JP2010039366A - アレイ基板及び液晶表示パネル - Google Patents
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Abstract
【課題】表示品位に優れた液晶表示パネルを形成できるアレイ基板及びアレイ基板を備えた液晶表示パネルを提供する。
【解決手段】アレイ基板は、複数の走査線と、複数の信号線と、複数のスイッチング素子と、前記表示領域に重なった絶縁膜と、第1枠部61と、第2枠部62と、を有し、溝部63が形成された受止めパターン60と、第1枠部に隣接して溝部の一部に形成され、第1塗布方向d1aに沿って延出し、遮光性材料の流れを制御する突起70と、溝部にインクジェット工法又はディスペンサ法を用いて第1塗布方向に沿って遮光性材料を塗布して形成された第1遮光部81を含み、溝部にインクジェット工法又はディスペンサ法を用いて遮光性材料を複数回塗布して形成された枠状の遮光パターン80と、を備えている。
【選択図】 図2
【解決手段】アレイ基板は、複数の走査線と、複数の信号線と、複数のスイッチング素子と、前記表示領域に重なった絶縁膜と、第1枠部61と、第2枠部62と、を有し、溝部63が形成された受止めパターン60と、第1枠部に隣接して溝部の一部に形成され、第1塗布方向d1aに沿って延出し、遮光性材料の流れを制御する突起70と、溝部にインクジェット工法又はディスペンサ法を用いて第1塗布方向に沿って遮光性材料を塗布して形成された第1遮光部81を含み、溝部にインクジェット工法又はディスペンサ法を用いて遮光性材料を複数回塗布して形成された枠状の遮光パターン80と、を備えている。
【選択図】 図2
Description
この発明は、アレイ基板及びアレイ基板を備えた液晶表示パネルに関する。
一般に、画像表示装置として液晶表示装置が知られている。近年、液晶表示装置は、薄型、低消費電力、高画質の画像表示装置として需要も活発化し、その技術進歩も著しい。特に、TFT(薄膜トランジスタ)等のスイッチング素子を備えたアクテイブマトリクス型のカラー液晶表示装置が開発されている。液晶表示装置は、アレイ基板と、対向基板と、液晶層と、カラーフィルタとを有した液晶表示パネルを備えている。液晶表示パネルの両側に偏光板が配置されている。
アレイ基板において、マトリクス状に走査線及び信号線が配線され、これらの各交点近傍に、TFTが配置されている。TFTは、走査線に接続されたゲート電極と、信号電極に接続されたソース電極と、補助容量素子及び画素電極に接続されたドレイン電極とを有している。
ゲート電極及びソース電極間がオン状態になると、ソース電極及びドレイン電極間に電流が流れ、補助容量素子及び画素電極の電位が信号電位と等しくなり、液晶に信号電圧がかかる。ソース電極及び画素電極間の基板平面状における間隙をなくす手段として、ソース線などの配線上に絶縁膜を設けて、その上に画素電極を形成する技術も開発されている。この場合、ドレイン電極及び画素電極は、絶縁膜に設けられたスルーホールを介して接続されている。
カラーフィルタ及び額縁部は、フォトリソグラフィ法にて、アレイ基板又は対向基板の一主面上に形成するのが一般的である(例えば、特許文献1参照)。しかし、このフォトリソグラフィは、塗布、露光、現像、焼成(ベーク)などの多くの処理工程(4工程)が必要で、製造コストを下げることが容易ではない。そこで、インクジェット工法による印刷でカラーフィルタを形成する方法が知られている(例えば、特許文献2及び特許文献3参照)。
このインクジェット工法としては、アレイ基板又は対向基板の一主面上に新たな受容層を設けて、この受容層上から染色する方法(例えば、特許文献4参照)や、アレイ基板又は対向基板の一主面上に、この一主面より突出した別個の受け止めパターンを設けて、この受け止めパターンの間に着色層を塗布する方法(例えば、特許文献5参照)などが知られている。
特に、インクジェット工法で額縁部を形成する場合、表示領域外周部すべてに額縁部を設置する必要があるため、一度基板端から基板端まで所定位置にインクを吐出させながら移動した後、基板を90度回転させ再度インクを所定位置に吐出させる必要がある(例えば、特許文献6参照)。
特開2000−122072号公報
特開平10−170712号公報
特開2002−55223号公報
特開平10−148713号公報
特開2000−353594号公報
特開2007−241219号公報
しかしながら、上記インクジェット工法で額縁部を形成する場合、下地の金属膜および有機膜の凹凸や接触角などの違いにより、インクの流れを制御することが難しい。特に、一度目のインク吐出時にインクが受け止めパターンに沿って流れ、受け止めパターン周囲すべてに遮光層が形成される。その後、二度目に基板を90度回転させインクを塗布する際に、先ほどのインクにより2度目に塗布したインクをはじく現象が起こってしまう。
これにより液晶表示装置を点灯させた際に額縁部で光抜けが発生し、コントラストの低下や表示不良を発生させてしまう。さらに、インクが表示領域内に溢れ出し、画面品位を低下させる現象が起こってしまう。
この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、表示品位に優れた液晶表示パネルを形成できるアレイ基板及びアレイ基板を備えた液晶表示パネルを提供することにある。
この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、表示品位に優れた液晶表示パネルを形成できるアレイ基板及びアレイ基板を備えた液晶表示パネルを提供することにある。
上記課題を解決するため、本発明の態様に係るアレイ基板は、
基板上に配置され、表示領域に重なった複数の走査線と、
前記基板上に配置され、前記表示領域に重ねて前記複数の走査線に交差した複数の信号線と、
前記複数の走査線及び複数の信号線の交差部近傍に設けられた複数のスイッチング素子と、
前記表示領域に重ねて前記基板、複数の走査線、複数の信号線及び複数のスイッチング素子上に形成された絶縁膜と、
前記絶縁膜の外周に沿って形成された第1枠部と、前記第1枠部に対して前記絶縁膜の反対側に位置し、前記第1枠部に間隔を置いて形成された第2枠部と、を有し、前記第1枠部及び第2枠部間に溝部が形成された受止めパターンと、
前記第1枠部に隣接して前記溝部の一部に形成され、第1塗布方向に沿って延出し、遮光性材料の流れを制御する突起と、
前記溝部にインクジェット工法又はディスペンサ法を用いて前記第1塗布方向に沿って前記遮光性材料を塗布して形成された第1遮光部を含み、前記溝部にインクジェット工法又はディスペンサ法を用いて前記遮光性材料を複数回塗布して形成された枠状の遮光パターンと、を備えている。
基板上に配置され、表示領域に重なった複数の走査線と、
前記基板上に配置され、前記表示領域に重ねて前記複数の走査線に交差した複数の信号線と、
前記複数の走査線及び複数の信号線の交差部近傍に設けられた複数のスイッチング素子と、
前記表示領域に重ねて前記基板、複数の走査線、複数の信号線及び複数のスイッチング素子上に形成された絶縁膜と、
前記絶縁膜の外周に沿って形成された第1枠部と、前記第1枠部に対して前記絶縁膜の反対側に位置し、前記第1枠部に間隔を置いて形成された第2枠部と、を有し、前記第1枠部及び第2枠部間に溝部が形成された受止めパターンと、
前記第1枠部に隣接して前記溝部の一部に形成され、第1塗布方向に沿って延出し、遮光性材料の流れを制御する突起と、
前記溝部にインクジェット工法又はディスペンサ法を用いて前記第1塗布方向に沿って前記遮光性材料を塗布して形成された第1遮光部を含み、前記溝部にインクジェット工法又はディスペンサ法を用いて前記遮光性材料を複数回塗布して形成された枠状の遮光パターンと、を備えている。
また、本発明の他の態様に係る液晶表示パネルは、
基板上に配置され、表示領域に重なった複数の走査線と、前記基板上に配置され、前記表示領域に重ねて前記複数の走査線に交差した複数の信号線と、前記複数の走査線及び複数の信号線の交差部近傍に設けられた複数のスイッチング素子と、前記表示領域に重ねて前記基板、複数の走査線、複数の信号線及び複数のスイッチング素子上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜の外周に沿って形成された第1枠部と、前記第1枠部に対して前記絶縁膜の反対側に位置し、前記第1枠部に間隔を置いて形成された第2枠部と、を有し、前記第1枠部及び第2枠部間に溝部が形成された受止めパターンと、前記第1枠部に隣接して前記溝部の一部に形成され、第1塗布方向に沿って延出し、遮光性材料の流れを制御する突起と、前記溝部にインクジェット工法又はディスペンサ法を用いて前記第1塗布方向に沿って前記遮光性材料を塗布して形成された第1遮光部を含み、前記溝部にインクジェット工法又はディスペンサ法を用いて前記遮光性材料を複数回塗布して形成された枠状の遮光パターンと、を具備したアレイ基板と、
前記アレイ基板に対向配置された対向基板と、
前記アレイ基板及び対向基板間に挟持された液晶層と、を備えている。
基板上に配置され、表示領域に重なった複数の走査線と、前記基板上に配置され、前記表示領域に重ねて前記複数の走査線に交差した複数の信号線と、前記複数の走査線及び複数の信号線の交差部近傍に設けられた複数のスイッチング素子と、前記表示領域に重ねて前記基板、複数の走査線、複数の信号線及び複数のスイッチング素子上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜の外周に沿って形成された第1枠部と、前記第1枠部に対して前記絶縁膜の反対側に位置し、前記第1枠部に間隔を置いて形成された第2枠部と、を有し、前記第1枠部及び第2枠部間に溝部が形成された受止めパターンと、前記第1枠部に隣接して前記溝部の一部に形成され、第1塗布方向に沿って延出し、遮光性材料の流れを制御する突起と、前記溝部にインクジェット工法又はディスペンサ法を用いて前記第1塗布方向に沿って前記遮光性材料を塗布して形成された第1遮光部を含み、前記溝部にインクジェット工法又はディスペンサ法を用いて前記遮光性材料を複数回塗布して形成された枠状の遮光パターンと、を具備したアレイ基板と、
前記アレイ基板に対向配置された対向基板と、
前記アレイ基板及び対向基板間に挟持された液晶層と、を備えている。
この発明によれば、表示品位に優れた液晶表示パネルを形成できるアレイ基板及びアレイ基板を備えた液晶表示パネルを提供することができる。
以下、図面を参照しながらこの発明の実施の形態に係る液晶表示パネルおよび液晶表示パネルの製造方法について詳細に説明する。始めに、液晶表示パネルの構成について説明する。この実施の形態において、液晶表示パネルは、COA(color filter on array)型である。
図1乃至図5に示すように、液晶表示パネルは、アレイ基板1と、アレイ基板に所定の隙間を置いて対向配置された対向基板2と、これら両基板間に挟持された液晶層3と、カラーフィルタ4とを備えている。アレイ基板1及び対向基板2の外面には、図示しない偏光板がそれぞれ配置されている。アレイ基板1の外面側には、図示しないバックライトユニットが配置されている。アレイ基板1及び対向基板2は矩形状の表示領域R1を有している。カラーフィルタ4は、アレイ基板1の表示領域R1に設けられている。
アレイ基板1は、透明な絶縁基板としてガラス基板11を有している。表示領域R1において、ガラス基板11上には、第1方向d1に延びているとともにこの第1方向と直交した第2方向d2に間隔を置いて並んだ複数の走査線15と、複数の走査線15と交差して第2方向に延びているとともに第1方向に間隔を置いて並んだ複数の信号線21とが格子状に配置されている。
ガラス基板11上には、補助容量素子24を構成し、かつ、複数の信号線21と交差して第1方向d1に延びているとともに第2方向d2に間隔を置いて並んだ複数の補助容量線17が形成されている。補助容量線17は走査線15と平行に延びている。
ここで、アレイ基板1及び対向基板2は、複数の信号線21及び複数の補助容量線17で囲まれた領域に重なって設けられたマトリクス状の複数の画素部20を有している。すなわち、各画素部20は隣合う2本の信号線21及び隣合う2本の補助容量線17で囲まれた領域に重なって設けられている。アレイ基板1の画素部20にはスイッチング素子としてのTFT(薄膜トランジスタ)19がそれぞれ設けられている。より詳しくは、TFT19は、走査線15と信号線21との各交差部近傍に設けられている。
TFT19は、チャネル層として、アモルファスシリコン(a−Si)又はポリシリコン(p−Si)からなる半導体膜12と、走査線15の一部を延出してなるゲート電極16とを有している。本実施の形態では、半導体膜12及び後述する補助容量電極13はp−Siで形成されている。
詳細に述べると、表示領域R1において、ガラス基板11上には、半導体膜12と、補助容量電極13とが形成され、これら半導体膜及び補助容量電極を含むガラス基板上にゲート絶縁膜14が成膜されている。ゲート絶縁膜14上に、走査線15、ゲート電極16及び補助容量線17が配設されている。補助容量線17及び補助容量電極13はゲート絶縁膜14を介し対向配置されている。走査線15、ゲート電極16及び補助容量線17を含むゲート絶縁膜14上には層間絶縁膜18が成膜されている。
層間絶縁膜18上には、信号線21及びコンタクト電極22が形成されている。各コンタクト電極22は、コンタクトホールを介して半導体膜12のドレイン領域及び後述する画素電極26にそれぞれ接続されている。さらに、コンタクト電極22は、ゲート絶縁膜14及び層間絶縁膜18を介して補助容量電極13に接続されている。ここで、補助容量線17は、補助容量電極13とコンタクト電極22との接続部を除いて形成されている。
信号線21はコンタクトホールを介して半導体膜12のソース領域と接続されている。層間絶縁膜18、信号線21及びコンタクト電極22に重ねて保護絶縁膜23が形成されている。保護絶縁膜23上には、絶縁膜としてカラーフィルタ4が形成されている。この実施の形態において、カラーフィルタ4は、複数の赤色の着色層30R、複数の緑色の着色層30G及び複数の青色の着色層30Bを有している。
着色層30R、30G、30B上には、複数のスペーサとしての複数の柱状スペーサ27が複数形成されている。
着色層30R、30G、30B上には、ITO(インジウム・すず酸化物)等の透明な導電膜により画素電極26がそれぞれ形成されている。補助容量線17に重なった保護絶縁膜23および着色層30R、30G、30Bには複数のコンタクトホール25が形成されている。これらのコンタクトホール25は、複数の画素部20に設けられている。
着色層30R、30G、30B上には、ITO(インジウム・すず酸化物)等の透明な導電膜により画素電極26がそれぞれ形成されている。補助容量線17に重なった保護絶縁膜23および着色層30R、30G、30Bには複数のコンタクトホール25が形成されている。これらのコンタクトホール25は、複数の画素部20に設けられている。
各画素電極26は、コンタクトホール25を介してコンタクト電極22に接続されている。各画素電極26の周縁部は、補助容量線17及び信号線21に重なっている。画素電極26は、画素部20をそれぞれ形成している。補助容量線17及び信号線21はブラックマトリクス(BM)として機能している。カラーフィルタ4及び画素電極26上には配向膜28が形成されている。
一方、図2、図6及び図7に示すように、表示領域R1の外側において、ガラス基板11上には、受止めパターン60と、突起70と、遮光パターン80とが形成されている。
受止めパターン60は、矩形枠状に形成されている。受止めパターン60は、矩形枠状の第1枠部61及び第2枠部62を有している。第1枠部61は、カラーフィルタ4(表示領域R1)の外周に沿って形成されている。第2枠部62は、第1枠部61に対してカラーフィルタ4の反対側に位置し、第1枠部61に間隔を置いて形成されている。受止めパターン60は、第1枠部61及び第2枠部62間に溝部63を形成している。この実施の形態において、第1枠部61及び第2枠部62は、着色層30Gと同一材料で形成されている。
突起70は、第1枠部61に隣接して溝部63の一部に形成され、第1塗布方向d1aに沿って延出している。突起70は、受止めパターン60の角部に位置している。後述するが、突起70は、遮光性材料としての遮光インクの流れを制御するものである。この実施の形態において、突起70は、着色層30Bと同一材料で形成されている。突起70は、矩形状に形成されている。
遮光パターン80は、枠状、ここでは矩形枠状に形成されている。遮光パターン80は、溝部63にインクジェット工法又はディスペンサ法を用いて遮光インクを複数回塗布して形成されている。この実施の形態において、遮光パターン80は、インクジェット工法を用いて形成されている。遮光パターン80は、溝部63に第1塗布方向d1aに沿って遮光インクを塗布(吐出)して形成された第1遮光部81と、溝部63に第2塗布方向d2aに沿って遮光インクを塗布(吐出)して形成された第2遮光部82とを含んでいる。
なお、この実施の形態において、受止めパターン60、突起70及び遮光パターン80は、後述する液晶注入口52と対向した領域を除いて形成されている。このため、受止めパターン60及び遮光パターン80は、液晶注入口52と対向した領域で一部分断して形成されている。
図1、図2、図5及び図6に示すように、対向基板2は、透明な絶縁基板としてガラス基板41を備えている。このガラス基板41上には、ITO等の透明な導電材料で形成された対向電極42及び配向膜43が順に形成されている。
アレイ基板1及び対向基板2は、複数の柱状スペーサ27により所定の隙間を置いて対向配置され、両基板の表示領域R1外側に配置された矩形枠状のシール材51により互いに接合されている。シール材51は、第2枠部62の外側に位置している。液晶層3は、アレイ基板1、対向基板2及びシール材51で囲まれた領域に形成されている。シール材51の一部には液晶注入口52が形成され、この液晶注入口は封止材53で封止されている。
次に、上記液晶表示パネルの一層詳しい構成を、その製造方法と併せて説明する。
図8に示すように、まず、透明な絶縁基板としてアレイ基板1よりも寸法の大きいマザー基板としてのマザーガラス10を用意する。この実施の形態によれば、マザーガラス10は、アレイ基板1を形成するため第1方向d1および第2方向d2に並んだ9つの矩形状の有効領域R3を有している。各有効領域R3は、第1方向d1および第2方向d2に辺が延出している。ここで、滴下領域R7は、スピンコート法を用いた塗布工程におけるマザーガラス10の回転軸aに重ねられ、レジストが滴下される領域である。
図8に示すように、まず、透明な絶縁基板としてアレイ基板1よりも寸法の大きいマザー基板としてのマザーガラス10を用意する。この実施の形態によれば、マザーガラス10は、アレイ基板1を形成するため第1方向d1および第2方向d2に並んだ9つの矩形状の有効領域R3を有している。各有効領域R3は、第1方向d1および第2方向d2に辺が延出している。ここで、滴下領域R7は、スピンコート法を用いた塗布工程におけるマザーガラス10の回転軸aに重ねられ、レジストが滴下される領域である。
図3乃至図6及び図8に示すように、用意したマザーガラス10上には、成膜およびパターニングを繰り返す等、通常の製造工程により、TFT19、信号線21、走査線15、補助容量線17および保護絶縁膜23等を有効領域R3にそれぞれ形成する。その後、有効領域R3の表示領域R1にカラーフィルタ4をそれぞれ形成する。
カラーフィルタ4を形成する際、まず、マザーガラス10上の滴下領域R7に、緑色顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂(以下、緑色レジストと称する)を滴下し、マザーガラス10を回転させて行うスピンコート法により緑色レジストをマザーガラス10上全体に塗布する。
続いて、緑色レジストが塗布されたマザーガラス10を約90℃で約5分間プリベークした後、所定のフォトマスクを用い露光する。これにより、残したい個所の緑色レジストが硬化する。露光に用いるフォトマスクは、着色層30Gを形成するためのパターンと、コンタクトホール25を形成するためのパターンと、第1枠部61及び第2枠部62を形成するためのパターンとを有している。露光する際、緑色レジストには、露光量を150mJ/cm2として紫外線を照射する。
その後、緑色レジストを、約0.1重量%のTMAH(テトラメチルアンモニウムハイドライド)の水溶液で約40秒間現像し、水洗いし、不要な緑色レジストを除去する。続いて、緑色レジストを200℃で1時間ほどポストベークする。
図3乃至図6、図8及び図9に示すように、このように、フォトリソグラフィ法を用い、緑色レジストをパターニングすることにより、コンタクトホール25を有した複数の着色層30G、第1枠部61及び第2枠部62が有効領域R3にそれぞれ形成される。
複数の着色層30Gは、第2方向d2に延びているとともに第1方向d1に間隔を置いて並んで形成される。受止めパターン60(第1枠部61及び第2枠部62)は、複数の着色層30Gと同一の材料で形成される。受止めパターン60は、溝部63を形成している。受止めパターン60は、一部分断して形成されている。
次いで、複数の着色層30G、第1枠部61及び第2枠部62が形成されたマザーガラス10上の滴下領域R7に、赤色顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂(以下、赤色レジストと称する)を滴下し、マザーガラス10を回転させて行うスピンコート法により赤色レジストをマザーガラス10上全体に塗布する。その後、同様にパターニングすることにより、コンタクトホール25を有した複数の着色層30Rが表示領域R1にそれぞれ形成される。
複数の着色層30Rは、第2方向d2に延びているとともに第1方向d1に間隔を置いて並んで形成される。また、複数の着色層30Rは、複数の着色層30Gの側縁に隣接して形成される。
続いて、複数の着色層30G、第1枠部61、第2枠部62及び複数の着色層30Rが形成されたマザーガラス10上の滴下領域R7に、青色顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂(以下、青色レジストと称する)を滴下し、マザーガラス10を回転させて行うスピンコート法により青色レジストをマザーガラス10上全体に塗布する。その後、同様にパターニングすることにより、コンタクトホール25を有した複数の着色層30B及び突起70が有効領域R3にそれぞれ形成される。
複数の着色層30Bは、第2方向d2に延びているとともに第1方向d1に間隔を置いて並んで形成される。また、複数の着色層30Bは、複数の着色層30G、30Rの側縁に隣接して形成される。突起70は、複数の着色層30Bと同一の材料で形成される。
これにより、表示領域R1にそれぞれカラーフィルタ4が形成される。
これにより、表示領域R1にそれぞれカラーフィルタ4が形成される。
複数のカラーフィルタ4を形成した後、マザーガラス10上全体に、例えば紫外線硬化型アクリル樹脂を塗布し、上記着色層を形成した工程と同様の工程にて複数の柱状スペーサ27を形成する。
図10及び図11に示すように、塗布装置として、インクジェット装置100を用意する。インクジェット装置100には、複数のノズルヘッド101が横梁状に設けられている。ノズルヘッド101は、一定の間隔で配列されている。
柱状スペーサ27を形成した後、インクジェット装置100を用い、溝部63に、遮光性材料としての遮光インクを、第1塗布方向d1aに沿って塗布(吐出)する。塗布(吐出)する際、第1塗布方向d1aに一定の間隔ずつ移動して行う。ここで用いた遮光インクは、例えば、溶剤及びアクリル系モノマー等を含む溶液中に黒色顔料を分散した遮光性樹脂を有する黒色顔料入り樹脂である。また、第1塗布方向d1aは、第1方向d1に平行な方向である。
図10乃至図12に示すように、これにより、ノズルヘッド101の先端のノズル孔から遮光インクが吐出され、突起70により遮光インクの流れが制御され、膜厚1.8μmの第1遮光部81が形成される。第1遮光部81は、一部分断して形成される。
なお、ノズルヘッド101を、マザーガラス10の平面に垂直な方向から、任意の角度に傾斜させることができる。このため、ノズルヘッド101を傾斜させた状態で、インクジェット装置100を間欠的に移動させながら、遮光インクを吐出することができる。
図13に示すように、第1遮光部81を形成した後、インクジェット装置100を用い、溝部63に、遮光性材料としての遮光インクを、第2塗布方向d2aに沿って塗布(吐出)する。塗布(吐出)する際、第2塗布方向d2aに一定の間隔ずつ移動して行う。第2塗布方向d2aは、第2方向d2に平行な方向である。
これにより、ノズルヘッド101の先端のノズル孔から遮光インクが吐出され、膜厚1.8μmの第2遮光部82が形成される(図7)。上記したように、溝部63にインクジェット工法を用いて遮光インクを複数回塗布することにより、枠状の遮光パターン80が形成される。
続いて、遮光パターン80を形成した後、マザーガラス10上全体に、例えばスパッタリング法によりITOを堆積し、導電膜を形成する。その後、導電膜をパターニングすることにより複数のカラーフィルタ4に重ねて複数の画素電極26を形成する。
次いで、ポリイミド等の配向膜材料をマザーガラス10上全体に塗布した後、パターニングして表示領域R1全域にそれぞれ配向膜28を形成する。その後、複数の配向膜28を配向処理(ラビング)する。これにより、マザーガラス10上に9枚分のアレイ基板1が形成される。
図5及び図6に示すように、一方、対向基板2において、まず、図示しないが、透明な絶縁基板として対向基板2よりも寸法の大きいマザー基板としての他のマザーガラスを用意する。この実施の形態によれば、他のマザーガラスは、アレイ基板1と同様、対向基板2を形成するため第1方向d1および第2方向に並んだ9つの有効領域R3を有している。
用意した他のマザーガラス上全体に、例えばスパッタリング法によりITOを堆積し、導電膜を形成する。その後、導電膜をパターニングすることにより複数の有効領域R3に重ねて複数の対向電極42を形成する。続いて、ポリイミド等の配向膜材料を他のマザーガラス上全体に塗布した後、パターニングして複数の有効領域R3にそれぞれ配向膜43を形成する。その後、複数の配向膜43を配向処理(ラビング)する。これにより、他のマザーガラス上に9枚分の対向基板2が形成される。
次に、アレイ基板1が形成されたマザーガラス10および対向基板2が形成された他のマザーガラスを複数の柱状スペーサ27により所定の隙間を保持するとともにアレイ基板および対向基板同士を対向して配置する。そして、互いに対向したアレイ基板1および対向基板2の周縁部に配置したシール材51により、マザーガラス10及び他のマザーガラスを貼り合せる。
その後、マザーガラス10及び他のマザーガラスを、枚紙方式の封着治具に入れて排気を行い、約170度の硬化温度で30分焼成する。続いて、貼り合せた2枚のマザーガラスを有効領域R3の周縁eに沿って分割する。これにより、マザーガラス10からアレイ基板1が、他のマザーガラスから対向基板2がそれぞれ切出される。これにより、9組の空状態の液晶セルが得られる。
次いで、真空注入により、シール材51に形成された液晶注入口52により、各空状態の液晶セルの両基板の間に、カイラル材が添加されたネマティック液晶材料を注入する。その後、液晶注入口52を紫外線硬化型樹脂等の封止材53で封止する。これにより、アレイ基板1、対向基板2及びシール材51で囲まれた領域に液晶が封入され、液晶層3が形成される。これにより。9つの液晶表示パネルが完成する。図示しないが、その後、液晶表示パネルの両側に偏光板が配置される。
上記したように構成された液晶表示パネルおよび液晶表示パネルの製造方法によれば、
溝部63に突起70が形成されている。このため、溝部63に遮光インクを第1塗布方向d1aに沿って塗布(吐出)した際、遮光インクの流れは突起70により制御される。これにより、溝部63に遮光インクを第2塗布方向d2aに沿って塗布(吐出)した際、遮光インクが不要にはじかれることがないため、溝部63に遮光インクを良好に充填することができる。溝部63に遮光パターン80を隙間なく形成できるため、表示領域R1の外側からの光漏れを抑制することができる。
溝部63に突起70が形成されている。このため、溝部63に遮光インクを第1塗布方向d1aに沿って塗布(吐出)した際、遮光インクの流れは突起70により制御される。これにより、溝部63に遮光インクを第2塗布方向d2aに沿って塗布(吐出)した際、遮光インクが不要にはじかれることがないため、溝部63に遮光インクを良好に充填することができる。溝部63に遮光パターン80を隙間なく形成できるため、表示領域R1の外側からの光漏れを抑制することができる。
カラーフィルタ4を形成する際、受止めパターン60及び突起70を、同一材料で同時に形成できる。このため、製造工程を増やすことなく受止めパターン60及び突起70を形成することができる。
上記したことから、表示品位に優れた液晶表示パネルを形成できるアレイ基板1及び液晶表示パネルを得ることができる。
上記したことから、表示品位に優れた液晶表示パネルを形成できるアレイ基板1及び液晶表示パネルを得ることができる。
次に、この実施の形態の比較例として液晶表示パネルの比較例について説明する。
図16に示すように、比較例では、アレイ基板1は、突起70を有していない。突起70を有していない他、液晶表示パネルの構成は、上述した実施の形態と同一である。
図16に示すように、比較例では、アレイ基板1は、突起70を有していない。突起70を有していない他、液晶表示パネルの構成は、上述した実施の形態と同一である。
但し、遮光インクを第1塗布方向d1aに沿って塗布(吐出)した際、受止めパターン60に沿って第2方向d2に遮光インクが流れてしまい、第2方向d2に延びた流出部90が形成された。その結果、遮光インクを第2塗布方向d2aに沿って塗布(吐出)した際、流出部90によって遮光インクがはじかれ、遮光インクの塗布できない光漏れ(光り抜け)領域R8が形成されてしまった。
なお、この発明は上記実施の形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化可能である。また、上記実施の形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。
例えば、突起70の形状は、矩形状に限定されるものではなく、種々変形可能である。
図14に示すように、突起70は、三角形に形成されていても良い。突起70は、遮光インクの流れを制御できる形状であれば如何なる形状であっても良い。また、図15に示すように、突起70は、第1枠部61及び第2枠部62を繋げるように形成されていても良く、所望の長さに設定可能である。
突起70を形成する際、着色層30R、着色層30G又は柱状スペーサ27と同一材料で同時に形成しても良い。なお、突起70の形成材料として緑色レジスト、赤色レジスト、青色レジスト及び柱状スペーサ形成用レジストのうち、外光反射率の最も少ない青色レジストを用いて形成することで、対向基板2側から入射する外光の反射を防ぎ、コントラストを向上させることができる。さらに突起70の成膜は、着色層30Bと同一工程で行うため、突起70の高さは着色層30Bと同一の高さ(2乃至4μm)となる。
青色レジスト以外(緑色レジスト、赤色レジスト等)で突起70を形成した場合は、青色レジストと比較するとコントラストの向上率は低下するが、遮光インクの移動を抑制する点においては青色レジストで形成した場合と同様の効果を得ることができる。これは突起70の形成を各着色層と同一工程で行うため、突起70の高さが各着色層と同一の高さとなるからである。
このように突起70を形成すれば、遮光インクの流れを制御するのに十分な高さを確保することができ、遮光インクの受止めパターン60に沿っての流れを制御できる。
突起70を各着色層及び柱状スペーサ27とは別工程で形成しても良い。この場合、突起70を形成する材料は、ポジ型、ネガ型、或いはアクリル樹脂系、ノボラック樹脂系等、少なくとも露光プロセスを用いてパターニングできる感光性樹脂であれば利用することができる。
また、緑色レジスト、赤色レジスト及び青色レジストを用いて2層以上に積層させて突起70を形成しても良い。突起70は、第1枠部61(受止めパターン60)と一体形成されていても良い。
液晶注入法として滴下注入法を用いた場合、受止めパターン60及び遮光パターン80を表示領域R1から外れた領域に全周に亘って形成可能である。
塗布装置としてディスペンサ装置を用いても良く、この場合、ディスペンサ法を用いて遮光インクを塗布すれば良い。
カラーフィルタ4は対向基板2側に形成されていても良い。この場合、アレイ基板1に、カラーフィルタ4に替わる絶縁膜が形成され、受止めパターン60及び突起70がカラーフィルタ4と別工程で形成されれば良い。
塗布装置としてディスペンサ装置を用いても良く、この場合、ディスペンサ法を用いて遮光インクを塗布すれば良い。
カラーフィルタ4は対向基板2側に形成されていても良い。この場合、アレイ基板1に、カラーフィルタ4に替わる絶縁膜が形成され、受止めパターン60及び突起70がカラーフィルタ4と別工程で形成されれば良い。
1…アレイ基板、2…対向基板、3…液晶層、4…カラーフィルタ、10…マザーガラス、11…ガラス基板、14…ゲート絶縁膜、15…走査線、18…層間絶縁膜、19…TFT、20…画素部、21…信号線、23…保護絶縁膜、24…補助容量素子、25…コンタクトホール、26…画素電極、27…柱状スペーサ、28…配向膜、30R,30G,30B…着色層、41…ガラス基板、42…対向電極、43…配向膜、51…シール材、52…液晶注入口、53…封止材、60…受止めパターン、61…第1枠部、62…第2枠部、63…溝部、70…突起、80…遮光パターン、81…第1遮光部、82…第2遮光部、90…流出部、100…インクジェット装置、101…ノズルヘッド、R1…表示領域、R3…有効領域、d1…第1方向、d2…第2方向、d1a…第1塗布方向、d2a…第2塗布方向。
Claims (10)
- 基板上に配置され、表示領域に重なった複数の走査線と、
前記基板上に配置され、前記表示領域に重ねて前記複数の走査線に交差した複数の信号線と、
前記複数の走査線及び複数の信号線の交差部近傍に設けられた複数のスイッチング素子と、
前記表示領域に重ねて前記基板、複数の走査線、複数の信号線及び複数のスイッチング素子上に形成された絶縁膜と、
前記絶縁膜の外周に沿って形成された第1枠部と、前記第1枠部に対して前記絶縁膜の反対側に位置し、前記第1枠部に間隔を置いて形成された第2枠部と、を有し、前記第1枠部及び第2枠部間に溝部が形成された受止めパターンと、
前記第1枠部に隣接して前記溝部の一部に形成され、第1塗布方向に沿って延出し、遮光性材料の流れを制御する突起と、
前記溝部にインクジェット工法又はディスペンサ法を用いて前記第1塗布方向に沿って前記遮光性材料を塗布して形成された第1遮光部を含み、前記溝部にインクジェット工法又はディスペンサ法を用いて前記遮光性材料を複数回塗布して形成された枠状の遮光パターンと、を備えたアレイ基板。 - 前記表示領域は、矩形状であり、
前記受止めパターンは矩形枠状であり、
前記突起は、前記受止めパターンの角部に位置している請求項1に記載のアレイ基板。 - 前記突起は、前記第1枠部と一体形成されている請求項1に記載のアレイ基板。
- 前記絶縁膜は、複数色の着色層を有したカラーフィルタである請求項1に記載のアレイ基板。
- 前記突起は、前記着色層と同一材料で形成されている請求項4に記載のアレイ基板。
- 前記受止めパターンは、前記着色層と同一材料で形成されている請求項4に記載のアレイ基板。
- 前記カラーフィルタは、赤色、緑色及び青色の着色層を有し、
前記突起は、前記青色の着色層と同一材料で形成されている請求項4に記載のアレイ基板。 - 前記カラーフィルタは、赤色、緑色及び青色の着色層を有し、
前記突起は、前記赤色、緑色及び青色の少なくとも2色の着色層と同一材料で積層して形成されている請求項4に記載のアレイ基板。 - 前記絶縁膜上に形成された複数の柱状スペーサをさらに備え、
前記突起は、前記柱状スペーサと同一材料で形成されている請求項1に記載のアレイ基板。 - 基板上に配置され、表示領域に重なった複数の走査線と、前記基板上に配置され、前記表示領域に重ねて前記複数の走査線に交差した複数の信号線と、前記複数の走査線及び複数の信号線の交差部近傍に設けられた複数のスイッチング素子と、前記表示領域に重ねて前記基板、複数の走査線、複数の信号線及び複数のスイッチング素子上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜の外周に沿って形成された第1枠部と、前記第1枠部に対して前記絶縁膜の反対側に位置し、前記第1枠部に間隔を置いて形成された第2枠部と、を有し、前記第1枠部及び第2枠部間に溝部が形成された受止めパターンと、前記第1枠部に隣接して前記溝部の一部に形成され、第1塗布方向に沿って延出し、遮光性材料の流れを制御する突起と、前記溝部にインクジェット工法又はディスペンサ法を用いて前記第1塗布方向に沿って前記遮光性材料を塗布して形成された第1遮光部を含み、前記溝部にインクジェット工法又はディスペンサ法を用いて前記遮光性材料を複数回塗布して形成された枠状の遮光パターンと、を具備したアレイ基板と、
前記アレイ基板に対向配置された対向基板と、
前記アレイ基板及び対向基板間に挟持された液晶層と、を備えた液晶表示パネル。
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