実施の形態1.
図1及び図2は、本発明の実施の形態1の液晶表示装置を構成する液晶パネル100の概略図である。以下、この液晶パネル100の構成について図1及び図2を用いて説明する。図1は液晶パネル全体を示した平面図、図2は図1における断面線A−Bでの断面図を示したものである。なお、図は模式的なものであり、示された構成要素の正確な大きさなどを反映するものではない。表示画素の繰り返し部分の省略及び膜構成の一部簡略化を行っている。また、図中、既出の図において説明したものと同一の構成要素には同一の符号を付し、その説明を省略する。以下の図においても同様とする。
ここでは、一例としてTFT(Thin Film Transistor)をスイッチング素子に用いて動作される液晶パネル100について説明を行うことにする。図1及び図2に示される様に、この液晶パネル100は、対向配置される一対の基板であるスイッチング素子としてTFTがアレイ状に配置されるスイッチング素子基板110及びカラーフィルタなどの形成されるカラーフィルタ基板120と、液晶パネル100が動作した際に画像を表示する表示面に対応する領域である表示領域200に対して、スイッチング素子基板110とカラーフィルタ基板120との間における、少なくとも表示領域200を囲うように配置されたシール材130を備えており、このカラーフィルタ基板120とスイッチング素子基板110との基板間に液晶140が配置され、このシール材130により囲まれる領域内に封止されている。ここでは、液晶として一般的なTN(Twisted Nematic)型の液晶を用いている。
上述のスイッチング素子基板110は、透明基板であるガラス基板111の一方の面の表示領域200に液晶140を配向させる配向膜112、配向膜112の下部に設けられ液晶140を駆動する電圧を印加する画素電極113、画素電極113に電圧を供給するTFTなどのスイッチング素子114、スイッチング素子114を覆う絶縁膜115、スイッチング素子114に信号を供給する配線であるゲート配線116及びソース配線117などを有し、更に表示領域200の外側の領域にはスイッチング素子114に供給される信号を外部から受け入れる端子118、端子118から入力された信号を対向電極へ伝達するためのトランスファ電極(図示せず)などを有している。また、ガラス基板111の他方の面には偏光板131を有している。
一方、上述のカラーフィルタ基板120は、透明基板であるガラス基板121の一方の面に液晶140を配向させる配向膜122、配向膜122の下部に配置され、スイッチング素子基板110上の画素電極113との間に電界を生じ液晶140を駆動する共通電極123、共通電極123下部に設けられるカラーフィルタ124及び遮光層125などを有している。また、ガラス基板121の他方の面には偏光板132を有しており、この偏光板132については、偏光板131と同種の素材からなる偏光板が用いられている。
また、スイッチング素子基板110とカラーフィルタ基板120はシール材130及び基板間の距離を一定の距離に保持する柱状スペーサ133を介して貼り合わされている。柱状スペーサ133は、少なくとも表示領域200内に配置され、何れか一方の基板上に樹脂をパターニングして形成される。なお、柱状スペーサ133の代わりに、基板上に散布された粒状のスペーサを用いても良い。更に、トランスファ電極と共通電極123は、トランスファ材(図示せず)により電気的に接続されており、端子118から入力された信号が共通電極123に伝達される。この他に、液晶パネル100は駆動信号を発生する駆動用IC(Integrated Circuit)などを装備した制御基板135、制御基板135を端子118に電気的に接続するFFC(Flexible Flat Cable)136、光源となるバックライトユニット(通常は、表示面となるカラーフィルタ基板120側とは反対側であるスイッチング素子基板110の外側に対向して配置されるが、ここでは図示せず)などを備えており、これら部材と共に表示面となる表示領域200におけるカラーフィルタ基板120の外側の部分が開放された筐体(図示せず)の中に収納され、本実施の形態1の液晶表示装置を構成する。
続いて、本実施の形態1の液晶パネル100の特徴部分であるパネル周辺部の構成について説明を行う。本実施の形態1の液晶パネル100では、図1に示すように、パネル周辺部のシール材130近傍において、シール材130の内側(シール材130に囲まれる領域の内側、即ち、液晶140と近接する側)に沿って、液晶140とシール材130の間に液晶140の存在しない空間よりなる間隙層150が形成されている。この間隙層150は、図1から判る様に、シール材130の内側の端面全てに渡って、液晶140とシール材130の間に形成されている。更に、この間隙層150においては、液晶140が存在せずに真空状態、或いは大気圧相当の液晶140中の揮発成分のガスで満たされた状態となっている。即ち、厳密には、ここで言う液晶140が存在しない空間とは、ガス状態の液晶140を除いて、液体状態の液晶140が存在しない空間を意味し、本明細書中では前記の意味にて使用する。つまり、液晶140とシール材130の間に形成されている間隙層150は、液晶140が存在せずに真空状態、或いは大気圧相当の液晶140中の揮発成分のガスで満たされた空間よりなる間隙層150とも言い換えることができる。
また、シール材130近傍の内側にシール材130より1mm程度の距離を置いて、シール材130に沿って土手状に形成された間隙層保持壁151が形成されている。この間隙層保持壁151は間隙層150をシール材130の近傍のシール材130と液晶140の間に保持する役割を持っており、本実施の形態1では表示領域200内に配置される柱状スペーサ133と共通部材により土手状に形成された壁である。間隙層150は、概ね、この間隙層保持壁151とシール材130との間の領域に形成されている。また、間隙層保持壁151の高さについては、本実施の形態1では、間隙層保持壁151を柱状スペーサ133よりも若干低く形成して、間隙層保持壁151とシール材130との間の空間を液晶140の満たされた空間と連続するようにした。以上のとおり、シール材130により囲まれる領域内に液晶140の存在しない空間よりなる間隙層150と間隙層150を保持する間隙層保持壁151が形成されていることから、液晶140は、シール材130により囲まれる領域内の特に間隙層保持壁151に囲まれる領域に、概ね保持されているとも言える。
また、スイッチング素子基板110とカラーフィルタ基板120の其々の表面に配向膜112及び配向膜122が形成されることを先に説明したが、表示領域200及び表示領域200より若干食み出す領域(形成マージン領域)においては、一般的なTN型液晶用の配向膜材料であるポリイミド膜に対して表面にラビングなどの配向処理を行った配向膜により、配向膜112及び配向膜122が形成されている。また、図1に示す様に、表示領域200より外側のシール材130近傍領域には、スイッチング素子基板110とカラーフィルタ基板120における内側(対向配置される両基板の互いに対向する側)の其々の表面に液晶をはじく撥液晶材料152が形成されている。ここでは垂直配向(VA: Vertical Alignment)方式液晶表示装置用の配向膜材料(以下、VA配向膜材料と呼ぶ。)により、撥液晶材料152が形成されている。また、本実施の形態1の液晶パネル100では、撥液晶材料152が、各構成における間隙層150と接する側の表面、具体的には、間隙層保持壁151の表面および、少なくともシール材130の内側(シール材130に囲まれる領域の内側、即ち、液晶140と近接する側)端面の表面にも形成されるようにした。なお、撥液晶材料152は、基本的には、液晶140をはじき、液晶140とは接触し難い構成となるが、形成途中も含め部分的に接触する場合もあることから、当然、液晶140へ汚染混入することのない適切な材料より選定することが望ましい。ここで用いたVA配向膜材料は、一般的に常時液晶と接触されることを前提に準備された材料であることから、液晶140への汚染混入という点では全く問題は無い。
以上のとおり構成について説明を行った本実施の形態1の液晶表示装置及び液晶パネル100は次の様に動作する。例えば、制御基板135から電気信号が入力されると、画素電極113及び共通電極123に駆動電圧が加わり、駆動電圧に合わせて液晶140の分子の方向が変わる。そして、バックライトユニットの発する光がスイッチング素子基板110、液晶140及びカラーフィルタ基板120を介して観察者側に透過或いは遮断されることにより、液晶パネル100の表示領域200に映像などが表示される。また、長期間の保管後の動作においても、問題となるパネル周辺部における黒ムラの発生は見られなかった。
なお、この液晶パネル100は、一例であり他の構成でも良い。液晶パネル100の動作モードは、TN(Twisted Nematic)モードに限らず、STN(Supper Twisted Nematic)モード、強誘電性液晶モードなどでもよく、駆動方法は、単純マトリックスであっても、アクティブマトリックスでも良く、必ずしもスイッチング素子を用いるものに限られない。更にカラーフィルタ基板120に設けた共通電極123をスイッチング素子基板110側に設置して、画素電極113との間に横方向に液晶140に対して電界をかける横電界方式を用いた液晶パネルでも良い。また、透明基板についても一例としてガラスを用いたが、透明であれば透明プラスチックや石英など、他の材質であっても良い。
更に、トランスファ材については、シール材130中に導電性の粒子などを混合することにより代用でき省略することも可能である。また、ここでは、端子118をスイッチング素子基板110の二辺に設け、其々に制御基板135を接続する構成としたが、小型液晶パネルなどの様に、一辺にのみ端子118を設け、一つの制御基板135のみを接続する構成としても良い。更に駆動用ICを制御基板135に載せた状態で接続するのではなく端子118上に配置して駆動用ICの端子を端子118に直接接続する構成としても良い。また、シール材130において、液晶140を注入する注入口の図示を省略しているが、液晶140の注入方法として、真空中で注入口より注入する真空注入法を用いる場合には注入口及び注入口を封止する封止剤が形成される。また、液晶140を液滴状で配置して真空中で基板を貼り合わせて注入する滴下注入法を用いる場合には、注入口及び封止剤は省略可能であり、図1の平面図に示したとおり、シール材130及び間隙層保持壁151は、カラーフィルタ基板120の外形の四辺に沿った概ね矩形の閉ループ状パターンに形成される。
次に、本実施の形態1の液晶表示装置及び液晶パネル100の製造方法について説明を行う。通常、液晶パネルは最終形状よりも大きなマザー基板より液晶パネルを1枚或いは複数枚取り出して製造(多面取り)が行われる。ここでは、本発明において特徴的な組み立て工程を中心に説明を行う。以下、本実施の形態1の液晶パネル100の組み立て工程について、図3に示すフローチャートに従い、特徴的な工程については、適宜、図4〜図7の詳細説明図面を用いながら説明を行うことにする。
先ず、基板準備工程において、図4および図5に示す様に、互いに貼り合わされる前のスイッチング素子基板110を取り出すマザースイッチング素子基板10とカラーフィルタ基板120を取り出すマザーカラーフィルタ基板20を準備する(S0)。図4に示す様に、マザースイッチング素子基板10には、1枚或いは複数枚のスイッチング素子基板110が作りこまれており(図では、マザースイッチング素子基板10上のある1枚のスイッチング素子基板110近傍を示している。)、以降に行われる工程で、スイッチング素子基板110がマザースイッチング素子基板10より取り出される。更に、スイッチング素子基板110には、構成の説明において説明した通り、外部から信号を受け入れる端子118や、液晶パネルが完成した場合の表示面に対応した領域である表示領域200に、液晶140を駆動する画素電極113、TFTなどのスイッチング素子114、種々の配線など(いずれも図示省略)が作りこまれている。なお、これら端子118及びスイッチング素子110などの作りこみは一般的な液晶パネルにおけるスイッチング素子基板の製造方法と同様で良いことから詳細な製造方法に関する説明は省略する。
一方、図5に示す様に、マザーカラーフィルタ基板20には、1枚或いは複数枚のカラーフィルタ基板120が作りこまれており、以降に行われる工程で、カラーフィルタ基板120がマザーカラーフィルタ基板20より取り出される。更に、カラーフィルタ基板120には、構成の説明において説明した通り、液晶パネル100が完成した場合の表示面に対応した領域である表示領域200に、液晶140を駆動する共通電極123、カラーフィルタ124、遮光層125(いずれも図示省略)、柱状スペーサ133などが作りこまれている。なお、これら共通電極123、カラーフィルタ124、遮光層125及び柱状スペーサ133などの作りこみは一般的な液晶パネルにおけるカラーフィルタ基板の製造方法と同様で良いことから詳細な製造方法に関する説明は省略する。また、表示領域200外側のシール材130近傍の内側にシール材130より1mm程度の距離を置いて、シール材130に沿って、柱状スペーサ133と共通部材により間隙層保持壁151が作りこまれている。この間隙層保持壁151についても、一般的な柱状スペーサの形成方法である感光性樹脂膜の塗布とパターニングにより柱状スペーサ133と同時形成すれば良いことから、詳細な形成方法については省略する。
続いて、基板洗浄工程において、以上説明のとおり準備されたスイッチング素子基板110の形成されたマザースイッチング素子基板10を洗浄する(S1)。次に、配向膜材料塗布工程において、マザースイッチング素子基板10の一方の面に、配向膜材料を塗布形成する(S2)。この工程は、例えば、印刷法により有機膜からなる配向膜材料を塗布し、ホットプレートなどにより焼成処理し乾燥させる。その後、ラビング工程において配向膜材料にラビングを行い、配向膜材料表面を配向処理し配向膜112とする(S3)。
特に本実施の形態1では、図4に示す様に、表示領域200及び表示領域200より若干食み出す領域においては一般的なTN型液晶用の配向膜であるポリイミド膜を、表示領域200より外側のシール材130近傍領域に対応する領域においては撥液晶材料152としてVA配向膜材料を、其々、領域により分けて塗布する。塗り分ける方法としては、二回に分けて印刷しても良いし、インクジェット法などを用いても構わない。更に、VA配向膜材料を塗布する領域はシール材130近傍の比較的狭い幅の閉ループ状となることから、こちらのみをディスペンサ(液体定量吐出装置)におけるノズルなどを走査して塗布しても良い。
また、VA配向膜材料としては、市販品で良いが、具体的には、疎水性成分(例えば、長鎖アルキル基、フッ素置換されたアルキル基や脂環式骨格など)を含むポリイミド系配向膜材料を用いると良い。また、その他の適当な液晶をはじく撥液晶材料152としては、液晶をはじく材料であり、更に液晶140を汚染しない材質であるフッ素系の樹脂が適当であり、数あるフッ素系の樹脂の中でも、PFA(4フッ化エチレン−パーフロロアルキルビニルエーテル共重合体)、FEP(4フッ化エチレン−6フッ化プロピレン共重合体)などが相応しい。また、通常の配向膜表面に所定の光(紫外線、赤外線、レーザ光を含む)を照射すると、液晶の付着防止効果が生ずることから、TN型液晶用の配向膜およびVA配向膜の形成領域全体にTN型液晶用の配向膜材料であるポリイミド膜を形成し、撥液晶材料152とする領域にのみ、配向膜表面に前記の所定の光を照射して撥液晶材料152としても良い。また、別の方法として、撥液晶材料152とする領域にのみフッ素系界面活性剤を配向膜に添加して、添加される領域のみを撥液晶材料152としても良い。
また、S1〜S3と同様に、カラーフィルタ基板120が形成されているマザーカラーフィルタ基板20についても、洗浄、配向膜材料の塗布、ラビングを行うことにより配向膜122を形成する。ここでもマザースイッチング素子基板10でのS3と同様に、図5に示す様に、表示領域200及び表示領域200より若干食み出す領域においては、一般的なTN型液晶用の配向膜材料であるポリイミド膜を、表示領域200より外側のシール材130近傍領域に対応する領域においては、撥液晶材料152としてVA配向膜材料を、其々、領域により分けて塗布する。また、図5に示す様にカラーフィルタ基板120については、既に柱状スペーサ133と共通部材により間隙層保持壁151が作りこまれており、撥液晶材料152は、少なくともシール材130から、この間隙層保持壁151の形成される領域まで形成されるのが好ましい。なお、撥液晶材料152に関しては、スイッチング素子基板110で説明した他の材料や他の形成方法を用いても良いことは言うまでも無い。
続いて、シール塗布工程において、スクリーン印刷装置により、シールを印刷ペーストとして、マザースイッチング素子基板10或いはマザーカラーフィルタ基板20の一方の面にシールの塗布を行い、表示領域200を囲う形状のシールパターンを形成する(S4)。具体的には、例えば、図6に示す様にマザーカラーフィルタ基板20に形成されるカラーフィルタ基板120に対して、スイッチング素子基板110と貼り合わせるためのシール材130が、表示面に対応した領域である表示領域200を囲う形状のシールパターンとして形成される。次に、トランスファ材塗布工程において、マザースイッチング素子基板10或いはマザーカラーフィルタ基板20の一方の面にトランスファ材の塗布処理を行う(S5)。
なお、本実施の形態1では、塗布形成されたシール材130の内側の端面にも撥液晶材料152を形成するために、図6に示す様にディスペンサ(液体定量吐出装置)におけるノズルDISを用いてシール材130に沿ってVA配向膜材料を塗布した。ここでも、ノズルDISより塗布するのは、VA配向膜材料に限られず、先に説明を行ったフッ素系の樹脂やフッ素系界面活性剤であっても良い。また、ノズルDISによる塗布処理にかえて、先に説明を行った所定の光をシール材130表面に照射する処理を行い撥液晶材料152としても良い。また、この様にシール材130形成後にシール材130表面を撥液晶材料152とする処理を行う場合には、先に説明したシール塗布工程前に行う、表示領域200より外側のシール材130領域に対応する領域に撥液晶材料152を塗布或いは形成する処理を省略し、この工程で併せて行っても構わない。
続いて、液晶滴下工程において、マザースイッチング素子基板10或いはマザーカラーフィルタ基板20の一方の面に、シール材130で囲まれる領域内に多数の液滴状の液晶140を滴下する(S6)。具体的には、例えば、図7に示す様にマザーカラーフィルタ基板20のカラーフィルタ基板120の其々に対して、シール材130の内側に形成される間隙層保持壁151で囲まれる領域内に、多数の液滴状の液晶140を、全体で間隙層保持壁151により囲まれる領域の容積に概ね対応した所定量となるように滴下する。より、具体的には、液晶パネル100のシール材130内容積より、間隙層保持壁151とシール材130間距離1mm程度に対応する容積を減らした滴下量とすると良い。或いは、概算で見積るのであれば、液晶パネル100のパネルサイズにより多少変動するが、シール材130内容積の95〜98%程度を選択しても良い。なお、図7では、液滴状の液晶140或いはシール材130の図示を優先し、先に図4を用い説明した柱状スペーサ133については、図面が煩雑とならない様に図示を省略している。
また、ここでは、所謂、滴下注入(ODF:One Drop Filling)法を用いて液晶140を充填する方法を一例としたので、この様に形成したが、所謂、真空注入法を用いる場合には、シール材130は完全に閉じた形状ではなく一部開口させた液晶注入口が形成される。更に、シール材130に沿って形成された間隙層保持壁151については、液晶注入口も含めて、シール材130に沿って形成する。なお、真空注入法を用いる場合には、当然のことながら、液晶140は貼り合わせた後に前記液晶注入口より注入されることから、上記説明した液滴状の液晶140の形成処理は省略される。
続いて、貼り合わせ工程において、マザースイッチング素子基板10及びマザーカラーフィルタ基板20を貼り合わせてセル基板を形成する(S7)。続いて、シール硬化工程において、マザースイッチング素子基板10とマザーカラーフィルタ基板20を貼り合わせた状態で、シールを完全に硬化させる(S8)。この工程は、例えば、シールの材質に合わせて熱を加えることや紫外線を照射することにより行われる。本実施の形態1では、滴下注入法と相性の良い、紫外線を照射する方法により硬化を行った。この工程によりマザースイッチング素子基板10とマザーカラーフィルタ基板20は位置合わせされた位置関係のまま固定される。なお、この紫外線を照射する方法によりシール硬化工程を行った場合には、紫外線の照射によりシール材130表面を撥液晶材料152とする効果が得られ、先に説明を行った別途シール材130表面を撥液晶材料152とする工程は省略可能である。
また、液晶パネル100を軽量化するために基板を薄型化する場合には、この貼り合わされた状態で薬液や機械的研磨による薄型化処理を実施すると良い。このシール硬化工程が完了した段階、或いは薄型化処理が完了した段階において、セル基板は完成する。なお、このセル基板は、液晶表示装置製造用の部材である液晶表示装置用セル基板として、所謂、中間製品として販売される場合もある。次に、セル分断工程において、セル基板を多数の個別セル基板に分断する(S9)。この工程において、マザースイッチング素子基板10及びマザーカラーフィルタ基板20より、個々の個別セル基板のスイッチング素子基板110とカラーフィルタ基板120の形状に切断が行われ、個別セル基板に分断される。
なお、所謂、真空注入法を用いる場合には、先に説明をしたとおりシール材130に一部開口させた液晶注入口を形成しておき、上記のセル分断工程後に行う液晶注入工程において、個々の個別セル基板に対して液晶注入口から液晶140を注入する。この工程は、例えば、液晶140を液晶注入口から真空注入により充填することにより行われる。更に、封止工程において、液晶注入口を封止する。この工程は、例えば、光硬化型樹脂で封じ、光を照射することにより行われる。なお、真空注入により充填する場合にも、シール材130に沿って形成された間隙層保持壁151と、シール材130近傍領域に形成された撥液晶材料152により、パネル周辺部のシール材130近傍に液晶140が侵入することが阻まれ、液晶140の充填はパネル周辺部のシール材130近傍を除く表示領域200に優先的に行われて間隙層150の形成が補助される。
然しながら、真空注入法により充填する場合には、公知の一般的な方法を用いた場合、全てのシール材130内の容積を超える充分な量の液晶140が液晶皿に満たされて注入口に供給される。このため、全てのシール材130内の容積が充填されるまで、液晶140の充填は継続される。従って、間隙層保持壁151で囲まれる領域にのみ液晶140が充填されてシール材130内側に間隙層150が形成されるように、間隙層保持壁151で囲まれる領域の容積を若干超える程度の液晶140を液晶皿に準備すると良い。これにより、間隙層保持壁151で囲まれる領域の容積を大幅に超える液晶140が注入され、間隙層150が埋まってしまうことを避けることができる。或いは、別の方法として、間隙層保持壁151で囲まれる領域に液晶140が充填された時点で、液晶皿の液晶140よりセル基板を引き上げても良い。この場合には、真空注入を解除した真空注入装置チャンバ内の雰囲気が間隙層150に充填される。従って、真空の解除を不純物の含まれる大気開放ではなく、不純物濃度などが制御或いは管理された不活性ガスなどでチャンバ内真空を解除することが望ましい。この方法によれば、間隙層150には、不活性ガスを充填することができる。以上説明のとおり、真空注入法を用いても、公知の真空注入方法に若干の変更を加えれば、本実施の形態1の間隙層150を形成することが可能であるが、間隙層保持壁151で囲まれる領域の容積に対応する液晶140の量を過不足なく予め決定して滴下することができることから、滴下注入法で間隙層150を形成するのが容易であり最適な方法である。
この様に個々の液晶パネルの形状に分断された後、偏光板貼り付け工程において、セル基板の外側のスイッチング素子基板110およびカラーフィルタ基板120の其々の表面に偏光板131および偏光板132を貼り付け(S10)、制御基板実装工程において、制御基板135を実装する(S11)ことによって、液晶パネル100が完成する。更に、液晶パネル100の反視認側となるスイッチング素子基板110の裏面側に位相差板などの光学フィルムを介して、バックライトユニットを配設し、樹脂や金属などよりなるフレーム内に、液晶パネル100及びこれら周辺部材を適宜収納し、本実施の形態1の液晶表示装置が完成する。
以上説明した実施の形態1の液晶表示装置を構成する液晶パネル100においては、上述の通り、パネル周辺部のシール材130近傍において、シール材130の内側に沿って、液晶140とシール材130の間に液晶140の存在しない空間よりなる間隙層150が形成されていることにより、液晶140とシール材130が接触することが無く、シール材130から液晶140中への汚染の混入を防ぐことができ、長期間の保管によって発生するムラの発生防止、或いは発生を抑制することができる。また、シール材130近傍の内側にシール材130より距離を置いて、シール材130に沿って間隙層保持壁151が形成され、この間隙層150を保持していることにより、このシール材130からの汚染防止効果を長期間にわたり得ることができる。
また、以上説明した実施の形態1の液晶表示装置を構成する液晶パネル100においては、上述の通り、表示領域200より外側のシール材130近傍領域には、スイッチング素子基板110とカラーフィルタ基板120の其々の表面、更に間隙層保持壁151の表面、シール材130内側の表面に液晶をはじく撥液晶材料152が形成されていることにより、液晶注入時において、パネル周辺部のシール材130近傍に液晶140が侵入することを阻み、間隙層150を容易に特定の位置に選択的に形成することができるとともに、使用中も含めて、シール材130近傍に液晶140が侵入することを阻み続けることができる。従って、長期間、この間隙層150を安定的に保持することができ、やはり、シール材130からの汚染防止効果を長期間にわたり得ることができる。なお、シール材130内側の表面に液晶をはじく撥液晶材料152が形成されている本実施の形態1の構成は、仮に製造途中も含めて、シール材130形成部分に液晶140が短時間付着する場合があったとしても、シール材130表面には、撥液晶材料152が形成されることから、液晶140は撥液晶材料152と接触するのみで、直接シール材130と液晶140が接触することを防ぎ、汚染防止効果をより確実とすることができることから、構成として、更に望ましい。
また、実施の形態1では、液晶140として、TN型の液晶材料を選定し、垂直配向(VA)方式液晶表示装置用の配向膜材料、即ちVA配向膜材料を組み合わせて用いることで、VA配向膜材料に液晶をはじく性質を持たせて、撥液晶材料152とし、比較的容易に、或いは汎用される配向膜材料を用い比較的安価に撥液晶材料152を得ることができ、上記説明のシール材130近傍に液晶140が侵入することを阻み続ける効果を得られる。なお、実施の形態1の製造方法の説明時に例示したTN型液晶用の配向膜材料であるポリイミド膜により配向膜122を形成し、撥液晶材料152を形成する領域のみ配向膜表面に光を照射して撥液晶材料152とする方法についても、マスクなどを介して光を照射することで撥液晶材料152を形成する領域を選択することができ、マスクの配置精度も高くする必要は無く、こちらも汎用される配向膜材料を用いて撥液晶材料152を得ることができることから、やはり、比較的容易に、或いは比較的安価に液晶をはじく撥液晶材料152を得ることができる有効な方法である。また、VA配向膜材料や配向膜122を撥液晶材料152として用いることは、液晶140と接触することによる液晶140への汚染混入という点でも全く問題の無い最適化された材料である。
また、以上説明した実施の形態1の液晶表示装置を構成する液晶パネル100においては、シール材130内側に形成され間隙層150を保持する間隙層保持壁151を柱状スペーサ133よりも若干低く形成して、間隙層保持壁151とシール材130との間の空間を液晶140の満たされた空間と連続するようにした。間隙層保持壁151については、柱状スペーサ133と同じ高さとして、間隙層保持壁151とシール材130との間の空間を概ね閉じた空間としても良いが、本実施の形態1の様に、柱状スペーサ133よりも若干低く形成することで、間隙層保持壁151により囲まれる容積を超える液晶140が適度に間隙層保持壁151の形成される領域で調整され、間隙層保持壁151により囲まれる容積を元にした液晶量の調整を厳密にする必要が無くなる。
更に、実施の形態1では、間隙層保持壁151と柱状スペーサ133を両者ともカラーフィルタ基板120に配置し、共通部材により同時形成しているが、両者ともスイッチング素子基板110に同時形成しても良く、一方の基板に順次形成すること、更に別々の部材を用いること、別々の基板に形成することなどを適宜選択しても良い。但し、共通の基板に形成し、更に同時形成する方が製造コストを低減することができる。更に、間隙層保持壁151は液晶140へ接触されることから、液晶140へ汚染混入することのない柱状スペーサ133と共通部材により形成されるのが好ましく、柱状スペーサ133と別部材により構成する場合にも少なくとも液晶140へ汚染混入することのない適切な材料より選定することが必要なことは言うまでも無い。なお、間隙層保持壁151を柱状スペーサ133よりも若干低く同時形成する場合には、公知の階調露光マスクなど(所謂、グレートーンマスク、ハーフトーンマスクなど)を用いることが望ましい。露光工程を二工程に増やすことなく、間隙層保持壁151と柱状スペーサ133を異なる高さに同時形成することができ、製造コストを低減することができる。
また、以上説明した実施の形態1の液晶表示装置を構成する液晶パネル100においては、表示領域200より外側のシール材130近傍領域におけるスイッチング素子基板110とカラーフィルタ基板120の其々の表面、更に間隙層保持壁151の表面、シール材130内側の表面に液晶をはじく撥液晶材料152を形成して、シール材130近傍に液晶140が侵入することを阻み、間隙層150を容易に形成する構成としている。更にシール材130に沿って形成される間隙層保持壁151を備えた構成により、間隙層150を安定して保持する構造を採用している。その結果、これらの構造が全て相互に作用し、間隙層150が容易に形成され安定的に保持される効果を得ている。一方、多少の効果の低下を許容すれば、全ての構成を備えなくとも良く、其々の液晶表示装置に要求される製造コスト、信頼性などの仕様に応じて、適宜、採否を選択しても良い。以下、図8〜図10を用いて、実施の形態1より間隙層150を保持する構成を変更した幾つかの変形例の液晶パネルについて説明する。
例えば、実施の形態1の液晶パネル100において、シール材130近傍領域に形成する撥液晶材料152を一部省略しても良い。具体的には、図8に示す様にシール材130内側の表面の撥液晶材料152の形成を省略しても、間隙層保持壁151の構造と、間隙層保持壁151の表面とスイッチング素子基板110とカラーフィルタ基板120の其々の表面に形成された撥液晶材料152の作用のみでも、パネル周辺部のシール材130近傍に液晶140が侵入することが阻まれることから、間隙層150を容易に形成し安定的に保持する一定の効果を得ることができる。一方、シール材130内側の表面に撥液晶材料152を形成するために行う図6を用い説明したシール材130形成後の処理を省略することができ、製造工程を簡略化して製造コストを低減する効果が得られる。
更に簡略化して、図9に示す様にシール材130内側の表面の撥液晶材料152の形成を全て省略しても良い。例えば、シール材130に沿って形成される間隙層保持壁151を備えた図9の構成を用い、滴下注入法により、液晶140の滴下量を間隙層保持壁151で囲まれる領域の容積に併せて、間隙層保持壁151で囲まれる領域内のみに滴下する方法で液晶140を充填することのみでも、パネル周辺部のシール材130近傍に液晶140が侵入することが阻まれることから、間隙層150を容易に形成し安定的に保持する一定の効果を得ることができる。一方、間隙層保持壁151の表面とスイッチング素子基板110とカラーフィルタ基板120の其々の表面に撥液晶材料152を形成するために行う図4、図5を用い説明した配向膜形成工程の処理を簡略化することができ、更に製造コストを低減する効果が得られる。
また、図10に示す様に、シール材130近傍領域におけるスイッチング素子基板110とカラーフィルタ基板120の其々の表面、更にシール材130内側の表面に撥液晶材料152が形成される構成を残し、シール材130に沿って形成される間隙層保持壁151の構成のみを省略しても良い。例えば、シール材130近傍領域の少なくともスイッチング素子基板110とカラーフィルタ基板120の其々の表面に撥液晶材料152が形成される図10の構成を用い、滴下注入法により、液晶140の滴下量をシール材130内容積より、シール材130より内側へ距離1mm程度縮小した領域に対応する容積に併せて、表示領域200のみに滴下する方法で液晶140を充填することのみでも、パネル周辺部のシール材130近傍に液晶140が侵入することが阻まれることから、間隙層150を容易に形成し安定的に保持する一定の効果を得ることができる。また、この図10の構成は、実施の形態1の構成と同様にシール材130内側の表面に撥液晶材料152が形成されていることから、仮に製造途中も含めて、シール材130形成部分に液晶140が短時間付着する場合があったとしても、直接シール材130と液晶140が接触することを防ぎ、汚染防止効果をより確実とすることができる。
また、本実施の形態1及びその変形例では、TN型の液晶140を用い、液晶をはじく撥液晶材料152として、VA配向膜材料を用いた例を中心に説明を行ったが、横電界方式やVA方式の液晶表示装置であっても、シール材130に沿って形成される間隙層保持壁151の構成による効果は、本実施の形態1及びその変形例と同様の効果を得ることができ、液晶をはじく撥液晶材料152により得られる効果についても、液晶をはじく撥液晶材料152を適宜、横電界方式やVA方式で用いられる液晶材料をはじく材料に適性化すれば、同様の効果を得ることができる。