KR100662496B1 - 액정표시소자 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판; 상기 기판 상에 형성된 폐쇄형의 주 UV경화형 씨일재; 상기 주 UV경화형 씨일재의 외곽영역에 형성된 폐쇄형의 더미 UV경화형 씨일재; 및 상기 더미 UV경화형 씨일재와 셀절단라인이 겹치는 영역에서 상기 더미 UV경화형 씨일재 하부에 형성된 UV차단부를 포함하여 구성되는 액정표시소자 및 그 제조방법에 관한 것으로서,
본 발명에 따르면 더미 UV경화형 씨일재 중 셀절단라인과 겹치는 영역의 씨일재 하부에 UV차단부를 형성함으로써 UV조사시 상기 UV차단부가 형성된 영역의 씨일재가 경화되지 않아 셀절단이 용이하게 된다.
UV차단부, 더미 씨일재, 셀절단

Description

액정표시소자 및 그 제조방법{Liquid Crystal Display Device and Method of manufacturing the same}
도 1a 내지 도 1e는 종래의 액정적하방식에 의한 액정표시소자의 제조공정을 도시한 사시도이다.
도 2는 종래의 셀절단공정을 보여주는 사시도이다.
도 3은 종래의 씨일재가 형성된 액정표시소자용 하부기판의 셀절단 라인을 보여주기 위한 평면도이다.
도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시소자용 일 기판의 평면도이다.
도 4b 및 도 4c는 각각 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 액정표시소자용 일 기판의 평면도이다.
도 5a 내지 도 5f는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시소자의 제조공정을 도시한 사시도이다.
도 6은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 액정표시소자의 제조공정 중 UV조사공정을 도시한 사시도이다.
<도면의 주요부에 대한 부호의 설명>
1, 200 : 하부기판 3, 300 : 상부기판
5, 500 : 액정 7, 700 : 주 UV경화형 씨일재
8, 800 : 더미 UV경화형 씨일재 750 : UV차단부
9, 900 : 광조사 장치 10, 600 : 셀절단라인
950 : 마스크
본 발명은 액정표시소자(Liquid Crystal Display : LCD)에 관한 것으로서, 보다 구체적으로, 액정적하방식에 의한 액정표시소자 및 그 제조방법에 관한 것이다.
표시화면의 두께가 수 센치미터(cm)에 불과한 초박형의 평판표시소자(Flat Panel Display), 그 중에서도 액정표시소자는 동작 전압이 낮아 소비 전력이 적고 휴대용으로 쓰일 수 있는 등의 이점으로 노트북 컴퓨터, 모니터, 우주선, 항공기 등에 이르기까지 응용분야가 넓고 다양하다.
이와 같은 액정표시소자는 일반적으로 그 위에 박막트랜지스터와 화소전극이 형성되어 있는 하부기판과, 상기 하부기판과 대향되도록 형성되며 그 위에 차광막, 칼라필터층, 및 공통전극이 형성되어 있는 상부기판과, 그리고 상기 양 기판 사이에 형성되어 있는 액정층으로 구성되어 있으며, 상기 화소전극과 공통전극에 의해 양 기판 사이에 전기장이 형성되어 액정이 구동되고, 그 구동되는 액정을 통해서 광투과도가 조절되어 화상이 디스플레이되게 된다.
이와 같은 구조의 액정표시소자에 있어서, 상기 하부기판과 상부기판 사이에 액정층을 형성하기 위한 방법으로 종래에는 하부기판과 상부기판을 합착한 후 모세관 현상과 압력차를 이용하여 양 기판 사이에 액정을 주입하는 진공주입방식을 사용하였으나, 이 방식은 액정주입에 장시간이 소요되므로 기판이 대면적화되면 생산성이 떨어지는 문제점이 발생하였다.
따라서, 상기 문제점을 해결하기 위해서 액정적하방식이라는 새로운 방법이 제안되었는데, 이하 첨부된 도면을 참조로 종래의 액정적하방식에 의한 액정표시소자의 제조방법을 설명한다.
도 1a 내지 도 1e는 종래의 액정적하방식에 의한 액정표시소자의 제조공정을 도시한 사시도이다.
우선, 도 1a와 같이, 하부기판(1)과 상부기판(3)을 준비한다. 도면에는 도시하지 않았으나, 하부기판(1) 상에는 종횡으로 교차하여 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트배선과 데이터배선을 형성하고, 상기 게이트배선과 데이터배선의 교차점에 박막트랜지스터를 형성하며, 상기 박막트랜지스터와 연결되는 화소전극을 상기 화소영역에 형성한다.
또한, 상부기판(3) 상에는 상기 게이트배선, 데이터배선, 및 박막트랜지스터 형성영역에서 광이 누설되는 것을 차단하기 위한 차광막을 형성하고, 그 위에 적색, 녹색, 및 청색의 칼라필터층을 형성하고, 그 위에 공통전극을 형성한다.
또한, 상기 하부기판(1)과 상부기판(3) 위에 액정의 초기배향을 위한 배향막을 형성한다.
그리고, 도 1b와 같이, 상기 하부기판(1) 위에 주 씨일재(7) 및 더미 씨일재(8)를 형성하고, 액정(5)을 적하하여 액정층을 형성한다. 그리고, 상기 상부기판(3) 위에 셀갭유지를 위한 스페이서(미도시)를 산포한다.
상기 주 씨일재(7)는 액정이 새는 것을 방지하고, 양 기판(1,3)을 접착시키는 역할을 하는 것이다.
상기 더미 씨일재(8)는 상기 주 씨일재(7)를 보호하기 위한 역할을 하는 것으로서, 상기 주 씨일재(7) 외곽의 더미 영역에 형성한다.
이때, 액정적하방식에서는 후 공정인 씨일재 경화공정시 합착기판에 액정층이 형성되어 있어 씨일재로서 열경화형 씨일재를 사용하게 되면 씨일재가 가열되는 동안 흘러나와 액정이 오염될 수 있으므로, UV(Ultraviolet)경화형 씨일재가 사용된다.
그리고, 도 1c와 같이 상기 하부기판(1)과 상부기판(3)을 합착한다.
그리고, 도 1d와 같이 UV조사장치(9)를 통해 UV를 조사하여 상기 씨일재(7)를 경화시킴으로써 상기 하부기판(1)과 상부기판(3)을 접착시킨다.
그리고, 도 1e와 같이 상기 합착기판(1,3)을 셀 단위로 절단하여 액정셀을 완성한다.
이때, 도 2는 셀 단위로 기판을 절단하는 공정을 도시한 사시도로서, 도 2에 도시한 바와 같이, 우선 기판 재질인 유리보다 경도가 높은 다이아몬드 펜과 같은 스크라이브 장비로 합착기판(1,3)의 표면에 절단라인(10)을 형성(스크라이브 공정 : scribing process)한 후 브레이크 장비로 상기 절단라인을 따라 기계적 충격을 가함으로써(브레이크 공정 : break process) 복수개의 단위셀을 동시에 얻을 수 있 다.
또는, 다이아몬드 재질의 펜 또는 휠을 이용하여 상기 스크라이브 및 브레이크 공정을 하나의 공정으로 수행하여 단위셀을 하나씩 얻을 수도 있다.
한편, 도 2는 셀 절단 공정을 보여주기 위한 것이므로 셀절단라인을 자세히 도시하지 않았으나, 실제 셀 절단시에는 외곽부의 더미영역을 제거하기 위해 보다 많은 셀절단라인이 형성된다.
도 3은 상기 셀절단라인을 자세히 보여주기 위한 것으로서, 특히 씨일재(7, 8)가 형성된 하부기판(1)의 셀절단 라인(10)을 보여주기 위한 평면도이다.
도 3에서 알 수 있는 바와 같이, 셀절단 라인(10)은 더미 씨일재(8)와 일정 영역(동그라미 영역)에서 겹치게 되고, 이때, 상기 더미 씨일재(8)는 셀절단 공정 전의 UV조사공정을 통해 경화된 상태이다.
따라서, 전술한 셀 절단공정중 스크라이브공정후 브레이크 공정을 통해 단위셀을 동시에 얻는 방법은 상기 경화된 더미 씨일재(8)에 의해 영향을 받지 않으나, 스크라이브 공정과 브레이크 공정을 동시에 행하여 단위셀을 하나씩 얻는 방법은 상기 경화된 더미 씨일재(8)로 인해 셀절단이 어렵게 되는 문제점이 있다.
본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 전술한 스크라이브/브레이크 동시공정으로 셀단위로 기판을 절단함에 있어서, 절단을 보다 용이하게 하기 위한 액정표시소자 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은 기판; 상기 기판 상에 형성된 폐쇄형의 주 UV경화형 씨일재; 상기 주 UV경화형 씨일재의 외곽영역에 형성된 폐쇄형의 더미 UV경화형 씨일재; 및 상기 더미 UV경화형 씨일재와 셀절단라인이 겹치는 영역에서 상기 더미 UV경화형 씨일재 하부에 형성된 UV차단부를 포함하여 구성되는 액정표시소자를 제공한다.
본 발명은 또한 하부기판 및 상부기판을 준비하는 공정; 상기 양 기판 중 어느 하나의 기판 상의 더미 영역에 UV차단부를 형성하는 공정; 상기 UV차단부가 패터닝된 기판 상에, 폐쇄형의 주 UV경화형 씨일재를 도포하는 공정; 상기 주 UV경화형 씨일재의 외곽영역에서, 상기 UV차단부와 겹치면서 더미 UV경화형 씨일재를 도포하는 공정; 상기 양 기판 중 어느 하나의 기판 상에 액정을 적하하는 공정; 상기 양 기판을 합착하는 공정; 상기 합착 기판에 UV를 조사하는 공정; 및 상기 합착 기판을 셀단위로 절단하는 공정을 포함하는 액정표시소자의 제조방법을 제공한다.
즉, 본 발명은 더미 UV경화형 씨일재 중 셀절단라인과 겹치는 영역의 씨일재 하부에 UV차단부를 형성함으로써, UV조사시 상기 UV차단부가 형성된 영역의 씨일재가 경화되지 않아 셀절단 공정을 용이하도록 한 것이다.
이하, 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.
도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시소자용 일 기판의 평면도이다. 도면에는 네 개의 단위셀이 형성된 경우를 도시하였으나 단위셀은 증감될 수 있을 것이다.
도 4a에서 알 수 있듯이, 기판(100) 상에는 주 UV경화형 씨일재(700)가 주입 구 없는 폐쇄된 패턴으로 형성되어 있고, 상기 주 UV경화형 씨일재(700)의 외곽영역에는 더미 UV경화형 씨일재(800)가 폐쇄된 패턴으로 형성되어 있다.
상기 주 및 더미 UV경화형 씨일재(700, 800)로는 양 말단에 아크릴기가 결합된 모노머 또는 올리고머를 개시제와 혼합한 것이나, 한쪽 말단에는 아크릴기가 다른 쪽 말단에는 에폭시기가 결합된 모노머 또는 올리고머를 개시제와 혼합한 것이 바람직하다.
그리고, 상기 더미 UV경화형 씨일재(800)와 셀절단라인(600)이 겹치는 영역에서 상기 더미 UV경화형 씨일재(800) 하부에 UV차단부(750)가 형성되어 있다.
상기 UV차단부(750)는 그 두께가 1000Å 내지 2000Å 정도가 바람직하다. 상기 두께 범위의 UV차단부(750)는 셀절단에 아무런 영향을 미치지 않게 되므로, 금속 등과 같이 UV를 차단할 수 있는 물질이면 어느 것이나 적용될 수 있다.
한편, 도 4a에 도시된 본 발명의 일 실시예는 셀절단라인(600)과 더미 UV경화형 씨일재(800)가 겹치는 모든 영역에서 더미 UV경화형 씨일재(800)의 하부에 UV차단부(750)가 형성되어 있다.
그러나, 셀절단라인을 따라 스크라이브/브레이크 동시공정으로 셀을 절단하는 공정에서, 일단 우측 또는 좌측 말단의 셀절단라인에서부터 상하방향으로 기판을 절단하게 되면 우측 또는 좌측에 있는 더미 UV경화형 씨일재는 제거되게 된다. 따라서, 제거되는 더미 UV경화형 씨일재는 후속 셀절단공정에 아무런 영향을 미치지 않는다.
결국, 도 4b에 도시한 바와 같이, 셀절단라인(600)과 겹치는 더미 UV경화형 씨일재(800) 영역 중에서 상측 및 하측 영역에서만 더미 UV경화형 씨일재(800) 하부에 UV차단부를 형성하거나, 도 4c에 도시한 바와 같이, 좌측 및 우측 영역에서만 더미 UV경화형 씨일재(800) 하부에 UV차단부를 형성하여도, 셀절단공정을 용이하게 함에 있어서는 동일한 효과가 구현된다.
물론, 도 4b에 도시한 경우는 먼저 상하방향으로 셀을 절단하는 경우에 적용될 것이고, 도 4c에 도시한 경우는 먼저 좌우방향으로 셀을 절단하는 경우에 적용될 것이다.
한편, 액정표시소자는 하부기판, 상부기판, 및 상기 양 기판 사이에 형성된 액정층으로 구성되는데, 이때, 씨일재는 양 기판 중 어느 하나의 기판 위에 형성될 수 있다.
따라서, 도 4a 내지 도 4c에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시소자용 일 기판이 하부기판인 경우는 상기 기판(100) 상에 게이트배선과 데이터배선, 박막트랜지스터, 및 화소전극이 형성되어 있다.
이때, 상기 UV차단부(750)는 상기 게이트배선 또는 데이터배선과 동일층에 동일한 물질로 형성될 수도 있고, 별도의 층에 형성될 수도 있다.
또한, 도 4a 내지 도 4c에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시소자용 일 기판이 상부기판인 경우는 상기 기판(100) 상에 차광막, 칼라필터층, 및 공통전극이 형성되어 있다.
이때, 상기 UV차단부(750)는 상기 차광막과 동일층에 동일한 물질로 형성될 수도 있고, 별도의 층에 형성될 수도 있다.
또한, 셀갭 유지를 위한 칼럼 스페이서가 상기 액정표시소자용 일 기판 상에 부착되어 형성될 수 있다. 이와 같은 칼럼 스페이서는 상기 게이트 배선 또는 데이터배선 형성영역에 대응되는 영역에 형성되며, 감광성 유기수지로 이루어진 것이 바람직하다.
도 5a 내지 도 5f는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시소자의 제조공정을 도시한 사시도이다. 도면에는 네 개의 단위셀을 형성하는 경우를 도시하였으나 단위셀은 증감하여 형성할 수 있다.
우선, 도 5a와 같이, 하부기판(200)과 상부기판(300)을 준비한다. 도면에는 도시하지 않았으나, 하부기판(200) 상에는 종횡으로 교차하여 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트배선과 데이터배선을 형성하고, 상기 게이트배선과 데이터배선의 교차점에 게이트전극, 게이트절연막, 반도체층, 오믹콘택층, 소스/드레인 전극, 및 보호막으로 이루어진 박막트랜지스터를 형성하며, 상기 박막트랜지스터와 연결되는 화소전극을 상기 화소영역에 형성한다.
또한, 상기 화소전극 위에 액정의 초기배향을 위한 배향막을 형성한다. 이때, 상기 배향막은 폴리아미드(polyamide) 또는 폴리이미드(polyimide)계 화합물, PVA(polyvinylalcohol), 폴리아믹산(polyamic acid)등의 물질을 러빙 배향 처리하여 형성할 수도 있고, PVCN(polyvinylcinnamate), PSCN(polysiloxanecinnamate), 또는 CelCN(cellulosecinnamate)계 화합물과 같은 광반응성 물질을 광 배향 처리하여 형성할 수도 있다.
또한, 상부기판(300) 상에는 상기 게이트배선, 데이터배선, 및 박막트랜지스 터 형성영역에서 광이 누설되는 것을 차단하기 위한 차광막을 형성하고, 상기 차광막 위에 적색, 녹색, 및 청색의 칼라필터층을 형성하고, 상기 칼라필터층 위에 공통전극을 형성한다. 또한, 상기 칼라필터층과 공통전극 사이에 오버코트층을 추가로 형성할 수도 있다. 또한, 상기 공통전극 상에는 전술한 배향막을 형성한다.
그리고, 상기 하부기판(200)의 외곽부에는 은(Ag)을 도트(dot)형상으로 형성하여 상기 양 기판(200, 300)의 합착 후 상기 상부기판(300) 위의 공통전극에 전압을 인가할 수 있도록 한다.
한편, IPS(In Plane Switching) 모드 액정표시소자의 경우는 공통전극을 화소전극과 동일한 하부기판 상에 형성하여 횡전계를 유도하게 되며, 상기 은(Ag) 도트는 형성하지 않는다.
그리고, 도 5b와 같이, 상기 상부기판(300) 위의 더미 영역에 UV차단부(750)를 패터닝하여 형성한다. 보다 구체적으로는 상기 UV차단부(750)는 후 공정인 셀절단공정시 셀절단라인과 겹치는 영역에 형성하며, 따라서, 셀절단시 악영향을 미치지 않는 물질로 형성하는 것이 바람직하다.
도 5b에는 셀절단라인과 겹치는 모든 영역에 UV차단부(750)를 형성하는 경우를 도시하였으나, 셀절단라인과 겹치는 영역 중 상측 및 하측, 또는 좌측 및 우측의 영역에만 UV차단부(750)를 형성하는 것도 가능하다.
또한, 도면에는 UV차단부(750)를 상부기판(300) 위에 형성한 경우를 도시하였으나, 하부기판(200) 위에 형성하는 것도 가능하다.
한편, 도 5b는 UV차단부(750)가 별도의 층에 형성되는 경우를 도시한 것이 다. 그러나, 상기 UV차단부(750)는 도 5a의 상부기판(300) 준비공정 또는 하부기판(200) 준비공정 중 레이어 형성시 동시에 형성할 수도 있다.
즉, 상기 UV차단부(750)가 하부기판(200)상에 형성될 경우는 상기 게이트배선 또는 데이터배선 형성시 동시에 동일물질로 형성할 수도 있고, 상부기판(300) 상에 형성될 경우는 상기 차광막 형성시 동시에 동일물질로 형성할 수도 있다.
그리고, 도 5c와 같이, 상기 UV차단부(750)가 패턴 형성된 상부기판(300) 위에 폐쇄된 패턴으로 주 UV경화형 씨일재(700)를 도포하고, 상기 주 UV경화형 씨일재(700)의 외곽영역에서 상기 UV차단부(750)와 겹치면서 폐쇄된 패턴으로 더미 UV경화형 씨일재(800)를 도포한다.
씨일재 도포 방법은 스크린 인쇄법(Screen Printing Method), 디스펜서법(Dispensing Method) 등이 있으나, 스크린 인쇄법은 스크린이 기판과 접촉하기 때문에 기판 위에 형성된 배향막 등이 손상될 우려가 있고 기판이 대면적화되면 씨일재의 손실량이 많아 비경제적이므로 디스펜서법이 바람직하다.
이와 같은 주 및 더미 UV경화형 씨일재(700, 800)로는 양 말단에 아크릴기가 결합된 모노머 또는 올리고머를 개시제와 혼합하여 사용하거나, 한쪽 말단에는 아크릴기가 다른 쪽 말단에는 에폭시기가 결합된 모노머 또는 올리고머를 개시제와 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 하부기판(200) 위에 액정(500)을 적하하여 액정층을 형성한다.
상기 액정(500)은 상기 주 씨일재(700)가 경화되기 전에 주 씨일재(700)와 만나게 되면 오염되게 된다. 따라서, 상기 액정(500)은 상기 하부기판(200)의 중앙 부에 적하하는 것이 바람직하다. 이와 같이 중앙부에 적하된 액정(500)은 상기 주 씨일재(700)가 경화된 후까지 서서히 퍼져나가 기판 전체에 동일한 밀도로 분포되게 된다.
한편, 도면에는 하부기판(200) 위에 액정(500)을 적하하고 상부기판(300) 위에 UV차단부(750) 및 씨일재(700, 800)를 형성하는 공정이 도시되어 있으나, 이에 한정되는 것은 아니고, 상부기판(300)상에 상기 액정(500)을 형성하고 하부기판(200)상에 UV차단부(750) 및 UV경화형 씨일재(700, 800)를 형성할 수도 있다.
또한, 상기 액정(500), UV차단부(750), 및 UV경화형 씨일재(700, 800)를 동일기판에 형성할 수도 있다. 다만, 상기 액정(500)과 UV경화형 씨일재(700, 800)를 동일기판에 형성할 경우, 액정과 UV경화형 씨일재가 형성되는 기판과 그렇지 않은 기판과의 공정간에 불균형이 발생되어 공정시간이 많이 소요되며, 액정과 씨일재가 동일기판에 형성되므로 합착전에 씨일재에 오염물질이 형성된다 하더라도 기판 세정을 할 수 없게 되므로, 상기 액정과 씨일재는 서로 다른 기판에 형성하는 것이 바람직하다.
또한, 도면에는 도시하지 않았으나, 상기 양 기판(200,300) 중 어느 하나의 기판, 바람직하게는 상기 상부기판(300) 위에 셀갭유지를 위한 스페이서를 형성할 수 있다.
상기 스페이서는 볼 스페이서를 적정농도로 용액속에 혼합한 후 분사노즐에서 고압으로 기판상에 산포하여 형성할 수도 있고, 칼럼 스페이서를 상기 게이트배선 또는 데이터배선 형성영역에 대응하는 기판상에 부착하여 형성할 수도 있으나, 볼 스페이서는 대면적에 적용할 경우에 셀갭이 불균일하게 되는 단점이 있으므로 대면적 기판에는 칼럼 스페이서를 형성하는 것이 바람직하다.
이때, 상기 칼럼 스페이서로는 감광성 유기수지를 사용하는 것이 바람직하다.
그리고, 도 5d와 같이, 상기 하부기판(200)과 상부기판(300)을 합착한다.
합착공정은 상기 양기판 중 액정이 적하되어 있는 일 기판을 하면에 고정하고, 나머지 다른 일 기판을 레이어(layer) 형성면이 상기 일 기판을 향하도록 180도 회전하여 상면에 위치시킨 후, 상면에 위치된 일 기판에 압력을 가하여 양 기판을 합착하거나, 또는 상기 이격되어 있는 양 기판 사이를 진공으로 형성한 후 진공을 해제하여 대기압에 의해 양 기판을 합착할 수도 있다.
그리고, 도 5e와 같이, 상기 합착기판(200,300)에 UV조사장치(900)를 통해 UV를 조사한다. 이와 같은 UV조사는 상기 UV차단부(750)가 형성된 상부기판(300)면으로 행하게 된다.
이와 같이 UV를 조사하면 상기 UV경화형 씨일재(700, 800)를 구성하는 개시제에 의해 활성화된 모노머 또는 올리고머가 중합반응하여 고분자화 되어 굳어짐으로써 하부기판(200)과 상부기판(300)이 접착되게 된다.
그러나, 상기 UV차단부(750)가 형성된 영역은 UV가 조사되지 않으므로 그 영역의 더미 UV경화형 씨일재는 굳어지지 않고 처음 도포된 상태, 즉 유동상태로 유지되므로 후 공정인 셀절단공정이 용이하게 된다.
또한, 상기 UV경화형 씨일재(700, 800)로서 한쪽 말단에는 아크릴기가 다른 쪽 말단에는 에폭시기가 결합된 모노머 또는 올리고머를 개시제와 혼합하여 사용한 경우는, 상기 UV조사에 의해 에폭시기가 반응하지 않으므로 상기 UV조사공정 후에 추가로 약 120℃에서 1시간 정도 가열공정을 행하여 씨일재를 경화시킨다.
다만, 상기 UV경화되지 않은 더미 씨일재는 비록 상기 열경화공정을 거친다 하더라도 경화도가 50%미만으로 떨어져 셀절단공정에는 영향을 미치지 않는다.
한편, UV조사공정시 합착기판의 전면에 UV가 조사되게 되면, 기판 상에 형성된 박막트랜지스터 등의 소자 특성에 악영향이 미치게 되고, 액정의 초기배향을 위해 형성된 배향막의 프리틸트각(pretilt angle)이 변하게 될 수 있다.
따라서, 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 주 UV경화형 씨일재(800) 내부의 액티브 영역을 가리는 마스크(950)를 합착기판(200, 300)과 UV조사장비(900) 사이에 위치시키고 UV를 조사하는 것이 바람직하다.
그리고, 도 5f와 같이, 상기 합착기판을 단위셀로 절단한다.
단위셀로 절단하는 공정은 다이아몬드 재질의 펜 또는 휠을 톱니형태로 형성시킨 절단장비를 사용하여 스크라이브/브레이크 동시 공정으로 단위셀을 하나씩 절단한다.
이와 같이, 스크라이브/브레이크 동시 공정을 수행하는 절단장비를 이용함으로써 장비가 차지하는 공간이 줄어들고 절단공정시간도 단축되게 된다.
그리고, 도면에 도시하지는 않았으나, 상기 절단공정 후에 최종 검사 공정을 수행하게 된다.
상기 최종 검사 공정은 상기 셀단위로 절단된 기판이 액정모듈로 조립되기 전에 불량유무를 확인하는 공정으로, 전압 인가시 또는 무인가시 각각의 화소가 올바르게 구동하는지 여부를 검사하게 된다.
이상, 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 범위내에서 변경 실시될 수 있을 것이다.
본 발명에 따르면 더미 UV경화형 씨일재 중 셀절단라인과 겹치는 영역의 씨일재 하부에 UV차단부를 형성함으로써 UV조사시 상기 UV차단부가 형성된 영역의 씨일재가 경화되지 않아 셀절단이 용이하게 된다.

Claims (18)

  1. 기판;
    상기 기판 상에 형성된 폐쇄형의 주 UV경화형 씨일재;
    상기 주 UV경화형 씨일재의 외곽영역에 형성된 폐쇄형의 더미 UV경화형 씨일재; 및
    상기 더미 UV경화형 씨일재와 셀절단라인이 겹치는 영역에서 상기 더미 UV경화형 씨일재 하부에 형성된 UV차단부를 포함하여 구성되는 액정표시소자.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 UV차단부는 상기 셀절단라인과 겹치는 더미 UV경화형 씨일재 영역 중에서 상측 및 하측 영역에 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 UV차단부는 상기 셀절단라인과 겹치는 더미 UV경화형 씨일재 영역 중에서 좌측 및 우측 영역에 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 기판 상에 게이트배선, 데이터배선, 박막트랜지스터 및 화소전극이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 UV차단부는 상기 게이트배선과 동일층에 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  6. 제 4항에 있어서,
    상기 UV차단부는 상기 데이터배선과 동일층에 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 기판 상에 차광층, 칼라필터층, 및 공통전극이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  8. 제 7항에 있어서,
    상기 UV차단부는 상기 차광층과 동일층에 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  9. 제 1항에 있어서,
    상기 기판 상에 칼럼스페이서가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  10. 하부기판 및 상부기판을 준비하는 공정;
    상기 양 기판 중 어느 하나의 기판 상의 더미 영역에 UV차단부를 형성하는 공정;
    상기 UV차단부가 패터닝된 기판 상에, 폐쇄형의 주 UV경화형 씨일재를 도포하는 공정;
    상기 주 UV경화형 씨일재의 외곽영역에서, 상기 UV차단부와 겹치면서 더미 UV경화형 씨일재를 도포하는 공정;
    상기 양 기판 중 어느 하나의 기판 상에 액정을 적하하는 공정;
    상기 양 기판을 합착하는 공정;
    상기 합착 기판에 UV를 조사하는 공정; 및
    상기 합착 기판을 셀단위로 절단하는 공정을 포함하는 액정표시소자의 제조방법.
  11. 제 10항에 있어서,
    상기 UV차단부를 형성하는 공정은 상기 하부기판 상에 게이트배선 형성시 동시에 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.
  12. 제 10항에 있어서,
    상기 UV차단부를 형성하는 공정은 상기 하부기판 상에 데이터배선 형성시 동 시에 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.
  13. 제 10항에 있어서,
    상기 UV차단부를 형성하는 공정은 상기 상부기판 상에 차광층 형성시 동시에 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.
  14. 삭제
  15. 제 10항에 있어서,
    상기 UV조사 공정후 120℃에서 1시간 실시하는 가열공정을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.
  16. 제 10항에 있어서,
    셀단위로 절단하는 공정은 스크라이브 및 브레이크 공정을 하나의 공정으로 수행하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.
  17. 제 10항에 있어서,
    상기 UV조사공정은 상기 주 UV경화형 씨일재 내부의 액티브 영역을 마스크로 가리고 수행하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.
  18. 제 10항에 있어서,
    상기 주 및 더미 UV경화형 씨일재를 상기 상부기판 위에 형성하고, 상기 액정을 상기 하부기판 위에 적하하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.
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US10/265,435 US6628365B1 (en) 2002-03-23 2002-10-07 LCD with UV shielding part at dummy sealant region
CNB031035744A CN100359391C (zh) 2002-03-23 2003-01-29 液晶显示装置及其制造方法
JP2003039681A JP4173380B2 (ja) 2002-03-23 2003-02-18 液晶表示素子及びその製造方法
US10/671,454 US7075612B2 (en) 2002-03-23 2003-09-29 Liquid crystal display device and method for manufacturing the same

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Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7362407B2 (en) * 2002-02-01 2008-04-22 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Method of fabricating liquid crystal display device
US6791660B1 (en) * 2002-02-12 2004-09-14 Seiko Epson Corporation Method for manufacturing electrooptical device and apparatus for manufacturing the same, electrooptical device and electronic appliances
KR100672641B1 (ko) * 2002-02-20 2007-01-23 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자 및 그 제조방법
US7365822B2 (en) * 2002-02-20 2008-04-29 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Method for fabricating LCD
KR100685951B1 (ko) * 2002-03-06 2007-02-23 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자 및 그 제조방법
KR100698044B1 (ko) * 2002-10-19 2007-03-23 엘지.필립스 엘시디 주식회사 마스크 설계 방법 및 패널 형성 방법
TWI308976B (en) * 2003-02-14 2009-04-21 Chunghwa Picture Tubes Ltd Process and structure of linquid crystal panel with one drop fill
US6937315B2 (en) * 2003-05-01 2005-08-30 Chunghwa Picture Tubes, Ltd. Liquid crystal panel with isolation wall structure and its producing method
US8146641B2 (en) * 2003-12-01 2012-04-03 Lg Display Co., Ltd. Sealant hardening apparatus of liquid crystal display panel and sealant hardening method thereof
US8203685B2 (en) 2003-12-10 2012-06-19 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display panel having seal pattern for minimizing liquid crystal contamination and method of manufacturing the same
KR20050056799A (ko) 2003-12-10 2005-06-16 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 표시패널의 실 패턴 구조
KR20050073673A (ko) * 2004-01-09 2005-07-18 삼성전자주식회사 밀봉부재 형성 방법 및 장치, 이를 이용한 표시장치 및이의 제조 방법
CN100414354C (zh) * 2004-04-28 2008-08-27 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 低温多晶硅显示装置及其制作方法
TW200622402A (en) * 2004-12-28 2006-07-01 Innolux Display Corp Liquid crystal panel and its cutting method
CN100465738C (zh) * 2005-03-18 2009-03-04 夏普株式会社 液晶显示面板及其制造方法
CN100395596C (zh) * 2005-04-29 2008-06-18 友达光电股份有限公司 液晶面板以及其制造方法
KR100960473B1 (ko) * 2005-06-20 2010-05-28 엘지디스플레이 주식회사 액정패널의 이송시스템 및 이송방법
KR20070116488A (ko) * 2006-06-05 2007-12-10 엘지.필립스 엘시디 주식회사 편광판과 이를 이용한 액정표시소자의 제조방법
TWI346220B (en) * 2006-12-01 2011-08-01 Au Optronics Corp Lcd
KR101337030B1 (ko) * 2006-12-21 2013-12-05 엘지디스플레이 주식회사 실 마스크 및 이를 이용한 전기 영동 표시소자의 제조 방법
CN101650495B (zh) * 2008-08-15 2011-04-20 北京京东方光电科技有限公司 液晶显示器用基板及其制造方法
TWI377397B (en) * 2008-08-22 2012-11-21 Au Optronics Corp Display motherboard and application thereof
JP2011170224A (ja) * 2010-02-22 2011-09-01 Konica Minolta Opto Inc 光学素子の製造方法
TWI397754B (zh) 2010-07-29 2013-06-01 Au Optronics Corp 液晶顯示面板
CN102262321A (zh) * 2011-08-26 2011-11-30 深圳市华星光电技术有限公司 基板、液晶显示面板、液晶显示装置及密封胶涂布方法
US9753317B2 (en) 2012-12-21 2017-09-05 Apple Inc. Methods for trimming polarizers in displays using edge protection structures
CN103064209B (zh) * 2013-01-30 2015-09-30 京东方科技集团股份有限公司 一种液晶显示面板制备方法
CN103819082A (zh) * 2014-02-20 2014-05-28 北京京东方光电科技有限公司 一种液晶面板的切割方法以及液晶面板
CN104375334A (zh) * 2014-12-03 2015-02-25 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板及其制作方法和显示装置
CN104391400B (zh) * 2014-12-03 2017-03-15 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板及其制作方法、阵列基板、显示装置
CN106066731A (zh) * 2016-05-27 2016-11-02 京东方科技集团股份有限公司 一种触控显示面板及其制作方法、触控显示装置
CN110289372A (zh) * 2019-07-02 2019-09-27 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板、显示装置和有机发光组件的封装方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0720478A (ja) * 1993-06-30 1995-01-24 Sharp Corp 液晶表示素子の製造方法
JP2001183675A (ja) * 1999-12-22 2001-07-06 Casio Comput Co Ltd 液晶表示パネルの製造方法
KR20030072826A (ko) * 2002-03-07 2003-09-19 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자의 제조방법

Family Cites Families (164)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3978580A (en) * 1973-06-28 1976-09-07 Hughes Aircraft Company Method of fabricating a liquid crystal display
JPS5165656A (ko) 1974-12-04 1976-06-07 Shinshu Seiki Kk
US4094058A (en) * 1976-07-23 1978-06-13 Omron Tateisi Electronics Co. Method of manufacture of liquid crystal displays
JPS5738414A (en) 1980-08-20 1982-03-03 Showa Denko Kk Spacer for display panel
JPS5788428A (en) 1980-11-20 1982-06-02 Ricoh Elemex Corp Manufacture of liquid crystal display body device
JPS5827126A (ja) 1981-08-11 1983-02-17 Nec Corp 液晶表示パネルの製造方法
JPS5957221A (ja) 1982-09-28 1984-04-02 Asahi Glass Co Ltd 表示素子の製造方法及び製造装置
JPS59195222A (ja) 1983-04-19 1984-11-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶パネルの製造法
JPS60111221A (ja) 1983-11-19 1985-06-17 Nippon Denso Co Ltd 液晶充填方法および装置
JPS60164723A (ja) 1984-02-07 1985-08-27 Seiko Instr & Electronics Ltd 液晶表示装置
JPS60217343A (ja) 1984-04-13 1985-10-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置およびその製造方法
JPS617822A (ja) 1984-06-22 1986-01-14 Canon Inc 液晶素子の製造方法
JPS6155625A (ja) 1984-08-24 1986-03-20 Nippon Denso Co Ltd 液晶素子製造方法
US4775225A (en) * 1985-05-16 1988-10-04 Canon Kabushiki Kaisha Liquid crystal device having pillar spacers with small base periphery width in direction perpendicular to orientation treatment
US4691995A (en) * 1985-07-15 1987-09-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal filling device
JPS6289025A (ja) 1985-10-15 1987-04-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示パネルの製造方法
JPS6290622A (ja) 1985-10-17 1987-04-25 Seiko Epson Corp 液晶表示装置
US4653864A (en) * 1986-02-26 1987-03-31 Ovonic Imaging Systems, Inc. Liquid crystal matrix display having improved spacers and method of making same
JPH0668589B2 (ja) 1986-03-06 1994-08-31 キヤノン株式会社 強誘電性液晶素子
US5379139A (en) * 1986-08-20 1995-01-03 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal device and method for manufacturing same with spacers formed by photolithography
JPS63109413A (ja) 1986-10-27 1988-05-14 Fujitsu Ltd 液晶デイスプレイの製造方法
JPS63110425A (ja) 1986-10-29 1988-05-14 Toppan Printing Co Ltd 液晶封入用セル
JPS63128315A (ja) 1986-11-19 1988-05-31 Victor Co Of Japan Ltd 液晶表示素子
JPS63311233A (ja) 1987-06-12 1988-12-20 Toyota Motor Corp 液晶セル
DE3825066A1 (de) * 1988-07-23 1990-01-25 Roehm Gmbh Verfahren zur herstellung von duennen, anisotropen schichten auf oberflaechenstrukturierten traegern
DE69226998T2 (de) * 1991-07-19 1999-04-15 Sharp Kk Optisches Modulationselement und Vorrichtungen mit einem solchen Element
JPH05127179A (ja) 1991-11-01 1993-05-25 Ricoh Co Ltd 液晶表示素子の製造方法
JP2609386B2 (ja) 1991-12-06 1997-05-14 株式会社日立製作所 基板組立装置
JP2743681B2 (ja) * 1992-02-19 1998-04-22 日本電気株式会社 液晶表示素子
JP3159504B2 (ja) * 1992-02-20 2001-04-23 松下電器産業株式会社 液晶パネルの製造方法
JP3010325B2 (ja) * 1992-02-21 2000-02-21 キヤノン株式会社 液晶パネルの製造方法
JPH05265011A (ja) 1992-03-19 1993-10-15 Seiko Instr Inc 液晶表示素子の製造方法
JP2939384B2 (ja) 1992-04-01 1999-08-25 松下電器産業株式会社 液晶パネルの製造方法
JPH05281562A (ja) 1992-04-01 1993-10-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶パネルの製造方法
US5406989A (en) * 1993-10-12 1995-04-18 Ayumi Industry Co., Ltd. Method and dispenser for filling liquid crystal into LCD cell
US5507323A (en) * 1993-10-12 1996-04-16 Fujitsu Limited Method and dispenser for filling liquid crystal into LCD cell
JPH0651256A (ja) 1992-07-30 1994-02-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶吐出装置
JP3084975B2 (ja) 1992-11-06 2000-09-04 松下電器産業株式会社 液晶表示用セルの製造装置
JPH06160871A (ja) 1992-11-26 1994-06-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示パネルおよびその製造方法
JPH06235925A (ja) 1993-02-10 1994-08-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子の製造方法
JPH06265915A (ja) 1993-03-12 1994-09-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶充填用吐出装置
JP3210126B2 (ja) * 1993-03-15 2001-09-17 株式会社東芝 液晶表示装置の製造方法
JP3170773B2 (ja) 1993-04-28 2001-05-28 株式会社日立製作所 基板組立装置
US5539545A (en) * 1993-05-18 1996-07-23 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of making LCD in which resin columns are cured and the liquid crystal is reoriented
JP2957385B2 (ja) * 1993-06-14 1999-10-04 キヤノン株式会社 強誘電性液晶素子の製造方法
JP2702059B2 (ja) * 1993-07-09 1998-01-21 扶桑薬品工業株式会社 合成樹脂製輸液容器の口部閉塞方法
JP3260511B2 (ja) 1993-09-13 2002-02-25 株式会社日立製作所 シール剤描画方法
JPH07128674A (ja) 1993-11-05 1995-05-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子の製造方法
JPH07181507A (ja) 1993-12-21 1995-07-21 Canon Inc 液晶表示装置及び該液晶表示装置を備えた情報伝達装置
US5854664A (en) * 1994-09-26 1998-12-29 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Liquid crystal display panel and method and device for manufacturing the same
JP3189591B2 (ja) 1994-09-27 2001-07-16 松下電器産業株式会社 液晶素子の製造方法
JPH08101395A (ja) 1994-09-30 1996-04-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子の製造方法
JPH08106101A (ja) 1994-10-06 1996-04-23 Fujitsu Ltd 液晶表示パネルの製造方法
JPH08171094A (ja) 1994-12-19 1996-07-02 Nippon Soken Inc 液晶表示器への液晶注入方法及び注入装置
JP3545076B2 (ja) 1995-01-11 2004-07-21 富士通ディスプレイテクノロジーズ株式会社 液晶表示装置及びその製造方法
JPH08204029A (ja) * 1995-01-23 1996-08-09 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置およびその製造方法
JP3216869B2 (ja) * 1995-02-17 2001-10-09 シャープ株式会社 液晶表示素子およびその製造方法
JP3480757B2 (ja) * 1995-02-21 2003-12-22 株式会社半導体エネルギー研究所 パネルの作製方法
US6001203A (en) * 1995-03-01 1999-12-14 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Production process of liquid crystal display panel, seal material for liquid crystal cell and liquid crystal display
JP3534474B2 (ja) 1995-03-06 2004-06-07 富士通ディスプレイテクノロジーズ株式会社 液晶表示パネルのシール方法
JPH095762A (ja) 1995-06-20 1997-01-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶パネルの製造法
JP3978241B2 (ja) 1995-07-10 2007-09-19 シャープ株式会社 液晶表示パネル及びその製造方法
JPH0961829A (ja) 1995-08-21 1997-03-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子の製造方法
JPH0973075A (ja) 1995-09-05 1997-03-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子の製造方法および液晶表示素子の製造装置
JP3161296B2 (ja) 1995-09-05 2001-04-25 松下電器産業株式会社 液晶表示素子の製造方法
JPH0980447A (ja) * 1995-09-08 1997-03-28 Toshiba Electron Eng Corp 液晶表示素子
JP3358935B2 (ja) 1995-10-02 2002-12-24 シャープ株式会社 液晶表示素子およびその製造方法
JP3658604B2 (ja) 1995-10-27 2005-06-08 富士通ディスプレイテクノロジーズ株式会社 液晶パネルの製造方法
JPH09230357A (ja) 1996-02-22 1997-09-05 Canon Inc 液晶パネルの製造方法及びこれに用いる液晶セル
US6236445B1 (en) * 1996-02-22 2001-05-22 Hughes Electronics Corporation Method for making topographic projections
JP3790295B2 (ja) 1996-04-17 2006-06-28 シャープ株式会社 液晶表示パネルの製造方法
JP3234496B2 (ja) 1996-05-21 2001-12-04 松下電器産業株式会社 液晶表示装置の製造方法
KR100208475B1 (ko) * 1996-09-12 1999-07-15 박원훈 자기장 처리에 의한 액정배향막의 제조방법
EP0829748A3 (en) * 1996-09-13 1999-12-15 Sony Corporation Reflective guest-host liquid-crystal display device
JPH10153785A (ja) * 1996-09-26 1998-06-09 Toshiba Corp 液晶表示装置
KR100207506B1 (ko) * 1996-10-05 1999-07-15 윤종용 액정 표시 소자의 제조방법
JPH10123537A (ja) 1996-10-15 1998-05-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子とその製造方法
JP3088960B2 (ja) 1996-10-22 2000-09-18 松下電器産業株式会社 液晶表示素子の製造方法
JP3472422B2 (ja) * 1996-11-07 2003-12-02 シャープ株式会社 液晶装置の製造方法
JPH10142616A (ja) 1996-11-14 1998-05-29 Ayumi Kogyo Kk 液晶注入方法および液体用ディスペンサー
JPH10177178A (ja) 1996-12-17 1998-06-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子の製造方法
JP3361947B2 (ja) * 1997-01-30 2003-01-07 シャープ株式会社 液晶表示装置
JP3874871B2 (ja) 1997-02-10 2007-01-31 シャープ株式会社 液晶表示装置の製造方法
JPH10274768A (ja) * 1997-03-31 1998-10-13 Denso Corp 液晶セルおよびその製造方法
JP3773326B2 (ja) 1997-04-07 2006-05-10 アユミ工業株式会社 液晶の注入方法およびそれに用いるディスペンサー
JPH10333157A (ja) 1997-06-03 1998-12-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置の製造方法
JPH10333159A (ja) 1997-06-03 1998-12-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置
JPH1114953A (ja) 1997-06-20 1999-01-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 多数丁付け液晶表示パネルの製造方法および多数丁付け液晶表示パネル
JP3874895B2 (ja) 1997-07-23 2007-01-31 シャープ株式会社 液晶表示パネルの製造方法
JPH1164811A (ja) 1997-08-21 1999-03-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子の製造方法およびその装置
JP4028043B2 (ja) * 1997-10-03 2007-12-26 コニカミノルタホールディングス株式会社 液晶光変調素子および液晶光変調素子の製造方法
JPH11109388A (ja) 1997-10-03 1999-04-23 Hitachi Ltd 液晶表示装置の製造方法
US5875922A (en) * 1997-10-10 1999-03-02 Nordson Corporation Apparatus for dispensing an adhesive
JPH11133438A (ja) 1997-10-24 1999-05-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子とその製造法
JPH11142864A (ja) 1997-11-07 1999-05-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置の製造方法
JPH11174477A (ja) 1997-12-08 1999-07-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置の製造方法
US6055035A (en) * 1998-05-11 2000-04-25 International Business Machines Corporation Method and apparatus for filling liquid crystal display (LCD) panels
US6337730B1 (en) * 1998-06-02 2002-01-08 Denso Corporation Non-uniformly-rigid barrier wall spacers used to correct problems caused by thermal contraction of smectic liquid crystal material
JP3148859B2 (ja) 1998-06-12 2001-03-26 松下電器産業株式会社 液晶パネルの組立装置及び方法
JP2000029035A (ja) 1998-07-09 2000-01-28 Minolta Co Ltd 液晶素子及びその製造方法
JP2000056311A (ja) 1998-08-03 2000-02-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置
JP2000066165A (ja) 1998-08-20 2000-03-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示パネルの製造方法
JP2000137235A (ja) 1998-11-02 2000-05-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶基板の貼り合わせ方法
JP3828670B2 (ja) 1998-11-16 2006-10-04 松下電器産業株式会社 液晶表示素子の製造方法
US6219126B1 (en) * 1998-11-20 2001-04-17 International Business Machines Corporation Panel assembly for liquid crystal displays having a barrier fillet and an adhesive fillet in the periphery
JP2000193988A (ja) 1998-12-25 2000-07-14 Fujitsu Ltd 液晶表示パネルの製造方法と製造装置
JP3568862B2 (ja) * 1999-02-08 2004-09-22 大日本印刷株式会社 カラー液晶表示装置
JP2000241824A (ja) 1999-02-18 2000-09-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置の製造方法
JP2000310784A (ja) 1999-02-22 2000-11-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶パネル、カラーフィルター及びそれらの製造方法
JP3410983B2 (ja) 1999-03-30 2003-05-26 株式会社 日立インダストリイズ 基板の組立方法およびその装置
JP3535044B2 (ja) 1999-06-18 2004-06-07 株式会社 日立インダストリイズ 基板の組立て装置とその方法、及び液晶パネルの製造方法
JP2000292799A (ja) 1999-04-09 2000-10-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子とその製造方法
JP2000310759A (ja) 1999-04-28 2000-11-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子製造装置および方法
JP2001013506A (ja) 1999-04-30 2001-01-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子及びその製造方法
US6275277B1 (en) * 1999-05-17 2001-08-14 Colorado Microdisplay, Inc. Micro liquid crystal displays having a circular cover glass and a viewing area free of spacers
JP2001222017A (ja) 1999-05-24 2001-08-17 Fujitsu Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
JP2000338501A (ja) 1999-05-26 2000-12-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示パネルの製造方法
JP3486862B2 (ja) 1999-06-21 2004-01-13 株式会社 日立インダストリイズ 基板の組立方法とその装置
JP2001033793A (ja) 1999-07-21 2001-02-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示パネルおよびその製造方法
JP3422291B2 (ja) 1999-08-03 2003-06-30 株式会社 日立インダストリイズ 液晶基板の組立方法
JP2001051284A (ja) 1999-08-10 2001-02-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置製造装置
JP2001091727A (ja) 1999-09-27 2001-04-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd カラーフィルタ基板の製造方法とそのカラーフィルタ基板および液晶表示装置
JP3580767B2 (ja) 1999-10-05 2004-10-27 松下電器産業株式会社 液晶表示パネルならびにその製造方法および駆動方法
JP2001117105A (ja) 1999-10-18 2001-04-27 Toshiba Corp 液晶表示装置の製造方法
JP2001117109A (ja) 1999-10-21 2001-04-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置の製造方法
JP3583326B2 (ja) 1999-11-01 2004-11-04 協立化学産業株式会社 Lcdパネルの滴下工法用シール剤
JP2001133799A (ja) 1999-11-05 2001-05-18 Fujitsu Ltd 液晶表示装置の製造方法
JP3574865B2 (ja) 1999-11-08 2004-10-06 株式会社 日立インダストリイズ 基板の組立方法とその装置
JP2001142074A (ja) 1999-11-10 2001-05-25 Hitachi Ltd 液晶表示装置
JP2001147437A (ja) 1999-11-19 2001-05-29 Nec Corp 液晶表示パネル及びその製造方法
JP2001154211A (ja) 1999-11-30 2001-06-08 Hitachi Ltd 液晶パネルおよびその製造方法
JP2001166310A (ja) 1999-12-08 2001-06-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示パネルの製造方法
JP3641709B2 (ja) 1999-12-09 2005-04-27 株式会社 日立インダストリイズ 基板の組立方法とその装置
JP4132528B2 (ja) 2000-01-14 2008-08-13 シャープ株式会社 液晶表示装置の製造方法
JP2001209052A (ja) 2000-01-24 2001-08-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
JP2001215459A (ja) * 2000-02-02 2001-08-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子製造装置
JP2001235758A (ja) 2000-02-23 2001-08-31 Fujitsu Ltd 液晶表示パネルおよびその製造方法
JP2001255542A (ja) 2000-03-14 2001-09-21 Sharp Corp 基板貼り合わせ方法及び基板貼り合わせ装置、並びに、液晶表示素子の製造方法及び製造装置
JP2001264782A (ja) 2000-03-16 2001-09-26 Ayumi Kogyo Kk フラットパネル基板間への粘液状材料の充填方法
JP2001272640A (ja) 2000-03-27 2001-10-05 Fujitsu Ltd 液晶滴下装置及び液晶滴下方法
JP2001281675A (ja) 2000-03-29 2001-10-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置の製造方法
JP3678974B2 (ja) 2000-03-29 2005-08-03 富士通ディスプレイテクノロジーズ株式会社 液晶表示装置の製造方法
JP3707990B2 (ja) 2000-03-30 2005-10-19 株式会社 日立インダストリイズ 基板組立装置
JP3492284B2 (ja) 2000-04-19 2004-02-03 株式会社 日立インダストリイズ 基板貼合装置
JP2001330840A (ja) 2000-05-18 2001-11-30 Toshiba Corp 液晶表示素子の製造方法
JP2001330837A (ja) 2000-05-19 2001-11-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd 気密構造体とその製造方法およびそれを用いた液晶表示装置とその製造方法
JP2001356354A (ja) 2000-06-13 2001-12-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子の製造方法
JP2002080321A (ja) 2000-06-20 2002-03-19 Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd 化粧料
JP2002014360A (ja) 2000-06-29 2002-01-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶パネルの製造方法および装置
JP2002023176A (ja) 2000-07-05 2002-01-23 Seiko Epson Corp 液晶注入装置及び液晶注入方法
JP2002040445A (ja) * 2000-07-28 2002-02-06 Sanyo Electric Co Ltd 液晶表示パネルの製造方法及びシール硬化用の緩衝板
JP2001066615A (ja) 2000-08-02 2001-03-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置の製造方法
JP2002049045A (ja) 2000-08-03 2002-02-15 Nec Corp 液晶表示パネルの製造方法
JP2002082340A (ja) 2000-09-08 2002-03-22 Fuji Xerox Co Ltd フラットパネルディスプレイの作製方法
JP2002090760A (ja) 2000-09-12 2002-03-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示パネル製造装置及び方法
JP2002090759A (ja) 2000-09-18 2002-03-27 Sharp Corp 液晶表示素子の製造装置および製造方法
JP2002107740A (ja) 2000-09-28 2002-04-10 Sharp Corp 液晶表示パネルの製造方法及び製造装置
JP2002122872A (ja) 2000-10-12 2002-04-26 Hitachi Ltd 液晶表示装置およびその製造方法
JP4841031B2 (ja) 2000-10-13 2011-12-21 スタンレー電気株式会社 液晶装置の製造方法
JP3281362B2 (ja) 2000-12-11 2002-05-13 富士通株式会社 液晶表示パネルの製造方法
JP2002202512A (ja) 2000-12-28 2002-07-19 Toshiba Corp 液晶表示装置及びその製造方法
JP2002202514A (ja) 2000-12-28 2002-07-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶パネルおよびその製造方法およびその製造装置
JP2002214626A (ja) 2001-01-17 2002-07-31 Toshiba Corp 液晶表示装置の製造方法及びシール材
JP3411023B2 (ja) 2001-04-24 2003-05-26 株式会社 日立インダストリイズ 基板の組立装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0720478A (ja) * 1993-06-30 1995-01-24 Sharp Corp 液晶表示素子の製造方法
JP2001183675A (ja) * 1999-12-22 2001-07-06 Casio Comput Co Ltd 液晶表示パネルの製造方法
KR20030072826A (ko) * 2002-03-07 2003-09-19 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자의 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
JP2003295202A (ja) 2003-10-15
US6628365B1 (en) 2003-09-30
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