JP2014174432A - 液晶表示パネルの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】狭額縁化を図ることができ、製品歩留まりが高く、表示品位に優れた液晶表示パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】液晶表示パネルを製造する際、基板上の配向膜形成領域の外周部の全域に亘って凹部23rを形成する。続いて、凹部23r上に第1塗布液を塗布し、枠状の土手部60を形成する。次いで、配向膜形成領域内にインクジェット工法を用いて第2塗布液を吐出し、配向膜28を形成する。その後、配向膜28が形成された基板を含む一対の基板の何れか一方にシール剤を設け、一対の基板同士をシール剤を用いて貼り合わせ、一対の基板間に液晶層3を挟持させる。シール剤の外縁は土手部60よりも基板の外縁側に位置する。
【選択図】図7
【解決手段】液晶表示パネルを製造する際、基板上の配向膜形成領域の外周部の全域に亘って凹部23rを形成する。続いて、凹部23r上に第1塗布液を塗布し、枠状の土手部60を形成する。次いで、配向膜形成領域内にインクジェット工法を用いて第2塗布液を吐出し、配向膜28を形成する。その後、配向膜28が形成された基板を含む一対の基板の何れか一方にシール剤を設け、一対の基板同士をシール剤を用いて貼り合わせ、一対の基板間に液晶層3を挟持させる。シール剤の外縁は土手部60よりも基板の外縁側に位置する。
【選択図】図7
Description
本発明の実施形態は、液晶表示パネルの製造方法に関する。
一般に、画像表示装置としてテレビジョン受像機等に用いられる液晶表示装置が知られている。近年、液晶表示装置は、薄型、低消費電力、高画質の画像表示装置として需要も活発化し、その技術進歩も著しい。特に、TFT(薄膜トランジスタ)等のスイッチング素子を備えたアクテイブマトリクス型のカラー液晶表示装置が開発されている。液晶表示装置は、アレイ基板と、対向基板と、液晶層と、カラーフィルタとを有した液晶表示パネルを備えている。アレイ基板及び対向基板は、液晶層に接する配向膜を備えている。アレイ基板及び対向基板は、シール材により貼り合わせられている。
例えば、テレビジョン受像機に用いられる大型の液晶表示パネルのアレイ基板を形成する際、ガラス基板上にTFT等を形成した後、ガラス基板の配向膜形成領域内にインクジェット工法を用いて塗布液を吐出し、配向膜を形成する。
ところで、上記のように配向膜を形成しても、狭額縁化を図ることができ、製品歩留まりが高く、表示品位に優れた液晶表示パネルの製造が困難になる場合がある。
この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、狭額縁化を図ることができ、製品歩留まりが高く、表示品位に優れた液晶表示パネルの製造方法を提供することにある。
この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、狭額縁化を図ることができ、製品歩留まりが高く、表示品位に優れた液晶表示パネルの製造方法を提供することにある。
一実施形態に係る液晶表示パネルの製造方法は、
基板上の配向膜形成領域の外周部の全域に亘って凹部を形成し、
前記外周部の全域に亘って前記凹部上に第1塗布液を塗布し、枠状の土手部を形成し、
前記配向膜形成領域内にインクジェット工法を用いて第2塗布液を吐出し、配向膜を形成し、
前記配向膜が形成された前記基板を含む一対の基板の何れか一方にシール剤を設け、前記一対の基板同士を前記シール剤を用いて貼り合わせ、前記一対の基板間に液晶層を挟持し、
前記シール剤を設ける際、前記一対の基板同士を貼り合わせた状態で前記シール剤の外縁が前記土手部よりも前記基板の外縁側に位置するように行う。
基板上の配向膜形成領域の外周部の全域に亘って凹部を形成し、
前記外周部の全域に亘って前記凹部上に第1塗布液を塗布し、枠状の土手部を形成し、
前記配向膜形成領域内にインクジェット工法を用いて第2塗布液を吐出し、配向膜を形成し、
前記配向膜が形成された前記基板を含む一対の基板の何れか一方にシール剤を設け、前記一対の基板同士を前記シール剤を用いて貼り合わせ、前記一対の基板間に液晶層を挟持し、
前記シール剤を設ける際、前記一対の基板同士を貼り合わせた状態で前記シール剤の外縁が前記土手部よりも前記基板の外縁側に位置するように行う。
始めに、本発明の実施形態の着想について説明する。
液晶表示パネルの配向膜の形成にインクジェット工法を採用することができる。インクジェット工法を採用した場合、スピンコート法を採用した場合に比べて塗布液の無駄を削減することができ、製造コストを削減することができる。このため、インクジェット工法は生産性に優れている。
液晶表示パネルの配向膜の形成にインクジェット工法を採用することができる。インクジェット工法を採用した場合、スピンコート法を採用した場合に比べて塗布液の無駄を削減することができ、製造コストを削減することができる。このため、インクジェット工法は生産性に優れている。
そして、インクジェット工法を用いることにより、大型の液晶表示パネルで求められる精度で配向膜を形成することが可能である。なぜなら、大型の場合、(1)塗布液中の溶剤の割合を上げる必要がなく一般的な粘度の塗布液を使用して膜厚の均一な配向膜を形成することができ、(2)配向膜の周縁の直線性を確保しなくとも良好な表示品位を得ることができ、(3)配向膜のハロー領域の影響により表示品位が低下する問題を解消することができるためである。ここで、ハロー領域とは、配向膜の周縁部の膜厚が不均一になる領域を言う。
一般に大型の液晶表示パネルの画素ピッチは大きく、配向膜形成面は比較的平坦である。塗布液の粘度を一般的な度合い未満に設定しなくとも、配向膜形成面上に吐出された塗布液は良好に広がることになる。このため、上記(1)に示したように膜厚の均一な配向膜を形成することができる。
また、一般に大型の液晶表示パネルにおいて、面積に余裕のある額縁領域を確保することができる。ここで、額縁領域とは、表示領域の外側の領域であり液晶表示パネルの周縁部の領域を言う。インクジェット工法を用いて塗布液を吐出して配向膜を形成する場合、配向膜の周縁の直線性を確保することは困難である。このため、配向膜の周縁は、例えば蛇行し、配向膜形成領域の外側にはみ出すことになる。しかしながら、額縁領域に余裕があるため、シール材の形成領域にも余裕があり、配向膜が外気に露出しないようにシール材を設けることができる。これにより、額縁領域に余裕がなく、配向膜が外気に露出する場合に生じる、問題(配向膜中を通ったり配向膜の界面を伝ったりすることによる液晶表示パネル内部への水分の侵入)を解消することができる。なお、液晶表示パネル内部に水分が侵入すると、表示品位の低下を招くことになる。このため、上記(2)に示したように、配向膜の周縁の直線性を確保しなくとも良好な表示品位を得ることができる。
またさらに、額縁領域に余裕があるため、表示領域の外側にハロー領域が位置するように配向膜を形成することが可能である。これにより、額縁領域に余裕がなく、ハロー領域が表示領域に位置するように配向膜を形成する場合に生じる問題(表示品位の低下)を解消することができる。このため、上記(3)に示したように、配向膜のハロー領域の影響により表示品位が低下する問題を解消することができる。
しかしながら、上記手法では、モバイル用端末(例えば、スマートフォン)用途等の小型の液晶表示パネルで求められる精度で配向膜を形成することは困難となる。なぜなら、小型の場合、次の(4)乃至(6)の問題が生じるためである。
(4)一般に小型の液晶表示パネルの画素ピッチは小さく、配向膜形成面は凸凹している。TFT等と対向した領域の配向膜形成面は隆起し、スルーホールと対向した領域の配向膜形成面は窪むためである。配向膜形成面が平坦であるより凸凹していた方が塗布液は濡れ広がり難い。このため、インクジェット工法を用いて大型の液晶表示パネルで使用する塗布液(一般的な粘度の塗布液)を吐出すると、塗布液が十分に広がらず、配向膜の膜厚が不均一になったり、配向膜の一部が欠落して形成されたりする恐れがある。上記のことから、一般的な粘度の塗布液を使用すると膜厚の均一な配向膜を形成し難いと言う問題が生じる。
(5)一般に小型の液晶表示パネルにおいて、面積に余裕のある額縁領域を確保することは困難である。上述したようにインクジェット工法を用いて塗布液を吐出して配向膜を形成する場合、配向膜の周縁の直線性を確保することは困難であり、配向膜の周縁は、配向膜形成領域の外側にはみ出すことになる。しかしながら、額縁領域に余裕がないため、シール材の形成領域にも余裕がなく、配向膜が外気に露出しないようにシール材を設けることが困難となる。これにより、配向膜中を通ったり配向膜の界面を伝ったりして液晶表示パネル内部へ水分が侵入してしまい、表示品位の低下を招いてしまう。上記のことから、配向膜の周縁の直線性を確保しないと良好な表示品位を得難いと言う問題が生じる。
(6)額縁領域に余裕がないため、表示領域の外側にハロー領域が位置するように配向膜を形成することが困難である。配向膜は、ハロー領域が表示領域に位置するように形成される恐れがある。上記のことから、配向膜のハロー領域の影響により表示品位が低下すると言う問題が生じる。
上記(4)と(5)は二律背反の関係にあるものである。すなわち、塗布液の粘度が低いほど、塗布液は広がり易くなるため、膜厚の均一な配向膜を形成し易くなるが、配向膜の周縁の直線性を確保し難くなる。一方、塗布液の粘度が高いほど、塗布液は広がり難くなるため、膜厚の均一な配向膜を形成し難くなるが、配向膜の周縁の直線性を確保し易くなる。
上述したことから分かるように、上述したような配向膜を形成する手法では、小型の液晶表示パネルで求められる精度で配向膜を形成することは困難である。
そこで、本発明の実施形態においては、この課題の原因を解明し、この課題を解決することにより、狭額縁化を図ることができ、製品歩留まりが高く、表示品位に優れた液晶表示パネルの製造方法を得ることができるものである。次に、本発明の実施形態の課題解決のため、上記着想を具体化する手段について説明する。
以下、図面を参照しながら一実施形態に係る液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法について詳細に説明する。始めに、液晶表示パネルの構成について説明する。この実施の形態において、液晶表示パネルは対向CF型であり、対向基板側にカラーフィルタが形成されている。
図1乃至図6に示すように、液晶表示パネルは、アレイ基板1と、アレイ基板に所定の隙間を置いて対向配置された対向基板2と、これら両基板間に挟持された液晶層3と、カラーフィルタ4とを備えている。アレイ基板1及び対向基板2の外面には、図示しない偏光板がそれぞれ配置されている。アレイ基板1の外面側には、図示しないバックライトユニットが配置されている。アレイ基板1及び対向基板2は矩形状の表示領域R1を有している。カラーフィルタ4は、アレイ基板1の表示領域R1に設けられている。
アレイ基板1は、透明な絶縁基板としてガラス基板11を有している。表示領域R1において、ガラス基板11上には、行方向Xに延びているとともに行方向Xと直交した列方向Yに間隔を置いて並んだ複数の走査線15と、複数の走査線15と交差して列方向Yに延びているとともに行方向Xに間隔を置いて並んだ複数の信号線21とが格子状に配置されている。
ガラス基板11上には、補助容量素子24を構成し、かつ、複数の信号線21と交差して行方向Xに延びているとともに列方向Yに間隔を置いて並んだ複数の補助容量線17が形成されている。補助容量線17は走査線15と平行に延びている。
ここで、アレイ基板1及び対向基板2は、複数の信号線21及び複数の補助容量線17で囲まれた領域に重なって設けられたマトリクス状の複数の画素20を有している。すなわち、各画素20は隣合う2本の信号線21及び隣合う2本の補助容量線17で囲まれた領域に重なって設けられている。アレイ基板1の画素20にはスイッチング素子としてのTFT(薄膜トランジスタ)19がそれぞれ設けられている。より詳しくは、TFT19は、走査線15と信号線21との各交差部近傍に設けられている。
TFT19は、半導体としてのアモルファスシリコン(a−Si)又はポリシリコン(p−Si)からなる半導体層12と、走査線15の一部を延出してなるゲート電極16とを有している。本実施の形態では、半導体層12及び後述する補助容量電極13はp−Siで形成されている。
詳細に述べると、表示領域R1において、ガラス基板11上には、半導体層12と、補助容量電極13とが形成され、これら半導体層及び補助容量電極を含むガラス基板上にゲート絶縁膜14が成膜されている。ゲート絶縁膜14上に、走査線15、ゲート電極16及び補助容量線17が配設されている。補助容量線17及び補助容量電極13はゲート絶縁膜14を挟み、対向配置されている。走査線15、ゲート電極16及び補助容量線17を含むゲート絶縁膜14上には層間絶縁膜18が成膜されている。この実施形態において、層間絶縁膜18は無機絶縁膜である。
層間絶縁膜18上には、信号線21及びコンタクト電極22が形成されている。各コンタクト電極22は、ゲート絶縁膜14及び層間絶縁膜18に形成されたコンタクトホールを通って半導体層12のドレイン領域及び後述する画素電極26にそれぞれ接続されている。さらに、コンタクト電極22は、ゲート絶縁膜14及び層間絶縁膜18に形成された他のコンタクトホールを通って補助容量電極13に接続されている。ここで、補助容量線17は、補助容量電極13とコンタクト電極22との接続部を除いて形成されている。
信号線21は、ゲート絶縁膜14及び層間絶縁膜18に形成されたコンタクトホールを通って半導体層12のソース領域と接続されている。層間絶縁膜18、信号線21及びコンタクト電極22に重ねて保護絶縁膜23が形成されている。保護絶縁膜23は、基板上の配線等から生じる凹凸を平坦化する平坦化膜としての役割も果たす。この実施形態において、保護絶縁膜23は有機絶縁膜である。保護絶縁膜23は、表示領域R1だけでなく、表示領域R1を囲む矩形枠状の額縁領域R2も覆っている。保護絶縁膜23の膜厚は、例えば2.5μmである。
保護絶縁膜23上には、ITO(インジウム・すず酸化物)等の透明な導電膜により画素電極26がそれぞれ形成されている。コンタクト電極22に重なった保護絶縁膜23には複数のコンタクトホール25が形成されている。これらのコンタクトホール25は、複数の画素20に設けられている。
各画素電極26は、コンタクトホール25を通ってコンタクト電極22に接続されている。各画素電極26の周縁部は、補助容量線17及び信号線21に重なっている。画素電極26は、画素20をそれぞれ形成している。
上記のように、ガラス基板11上にアレイパターン1pが形成されている。表示領域R1において、アレイパターン1pは、ガラス基板11と画素電極26との間に積層されたものである。
アレイパターン1p(画素電極26、保護絶縁膜23等)上には配向膜28が形成されている。配向膜28は、配向膜形成領域内に形成されている。配向膜28の周縁は、後述する土手部60に接している。このため、配向膜28の周縁の形状は、土手部60により規制されている。配向膜28は、有機物であるポリイミド樹脂で形成されている。配向膜28の膜厚は、例えば0.1μmである。
一方、図3及び図7に示すように、額縁領域R2において、ガラス基板11上には、アレイパターン1pと、土手部(受止めパターン)60とが形成されている。額縁領域R2において、アレイパターン1pは、ゲート絶縁膜14、層間絶縁膜18及び保護絶縁膜23を有し、その他に少なくとも保護絶縁膜23で覆われた図示しない駆動回路、各種配線等も有している。
アレイ基板1は、ガラス基板11上の配向膜形成領域の外周部の全域に亘って形成された凹部23rを有している。凹部23rは額縁領域R2に位置している。この実施形態において、保護絶縁膜23が、対向基板2側に開口する凹部23rを有している。また、凹部23rは、枠状(矩形枠状)に形成され、分断されること無く連続的に形成されている。凹部23rの幅wは、例えば200μmである。凹部23rを形成することにより、対向基板2と土手部60との間に隙間(所望のセルギャップ)を確保又は一層確保しつつ、土手部60の高さ制限を緩和することができる。そして、凹部23rにより、土手部60の幅方向への広がりを一層抑制することができる。
そして、額縁領域R2の各辺において、凹部23rは直線的に延出して形成されている。このため、額縁領域R2の各辺における土手部60の直線性(直進性)を一層確保することができる。
土手部60は、ガラス基板11の配向膜形成領域の外周部の全域に亘って凹部23r上に形成されている。土手部60は、額縁領域R2に位置している。土手部60は、枠状(矩形枠状)に形成され、分断されること無く連続的に形成されている。この実施形態において、土手部60の幅は、例えば凹部23rの幅wと同じ200μmである。土手部60は、有機物であるポリイミド樹脂で形成されている。土手部60の高さhは、例えば1.7μmである。このため、土手部60を矩形壁状の突起と言うことができる。
上記のように、凹部23r上に土手部60を形成することにより、土手部60を一層高く形成することができ、土手部60の所望の体積を確保することができる。所望の体積を有した土手部60により、アレイ基板1の周縁側への配向膜28の広がりを抑制することができ、配向膜28の周縁が配向膜形成領域の外側にはみ出さないように配向膜28を形成することができる。また、土手部60は直線性を有しているため、配向膜28の周縁が蛇行することを抑制することができ、すなわち配向膜28の周縁の直線性を確保することができる。
また、土手部60の幅を増加させなくとも土手部60の所望の体積を確保することができる。上記のように、配向膜28の周縁の直線性を確保することができ、土手部60の幅を増加させなくともよいため、狭額縁化に寄与することができる。
図1、図2、図3、図6及び図7に示すように、対向基板2は、透明な絶縁基板としてガラス基板41を備えている。このガラス基板41上には、カラーフィルタ4が設けられている。カラーフィルタ4は、遮光部31と、周辺遮光部32と、複数の着色層とを有している。複数の着色層は、例えば赤色の着色層30R、緑色の着色層30G、青色の着色層30Bを有している。
遮光部31は、格子状に形成されている。遮光部31は、補助容量線17及び信号線21に対向して形成されている。周辺遮光部32は、矩形枠状に形成され、額縁領域R2の全体に形成されている。周辺遮光部32は、表示領域R1の外側から漏れる光(バックライト)の遮光に寄与している。
着色層30R、30G、30Bは、ガラス基板41及び遮光部31上に形成されている。着色層30R、30G、30Bは、列方向Yに沿って帯状に延在している。着色層30R、30G、30Bは、行方向Xに互いに隣接し、交互に並べられている。着色層30R、30G、30Bの周縁部は、遮光部31に重なっている。
なお、カラーフィルタ4上には、図示しないオーバーコート層を配置してもよい。これにより、遮光部31及びカラーフィルタ4の表面の凹凸の影響を緩和することができる。
なお、カラーフィルタ4上には、図示しないオーバーコート層を配置してもよい。これにより、遮光部31及びカラーフィルタ4の表面の凹凸の影響を緩和することができる。
カラーフィルタ4(オーバーコート層)上に、ITO等の透明な導電膜により対向電極42が形成されている。上記のように、ガラス基板41上に対向パターン2pが形成されている。対向パターン2pは、カラーフィルタ4及び対向電極42を有している。対向パターン2pは、オーバーコート層をさらに有していてもよい。
対向パターン2p上には、複数のスペーサとしての複数の柱状スペーサ80と、配向膜43とが形成されている。柱状スペーサ80は、少なくとも表示領域R1に形成されている。柱状スペーサ80の高さは、セルギャップに対応させることができ、例えば3乃至5μmとすることができる。
配向膜43は、配向膜形成領域内に形成されている。配向膜43の周縁は、後述する土手部70に接している。このため、配向膜43の周縁の形状は、土手部70により規制されている。配向膜43は、有機物であるポリイミド樹脂で形成されている。配向膜43の膜厚は、例えば0.1μmである。
一方、図3及び図7に示すように、額縁領域R2において、ガラス基板41上には、対向パターン2pと、土手部(受止めパターン)70とが形成されている。額縁領域R2において、対向パターン2pは、周辺遮光部32を有し、必要に応じて上記オーバーコート層をさらに有している。
土手部70は、ガラス基板41上の配向膜形成領域の外周部の全域に亘って形成されている。土手部70は、額縁領域R2に位置している。土手部70は、枠状(矩形枠状)に形成され、分断されること無く連続的に形成されている。この実施形態において、土手部70の幅は、例えば200μmである。土手部70は、有機物であるポリイミド樹脂で形成されている。土手部70の高さは、例えば1.7μmである。
土手部70を形成することにより、対向基板2の周縁側への配向膜43の広がりを抑制することができ、配向膜43の周縁が配向膜形成領域の外側にはみ出さないように配向膜43を形成することができる。また、土手部70は直線性を有しているため、配向膜43の周縁が蛇行することを抑制することができ、すなわち配向膜43の周縁の直線性を確保することができる。
なお、対向基板2は、ガラス基板41上の配向膜形成領域の外周部の全域に亘って形成された凹部を有していてもよい。例えば、対向パターン2pがオーバーコート層を有している場合、オーバーコート層の額縁領域R2に凹部を形成することができる。これにより、土手部70をオーバーコート層の凹部上に形成することができる。
対向基板2側においても凹部を形成することにより、アレイ基板1と土手部70との間に隙間(所望のセルギャップ)を確保又は一層確保しつつ、土手部70の高さ制限を緩和することができる。そして、土手部70の幅方向への広がりを抑制することができる。
また、所望の体積を有した土手部70を形成することができ、対向基板2の周縁側への配向膜43の広がりを抑制することができ、配向膜43の周縁が配向膜形成領域の外側にはみ出さないように配向膜43を形成することができる。またさらに、土手部70の直線性をより高めることができる。土手部70の幅を低減することも可能となる。これにより、狭額縁化に一層寄与することができる。
図1乃至図3及び図7に示すように、アレイ基板1及び対向基板2は、複数の柱状スペーサ80により所定の隙間を置いて対向配置されている。シール材51は、額縁領域R2に対向し、アレイ基板1及び対向基板2間に設けられ、矩形枠状に連続して形成されている。
アレイ基板1及び対向基板2は、シール材51により互いに接合されている(貼り合わせられている)。シール材51は、水分を遮断する性質を有している。シール材51は、アクリル等の樹脂を利用して形成することができる。シール材51の外縁は、土手部60、70よりも基板(アレイ基板1及び対向基板2)の外縁側に位置している。このため、土手部60、70や配向膜28、43の表面(界面)を伝っての表示領域R1側への水分の浸入を遮断することができる。
液晶層3は、アレイ基板1、対向基板2及びシール材51で囲まれた空間に形成されている。
上記のように液晶表示パネルが形成されている。
上記のように液晶表示パネルが形成されている。
次に、上記液晶表示パネルの一層詳しい構成を、その製造方法と併せて説明する。
図1乃至図7、及び図8に示すように、まず、透明な絶縁基板としてアレイ基板1よりも寸法の大きい第1マザー基板としてのマザーガラス101を用意する。この実施形態によれば、マザーガラス101は、アレイ基板1を形成するため6つの矩形状のアレイ基板形成領域R6と、アレイ基板形成領域R6から外れた非有効領域R7とを有している。マザーガラス101は、アレイ基板形成領域R6の周縁に重なった第1分断予定線e1を有している。
図1乃至図7、及び図8に示すように、まず、透明な絶縁基板としてアレイ基板1よりも寸法の大きい第1マザー基板としてのマザーガラス101を用意する。この実施形態によれば、マザーガラス101は、アレイ基板1を形成するため6つの矩形状のアレイ基板形成領域R6と、アレイ基板形成領域R6から外れた非有効領域R7とを有している。マザーガラス101は、アレイ基板形成領域R6の周縁に重なった第1分断予定線e1を有している。
用意したマザーガラス101上には、成膜およびパターニングを繰り返す等、通常の製造工程により、TFT19、補助容量素子24、保護絶縁膜23等を含むアレイパターン1pを形成する。
図1乃至図7、及び図9に示すように、これにより、マザーガラス101上の配向膜形成領域の外周部の全域に亘って凹部23rが形成される。すなわち、コンタクトホール25や凹部23rを有した保護絶縁膜23が形成される。コンタクトホール25(スルーホール)や凹部23rは、ハーフトーンマスクを使用したフォトリソグラフィ法を用いることにより、同時に形成することができる。
続いて、マザーガラス101を加熱する。ここでは、マザーガラス101が60℃となるように加熱される。
続いて、マザーガラス101を加熱する。ここでは、マザーガラス101が60℃となるように加熱される。
図1乃至図7、及び図10に示すように、次いで、塗布装置として、インクジェット装置100を用意する。インクジェット装置100には、複数のノズルヘッドが横梁状に設けられている。ノズルヘッドは、一定の間隔で配列されている。
アレイパターン1pを形成した後、インクジェット装置100を用い、配向膜形成領域の外周部の全域に亘って凹部23r上に第1塗布液60aを枠状に塗布(吐出)する。塗布する際、所定のピッチでインクジェット装置100(ノズルヘッド)を移動させ、所定の塗布量(吐出量)で第1塗布液60aを塗布する。例えば、ノズルヘッドの先端のノズル孔から吐出される第1塗布液60aの塗布量(吐出量)は、30ng/dotである。
第1塗布液60aは、ポリイミド樹脂に有機溶剤を溶解した溶液である。そして、第1塗布液60aは、ポリイミド樹脂4wt%の溶液である。溶剤(有機溶剤)の組成は最適化されている。溶剤としては、例えば、DPM(ジプロピレングリコールモノメチルエーテル)、GBL(ガンマブチロラクトン)、BC(ブチルセロソルブ)又はこれらの組み合わせを利用することができる。
また、塗布方向は列方向Yに平行な方向である。1個のノズルヘッドを使用することで第1塗布液60aを70μm幅で塗布することができる。このため、互いに並んだ3個のノズルヘッドを使用することにより、凹部23rに沿って略200μm幅で第1塗布液60aを塗布することができる。
ここで、第1塗布液60aを同一個所に複数回塗布してもよい。例えば、インクジェット工法を用いて第1塗布液60aを二重又は三重に塗布してもよい。第1塗布液60aを盛って高くすることにより、第1塗布液60aの体積を確保することができる。
なお、この実施形態において、塗布方向は列方向Yに平行な方向のみとしたが、これに限定されるものではなく、例えば、行方向Xに平行な方向のみとしたり、列方向Y及び行方向Xの2方向としたりしてもよい。また、第1塗布液60aを塗布する手法としては、インクジェット工法に限定されるものではなく、ディスペンサ法や印刷法等の他の手法を採用することも可能である。
図1乃至図7、並びに図10及び図11に示すように、上記のように、第1塗布液60aを塗布することにより幅200μm、高さ1.7μmの土手部60が形成される。第1塗布液60aはポリイミド樹脂4wt%の溶液である。このため、第1塗布液60aは、凹部23rに良好に充填され、また高さの均一な土手部60を形成することのできる粘度を有する。
第1塗布液60aを塗布する際、マザーガラス101は予め加熱されているため、凹部23r(マザーガラス101)上に塗布された第1塗布液60a中の溶剤(有機溶剤)を短時間で気化させる(とばす)ことができる。すなわち、第1塗布液60aを仮乾燥させることができるため、第1塗布液60a中のポリイミド樹脂の重量比を高くすることができる。
その後、マザーガラス101の加熱を中止する。
その後、マザーガラス101の加熱を中止する。
図1乃至図7、及び図12に示すように、次いで、配向膜形成領域内において、アレイパターン1p上に、インクジェット工法を用いて第2塗布液28aを吐出(塗布)する。
すなわち、土手部60を形成した後、インクジェット装置100を用い、配向膜形成領域内に第2塗布液28aを吐出する。吐出する際、所定のピッチでインクジェット装置100(ノズルヘッド)を移動させ、所定の吐出量で第2塗布液28aを吐出する。例えば、ノズルヘッドの先端のノズル孔から吐出される第2塗布液28aの吐出量は、30ng/dotである。
すなわち、土手部60を形成した後、インクジェット装置100を用い、配向膜形成領域内に第2塗布液28aを吐出する。吐出する際、所定のピッチでインクジェット装置100(ノズルヘッド)を移動させ、所定の吐出量で第2塗布液28aを吐出する。例えば、ノズルヘッドの先端のノズル孔から吐出される第2塗布液28aの吐出量は、30ng/dotである。
第2塗布液28aは、ポリイミド樹脂に有機溶剤を溶解した溶液である。そして、第2塗布液28aは、ポリイミド樹脂2wt%の溶液である。ここでも、第2塗布液28aは、第1塗布液60aに用いた溶剤等を利用することができ、溶剤(有機溶剤)の組成は最適化されている。第2塗布液28aの粘度は、第1塗布液60aの粘度より低く設定されている。
この実施形態において、第2塗布液28aにポリイミド樹脂2wt%の溶液を使用し、0.1μmの膜厚の配向膜28を形成する。このため、第2塗布液28aを5μmの膜厚となるように塗布している。第2塗布液28aの粘度は低いため、アレイパターン1pの凸凹した配向膜形成面上であっても、第2塗布液28aは良好に濡れ広がり、また高さの均一な塗布膜を形成することができる。
そして、上記成膜された第2塗布液28aに接する土手部60のポリイミド樹脂は、第2塗布液28aに溶解することになる。すなわち、第2塗布液28aの周縁部において、ポリイミド樹脂の重量比が高くなり、粘度も高くなる。上記作用により、土手部60は第2塗布液28aを堰き止めることができる。
その後、第2塗布液28aが成膜されたマザーガラス101を仮焼成し、さらに本焼成することにより硬化させ、0.1μmの膜厚の配向膜28を形成する。上記焼成する際、本焼成の前に、本焼成より低温で仮焼成することにより、より均一な膜厚の配向膜28を形成することができる。なお、上記本焼成により、土手部60も硬化する。
なお、配向膜28には、必要に応じて所定の配向処理(ラビング)が施される。
これにより、1枚のマザーガラス101にて6個のアレイ基板1が完成する。
これにより、1枚のマザーガラス101にて6個のアレイ基板1が完成する。
図1、図2、図3、図6、図7及び図8、並びに図13に示すように、一方、対向基板2の製造方法においては、まず、透明な絶縁基板として対向基板2よりも寸法の大きい第2マザー基板としてのマザーガラス102を用意する。この実施形態によれば、マザーガラス102は、対向基板2を形成するため6つの矩形状の対向基板形成領域R8と、対向基板形成領域R8から外れた非有効領域R9とを有している。マザーガラス102は、対向基板形成領域R8の周縁に重なった第2分断予定線e2を有している。
用意したマザーガラス102上には、通常の製造工程により、対向パターン2pを形成する。
次いで、スピンナを用い、例えば感光性アクリル性の透明樹脂をマザーガラス102上全面に塗布する。続いて、透明樹脂を乾燥させる。その後、所定のフォトマスクを用い、透明樹脂にパターニングを露光する。次に、露光された透明樹脂を現像した後、焼成し硬化させる。これにより、柱状スペーサ80が形成される。
続いて、マザーガラス102を加熱する。ここでは、マザーガラス102が60℃となるように加熱される。
続いて、マザーガラス102を加熱する。ここでは、マザーガラス102が60℃となるように加熱される。
図1、図2、図3、図6、図7及び図8、並びに図14に示すように、次いで、塗布装置として、インクジェット装置100を用意する。対向パターン2p及び柱状スペーサ80を形成を形成した後、インクジェット装置100を用い、配向膜形成領域の外周部の全域に亘ってマザーガラス102(対向パターン2p)上に第3塗布液70aを塗布(吐出)する。塗布する際、所定のピッチでインクジェット装置100(ノズルヘッド)を移動させ、所定の塗布量(吐出量)で第3塗布液70aを塗布する。例えば、第3塗布液70aの塗布量(吐出量)は、30ng/dotである。
第3塗布液70aは、ポリイミド樹脂に有機溶剤を溶解した溶液である。そして、第3塗布液70aは、ポリイミド樹脂4wt%の溶液である。ここでも、第3塗布液70aは、第1塗布液60aに用いた溶剤等を利用することができ、溶剤(有機溶剤)の組成は最適化されている。
また、塗布方向は列方向Yに平行な方向である。ここでも、互いに並んだ3個のノズルヘッドを使用することにより、略200μm幅で第3塗布液70aを塗布することができる。
ここで、第3塗布液70aを同一個所に複数回塗布してもよい。例えば、インクジェット工法を用いて第3塗布液70aを二重又は三重に塗布してもよい。第3塗布液70aを盛って高くすることにより、第3塗布液70aの体積を確保することができる。
なお、この実施形態において、塗布方向は列方向Yに平行な方向のみとしたが、これに限定されるものではなく、例えば、行方向Xに平行な方向のみとしたり、列方向Y及び行方向Xの2方向としたりしてもよい。また、第3塗布液70aを塗布する手法としては、インクジェット工法に限定されるものではなく、ディスペンサ法や印刷法等の他の手法を採用することも可能である。
上記のように、第3塗布液70aを塗布することにより幅200μm、高さ1.7μmの土手部70が形成される。第3塗布液70aはポリイミド樹脂4wt%の溶液である。このため、第3塗布液70aは、高さの均一な土手部60を形成することのできる粘度を有する。
第3塗布液70aを塗布する際、マザーガラス102は予め加熱されているため、マザーガラス102上に塗布された第3塗布液70a中の溶剤(有機溶剤)を短時間で気化させる(とばす)ことができる。すなわち、第3塗布液70aを仮乾燥させることができるため、第3塗布液70a中のポリイミド樹脂の重量比を高くすることができる。
その後、マザーガラス101の加熱を中止する。
その後、マザーガラス101の加熱を中止する。
次いで、配向膜形成領域内において、対向パターン2p上に、インクジェット工法を用いて第4塗布液(43a)を吐出(塗布)する。
すなわち、土手部70を形成した後、インクジェット装置100を用い、配向膜形成領域内に第4塗布液を吐出する。吐出する際、所定のピッチでインクジェット装置100(ノズルヘッド)を移動させ、所定の吐出量で第4塗布液を吐出する。例えば、ノズルヘッドの先端のノズル孔から吐出される第4塗布液の吐出量は、30ng/dotである。
すなわち、土手部70を形成した後、インクジェット装置100を用い、配向膜形成領域内に第4塗布液を吐出する。吐出する際、所定のピッチでインクジェット装置100(ノズルヘッド)を移動させ、所定の吐出量で第4塗布液を吐出する。例えば、ノズルヘッドの先端のノズル孔から吐出される第4塗布液の吐出量は、30ng/dotである。
第4塗布液は、ポリイミド樹脂に有機溶剤を溶解した溶液である。そして、第4塗布液は、ポリイミド樹脂4wt%の溶液である。ここでも、第4塗布液は、第1塗布液60aに用いた溶剤等を利用することができ、溶剤(有機溶剤)の組成は最適化されている。そして、ここでは、第4塗布液は、第3塗布液70aと組成が同一であり、例えば粘度も同一に設定される。
この実施形態において、第4塗布液にポリイミド樹脂4wt%の溶液を使用し、0.1μmの膜厚の配向膜43を形成する。このため、第4塗布液を2.5μmの膜厚となるように塗布している。対向パターン2pの配向膜形成面は比較的平坦であるため、第4塗布液の粘度が第2塗布液28aの粘度より高くても、第4塗布液は良好に濡れ広がり、また高さの均一な塗布膜を形成することができる。
そして、上記成膜された第4塗布液に接する土手部70のポリイミド樹脂は、第4塗布液に溶解することになる。すなわち、第4塗布液の周縁部において、ポリイミド樹脂の重量比が高くなり、粘度も高くなる。上記作用により、土手部70は第4塗布液を堰き止めることができる。
その後、第4塗布液が成膜されたマザーガラス102を仮焼成し、さらに本焼成することにより硬化させ、0.1μmの膜厚の配向膜43を形成する。上記焼成する際、本焼成の前に、本焼成より低温で仮焼成することにより、より均一な膜厚の配向膜43を形成することができる。なお、上記本焼成により、土手部70も硬化する。
なお、配向膜43には、必要に応じて所定の配向処理(ラビング)が施される。
これにより、1枚のマザーガラス102にて6個の対向基板2が完成する。
これにより、1枚のマザーガラス102にて6個の対向基板2が完成する。
次いで、図7及び図15に示すように、一対の基板の何れか一方にシール剤51aを設ける。ここでは、アレイ基板1の額縁領域R2に全周に亘って、シール剤51aを印刷法により塗布する。シール剤51aとしては、無機系の材料として、例えば、紫外線硬化型のアクリル樹脂を利用することができる。これにより、枠状にシール剤51aが形成される。また、シール剤51aを形成する際、アレイ基板1から対向基板2に電圧を印加するための電極転移材をシール剤51aの周辺の図示しない電極転移電極上に形成することができる。
その後、シール剤51aで囲まれた領域に液晶材料を滴下する。続いて、配向膜28及び配向膜43が対向するよう、マザーガラス101及びマザーガラス102を対向配置し、アレイ基板1及び対向基板2を複数の柱状スペーサ80により所定の隙間を保持して対向配置し、アレイ基板1及び対向基板2の周縁部同士をシール剤51aにより貼り合せる。この際、一対の基板同士を貼り合わせた状態でシール剤51aの外縁が土手部60、70よりも基板の外縁側に位置するように行う。また、一対の基板同士を貼り合わせることにより、一対の基板間に液晶層3を挟持することができる。
次いで、外部よりシール剤51aに紫外線を照射してシール剤51aを硬化させ、さらに熱硬化処理を施し、本硬化させる。これにより、シール材51を介してマザーガラス101及びマザーガラス102が接合される。
続いて、マザーガラス101を第1分断予定線e1に沿って分割するとともに、マザーガラス102を第2分断予定線e2に沿って分割する。分割する際、例えば、第1分断予定線e1及び第2分断予定線e2に沿ってスクライブラインを引いて分割する。これにより、マザーガラス101からアレイ基板1が、マザーガラス102から対向基板2がそれぞれ切出される。
これにより、図3に示すように、分断されたマザーガラス101及びマザーガラス102から、液晶表示パネルが6組取出される。そして、6つの液晶表示パネルがそれぞれ完成する。
これにより、図3に示すように、分断されたマザーガラス101及びマザーガラス102から、液晶表示パネルが6組取出される。そして、6つの液晶表示パネルがそれぞれ完成する。
上記のように構成された一実施形態に係る液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法によれば、液晶表示パネルは、アレイ基板1と、対向基板2と、液晶層3とシール材51とを備えている。
液晶表示パネルを製造する際、まず、基板上の配向膜形成領域の外周部の全域に亘って凹部23rを形成する。続いて、上記配向膜形成領域の外周部の全域に亘って凹部23r上に第1塗布液60aを塗布し、枠状の土手部60を形成する。次いで、上記配向膜形成領域内にインクジェット工法を用いて第2塗布液28aを吐出し、配向膜28を形成する。その後、配向膜28が形成された基板(マザーガラス101)を含む一対の基板(マザーガラス101、102)の何れか一方にシール剤51aを設け、一対の基板同士をシール剤51aを用いて貼り合わせ、一対の基板間に液晶層3を挟持する。シール剤51aを設ける際、一対の基板同士を貼り合わせた状態でシール剤51aの外縁が土手部60、70よりも基板の外縁側に位置するように行われる。
上記手法により、モバイル用端末(例えば、スマートフォン)用途等の小型の液晶表示パネルで求められる精度で配向膜28(43)を形成することが可能となる。なぜなら、上記(4)乃至(6)の問題を解消することができるためである。
すなわち、一般的な粘度の塗布液より粘度の低い第2塗布液28aを使用することができるため、上記(4)の問題を解消することができる。土手部60は第2塗布液28aを堰き止めることができるためである。第2塗布液28aの粘度を低くすることにより、配向膜形成面が凸凹していても第2塗布液28aは良好に濡れ広がり、膜厚の均一な配向膜28を形成することができるためである。
また、配向膜28、43の周縁の直線性を確保することができるため、上記(5)の問題を解消することができる。配向膜28、43の周縁の形状は、土手部60、70により規制されるためである。そして、配向膜28、43は、周縁が配向膜形成領域の外側にはみ出さないように形成される。
このため、額縁領域(シール材51の形成領域)に余裕がない場合であっても、配向膜28、43及び土手部60、70が外気に露出しないようにシール材を設けることが可能となる。これにより、配向膜28、43及び土手部60、70中を通ったり配向膜28、43及び土手部60、70の界面を伝ったりすることによる液晶表示パネル内部への水分の侵入を防止することができる。また、表示品位の低下を防止することができる。
表示領域R1の外側にハロー領域が位置するように配向膜28、43を形成することが可能となるため、上記(6)の問題を解消することができる。土手部60、70が存在することにより、配向膜28、43のハロー領域の面積を低減することができるためである。これにより、配向膜28、43のハロー領域の影響による表示品位の低下を防止することができる。
そして、上記のように、二律背反の関係にあった上記(4)と(5)の問題をともに解消することができるものである。すなわち、第2塗布液28aの粘度を低くすることができるため、第2塗布液28aを濡れ広がり易くすることができ、膜厚の均一な配向膜28を形成し易くすることができる。また、土手部60を設けることにより、配向膜28の周縁の直線性を確保し易くすることができる。
また、上記のことから、インクジェット工法を用いて配向膜28、43を形成することができ、生産性に優れた手法を採ることができる。
凹部23rを形成することにより、対向基板2と土手部60との間に隙間を確保又は一層確保しつつ、土手部60の高さ制限を緩和することができる。土手部60の幅を増加させること無しに所望の体積を有する土手部60を得ることができるため、土手部60は第2塗布液28aを堰き止めることができる。
凹部23rを形成することにより、対向基板2と土手部60との間に隙間を確保又は一層確保しつつ、土手部60の高さ制限を緩和することができる。土手部60の幅を増加させること無しに所望の体積を有する土手部60を得ることができるため、土手部60は第2塗布液28aを堰き止めることができる。
第1塗布液60a及び第3塗布液70aを塗布する際、マザーガラス101、102を加熱した状態で行うため、マザーガラス101、102上に塗布された第1塗布液60a及び第3塗布液70a中の溶剤(有機溶剤)を短時間で気化させる(とばす)ことができる。
上記したことから、狭額縁化を図ることができ、製品歩留まりが高く、表示品位に優れた液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法を得ることができる。
上記したことから、狭額縁化を図ることができ、製品歩留まりが高く、表示品位に優れた液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法を得ることができる。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
例えば、図16に示すように、上記土手部70の替わりに土手部81を形成してもよい。額縁領域R2において、土手部81は対向パターン2p上に形成されている。土手部81は、ガラス基板41上の配向膜形成領域の外周部の全域に亘って形成されている。土手部81は、枠状(矩形枠状)に形成され、分断されること無く連続的に形成されている。配向膜43の周縁は、土手部81に接している。
土手部81は、例えば柱状スペーサ80を形成する際に所定のフォトマスクを使用することにより柱状スペーサ80と同時に形成することができる。この場合、製造工程を増やすことなく土手部81を形成することができる。そして、上記フォトマスクにハーフトーンマスクを使用することにより、柱状スペーサ80より高さの低い土手部81を形成することができる。これにより、セルギャップの均一化に寄与することができる。
第4塗布液を吐出する際、柱状スペーサ80及び土手部81が完全に硬化した後に第4塗布液を吐出する。そして、第4塗布液を、土手部81未満の膜厚となるように塗布すればよい。土手部81が壁となって第4塗布液を堰き止めることができるため、上述した実施形態と同様の効果を得ることができる。
また、図17に示すように、額縁領域R2において、保護絶縁膜23はスリット23hを有していてもよい。スリット23hは、貫通し、層間絶縁膜18を剥き出しの状態にするように形成されている。スリット23hは、枠状に形成され、ここでは矩形枠状に連続して形成されている。スリット23hは、数μm又は数十μmの幅を有している。
シール材51は、スリット23hに充填して形成されている。シール材51は、水分を遮断する性質を有しているため、保護絶縁膜23や保護絶縁膜23の表面(界面)を伝うことによる液晶表示パネル内部への水分の侵入を防止することができる。
凹部23rの幅w、土手部60の高さh及び幅、並びに土手部70の高さ及び幅は、上述した実施形態で示した値に限定されるものではなく種々変形可能である。凹部23r及び土手部60、70は、セルギャップを確保することができ、第2塗布液28a及び第4塗布液を堰き止めることができるように形成されていればよい。
第1塗布液60a、第2塗布液28a、第3塗布液70a、第4塗布液、シール材51を形成する材料等は、上述した実施形態で示した材料以外の材料を利用するものであってもよい。
第1塗布液60a及び第2塗布液28a(第3塗布液70a及び第4塗布液)に、互いに異なる溶液を用いてもよいが、同一(同一の組成及び粘度)の溶液を用いてもよい。上記同一の溶液を第1塗布液60a及び第2塗布液28aに用いることができる場合、塗布液の交換等の工程をなくすことができるため、製造時間を短縮することができる等の効果を得ることができる。
柱状スペーサ80は、対向基板2側に限らず、アレイ基板1側に形成することも可能である。また、スペーサに、球状スペーサ等の柱状スペーサ以外のスペーサを利用することも可能である。
上述した実施形態の技術は、上記液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法に限定されるものではなく、各種の液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法に適用可能である。液晶注入法は、滴下注入法の利用に限定されるものではなく、真空注入法を利用することも可能である。
1…アレイ基板、2…対向基板、3…液晶層、11,41…ガラス基板、18…層間絶縁膜、19…TFT、23…保護絶縁膜、23r…凹部、23h…スリット、25…コンタクトホール、28,43…配向膜、51…シール材、60,70,81…土手部、80…柱状スペーサ、51…シール材、100…インクジェット装置、28a…第2塗布液、60a…第1塗布液、70a…第3塗布液、51a…シール剤、R1…表示領域、R2…額縁領域、X…行方向、Y…列方向。
Claims (6)
- 基板上の配向膜形成領域の外周部の全域に亘って凹部を形成し、
前記外周部の全域に亘って前記凹部上に第1塗布液を塗布し、枠状の土手部を形成し、
前記配向膜形成領域内にインクジェット工法を用いて第2塗布液を吐出し、配向膜を形成し、
前記配向膜が形成された前記基板を含む一対の基板の何れか一方にシール剤を設け、前記一対の基板同士を前記シール剤を用いて貼り合わせ、前記一対の基板間に液晶層を挟持し、
前記シール剤を設ける際、前記一対の基板同士を貼り合わせた状態で前記シール剤の外縁が前記土手部よりも前記基板の外縁側に位置するように行う、液晶表示パネルの製造方法。 - 前記凹部を形成する際は、前記基板上に前記凹部を有する有機絶縁膜を形成する、請求項1に記載の液晶表示パネルの製造方法。
- 前記有機絶縁膜を形成する際、前記凹部よりも前記基板の外縁側で全域に亘って前記有機絶縁膜を貫通したスリットを形成し、
前記シール剤を設ける際、前記一対の基板同士を貼り合わせた状態で前記シール剤が前記スリットに充填されるように行う、請求項2に記載の液晶表示パネルの製造方法。 - 前記第1塗布液を塗布する際、前記基板を加熱した状態で行う、請求項1に記載の液晶表示パネルの製造方法。
- 前記配向膜を形成する際、前記第1塗布液の粘度より低い粘度の前記第2塗布液を用いる、請求項1に記載の液晶表示パネルの製造方法。
- 前記第1塗布液及び第2塗布液に、ポリイミド樹脂に有機溶剤を溶解した溶液を使用し、
前記シール剤に、無機系の材料を使用している、請求項1乃至5の何れか1項に記載の液晶表示パネルの製造方法。
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