JP2017015938A - 表示装置 - Google Patents
表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017015938A JP2017015938A JP2015132784A JP2015132784A JP2017015938A JP 2017015938 A JP2017015938 A JP 2017015938A JP 2015132784 A JP2015132784 A JP 2015132784A JP 2015132784 A JP2015132784 A JP 2015132784A JP 2017015938 A JP2017015938 A JP 2017015938A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- resin layer
- layer
- display device
- spacers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 163
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 163
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 146
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 29
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims abstract description 23
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 95
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 71
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 28
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims description 19
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 11
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 158
- 239000010408 film Substances 0.000 description 86
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 41
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 32
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 description 18
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 18
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 11
- 238000011161 development Methods 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 9
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 5
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical class [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- JHRWWRDRBPCWTF-OLQVQODUSA-N captafol Chemical class C1C=CC[C@H]2C(=O)N(SC(Cl)(Cl)C(Cl)Cl)C(=O)[C@H]21 JHRWWRDRBPCWTF-OLQVQODUSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N stibanylidynetin;hydrate Chemical compound O.[Sn].[Sb] SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWDGNKGKLOBESZ-UHFFFAOYSA-N 2-oxooctanal Chemical compound CCCCCCC(=O)C=O MWDGNKGKLOBESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZHPOJPIGFWDTD-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCOC(=O)C=C HZHPOJPIGFWDTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N Diazomethane Chemical class C=[N+]=[N-] YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical class C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 1
- LMGZGXSXHCMSAA-UHFFFAOYSA-N cyclodecane Chemical compound C1CCCCCCCCC1 LMGZGXSXHCMSAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 230000000414 obstructive effect Effects 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920002577 polybenzoxazole Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13398—Spacer materials; Spacer properties
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明による表示装置は、第1基板と、第1基板上に配置され、複数のトランジスタ及び配線を含むトランジスタ層と、トランジスタ層上に配置され、第1樹脂層と、第1基板の周辺に沿って第1樹脂層上に接して配置され、第2樹脂層と、第1基板に対向して配置される第2基板と、第2樹脂層と第2基板との間において、第2樹脂層に沿って、第2樹脂層上に接して配置された第3樹脂層と、第1基板と第2基板とに挟持され、第3樹脂層に封止された液晶層とを有することを特徴とする。
【選択図】図3
Description
[構成]
図1、図2及び図3を参照し、本実施形態に係る表示装置100の構成について説明する。図1は、本実施形態に係る表示装置100の構成を示す平面図である。図2は、図1に示した本実施形態に係る表示装置100の構成を示す平面図の一部を拡大した図である。図3は、本実施形態に係る表示装置100の構成を示す断面図である。
図4a〜図4fを参照し、本実施形態に係る表示装置100の製造方法について説明する。図4a〜図4fは、本実施形態に係る表示装置100の製造方法を示す断面図である。
本工程では、当該感放射線性樹脂組成物を用い、基板上に塗布して塗膜を形成する。当該感放射線性樹脂組成物が溶媒を含む場合には、塗布面をプレベークすることによって溶媒を除去することが好ましい。
本工程では、塗膜の少なくとも一部に放射線を照射し露光する。露光する際には、通常所定のパターンを有するフォトマスクを介して露光する。露光に使用される放射線としては、波長が190nm以上450nm以下の範囲にある放射線が好ましく、365nmの紫外線を含む放射線がより好ましい。露光量の上限としては、6,000J/m2が好ましく、1,800J/m2がより好ましい。一方、露光量の下限としては、500J/m2が好ましく、1,500J/m2がより好ましい。この露光量は、放射線の波長365nmにおける強度を照度計(OAI Optical Associates社の「OAI model356」)により測定した値である。
本工程では、放射線が照射された塗膜を現像する。露光後の塗膜を現像することにより、不要な部分(放射線の照射部分)を除去して所定のパターンを形成する。
本工程では、現像された塗膜を加熱する。加熱には、ホットプレート、オーブン等の加熱装置を用い、パターニングされた薄膜を加熱することで、[A]重合体成分の硬化反応を促進して、硬化膜を形成することができる。加熱温度としては、例えば120℃以上250℃以下である。加熱時間としては、加熱機器の種類により異なるが、例えば、ホットプレートでは5分以上30分以下、オーブンでは30分以上90分以下である。また、2回以上の加熱工程を行うステップベーク法等を用いることもできる。このようにして、目的とする硬化膜に対応するパターン状薄膜を基板の表面上に形成できる。この硬化膜の膜厚の上限としては、8μmが好ましく、6μmがより好ましい。一方、上記膜厚の下限としては、0.1μmが好ましい。
図5を参照し、本実施形態に係る表示装置200の構成について説明する。図5は、本実施形態に係る表示装置200の構成を示す断面図である。
図7を参照し、本実施形態に係る表示装置300の構成について説明する。図7は、本実施形態に係る表示装置300の構成を示す断面図である。
図8を参照し、本実施形態に係る表示装置400の構成について説明する。図8は、本実施形態に係る表示装置400の構成を示す断面図である。
図9を参照し、本実施形態に係る表示装置500の構成について説明する。図9は、本実施形態に係る表示装置500の構成を示す断面図である。
図10を参照し、本実施形態に係る表示装置600の構成について説明する。図10は、本実施形態に係る表示装置600の構成を示す断面図である。
図11を参照し、本実施形態に係る表示装置700の構成について説明する。図11は、本実施形態に係る表示装置700の構成を示す断面図である。
図12を参照し、本実施形態に係る表示装置800の構成について説明する。図12は、本実施形態に係る表示装置800の構成を示す断面図である。
102、103:基板
104:表示領域
106:周縁部
108:画素
111:シール材
112:端子領域
114:接続端子
116:ドライバ回路
118:トランジスタ層
119:トランジスタ
122:第1樹脂層
123:第2樹脂層
124:画素電極
125:共通電極
126、128:配向膜
129:スペーサ
129a:第2スペーサ
129b:第1スペーサ
132:液晶層
134:オーバーコート層
136:遮光層
138:カラーフィルタ
Claims (8)
- 第1基板と、
前記第1基板上に配置され、複数のトランジスタ及び配線を含むトランジスタ層と、
前記トランジスタ層上に配置された第1樹脂層と、
第1基板の周辺に沿って前記第1樹脂層上に接して配置された第2樹脂層と、
前記第1基板に対向して配置される第2基板と、
前記第2樹脂層と前記第2基板との間において、前記第2樹脂層に沿って、前記第2樹脂層上に接して配置された第3樹脂層と、
前記第1基板と前記第2基板とに挟持され、前記第3樹脂層に封止された液晶層と
を有する表示装置。 - 前記第2樹脂層は、
平面視において前記第3樹脂層と重畳する領域において、膜厚が異なる凹凸パターンを有することを特徴とする請求項1に記載の表示装置。 - 前記第2基板は、
複数のカラーフィルタ及び遮光膜を有し、
前記複数のカラーフィルタのうち少なくとも一層が、前記第2基板と前記第3樹脂層との間に配置されることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の表示装置。 - 前記第1樹脂層上に、複数の画素が配置される表示領域を覆うように配置される第1配向膜と、
前記第1配向膜に接し、前記複数の画素間に配置され、前記第2樹脂層と同層に形成され、複数の第1スペーサと、
前記第2基板の前記第1基板側に、前記複数の第1スペーサの各々に対向して配置される複数の第2スペーサと、
を更に有する請求項1乃至請求項3のいずれか一に記載の表示装置。 - 第1基板上に複数のトランジスタ及び配線を含むトランジスタ層を形成し、
前記第1基板の前記トランジスタ層側に、第1樹脂層を形成し、
前記第1基板の第1樹脂層上に、樹脂を形成し、
前記第1基板の周辺に沿って、前記第1樹脂層に第2樹脂層をフォトリソグラフィ工程によって形成し、
前記第2樹脂層上に、インクジェット法によって第3樹脂層を塗布し、
前記第1基板と、複数のカラーフィルタ及び遮光膜が配置された第2基板とを貼り合わせること
を含む表示装置の製造方法。 - 前記第2樹脂層上に、フォトリソグラフィ工程によって凹凸パターンを形成すること
を更に含む請求項5に記載の表示装置の製造方法。 - 前記第2基板の前記第1基板側の周縁部に、前記複数のカラーフィルタ及び前記遮光膜のうち少なくとも一層を前記第2樹脂層に対向するように形成することを特徴とする請求項5又は請求項6に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第2樹脂層を形成する前に、前記第1基板の前記第2基板側に配置された前記第1樹脂層上に第1配向膜を形成し、
前記第2基板の前記第1基板側に、複数の第2スペーサを形成すること
を更に含み、
前記第2樹脂層を形成することは、
前記複数の第2スペーサの各々に対向する複数の第1スペーサを同時に形成することを特徴とする請求項5乃至請求項7のいずれか一に記載の表示装置の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015132784A JP6661904B2 (ja) | 2015-07-01 | 2015-07-01 | 表示装置、および表示装置の製造方法 |
KR1020160082614A KR20170004883A (ko) | 2015-07-01 | 2016-06-30 | 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015132784A JP6661904B2 (ja) | 2015-07-01 | 2015-07-01 | 表示装置、および表示装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017015938A true JP2017015938A (ja) | 2017-01-19 |
JP6661904B2 JP6661904B2 (ja) | 2020-03-11 |
Family
ID=57829203
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015132784A Active JP6661904B2 (ja) | 2015-07-01 | 2015-07-01 | 表示装置、および表示装置の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6661904B2 (ja) |
KR (1) | KR20170004883A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018145482A1 (zh) * | 2017-02-10 | 2018-08-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板及其制作方法、显示装置、基板 |
CN111768700A (zh) * | 2020-06-22 | 2020-10-13 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及显示装置 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1138424A (ja) * | 1997-07-23 | 1999-02-12 | Fujitsu Ltd | 液晶表示パネル及びその製造方法 |
JP2002049042A (ja) * | 2000-08-02 | 2002-02-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | カラーフィルター及び表示素子及びその製造方法 |
JP2007187866A (ja) * | 2006-01-13 | 2007-07-26 | Seiko Epson Corp | 液晶表示パネル、液晶表示パネルの製造方法、電子機器 |
JP2009003437A (ja) * | 2007-05-18 | 2009-01-08 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示装置およびその作製方法 |
JP2010019877A (ja) * | 2008-07-08 | 2010-01-28 | Seiko Epson Corp | 液晶装置および電子機器 |
JP2012141606A (ja) * | 2010-12-17 | 2012-07-26 | Sony Corp | 表示装置及び表示装置の製造方法 |
JP2012255840A (ja) * | 2011-06-07 | 2012-12-27 | Japan Display West Co Ltd | 表示装置および電子機器 |
JP2014174432A (ja) * | 2013-03-12 | 2014-09-22 | Japan Display Inc | 液晶表示パネルの製造方法 |
JP2014238444A (ja) * | 2013-06-06 | 2014-12-18 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置 |
US20150131017A1 (en) * | 2013-11-13 | 2015-05-14 | Samsung Display Co., Ltd. | Display apparatus and method of manufacturing the same |
-
2015
- 2015-07-01 JP JP2015132784A patent/JP6661904B2/ja active Active
-
2016
- 2016-06-30 KR KR1020160082614A patent/KR20170004883A/ko unknown
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1138424A (ja) * | 1997-07-23 | 1999-02-12 | Fujitsu Ltd | 液晶表示パネル及びその製造方法 |
JP2002049042A (ja) * | 2000-08-02 | 2002-02-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | カラーフィルター及び表示素子及びその製造方法 |
JP2007187866A (ja) * | 2006-01-13 | 2007-07-26 | Seiko Epson Corp | 液晶表示パネル、液晶表示パネルの製造方法、電子機器 |
JP2009003437A (ja) * | 2007-05-18 | 2009-01-08 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示装置およびその作製方法 |
JP2010019877A (ja) * | 2008-07-08 | 2010-01-28 | Seiko Epson Corp | 液晶装置および電子機器 |
JP2012141606A (ja) * | 2010-12-17 | 2012-07-26 | Sony Corp | 表示装置及び表示装置の製造方法 |
JP2012255840A (ja) * | 2011-06-07 | 2012-12-27 | Japan Display West Co Ltd | 表示装置および電子機器 |
JP2014174432A (ja) * | 2013-03-12 | 2014-09-22 | Japan Display Inc | 液晶表示パネルの製造方法 |
JP2014238444A (ja) * | 2013-06-06 | 2014-12-18 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置 |
US20150131017A1 (en) * | 2013-11-13 | 2015-05-14 | Samsung Display Co., Ltd. | Display apparatus and method of manufacturing the same |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018145482A1 (zh) * | 2017-02-10 | 2018-08-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板及其制作方法、显示装置、基板 |
CN108415195A (zh) * | 2017-02-10 | 2018-08-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板及其制作方法、显示装置 |
US11237435B2 (en) | 2017-02-10 | 2022-02-01 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Display panel, manufacturing method thereof, display device, and substrate |
CN111768700A (zh) * | 2020-06-22 | 2020-10-13 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及显示装置 |
CN111768700B (zh) * | 2020-06-22 | 2021-10-08 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及显示装置 |
US11974471B2 (en) | 2020-06-22 | 2024-04-30 | Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. | Display panel having a gate driving device and source driving device on different substrates |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6661904B2 (ja) | 2020-03-11 |
KR20170004883A (ko) | 2017-01-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3787839B2 (ja) | デバイスの製造方法、デバイス及び電子機器 | |
JP5771377B2 (ja) | 表示装置の製造方法 | |
US20100265439A1 (en) | Color filter and method for manufacturing color filter | |
KR102003269B1 (ko) | 광학 필터의 제조 방법 및 광학 필터를 구비하는 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 | |
US20100053512A1 (en) | Electro-optical device, color filter substrate and electronic apparatus | |
WO2022241661A1 (zh) | 显示基板及其制备方法和显示装置 | |
JP2006337980A (ja) | 液晶表示装置用カラーフィルタ基板及びその製造方法 | |
KR20090049131A (ko) | 어레이 기판, 이의 제조방법 및 이를 갖는 표시패널 | |
US20110140117A1 (en) | Display substrate and method of manufacturing the same | |
KR100856015B1 (ko) | 액정 표시 장치 및 전자 기기 | |
US20110234956A1 (en) | Display panel substrate and display panel | |
US20090195735A1 (en) | Active Array Substrate, Liquid Crystal Display Panel, and Manufacturing Method Thereof | |
JP2002341332A (ja) | カラーフィルター及びこれを用いた液晶表示装置 | |
JP6271180B2 (ja) | アレイ基板、表示パネル及びその製造方法 | |
JP6661904B2 (ja) | 表示装置、および表示装置の製造方法 | |
JP2006276327A (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
JP2010191283A (ja) | アクティブ素子基板の製造方法、アクティブ素子基板、アクティブ型表示装置 | |
JP2001066408A (ja) | カラーフィルタおよびその製造方法、電気光学装置、電子機器 | |
JP2006330031A (ja) | 液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器 | |
US20200012137A1 (en) | Substrate for display device, display device, and method of producing substrate for display device | |
JP2016138992A (ja) | 液晶表示素子および感放射線性樹脂組成物 | |
US9229285B2 (en) | Method of manufacturing a display device | |
JP2014174432A (ja) | 液晶表示パネルの製造方法 | |
JP6384308B2 (ja) | 液晶表示素子および感放射線性樹脂組成物 | |
JP2007108610A (ja) | カラーフィルター及びそれを用いた液晶表示装置とその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180111 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180919 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181030 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181218 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190514 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190527 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191029 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191128 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200114 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200127 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6661904 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |