやポリイミドなとのプラスチックが挙げられる。

シール材３は、両基板１，２の周縁に沿って連続的にループ状に形成され、両基板１，２を接着することにより、液晶材料を封止するとともに、パネル外の空気や水分が液晶層７中に混入するのを防ぐ機能を有する。シール材３としては、好ましくは紫外線硬化性の組成物が用いられる。例えば、アクリル系ポリマおよび／またはエポキシ系ポリマやアクリル−エポキシ系ポリマなどをベースにし、紫外線ないし可視光により反応する硬化剤（重合開始剤）を含む組成物が用いられる。シール材３の幅は、シール材３の材料などの様々な条件に左右され、一義的に決定されるものではないが、典型的には、０．３ｍｍ以上３ｍｍ以下程度である。

ＴＦＴ基板１は、シール材３が設けられる周辺部に配線４を有する。配線４は、典型的には、アルミニウム膜、チタン膜、アルミ合金膜、モリブデン合金膜、クロム膜などから、あるいはこれらの多層膜から形成され、光を殆ど透過させない特性（遮光性）を有する。図３（ａ）〜図３（ｅ）は図１（ａ）中のＡ〜Ｅでそれぞれ囲まれた部分におけるＴＦＴ基板１の模式的な拡大図である。図３（ａ）〜図３（ｅ）中の参照符号１１は静電気対策用回路ブロック、参照符号１２は対向共通電極用配線、参照符号１４はソースバスライン、参照符号１５はゲートバスライン、参照符号１６は検査用配線である。図３（ａ）〜図３（ｅ）に示すように、シール材３が設けられる周辺部には様々な配線４が形成され、またシール材３が形成された周辺部の面積のうち配線４が占める面積の割合は場所によって異なる。

ＣＦ基板２はシール材３が設けられる周辺部に遮光層５を有する。この遮光層５は、ＴＦＴ基板１の配線４と重なる領域に隙間６を有する。言い換えれば、図１（ｂ）および（ｃ）に示すように、遮光層５はＴＦＴ基板１の配線４に対してネガポジの関係になる隙間６を有する。遮光層５の材料は限定されず、樹脂や金属などであっても良い。

隙間６は、ＴＦＴ基板１の配線４の幅ｄと略等しいが、５μｍ以上が好ましく、１０μｍ以上がより好ましい。隙間６が５μｍ未満の場合、ＣＦ基板２側から光を照射してシール材３を光硬化させる際に、隙間６を通過する光量が少なくなり、隙間６に対応する領域（言い換えればＴＦＴ基板１の配線４の領域）のシール材３が硬化不十分となるおそれがある。但し、図３（ａ）〜図３（ｅ）に示すように、配線４の形成密度は場所により異なるので、配線４の形成密度が低い場合には、幅ｄが５μｍ未満の配線４であっても、それに対応する隙間６を５μｍ以上にしなくてもシール材３を十分に硬化できることがある。

本実施形態の液晶表示パネルは、ＴＦＴ基板１の配線４と重なる領域において遮光層５が隙間６を有するので、パネルの両面から光照射を行なってシール材３を硬化させることができる。すなわち、光硬化性のシール材３を用いた場合でも、シール材３中の未硬化な部分を低減することができる。また、シール材３と液晶層７との間に隔壁を設けなくても良いので、製造コストの上昇を抑えることができる。したがって、液晶表示パネルの表示品位を良好に維持して、信頼性を確保することができる。なお、遮光層５の隙間６に対応するＴＦＴ基板１には、遮光性を有する配線４が形成されているので、液晶表示パネルの使用時において、バックライトなどの光源の光漏れを防ぐことができる。

次に、本実施形態の液晶表示パネルを製造する工程について説明する。図４は本実施形態の液晶表示パネルの製造工程を模式的に示す断面図である。なお、ＴＦＴ基板１は、フォトリソグラフィ法などの常套手段により形成することができるので、製造工程の説明を省略する。

まず、印刷法などによって、ＣＦ基板２の表示領域内と、図４（ａ）に示すように、ＣＦ基板２の周辺部（非表示領域）に遮光層５を形成する。表示領域内の遮光層（ブラックマトリクス）は、各色のカラーフィルタの境界領域に形成される。周辺部の遮光層５は、ＴＦＴ基板１の配線４と重なる領域に隙間６を有するように形成される。遮光層５は、表示領域内の遮光層（ブラックマトリクス）と同時に形成しても良い。さらに、対向共通電極（不図示）と、ポリイミドなどからなる液晶配向膜（不図示）とを順次形成した後、ラビング処理を施す。

図４（ｂ）に示すように、ＣＦ基板２の周辺部に、スクリーン印刷法やディスペンサ法によって、アクリル樹脂やエポキシ樹脂を含有する紫外線硬化型の未硬化シール材１３を塗布する。未硬化シール材１３のパターンは、液晶注入口となる開口を持たないループ状（閉じた枠状）である。なお、紫外線硬化型のシール材に代えて、可視光により硬化反応が進行するシール材を使用する場合には、以降の紫外線照射工程を可視光照射工程に変更すれば良い。

図４（ｃ）に示すように、ＣＦ基板２上の未硬化シール材１３に包囲された領域内に、例えば液晶材料１７を滴下する。真空チャンバ内で両基板１，２を重ね合わせることによりパネル内に液晶材料１７が封入されて、液晶層７が形成される（図４（ｄ）を参照）。

図４（ｄ）に示すように、未硬化シール材１３に対してＴＦＴ基板１側およびＣＦ基板２側の両側から紫外線（ＵＶ）を照射する。ＴＦＴ基板１の配線４上の未硬化シール材１３には、ＴＦＴ基板１側から照射された紫外線（ＵＶ）が入射しない。しかし、ＣＦ基板２の遮光層５は、配線４に対応する領域に隙間６を有するので、ＣＦ基板２側から照射された紫外線（ＵＶ）が未硬化シール材１３に入射する。これにより、ＴＦＴ基板１の配線４の隙間およびＣＦ基板２の隙間６から紫外線（ＵＶ）が入射して、未硬化シール材１３の硬化が進行するので、シール材３中の未硬化な部分を低減することができる。以上の工程を経て、本実施形態の液晶表示パネルが製造される。

なお、ＴＦＴ基板１およびＣＦ基板２のうちいずれか一方の基板側から紫外線照射を行なった後に、他方の基板側から紫外線照射を行なっても良く、あるいは両基板１，２に対して同時に紫外線照射を行なっても良い。但し、未硬化シール材１３と液晶層７との接触時間をできる限り短縮させて、未硬化シール材１３中の成分が液晶層７中に混入するおそれを低減するには、両基板１，２に対して同時に紫外線照射を行なうことが好ましい。

また、本実施形態では、ＴＦＴ基板１側およびＣＦ基板２側の両側から紫外線を照射しているが、ＣＦ基板２側からのみ紫外線を照射することもあり得る。例えば、ＴＦＴ基板１のシール材３領域における配線４の形成密度が高い場合、配線４の隙間が占める面積が小さいので、ＴＦＴ基板１側から紫外線を照射しても、未硬化シール材１３の硬化が殆ど望めないことがある。このような場合には、ＣＦ基板２における遮光層５の隙間６の占有面積が大きいので、ＣＦ基板２側からのみ紫外線を照射することで、未硬化シール材１３の殆どを硬化させることが可能となる。

さらに、本実施形態では、ＴＦＴ基板１とＣＦ基板２とを用いてパネルを構成しているが、カラーフィルタを有するＴＦＴ基板と対向基板とを用いてパネルを構成しても良い。この場合、対向基板はシール材が設けられる周辺部に遮光層を有しおり、この遮光層はＴＦＴ基板の配線と重なる領域に隙間を有する。

（実施形態２）
図５は実施形態２の液晶表示パネルの周辺部における模式的な断面図である。なお、以降の図面において実施形態１の液晶表示パネルの構成要素と実質的に同じ機能を有する構成要素を同じ参照符号で示し、その説明を省略する。

本実施形態の液晶表示パネルは、ループ状のシール材３の内側（液晶層７側）に、シール材３に沿って連続的に形成された隔壁８をさらに備えており、液晶層７が隔壁８に包囲されている。

隔壁８は、シール材３側の傾斜面８１と、液晶層７側の側面８２とを有する。隔壁８は光透過性を有する材料から形成されていることが好ましい。隔壁８の材料としては、例えば、アクリル系、ポリイミド系またはエポキシ系の感光性有機材料、二酸化珪素などの無機材料が挙げられる。また、使用するシール材３の材料と同種の材料を用いて隔壁８を形成しても良い。これにより、シール材３と隔壁８との接着信頼性を向上させることができる。

隔壁８はフォトリソグラフィ法などの常套手段により形成することができる。例示的に、フォトリソグラフィ法により隔壁８を形成する方法について説明する。まず、フィルム状ソルダレジストやドライフィルムをラミネータによりＣＦ基板２上に熱圧着する。あるいは液状ソルダレジストをスピンコート法、スリットコート法、スリット＆スピン法、スクリーン印刷法、スプレー法、カーテンコート法などによりＣＦ基板２の全面に均一に塗布した後、ホットプレートやオーブンにより仮焼き（プリベーク）させる。その後、ＣＦ基板２上に形成されたソルダレジストやドライフィルムにフォトマスクを重ね合わせた後、紫外線ないし可視光等によって所望のパターンに露光する。さらに、現像を行なって不要な部分を除去し、ホットプレートやオーブンで本焼成（ポストベーク）することにより、隔壁８が形成される。

露光に際しては、一部の透過率が連続的に変化する遮光部を有する階調フォトマスクを用いることにより、傾斜面８１を形成することができる。具体的には、ネガ型のソルダレジストやドライフィルムを用いる場合には、傾斜面８１に対応する領域において内側から外側に向かって紫外線の透過率が連続的に低下するフォトマスクを用いる。なお、階調フォトマスクについては特開２００２−２２９０４０号公報に開示されている。

また、露光量（時間、照度）や現像条件（現像液濃度、現像液温度、現像時間）を変えることによっても、傾斜面８１を形成することが可能である。さらに、無機材料を使って隔壁８を形成する場合には、二酸化珪素などをデポマスク越しに蒸着を行うことも可能である。スパッタやＥＢ（電子ビーム）蒸着など通常知られている様々な方法で処理することができる。また、蒸着途中でデポマスクを変更していくことにより、傾斜面８１を形成することが可能である。

本実施形態の液晶表示装置では、シール材３と液晶層７との間に隔壁８が介在するので、シール材３中の未硬化成分が液晶層７中に混入するのを防ぐことができる。また、隔壁８のシール材３側の面８１が傾斜しているので、隔壁８とシール材３との接触面積が大きい。したがって、ＴＦＴ基板１とＣＦ基板２との相対的な位置ずれをより確実に防ぐことができる。これにより、シール材３の幅を短縮することが可能となるので、液晶表示パネルの小型化が可能となる。

次に、本実施形態の液晶表示パネルを製造する工程について説明する。図６は本実施形態の液晶表示パネルの製造工程を模式的に示す断面図である。なお、ＴＦＴ基板１はフォトリソグラフィ法や印刷法などの常套手段により形成することができ、ＣＦ基板２は実施形態１に示した方法により形成することができるので、これらの製造工程の説明を省略する。

まず、図６（ａ）に示すように、スクリーン印刷法を用いて、ＣＦ基板２上に液状の感光性アクリル樹脂を塗布し、乾燥させて、感光性樹脂膜１８を成膜する。階調フォトマスクを用いたフォトリソグラフィ法により感光性樹脂膜１８をパターニングすることによって、ＣＦ基板２の周縁近傍に、光透過性を有するループ状の隔壁８を形成する（図６（ｂ）を参照）。

なお、両基板１，２を重ね合わせたときに隔壁８が若干つぶれるので、その分の見込量（０．２μｍ程度）とセルギャップを加えた値に隔壁８の高さを設定することが好ましい。また、液晶表示装置が柱状スペーサを有する場合には、隔壁８を形成するとともに、柱状スペーサを形成することにより、製造工程が簡略化される。

図６（ｃ）に示すように、ＣＦ基板２の周縁であって、隔壁８の傾斜面８１側に、スクリーン印刷法やディスペンサ法によって、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等を含有する紫外線硬化型の未硬化シール材１３を塗布する。未硬化シール材１３のパターンは、液晶注入口となる開口を持たないループ状（閉じた枠状）である。隔壁８の外側の面８１が傾いているので、未硬化シール材１３を塗布するとき、未硬化シール材１３中に気泡が巻き込まれ難い。特に、隔壁８の傾斜面８１と未硬化シール材１３との間に隙間が生じ難い。

未硬化シール材１３を塗布した後、ＣＦ基板２上の隔壁８に包囲された領域内に、例えば液晶材料１７を滴下する。真空チャンバ内の減圧下で両基板１，２を重ね合わせることによりパネル内に液晶材料１７が封入されて、液晶層７が形成される（図６（ｄ）を参照）。

図６（ｄ）に示すように、隔壁８および未硬化シール材１３に対してＴＦＴ基板１側およびＣＦ基板２側の両側から紫外線（ＵＶ）を照射する。隔壁８が透光性を有しており、またＣＦ基板２の遮光層５が配線４に対応する領域に隙間６を有するので、ＣＦ基板２側から照射された紫外線（ＵＶ）が未硬化シール材１３に入射する。これにより、ＴＦＴ基板１の配線４の隙間およびＣＦ基板２の隙間６から紫外線（ＵＶ）が入射して、未硬化シール材１３の硬化が進行するので、シール材３中の未硬化な部分を低減することができる。また、ＣＦ基板２側から隔壁８の底面に入射した紫外線の一部は隔壁８の傾斜面８１から出射する。これにより、未硬化シール材１３の傾斜面８１側からも硬化が進行するので、シール材３中の未硬化成分が減少し、シール材３による接着信頼性が高くなる。以上の工程を経て、本実施形態の液晶表示パネルが製造される。

なお、照射する光は、未硬化シール材１３を硬化させる波長を有していれば良く、紫外線に限らず、例えば可視光やＸ線であっても良い。未硬化シール材１３に紫外線を照射するときには、液晶表示部分に紫外線が照射されないようにするために、表示領域を遮光するフォトマスクを介して紫外線を照射することが好ましい。

本実施形態では、ＣＦ基板２上に隔壁８を形成しているが、ＣＦ基板２に代えてＴＦＴ基板１上に隔壁８を形成しても良い。また本実施形態では、ＣＦ基板２上に未硬化シール材１３を塗布しているが、ＴＦＴ基板１上に未硬化シール材１３を塗布しても良い。さらに、ＴＦＴ基板１とＣＦ基板２とを用いてパネルを構成しているが、カラーフィルタを有するＴＦＴ基板と対向基板とを用いてパネルを構成しても良い。

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲に限定されない。上記実施形態が例示であり、それらの各構成要素や各処理プロセスの組合せに、さらにいろいろな変形例が可能なこと、またそうした変形例も本発明の範囲にあることは当業者に理解されるところである。

例えば、実施形態１および２では、液晶駆動素子としてＴＦＴが用いられているが、ＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ Ｍｅｔａｌ）などの他のアクティブ駆動素子を用いても良く、あるいは駆動素子を用いないパッシブ（マルチプレックス）駆動でも良い。なお、液晶表示パネルは、透過型、反射型、透過反射両用型のいずれであっても良い。

本発明のパネルは、液晶表示パネル、ＰＤＰ、無機または有機のＥＬ表示パネル、ＥＣＤパネル、電気泳動表示パネルなどに利用することができる。また、表示パネルに限らず、画像シフトパネルやパララックスバリアパネルなどにも利用することができる。より具体的には、携帯電話機、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｄｉｇｉｔａｌ Ａｓｓｉｓｔａｎｃｅ）、パーソナルコンピュータ、薄型テレビ、医療用ディスプレイ、カーナビゲーションシステム、アミューズメント機器などに利用することができる。

Claims (6)

1. 第１基板と、前記第１基板に対向配置された第２基板と、前記第１基板および前記第２基板に挟まれ、かつ前記第１基板および前記第２基板の周辺部に形成されたシール材とを備えたパネルであって、
   前記第１基板は遮光性を有する配線を少なくとも前記周辺部に有しており、
   前記第２基板は前記周辺部に遮光層を有しており、前記遮光層は前記配線と重なる領域に隙間を有するパネル。
2. 前記第１基板および前記第２基板の間に介在する液晶層をさらに備えた請求項１に記載のパネル。
3. 前記シール材がループ状である請求項２に記載のパネル。
4. 前記シール材は光硬化剤を含む組成物から形成された請求項１に記載のパネル。
5. 前記シール材の内側に、前記シール材に沿って形成された隔壁をさらに備え、前記隔壁は前記シール材側に傾斜面を有する請求項２に記載のパネル。
6. 第１基板と、前記第１基板に対向配置された第２基板と、前記第１基板および前記第２基板に挟まれ、かつ前記第１基板および前記第２基板の周辺部に形成されたシール材と、前記第１基板および前記第２基板の間に介在する液晶層とを備えたパネルを製造する方法であって、
   遮光性を有する配線を前記第１基板の少なくとも前記周辺部に形成する工程と、
   前記配線に重なる領域に隙間を有する遮光層を前記第２基板の前記周辺部に形成する工程と、
   前記第１基板および前記第２基板のうちいずれか一方の基板の前記周辺部に光硬化剤を含む未硬化シール材をループ状に塗布する工程と、
   前記未硬化シール材に包囲された領域内に液晶材料を滴下する工程と、
   前記第１基板および前記第２基板を貼り合わせる工程と、
   前記未硬化シール材に対して前記第１基板および前記第２基板の両側から光を照射することによって、前記未硬化シール材を硬化させて、前記シール材を形成する工程とを含む方法。

Images