JPWO2006030743A1 - 試料中のプロトン性溶媒量を局所的に測定する方法、装置 - Google Patents

試料中のプロトン性溶媒量を局所的に測定する方法、装置 Download PDF

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Abstract

RF発振器102から発信した励起用高周波RFは、パルス制御部108による制御に基づいて変調器104にて変調され、パルス形状となる。生成されたRFパルスはRF増幅器106により増幅された後、小型RFコイル114へ送出される。小型RFコイル114は、このRFパルスを試料載置台116上に載置される試料の特定箇所に印加するとともに、RFパルスのエコー信号を検出する。エコー信号は、プリアンプ112により増幅された後、位相検波器110へ送出される。位相検波器110は、このエコー信号を検波し、A/D変換器118を経て演算部130へ送出する。演算部130は、エコー信号の強度から、T2緩和時定数を算出し、算出した前記T2緩和時定数から、試料中の特定箇所における前記水分量を算出する。

Description

本発明は、試料中のプロトン性溶媒量を局所的に測定する方法、装置に関するものである。
従来、1H−NMRにより緩和時定数を測定し、これを材料開発に利用する試みがなされている。特許文献1は、そのような技術の一例である。
特許文献1には、紙おむつ等に用いる吸水性樹脂の設計にあたり、1H−NMR横緩和時定数を含むパラメータを用いることが開示されている。ここでは、1H−NMR横緩和時定数は、樹脂の分子鎖の運動性に関連するパラメータとされ、横緩和時間が短いほど、高分子鎖がからみあい、架橋されている程度が大きいとされている。
同文献では、CPMG(Carr-Purcell-Meiboom-Gill)法により横緩和時定数を求めている。
特開2001−106728号公報
しかしながら、こうしたNMRの測定結果を物質中のプロトン性溶媒量の測定に応用する技術、特に、物質中の特定箇所のプロトン性溶媒量(例えば、水分量)を局所的に測定する技術については、ほとんど開発例がなかった。
ここで、物質中に存在する水分子(プロトン性溶媒)についてスピン緩和時定数を求めれば、水分量を算出することも可能と考えられる。また、傾斜磁場をかける手法を用いれば、局所的に水分量を測定することも原理的には可能である。しかし、傾斜磁場をかける手法では、100秒以上という長い測定時間を要することとなり、実用的でない。特に、物質中の特定箇所の水分量を局所的に測定し、その測定結果に基づいて当該物質に水分を補給する等、測定結果をフィードバックして制御に用いる方式を採用する場合、上記のように測定時間が長くなることは、大きな問題となる。
本発明は、上記事情に鑑みなされたものであって、NMRの測定結果を利用して物質中の特定箇所の局所的プロトン性溶媒量を比較的短時間で測定する技術を提供するものである。
本発明によれば、
核磁気共鳴法を用いて試料中の特定箇所のプロトン性溶媒量を局所的に測定する方法であって、
静磁場におかれた前記試料の特定箇所に対し、前記試料より小さい小型RFコイルを用いて、励起用振動磁場を複数回、順次印加するとともに前記励起用振動磁場に対応する複数のエコー信号を取得する第1ステップと、
前記複数のエコー信号の強度から、T緩和時定数を算出する第2ステップと、
前記試料中のプロトン性溶媒量とT緩和時定数との相関関係を示すデータを取得し、該データと第2ステップで算出された前記T緩和時定数とから、前記試料中の特定箇所における前記プロトン性溶媒量を求める第3ステップと、
を含むことを特徴とする測定方法
が提供される。
また本発明によれば、
核磁気共鳴法を用いて試料中の特定箇所のプロトン性溶媒量を局所的に測定する装置であって、
前記試料に対して静磁場を印加する静磁場印加部と、
前記試料に対し励起用振動磁場を印加するとともに、前記励起用振動磁場に対応するエコー信号を取得する、前記試料より小さい小型RFコイルと、
前記エコー信号の強度から、T緩和時定数を算出し、算出した前記T緩和時定数から、試料中の特定箇所における前記プロトン性溶媒量を算出する演算部と、
を備えることを特徴とする測定装置
が提供される。
本発明においては、小型RFコイルを用いて、(i)局所的に励起用振動磁場を印加するとともに、(ii)励起用振動磁場を印加した箇所から発せられるエコー信号を取得し、得られたエコー信号からT緩和時定数(横緩和時定数)を求め、これに基づいてプロトン性溶媒量、例えば、水分量を測定する。小型RFコイルにより測定対象となる部位を限定してパルスエコー法を適用しているため、局所的プロトン性溶媒量を短時間で測定することができる。
なお、本明細書において、「静磁場」は、エコー信号およびT緩和時定数の取得を安定的に行うことが可能な程度に時間的に安定な磁場であれば、完全に安定な磁場でなくてもよく、その範囲内で多少の変動があってもよい。
また、本明細書において、「エコー信号」は、励起用振動磁場に対応するとともにT緩和時定数の算出が可能なNMR信号として機能する信号であればよい。
さらに、本明細書において、プロトン性溶媒とは、自分自身で解離してプロトンを生じる溶媒をいう。プロトン性溶媒としては、たとえば、水;
メタノールおよびエタノール等のアルコール;
酢酸等のカルボン酸;
フェノール;
液体アンモニア;
が挙げられる。
このうち、プロトン性溶媒を水やアルコールとした場合には、本発明におけるプロトン性溶媒量をより、安定的に測定することができる。
励起用振動磁場は、
(a)90°パルス、および、
(b)(a)のパルスの時間τ経過後からはじまり、時間2τの間隔で印加されるn個の180°パルス
からなるパルスシーケンスとすることができる。こうすることにより、T緩和時定数を正確に求めることができる。
ここで、90°パルスが第1位相にあり、n個の前記180°パルスが、前記第1位相と90°ずれた第2位相にあるようにすることができる。実際の測定系においては、静磁場および励起用振動磁場の磁場不均一性が発生し、これがT緩和時定数の測定誤差の要因となることがある。上記構成のパルスシーケンスは、180°パルスとして上記第1位相と90°ずれた第2位相にあるものを用いているため、180°パルスを印加することで、核磁化が回転座標系において反転し、これにより、上記磁場不均一性に由来する測定誤差要因が解消される。第2位相180°パルスは、周期的に印加されるので、そのたびに測定誤差要因が解消されるので、正確なT緩和時定数を確実に得ることができる。
また、上記パルスシーケンスにくわえ、90°パルス(a)より時間τだけ前の時刻に、180°パルスを印加するステップを加えた別のシーケンスを実行するようにしてもよい。90°パルス(a)で取得したNMR信号の強度と、180°パルス(b)での時間τを適宜選んで取得したNMR信号の強度とを比較することで、小型RFコイルから照射する励起用振動磁場の強度が、正確に90°、180°に対応しているかを判断することができる。二つのパルスの強度が1対2の関係にあり、磁化ベクトルをそれぞれ90°および180°に励起することが測定値の確からしさと再現性を向上させる重要な要因となる。この結果、装置の異常または調整の未熟さにより二つのパルスの関係が不適切になった場合でも、測定を行う前の段階で異常を検知でき、測定値をより確からしいものとすることができる。
本発明において、前記小型RFコイルに前記励起用振動磁場を発生させるRF信号を生成するRF信号生成部と、
前記小型RFコイルにより取得されたエコー信号を検出するとともに、該エコー信号を前記演算部に送出するエコー信号検出部と、
前記小型RFコイル、前記RF信号生成部および前記エコー信号検出部を接続する分岐部に設けられ、前記小型RFコイルと前記RF信号生成部とが接続された状態と、前記小型RFコイルと前記エコー信号検出部とが接続された状態とを切り替えるスイッチ回路と、
をさらに備える構成とすることができる。
こうすることにより、小型RFコイルから試料に印加される励起用高周波パルス信号の損失を低減し、この結果、90°パルスおよび180°パルスのパルス角を正確に制御することが可能となる。
本発明において、複数の前記小型RFコイルを設け、試料の複数箇所に対し、励起用振動磁場を印加するとともに前記励起用振動磁場に対応するエコー信号を取得し、前記試料の複数箇所に対しT緩和時定数を算出し、前記T緩和時定数に基づいて、前記試料の前記複数箇所における水分量を求める構成としてもよい。
さらに、上記複数箇所における水分量を求めた後、前記試料の前記複数箇所における水分量に基づいて前記試料の水分量分布を提示する構成としてもよい。
かかる構成によれば、簡易な構成で多点同時測定が可能となる。複数の小型RFコイルの配置は任意であり、測定対象の形状等に応じてアレイ化することができる。
本発明の装置において、試料の種類毎に、試料中の水分量とT緩和時定数との相関関係を示す情報、たとえば検量線を保有する記憶部を備え、前記演算部は、前記記憶部から測定対象の試料に対応する前記情報を取得し、該情報に基づいて水分量を算出する構成としてもよい。
本発明において、試料は固体またはゲルからなるマトリクスを含むものとし、演算部は、マトリクス中に含まれる水分量を算出する構成とすることができる。
本発明において、試料は、たとえば水分を含有する膜、たとえば、燃料電池等に用いられる固体電解質膜(高分子膜)とすることができる。こうした膜の水分量を測定することにより、膜が持つ特性・性状や、膜が置かれた環境下での膜の状態を的確に把握でき、さらには、材料開発において目標とする膜の性能を定量的に掲げることが可能となる。
また、本発明において、試料は、水を含む液体とし、演算部は、液体中の水分量を算出する構成とすることもできる。
本発明によれば、小型コイルを用い、試料の特定箇所に対して局所的にマルチエコー法を適用する構成を採用しているため、試料中の特定箇所の局所的水分量を短時間で測定することができる。
さらに、本発明では、小型RFコイルは、平面型コイルであり、導線が右巻きに巻かれたコイル部と、導線が左巻きに巻かれたコイル部とを連結したものであることが好ましい。
このように、一対のコイル部を連結した平面型の小型RFコイル、いわゆる8の字コイルを使用することで、より正確に水分量を計測することが可能となる。
さらには、本発明の測定装置は、小型RFコイルおよび静磁場印加部を支持する支持体を有し、支持体は、スティック状であり、その先端部に前記小型RFコイルが取り付けられているものであってもよい。
このような構成によれば、使用者が支持体を把持し、その先端部を試料に接近させるだけで、測定を行うことができるので、測定装置の操作性を向上させることができる。
本発明に係る測定方法および測定装置は、試料中のプロトン性溶媒量、例えば、水分量を短時間で局所的に算出できる。このため、膜中の水分量測定、水分量分布測定等に適用できる。たとえば、水素供給型燃料電池における固体電解質膜(高分子膜)の水分量をリアルタイムで測定するシステム等、計測された水分量に基づいて燃料中の水分供給量を制御する技術等に好適に適用できる。
例えば、本発明によれば、高分子膜、この高分子膜を挟んで配置されたアノード電極、およびカソード電極を有する燃料電池と、
前記燃料電池に酸化ガスを供給するための酸化ガス供給部と、
前記燃料電池に燃料ガスを供給するための燃料ガス供給部と、
前記燃料ガス供給部から前記燃料電池に向かって排出される前記燃料ガスに対し、水蒸気を混合し、前記燃料ガスおよび水蒸気を前記燃料電池に供給する水蒸気混合部と、
前記高分子膜中の水分量を測定する上述したいずれかの測定装置と、
前記測定装置からの水分量の測定結果を取得し、この測定結果に基づいて、前記水蒸気混合部から供給される水蒸気量を調整するように、前記水蒸気混合部を制御する制御部とを備えることを特徴とする燃料電池システム
を提供することができる。
上述した目的、およびその他の目的、特徴および利点は、以下に述べる好適な実施の形態、およびそれに付随する以下の図面によってさらに明らかになる。
本実施形態に係る局所的水分測定方法の概要を示すフローチャートである。 (a)は、CPMG法におけるパルスシーケンスの一例を示す図であり、(b)は、エコー信号の一例を示す図である。 (a)〜(d)は、CPMG法の補償機能について説明するための図である。 スピンエコー法によりT緩和時定数を測定する原理を説明するための図である。 第一の実施形態に係る水分量測定装置の概略構成を示す図である。 小型RFコイルの一例を示す図である。 励起用高周波パルスの印加およびエコー信号の検出を行うLC回路の一例を示す図である。 第二の実施形態にかかる測定装置の概略構成を示す図である。 第二の実施形態に係る測定装置のスイッチ部の構成を示す図である。 第三の実施形態にかかる測定装置を詳細に説明するブロック図である。 第四の実施形態にかかる測定装置の要部を示す図である。 第四の実施形態にかかる測定装置の小型RFコイルを示す図である。 第五の実施形態にかかる燃料電池システムを示すブロック図である。 燃料電池の構造を示す図である。 参考例の加湿・昇温セルを示す模式図である。 加湿窒素ガスの水蒸気濃度と、T緩和時定数との関係を示す図である。 実施例1において、CPMG法を用いてマルチエコー信号を計測した結果を示す図である。 実施例1において、CPMG法を用いてマルチエコー信号を計測した結果を示す図である。 実施例2において、CPMG法を用いてマルチエコー信号を計測した結果を示す図である。 実施例2において、算出したT2(CPMG)の平均値、計測のばらつきを示す標準偏差、標準偏差を平均値で徐した変動係数を示す図である。 水分を含む高分子膜から算出されたT2緩和時定数を示す図である。 実施例4で算出したT2緩和時定数(CPMG)の結果の表を示す図である。 実施例5でのエコー信号の減衰曲線を示す図である。 実施例5でのエコー信号の減衰曲線を示す図である。 高分子膜中に含まれるメタノール量と、T緩和時定数との関係を示す図である。 単位体積あたりのメタノール量(mg/mm)と、T緩和時定数との関係を示す図である。 第六の実施形態にかかる出力部のブロック図である。 第六の実施形態にかかる表示部を示す図である。
本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。以下に述べる実施形態では、励起用振動磁場を、高周波パルスシーケンスとして与える例について説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
(測定原理)
はじめに、後述する各実施形態におけるプロトン性溶媒量の測定手順について、測定原理とともに説明する。
以下、測定対象となるプロトン性溶媒としては、水を例にあげて説明する。
図1は、本実施形態に係る局所的水分測定方法の概要を示すフローチャートである。はじめに、試料を磁石の配置された空間に置き、試料に静磁場を印加する(S102)。この状態で、試料に対して励起用高周波パルスを印加し、これに対応するエコー信号を取得する(S104)。次いで、このエコー信号からT緩和時定数を算定する(S106)。このT緩和時定数から、試料中の局所的水分量を測定する(S108)。具体的には、試料中の水分量とT緩和時定数との相関関係を示すデータを取得し、このデータと上記T緩和時定数とから、試料中の特定箇所における局所的な水分量を求める。その後、結果を出力する(S110)。以下、各ステップの詳細について説明する。
(i)ステップ104(励起用高周波パルスの印加およびエコー信号の取得)
ステップ104について、以下、詳細に説明する。ステップ104では、試料に対し励起用高周波パルスを印加するが、この励起用高周波パルスは、複数のパルスからなるパルスシーケンスとし、これに対応するエコー信号群を取得するようにすることが好ましい。こうすることにより、T緩和時定数を正確に求めることができる。パルスシーケンスは、以下の(a)、(b)からなるものとすることが好ましい。
(a)90°パルス、および、
(b)(a)のパルスの時間τ経過後からはじまり、時間2τの間隔で印加されるn個の180°パルス
緩和時定数と試料中の水分量との相関関係を明確に把握するためには、振動磁場の与え方を適切にすることが重要となる。上記のようなパターンとすることにより、T緩和時定数と試料中の水分量との相関関係を明確に把握することが可能となる。上記のパルスシーケンスを用いる方法によれば、90°励起パルスのτ時間後に、その2倍の励起パルス強度を持つ180°励起パルスを印加して、磁化ベクトルMの位相がxy平面(回転座標系)上で乱れていく途中でその位相の乱れを反転させ、2τ時間後には位相を収束させてT減衰曲線上にのるエコー信号を得ることができる。
ここで、90°パルスが第1位相にあり、n個の180°パルスが、第1位相と90°ずれた第2位相にあるパルスシーケンスとすれば、T緩和時定数と試料中の水分量との明確な相関関係を安定的に取得することができる。CPMG法は、このようなパルスシーケンスを与える方法の一例である。T緩和時定数の測定に用いるT緩和時定数の与え方として、Hahnエコー法が知られているが、水分量の測定にはCPMG法の方が適している。以下、CPMG法およびCPMG法とHahnエコー法の比較について説明する。
[CPMG法]
静磁場中に置かれた水素原子核は静磁場に沿った方向(便宜上、Z方向とする)に正味の磁化ベクトルを持ち、特定の周波数(これを共鳴周波数と呼ぶ)のRF波をZ軸に垂直なX軸方向で外部から照射することで磁化ベクトルはY軸の正方向に傾斜し、核磁気共鳴信号(NMR信号と呼ぶ)を観測することができる。この際、最大強度のNMR信号を取得するために照射されたX軸方向の励起パルスを90°パルスと呼ぶ。
通常のHahnエコー法では、磁化ベクトルを90°パルスによってY軸の正方向に傾斜させた後、さらにτ時間後にX軸方向に外部から180°励起パルス(90°パルスの2倍のエネルギを持つパルス)を照射して、磁化ベクトルをY軸の負方向に反転させる。この結果、2τ時間後に磁化ベクトルがY軸の負の方向上で収束し、大きな振幅を持つエコー信号が観測される。90°と180°パルスとの時間間隔τを順次変えて、エコー信号のピーク強度を指数関数でフィッティングすることで、Hahnエコー法によるT(横)緩和時定数を算出することができる。
一方、CPMG法では、図2(a)に示すようなパルスシーケンスを与え、図2(b)に示すようなエコー信号を得る。まず、磁化ベクトルを90°パルスによってY軸の正方向に傾斜させた後、τ時間後に「Y軸方向」に外部から180°励起パルス(Hahnに比べて、X軸とY軸が変る。この意味で、90°位相がずれた励起波形となる。)を照射して、磁化ベクトルを「Y軸を対称軸として」反転させる。この結果、2τ時間後には磁化ベクトルがY軸の「正の方向」上で収束し、大きな振幅を持つエコー信号が観測される。さらに、3τ時間後に磁化ベクトルに「Y軸方向」に外部から180°励起パルスを照射して、再度、Y軸の「正の方向」上で収束させて、4τ時間後に大きな振幅を持つエコー信号を観測する。さらに、同様の2τ間隔で、180°パルスを照射し続ける。この間、2τ,4τ,6τ,・・・の偶数番目のエコー信号のピーク強度を抽出し、指数関数でフィッティングすることで、CPMG法によるT(横)緩和時定数を算出することができる。
CPMG法では、上記のように磁化ベクトルを「Y軸を対称軸として」反転させるため、後述する補償機能が発現する。
[Hahnエコー法とCPMG法の相違]
Hahnエコー法とCPMG法は、以下の点で相違する、
(i)CPMG法では、180°励起パルスがY軸方向であり、収束するエコーはY軸の正方向のみとなる。Hahnエコーでは、Y軸の正から負方向へとエコー信号の収束が移動する。
(ii)CPMG法では、(a)静磁場の不均一性、(b)RFコイルが照射する励起パルス強度の不均一性があった場合でも、それを補償することができ、正確なT緩和時定数を計測できる。
(iii)CPMG法では、補償機能として、上記(a)、(b)を原因とした、不可逆な位相分散過程が生じないように、同一のY軸の正方向に常に位相を収束させるような180°励起パルスを用いている。
以下、上記(a)および(b)について補足する。
(a)静磁場の不均一性は以下の要因で生ずる。
・磁石自身が製造過程の都合上、完全な均一磁場にはない。
・被計測物である試料とそれを入れる容器や周囲空気が持つそれぞれの磁化率の相違により磁場の不均一性が生ずる。
・RFコイル、容器など、装置を構成する材料が持つ磁化率がそれぞれ異なるために磁場の不均一性が生ずる。
・地磁気、建物、床材などの装置が設置された周囲環境により磁場が歪められて、磁場の不均一性が生ずる。
・磁石が置かれた周囲環境の影響を受け、磁石温度が変動したり、温度分布が生ずるなどの時間的な変動や空間的な温度むらのために、磁場の不均一性が生ずる。
(b)RFコイルが照射する励起パルス強度の不均一性は以下の要因で生ずる。
・有限長のコイルでは、照射される励起パルス強度が位置によって異なる。例えば、コイルの中心では強く、端に行くほど弱くなる。これにより励起パルス強度の不均一性が生ずる。
・RFコイルの製作過程において、導線を均一間隔で対称に巻くことは困難であること、また、共振回路としてのコンデンサーに接続する配線部では必ず非対称になることから、励起パルス強度に不均一性が生ずる。
・照射するパルス強度は、上の二つの要因も受けて、完全には「90°」「180°」励起パルスに調整することは困難である。
[CPMG法の補償機能]
上述したCPMG法の補償機能について、図3を参照して説明する。なお、図で示される座標は、回転座標系である。試料の中に、静磁場の不均一性が無視できるような小さな領域の核磁化として、PとQを考える。Pにおける磁場がQにおける磁場より強いものとする。このとき、図3(a)に示すように、90°パルスをx’軸方向へ印加すると、P、Qの核磁化は、回転座標系で同じ場所(y’軸)から歳差運動を始め、時間の経過とともに、Pの位相がQの位相より進んだものとなる(図3(b))。そこで、90°パルスから時間τ経過した時点でy’軸方向に180°パルスを印加すると、P、Qの核磁化はy’軸の周りに180°回転し、パルスを印加する前とy’軸に関して対称な配置になる(図3(c))。この配置では、より進んだ位相をもっていた核磁化Pが、逆にQより遅れた位相をもつため、これからさらに時間τ経過した時刻では、どちらの核磁化も同時にy′軸に達することになる(図3(d))。このような関係は、試料の中のあらゆる領域の核磁化について成り立つため、すべての核磁化は、この時刻にy’軸に集まり、その結果、大きなNMR信号が得られる。
以上のように、CPMG法では、はじめにx’軸方向へ90°パルスを印加し、次いでy’軸方向に180°パルスを印加しているため、図3(c)で示したように、P、Qの核磁化はx’y’平面内で反転する。その後、一定周期毎にy’軸方向へ180°パルスが印加され、x’y’平面内における核磁化の反転が起こる。この核磁化の反転が起こるたびに、補償機能が良好に発現する。たとえば、(a)磁場の不均一性、(b)RFコイルが照射する励起パルス強度の不均一性等の原因により、P、Qの位置がx’y’平面上方または下方の位置にずれた場合でも、x’y’平面内で核磁化が反転することにより、ずれが補償される。CPMG法においてT緩和時定数と水分量との相関が明確に表れやすいのは、この補償機能によるものと推察される。
(ii)ステップ106(T緩和時定数の測定)
緩和時定数は、スピンエコー法を利用することにより的確に測定することができる(図4)。
共鳴励起された磁化ベクトルM−yは時間と共に緩和していく。この際に実際に観測される磁気共鳴信号の時間変化は、スピン−格子緩和時定数T、スピン−スピン緩和時定数Tのみでは表すことができない別の時定数のT により緩和していく。この様子が図4の最下段に信号強度の時間変化として90°励起パルスの直後から示されている。一般的に、この波線で示された実際に計測される磁気共鳴信号強度は急速に減衰し、その時定数T はTよりも短い。このT緩和による減衰曲線よりも実際に観測される減衰信号が速く減衰してしまう原因は静磁場マグネットの作る外部静磁場の不均一性、試料の磁気的性質や形状による試料内磁場の不均一性などにより試料の全体に渡って均一な磁場が確保されていないことによる。このような実際に計測される磁気共鳴信号の時間変化を自由誘導減衰と呼ぶ。
この試料や装置特性としての磁場の不均一性による位相のずれを補正する方法として「スピンエコー」がある。これは90°励起パルスのτ時間後に、その2倍の励起パルス強度を持つ180°励起パルスを印加して、磁化ベクトルMの位相がxy平面上で乱れていく途中でその位相の乱れを反転させ、2τ時間後には位相を収束させてT減衰曲線上にのるエコー信号を得るという手法である。これにより
・試料や装置特性としての磁場の不均一性の最小化
・信号強度の定量化(減衰曲線はT緩和時定数。装置には依存しない。)
などが可能となる。
スピンエコーを使用した際のエコー信号の強度SSEは、TR>>TEの場合には以下の式(A)で表される。
(数1)
ここで、ρは位置(x,y,z)の関数としての対象核種の密度分布、TRは90°励起パルスの繰り返し時間(100msから10s程度)、TEはエコー時間(2t、1msから100ms程度)、AはRFコイル検出感度やアンプ等の装置特性を表す定数である。
減衰曲線上にのるエコー信号群と、上記式(A)から、T緩和時定数を求めることができる。
詳細に説明すると、2τ間隔で、180°パルスを照射し続け、2τ,4τ,6τ,・・・の偶数番目のエコー信号のピーク強度を取得する。この複数のエコー信号のピーク強度は時間とともに、徐々に小さくなる。時間とともに減衰する複数のエコー信号の強度を、指数関数でフィッティングし、上記式(A)から、T緩和時定数を求めることができる。
(iii)ステップ108(水分量の測定)
ステップ108では、緩和時定数から水分量を算出する。試料中の水分量とT緩和時定数とは、正の相関を持つ。水分量の増加につれてT緩和時定数が増大する。この相関関係は、試料の種類や形態等により異なるので、あらかじめ、水分濃度がわかっている測定対象試料と同種の試料について検量線を作成しておくことが望ましい。すなわち、水分量が既知の複数の標準試料に対して水分量とT緩和時定数との関係を測定し、この関係を表す検量線をあらかじめ求めておくことが望ましい。このようにして作成した検量線を参照することで、T緩和時定数測定値から試料中の水分量を算出することができる。
以下、緩和時定数から水分量を求める方法と理論、および、CPMG法が水分量測定に適する理由について、詳細に説明する。
[T緩和時定数から水分量を求める方法と理論]
ナフィオン(登録商標)膜などの高分子材料には、分子鎖の形状によって水分子が入り込める程度の隙間がある。水分子は高分子に吸着しているものと、空間を自由に運動しているものとがあり、吸着し、運動が束縛された状態の水分子のT緩和時定数は短くなり、逆に、自由にランダムに運動できる水分子ではT緩和時定数は長くなる。
水を吸収することで膨潤する高分子材料の場合には、含有する水の増加と共に、隙間が大きくなる。したがって、含有水分を次第に増加させていくと、水は、まず高分子に吸着し、一通り吸着が高分子の全面に行き渡ったら、次に、隙間に水が溜まり始める。このため、乾燥した高分子材料では、高分子に吸着した水ばかりであるためにT緩和時定数は短く、水分含有量が多くなるに従って、空間を満たす自由な水が増えて、T緩和時定数が長くなる。
試料全体のT緩和時定数は、最も単純な式で表した場合には、以下の式で表される。
1/T(全体)=(吸着した水の量)/(吸着した水のT’)+(自由な水の量)/(自由な水のT’’)・・・(1)
観測者はこのT(全体)を計測することになる。空間を満たす自由な水が増えるとT(全体)が大きくなることから、T(全体)の測定結果より高分子中の水の量を求めることが可能となる。
[CPMG法が水分量測定に適する理由]
(1)式においては、吸着した水と自由な水とに分類して項を分けたが、さらに詳細にみると、局所的な静磁場不均一性を感じている水と、均一な静磁場を感じている水とがある。このことを考慮すると、上記(1)式は以下のようになる。
1/T(全体)=x/T2(a1)+y/T2(a2)+z/T2(b1)+w/T2(b2) ・・・式(2)
x:吸着した水であって局所的な静磁場不均一性を感じている水の量
y:吸着した水であって均一な静磁場を感じている水の量
z:自由な水であって局所的な静磁場不均一性を感じている水の量
w:自由な水であって均一な静磁場を感じている水の量
2(a1):吸着した水であって局所的な静磁場不均一性を感じている水の緩和時定数
2(a2):吸着した水であって均一な静磁場を感じている水の緩和時定数
2(b1):自由な水であって局所的な静磁場不均一性を感じている水の緩和時定数
2(b2):自由な水であって均一な静磁場を感じている水の緩和時定数
不均一な磁場ができる理由は、水と高分子膜では磁化率が異なるために、バルクな水での静磁場と、高分子内での静磁場が異なるために、同じ静磁場を印加したとしても、バルクな水を通過する磁場強度と、高分子内を通過する磁場強度が異なり、結果として、界面で磁場のひずみが生ずることに因る。
上述のように、高分子中の水は、それぞれ様々な状態にあり、「静磁場が均一な場所と不均一な場所」という静磁場の視点で見た分類と、「水分子が高分子内の空隙の広い領域にいるのか、それとも壁面に吸着しているのか」という高分子内での水の状態の視点で見た分類の両面から考える必要がある。
上記式(2)において、x/T2(a1)およびz/T2(b1)の項が存在するため、補償機能の有無に起因する緩和時定数の測定精度の差異が生じると考えられる。
エコーにより磁化ベクトルが収束するまでの間に、分子の拡散による移動により磁場が均一から不均一へ、不均一から均一へと変化したとき、スピンに不可逆過程が生じ、Hahnエコーではもはやエコーが同じ状態には収束しなくなる。一方、CPMGではそのような均一と不均一間でのやり取りがあったとしても、エコーが同じ状態に戻ることができるという補償機能を有している。不可逆な位相分散過程が生じないように、同一のY軸の正方向に常に位相を収束させるような180°励起パルスを用いているためである。CPMG法は、このような補償機能を有するため、x/T2(a1)およびz/T2(b1)の項の値を正確に見積もることができるものと考えられ、この結果、Hahnエコー法に比べてT緩和時定数と水分量との相関を正確に算定できるものと考えられる。
次に、図1のフローチャートにより示した局所的水分測定方法を実現する装置の例について説明する。
(第一の実施形態)
図5は、本実施形態に係る水分量測定装置1Aの概略構成を示す図である。この測定装置1Aは、試料中の特定箇所の水分量を局所的に測定するものであり、試料115を載置する試料載置台116、試料115に対して静磁場を印加する磁石113(静磁場印加部)、試料115の特定箇所に設けられた小型RFコイル114、および、小型RFコイル114により取得されたエコー信号に基づいて水分量を算出する演算部130を備える。
試料載置台116は、試料115を載置する台であり、所定の形状、材質のものを用いることができる。
試料115は、測定対象となる試料である。試料115は、膜、塊状物質等の固体、液体、寒天、ゼリー状物質等のゲル等、種々の形態のものとすることができる。膜状物質の場合、局所的水分量の測定結果が安定的に得られる。特に、固体電解質膜等のように、膜中に水分を保持する性質の膜を試料とした場合、測定結果が一層、安定的に得られる。
磁石113は、試料115に対して静磁場を印加する。この静磁場が印加された状態で励起用高周波パルスが試料に印加され、T緩和時定数の測定がなされる。
小型RFコイル114は、試料115の特定箇所に対し、励起用振動磁場を印加するとともに、励起用振動磁場に対応するエコー信号を取得する。
小型RFコイル114は、試料全体の大きさの1/2以下とすることが好ましく、1/10以下とすることがより好ましい。このようなサイズとすることにより、試料中の局所的水分量を短時間で正確に測定することが可能となる。なお、試料の大きさとは、たとえば、試料を載置したときの投影面積とすることができ、小型RFコイル114の専有面積を、上記投影面積の好ましくは1/2以下、より好ましくは、1/10以下とすることで、短時間で正確な測定が可能となる。小型RFコイル114の大きさは、たとえば、直径10mm以下とすることが好ましい。
小型RFコイル114は、たとえば図6に示すようなものを用いることができる。図示したような平面型コイルを用いることで、計測領域を限定し、局所的な測定を行うことができる。このような渦巻き型のコイルの計測領域は幅がコイルの直径程度、深さがコイル半径程度である。また、このコイルは、通常のソレノイド型コイルと異なり、平面状であるために、図6右側の図に示すように、平面状の試料の上に貼り付けるだけで、NMR信号を取得することができる。上記の例では平面型の渦巻き型コイルを用いたが、これに限られず種々の形態のものを用いることができる。たとえば、平面型の8の字コイル等も利用可能である。8の字コイルは、右巻きおよび左巻きの2つの渦巻き型のコイル部を含むものである。また、渦巻き型コイルは巻いたコイルの軸方向に感度を有するのに対し、8の字コイルは巻いた2つの渦巻き型のコイル部の面と平行な方向の磁場変動を検出することができる。
小型RFコイル114は、単数でも複数でもよい。複数とすれば、試料115中の水分量分布を測定することが可能となる。この場合、試料115の表面に沿って2次元的に配置すれば、試料表面における2次元水分量分布を求めることができる。また、試料115中に3次元的に配置すれば、試料中における3次元水分量分布を求めることができる。
小型RFコイル114により印加される振動磁場(励起用振動磁場)は、RF発振器102、変調器104、RF増幅器106、パルス制御部108および小型RFコイル114の連携により生成される。すなわち、RF発振器102から発信した励起用高周波RFは、パルス制御部108による制御に基づいて変調器104にて変調され、パルス形状となる。生成されたRFパルスはRF増幅器106により増幅された後、小型RFコイル114へ送出される。小型RFコイル114は、このRFパルスを試料載置台116上に載置される試料の特定箇所に印加する。そして、印加されたRFパルスのエコー信号を小型RFコイル114が検出する。このエコー信号は、プリアンプ112により増幅された後、位相検波器110へ送出される。位相検波器110は、このエコー信号を検波し、A/D変換器118へ送出する。A/D変換器118はエコー信号をA/D変換した後、演算部130へ送出する。
以上、励起用高周波パルスの印加およびエコー信号の検出について述べたが、これらは、小型コイルを含むLC回路により実現することができる。図7は、このようなLC回路の一例を示す図である。共振回路のコイル部(インダクタンス部)は、前述したように小型RFコイルとしている。核磁気共鳴(NMR)法は、磁場中に置かれた原子核のスピン共鳴現象により核磁化の運動をNMR信号として検出することで原子数密度とスピン緩和時定数を計測することができる。1Teslaの磁場中でのスピン共鳴周波数は約43MHz(この周波数帯をRadio frequencyと呼ぶ)であり、その周波数帯を高感度に選択的に検出するために、図7に示すようなLC共振回路が用いられる。
小型RFコイル114が試料115に印加する励起用高周波パルスは、たとえば、
(a)90°パルス、および、
(b)(a)のパルスの時間τ経過後からはじまり、時間2τの間隔で印加されるn個の180°パルス
からなるパルスシーケンスとすることができる。T緩和時定数と試料中の水分量との相関関係を明確に把握するためには、振動磁場の与え方を適切にすることが重要となる。上記のようなパターンとすることにより、T緩和時定数と試料中の水分量との相関関係が明確に把握することが可能となる。
ここで、90°パルスが第1位相にあり、n個の180°パルスが、第1位相と90°ずれた第2位相にあるパルスシーケンスとすれば、T緩和時定数と試料中の水分量との明確な相関関係を安定的に取得することができる。
なお、小型RFコイル114を用いる場合、上記(a)および(b)の励起パルス強度の調整が困難となる場合がある。たとえば、測定対象の領域、つまり小型RFコイル114で囲まれた領域のうち、中央部と周縁部とで励起のされかたに差異が生じてしまい、全体を均一の励起角度となるように、つまり(a)および(b)における励起磁場の強度比が一定となるように励起することが困難となる場合がある。(a)および(b)における励起角度比がばらつくと、正確なT2測定が困難となる。
そこで、このような場合には、パルス制御部108が、上記パルスシーケンスにくわえ、90°パルス(a)より時間τだけ前の時刻に、180°パルスを印加するステップを加えた別のシーケンスを実行するようにする。そして、これら2つのシーケンスに対応する180°パルス(b)の減衰曲線の挙動を比較することにより、90°パルス(a)および180°パルス(b)の励起パルス強度が正確であるか否かを判別できる。この結果、装置の異常等により励起パルス強度がずれた場合でも、測定を行う前の段階で異常を検知でき、測定値をより正確なものとすることができる。
以上、試料周辺の装置構成について説明した。つづいて、エコー信号の処理ブロックについて説明する。
演算部130は、エコー信号の強度から、T緩和時定数を算出し、算出した前記T緩和時定数から、試料中の特定箇所における前記水分量を算出する。
演算部130の内部では、まず、データ受付部120によりエコー信号が取得され、次いで、緩和時定数算出部122によるT緩和時定数が算出される。
緩和時定数が算出されると、そのデータは水分量算出部124へ送出される。水分量算出部124は、検量線テーブル(記憶部)126にアクセスし、試料に対応する検量線データを取得する。検量線テーブル126には、試料の種類毎に、試料中の水分量とT緩和時定数との相関関係を示す検量線データが格納されている。
水分量算出部124は、取得された検量線データと、上記のようにして算出されたT緩和時定数とを用い、試料中の水分量を算出する。算出された水分量は、出力部132によりユーザに提示される。提示の型式は様々な態様が可能であり、ディスプレイ上の表示、プリンタ出力、ファイル出力等、特に制限はない。
本実施形態では、試料内部、試料表面または試料近傍に小型RFコイル114を複数個配置している。これにより、試料の複数箇所に対して、励起用振動磁場の印加およびこれに対応するエコー信号の取得を行うことができるように構成されている。水分量分布算定部128は、試料中の複数箇所における水分量に基づき、試料中の水分量分布を算出する。出力部132は、この水分量分布を出力する。
上記装置において、励起用高周波パルスは、CPMG法によるものを用いることが好ましい。こうすることにより、T緩和時定数と試料中の水分量との明確な相関関係を安定的に取得することができる。
(第二の実施形態)
本実施形態は、水分量測定装置の他の例に関する。図8は、本実施形態の水分量測定装置の構成を示す図である。
図8に示した測定装置1Bの基本構成は第一の実施形態(図5)に示した測定装置1Aと同様であるが、さらに、スイッチ部161を有する点が異なる。
スイッチ部161は、小型RFコイル114、RF信号生成部およびエコー信号検出部を接続する分岐部に設けられている。
RF信号生成部は、RF発振器102、変調器104およびRF増幅器106からなり、小型RFコイル114に励起用振動磁場を発生させるRF信号を生成する。エコー信号検出部は、プリアンプ112、位相検波器110およびA/D変換器118から構成され、小型RFコイル114により取得されたエコー信号を検出するとともに、エコー信号を演算部130に送出する。
スイッチ部161は、
小型RFコイル114とRF信号生成部(RF増幅器106)とが接続された第1状態、および、
小型RFコイル114とエコー信号検出部(位相検波器110)とが接続された第2状態
とを切り替える機能を有する。
スイッチ部161は、このような「送受信切り替えスイッチ」の役目を果たす。この役目は、RF power−ampで増幅された励起パルスを小型RFコイル114に伝送する際には、受信系のプリアンプ112を切り離して大電圧から保護し、励起後にNMR信号を受信する際には、RF増幅器106から漏れてくる増幅用大型トランジスタが発するノイズを受信系のプリアンプ112に伝送しないように遮断することである。小型RFコイル114を用いて計測する場合には、微弱な信号を取り扱うため、以下の理由でスイッチ部161が必要となる。一方、小型RFコイル114を用いない大型計測システムでは、「クロスダイオード」を用いれば充分に対処ができる。なお、クロスダイオードは、所定値以上の電圧が印加された際にオン状態となり、所定値未満の場合にはオフ状態となるダイオードである。
小型RFコイル114を用いる場合に特に「送受信切り替えスイッチ」すなわちスイッチ部161が必要な理由は以下の通りである。
(i)本計測システムの小型コイルで検出できる試料体積は、大型コイルに比べて小さくなる。この検出可能な試料体積は、おおよそ、(コイルの内側面積×コイル半径の深さ)である。体積に比例して減少する微弱なNMR信号を、低ノイズ、高感度で計測するためには、送信系において、RF増幅器106の増幅用大型トランジスタから漏れてくるノイズを遮断することが必要となる。また、受信系では高感度のプリアンプ112を使用する必要がある。高感度のプリアンプ112の使用に当たっては、送信時に小型コイルに送られる大電圧の励起パルスからプリアンプ112を保護できるように、プリアンプ112を切断しなければならない。
(ii)試料体積内の核磁化を励起する際に、適切な励起パルスパワーで、具体的には、90度パルスと180度パルスの強度が1:2となるように、核磁化を励起する必要がある。励起パルスパワーの調整を適切に行うことができないと、目標としているCPMG法のパルス系列とはならず、計測されるT2(CPMG)値の信頼性が低下するため、データがばらつく。この現象は、従来のクロスダイオードを用いて、小型コイルの送受信切り替えを行う際には顕著に現れる。大型コイルでは、励起パルス強度が非常に大きく、クロスダイオードでの損失が無視できるほど小さいとみなせるが、小型コイルの場合には、励起パルス強度が大型コイルのそれよりも小さいために、クロスダイオードでの損失が無視できない。このため、適切な励起パルス強度とするためには損失が極力少ない「送受信切り替えスイッチ」が必要となる。
上記分岐部にスイッチ部161を設けることにより、小型RFコイル114から試料115に印加される励起用高周波パルス信号の損失を低減し、この結果、90°パルスおよび180°パルスのパルス角を正確に制御することが可能となる。パルス角の正確な制御は、パルスエコー法における補償効果を確実に得る上で重要な技術的課題であり、本実施形態では、かかる課題をスイッチ部161の配設により解決している。
また、局所計測のためのRF検出コイルは微小化し、NMR受信時の低ノイズ化が、計測の確からしさを確実なものとするためには重要な因子となる。NMR信号を受信する際に、プリアンプ112に入り込むノイズには、RF波の送信系が主にあり、励起用パルスを増幅するRF増幅器106からの「RF波の漏れ」や「大電力増幅器が発するノイズ」がある。NMR信号の受信時には、送信側から漏れてくる励起波をスイッチ部161で確実に遮断し、低ノイズでNMR信号を受信する必要がある。本実施形態では、かかる課題についても、スイッチ部161の配設により解決している。
スイッチ部161は、種々の構成を採用することができる。図9はスイッチ部161の構成の一例を示す回路図である。
(第三の実施形態)
本実施形態は、以上の実施形態に記載の水分量測定装置1A,1Bの水分量算出部124における水分算出方法の別の例に関する。図10は、本実施形態の水分量算出部124および検量線テーブル126の構成を示す図である。
図10に示すように、水分量算出部124は、試料中の水分量を算出する計算部173、および計算部173で算出された値を、小型RFコイル114の大きさに応じて補正する補正部175を有する。検量線テーブル126は、補正部175における補正に関する補正パラメータまたは補正式が記憶された補正パラメータ記憶部177を有する。
計算部173においては、小型RFコイル114で検出されたエコー信号からT緩和時定数が算出されるが、本実施形態においては、励起磁場を印加する小型RFコイル114が小型であるため、大型のソレノイドコイル等を用いた測定の場合と測定値がずれる場合がある。
このような場合には、補正部175において、必要に応じて水分量の値を補正することができる。補正パラメータ記憶部177には、小型RFコイル114の大きさに応じた補正パラメータおよび補正方法が記憶されており、補正部175は、補正パラメータ記憶部177からこれらの情報を取得して補正を行う。
小型RFコイル114を用いた場合、基本的には、試料よりも大きいRFコイルを用いたときと同等の測定値が得られるが、後述する実施例に示されるように、RFコイルを小型化した場合、試料の励起のされ方に差異が生じやすいため、一般的に、磁場の不均一性やSN比の低下等、測定値の誤差をもたらす要因が発生する。これに対し、小型RFコイルの配置やスイッチ部を設ける構成の採用等により、上記要因を排除し、RFコイルのサイズが測定値に与える影響を低減することが可能である。
しかしながら、小型RFコイル114を極小化した場合には、RFコイルのサイズが測定値に与える影響が現れる場合がある。この影響について本発明者らが検討した結果、小型RFコイル114で得られた測定値に所定の定数を用いて換算することで、正確な値が得られることが明らかになった。換算は、所定の定数を乗算する、あるいは所定の定数を加算するという態様があり、試料の性質等に応じて選択される。測定対象となる試料を用いた予備実験により、上記定数をあらかじめ求めておくことで、サイズの影響のない正確な測定値を得ることができる。
なお、小型RFコイル114を極小化した際に、測定値に影響を与える場合がある理由は、以下の通りである。
大型円筒状コイルの場合には、コイルの内部に試料を挿入することで、励起用振動磁場は試料全体に照射され、磁化を均一にまたはほぼ均一に励起することが可能である。大型円筒型コイルについては、もともと均一に照射できるようにコイルが設計・製造されている。
一方、小型RFコイル114の場合には、試料よりもコイルが小さいために、試料全体を均一には励起できない。コイルの中心付近が最も強く振動磁場を受け、それから遠ざかるにつれて、振動磁場による励起パルス強度は弱くなる。
この不均一な励起によって放出されるNMR信号には、さまざまな励起角度を持つ磁化が混在し、磁化の位相も同一にはそろわない場合がある。このため、それらの総和としてコイルで受信されるNMR信号は、均一励起の場合とは異なる様子となりえる。均一励起の場合とは異なる様子としては、たとえば、左右対称なきれいな山型のエコーピークではなかったり、その最大強度位置が時間的に前後にずれたりする様子が挙げられる。
このような「不均一励起パルスから放出されるNMR信号」からCPMG法によりT2(CMPG)を算出すると、結果として、均一励起の大型コイルとは異なる値となる場合がある。
(第四の実施形態)
本実施形態の測定装置2では、図11に示すように、磁石(静磁場印加部)213と、小型RFコイル214とが支持体201に取り付けられている。他の点は、前記各実施形態と同様である。
磁石213は、前記各実施形態の測定装置1A,1Bの磁石113よりも小さい小型の磁石である。前記各実施形態では、磁石113により、試料115全体に静磁場を印加していたが、本実施形態では、磁石213を使用することにより、試料115の特定箇所に静磁場を印加することとなる。
支持体201はスティック状の筐体である。
この支持体201の先端部の端面の中央には、突起部201Aが形成されている。
支持体201の内部には、磁石213が収納されている。磁石213からの静磁場Hは、支持体201の中心軸と同じ方向となっている。
この場合には、支持体201の中心軸と垂直方向に励起用振動磁場Hが加えられる必要があり、図12にも示すように、2個の渦巻き状(リング状)のコイル部214Aを連結した、いわゆる「8の字型」または、「バタフライ型」の小型RFコイル214が使用される。
一対のコイル部214Aは、静磁場方向と略直交する方向にそって配置されており、一方のコイル部214Aは、導線が右巻きに巻かれたものであり、他方のコイル部214Aは、導線が左巻きにまかれたものである。
このような小型RFコイル214は、支持体201の先端部の端面に形成された突起部201Aの表面に固定されている。
このような構成においては、静磁場H方向と小型RFコイル214の励起用振動磁場Hの方向とは直交するので、NMR信号を受信できる。
このような測定装置2を用いる場合には、支持体201の先端に取り付けられた小型RFコイル214を、試料に接触させればよい。
本実施形態では、支持体201に静磁場Hを印加する小型の磁石213を取り付けているため、前記各実施形態で示したような大型の磁石113が不要となり、測定装置2の小型化を図ることができる。
さらに、支持体201は、スティック状であるため、使用者が支持体201を把持し、その先端部を試料に接触させるだけで、測定を行うことができるので、測定装置の操作性を向上させることができる。
(第五の実施形態)
図13,14を参照して、第五の実施形態について説明する。
本実施形態は、第一の実施形態の測定装置1Aを備えた燃料電池システム3に関する。
図13に示すように、燃料電池システム3は、測定装置1Aと、燃料電池31と、燃料電池31に酸化ガス(酸素や空気等)を供給する酸化ガス供給部32と、燃料電池31に燃料ガス(水素ガス等)を供給する燃料ガス供給部33と、酸化ガス供給部32から燃料電池31に向かって供給される酸化ガスおよび、燃料ガス供給部33から燃料電池31に向かって供給される燃料ガスに水蒸気を混合する水蒸気混合部34,35と、制御部36とを有する。
燃料電池31は、図14に示すように、高分子膜(試料)115と、この高分子膜115の両側に設けられた触媒層311A,311Bと、多孔質の拡散層312A,312Bと、セパレータ313A,313Bとを有する。
触媒層311Aと、拡散層312Aとで、アノード電極314が構成され、触媒層311Bと拡散層312Bとで、カソード電極315が構成される。
セパレータ313Aには、燃料ガスが供給され、燃料ガスの流路となる溝が形成されている。
また、セパレータ313Bには、酸化ガスが供給され、酸化ガスの流路となる溝が形成されている
酸化ガス供給部32は、燃料電池31に対して酸化ガスを供給するためのものであり、燃料ガス供給部33は、燃料電池31に対して燃料ガスを供給するためのものである。
酸化ガス供給部32と燃料電池31との間には、水蒸気混合部34が設けられている。水蒸気混合部34では、水蒸気を発生させ、酸化ガス供給部32から燃料電池31に向かって供給される酸化ガスに水蒸気を混合する。このようにして水蒸気と混合された酸化ガスが、燃料電池31に供給される。
同様に、燃料ガス供給部33と、燃料電池31との間にも、水蒸気混合部35が設けられている。この水蒸気混合部35では、水蒸気を発生させ、燃料ガス供給部33から燃料電池31に向かって供給される燃料ガスに水蒸気を混合している。水蒸気と混合した燃料ガスは、燃料電池31に送られる。
このように、水蒸気を酸化ガス、燃料ガスに混合することで燃料電池31の高分子膜115を湿潤させている。
燃料電池31の高分子膜115中の水分量の測定を行う場合には、前記測定装置1Aの複数の小型RFコイル114を高分子膜115の表面に接触させる。これにより、高分子膜115中の水分量の測定を行うことができる。
制御部36は測定装置1Aおよび水蒸気混合部34,35に接続されている。
制御部36では、測定装置1Aからの水分量の測定結果および、水分量の分布を取得し、この測定結果に基づいて、水蒸気混合部34,35で生成され、燃料電池31に供給される水蒸気量を調整するように、水蒸気混合部34,35を制御する。
例えば、燃料電池31の発電を行っている場合には、アノード電極314側で発生した水素イオンの移動に伴い、高分子膜115中の水分がアノード電極314側からカソード電極315側に移動する。
また、カソード電極315側での水素イオンと酸素ガスとの反応により水が生成する。そのため、高分子膜115中、特にカソード電極315側の水分量が過剰となることがある。水分量が過剰となると、セパレータ313Bの流路内に水が凝集し、酸化ガスの流れを妨げることとなり、発電効率が下がる可能性がある。
一方で、高分子膜115に充分な水蒸気が供給されず、高分子膜115が乾燥している状態になると、プロトン伝導性が低下し、燃料電池31の発電効率が低下する。従って、高分子膜115が乾燥状態となり、プロトン伝導性が低下することは好ましくない。
そこで、制御部36では、測定装置1Aから水分量の分布を取得するとともに、取得した分布における水分量の値が所定の範囲内にあるかどうか、すなわち、高分子膜115が適度な湿潤状態となっているかどうか判断する。所定の範囲を超えると判断した場合には、制御部36は、水蒸気混合部34,35に対し、生成する水蒸気量を減らすように要求する。
一方、測定装置1Aから取得した水分量の分布における水分量の値が所定の範囲外であり、水分量が少ないと判断した場合には、制御部36は、水蒸気混合部34,35に対し、生成する水蒸気量を増やすように要求し、高分子膜115の乾燥を防止する。
このような燃料電池システム3では、測定装置1Aにより、高分子膜115中の水分量を測定し、高分子膜115中の水分量を適度なものに調整することができる。これにより、燃料電池31の発電効率を高めることができる。
また、高分子膜115のアノード電極314側の表面、カソード電極315側の表面それぞれに、小型RFコイル114を当接させて、アノード電極314側の表面近傍、カソード電極315側の表面近傍の水分量をそれぞれ把握し、各電極314,315表面近傍の水分量と、発電効率との関係を把握することもできる。
これにより、アノード電極314側、或いは、カソード電極315側のどちらからの側の水蒸気の供給が、発電効率に有効であるかどうかを把握することも可能である。
さらに、本実施形態の燃料電池システム3は、燃料電池31が長時間運転された際に生じる発電効率の低下の原因を探るための有用なデータを「高分子膜の含水量」という視点から提供することができる。
なお、本実施形態では、制御部36により、水蒸気混合部34,35双方の水蒸気生成量、および燃料電池31への水蒸気供給量を調整したが、これに限らず、例えば、水蒸気混合部35の水蒸気生成量および燃料電池31への水蒸気供給量のみを調整してもよい。
さらに、本実施形態では、燃料電池システム3は、測定装置1Aを備えるものとしたが、これに限らず、前記各実施形態、さらには、後述する第六実施形態の測定装置の何れもを備えるものとすることもできる。
(第六の実施形態)
図27,28を参照して、本実施形態について説明する。
本実施形態は、前記各実施形態の水分量測定装置1A,1B,2の出力部の別の例を示す。
出力部132は、水分量算出部124で算出した、複数の小型RFコイル114(図28には、小型RFコイル114を図示するが、小型RFコイル214でもよい)の測定領域毎の水分量を取得する測定データ取得部132Aと、取得した水分量を同一画面の区画された領域に表示する表示部132Bとを有する。
表示部132Bでは、図28に示すように、小型RFコイル114の配置位置に応じて、画面が複数の領域に区画されている。各領域は、各小型RFコイル114の測定領域の水分量に応じて、所定の色が表示される。
このように、表示部132Bの各領域に各小型RFコイル114の測定領域の水分量に応じた色を表示することで、各小型RFコイル114での計測位置と、水分量との関係を直感的に把握することができる。
これにより、使用者にとって使い勝手のよい測定装置とすることができる。
(参考例)
本参考例では、高分子膜(試料)のT緩和時定数が水分含有量に対して強い依存性を持つことについての確認を行った。
[装置構成]
第一の実施形態で説明した構成の測定装置の小型RFコイルを、標準的なソレノイドコイル(以下、標準コイルという)にかえて計測を行った。
標準コイルの直径は25mm、長さは38mmであり、測定対象となる高分子膜よりも充分に大きい。
このような標準コイルでは内部に挿入された試料(高分子膜)の核磁化を均一に励起でき、計測の信頼性が高い。
[試料]
試料として、膜厚500μm、寸法15mm×15mmの高分子膜(旭硝子株式会社製)を用いた。
80℃に保持した3%過酸化水素水に、前記高分子膜を入れ、1時間攪拌した。その後、1N塩酸、イオン交換水の順に、前記高分子膜を入れ、各溶液において、1時間攪拌した(標準化処理)。
その後、室温の蒸留水に高分子膜を浸し、保管した。
[高分子膜の加湿、昇温]
高分子膜を75℃に昇温し、所定の水蒸気濃度雰囲気中で加湿するために、図15に示す加湿・昇温セル4を製作した。
高分子膜を75℃としたのは、高分子膜を燃料電池に使用することを想定したからである。燃料電池は60〜70℃で運転される。
図15に示す加湿・昇温セル4中では、高分子膜は、セル中に配置される上部部材41と、下部部材42との間に挟まれて配置される。
また、上部部材41と、下部部材42とに挟まれた高分子膜の表面上には加湿窒素ガスが流れる流路が形成されている。流路は、高分子膜表面上の12.2mm×12.0mmの領域内に形成されており、この領域内に9本設けられている。
各流路の幅と、深さは1.0mmであり、流路のピッチは1.4mmである。
加湿窒素ガス流量は50ml/minである。
加湿窒素ガスは、以下のようにして製造され、加湿・昇温セル4に導入される。
まず、窒素ガスを室温の第一のバブラーで洗浄した後、温調された第二のバブラーにおいて、細孔径10μmの多孔質ガラス板から窒素ガスを噴出させた。これにより、所定の水蒸気濃度の加湿窒素ガスが生成されることとなる。
加湿後の加湿窒素ガスが凝縮しないように、加湿窒素ガスが通過する全ての配管を77℃にして、加湿窒素ガスを加湿・昇温セル4に導入した。
加湿・昇温セル4の温調は、セル内に75℃の液体を流すことで行い、高分子膜は加湿・昇温セル4の温度と等しいとした。
このようにして加湿・昇温セル4中に所定の水蒸気濃度の加湿窒素ガスを導入し、4時間以上、定常状態を保った。これにより、所定の水分量の高分子膜を得た。
[高分子膜の水分含有量測定]
加湿・昇温セル4を流れる加湿窒素ガスの水蒸気濃度を変え、各水蒸気濃度において、前記標準コイルを用い、T緩和時定数を計測した結果を図16に示す。図16には、CPMG法とHahnエコー法のそれぞれを用いて測定した結果が示されている。
なお、CPMG法によるT緩和時定数(CPMG)のばらつきは、18ms〜26msであった。
また、水蒸気濃度の誤差および変動は、バブラー温度の変動が主な要因である。バブラーの温度変動は−0.5℃〜+0.5℃であり、これに対応する水蒸気濃度の変動は−2%〜+2%と算出される。
図16に示すように、水蒸気濃度が増加するにつれてほぼ比例的
にCPMG法によるT緩和時定数(CPMG)が増加することが分かる。これにより、水蒸気濃度の増加が高分子膜の含水量を増加させ、高分子膜内を自由に運動できる水分子が増加していると考えられる。
従って、CPMG法によるT緩和時定数(CPMG)を計測することで、高分子膜中の含水量を算出することができるといえる。
一方、Hahnエコー法により、T緩和時定数(Hahn)を計測した場合には、Hahnエコー法によるT緩和時定数(Hahn)は、水蒸気濃度に依存せず、略一定となってしまうことがわかる。
(実施例1)
核磁気共鳴(NMR)法を元に、(i)小型RFコイルを用いた局所計測と、(ii)高分子膜のT緩和時定数が水分含有量に対して強い依存性を持つことを利用して、高分子膜の水分含有量を局所・短時間・高感度での計測が可能となる。以下、実施例に基づいて説明する。
[装置構成]
第一の実施形態で説明した構成の測定装置を用い、試料中の水分量を局所的に測定した。この装置では、小型RFコイルを用い、CPMG法を用いてマルチエコー信号を計測した。
[試料]
試料として、膜厚500μm、寸法16mm×16mmのフレミオン(登録商標)膜を用いた。
[予備実験]
はじめに、小型RFコイルにより適切にNMR信号が取得できることを示すために、CPMG法を用いてマルチエコー信号を計測した。ここでは、直径1.1mmの小型RFコイルを用い、試料としては純粋を使用した。結果を図2に示す。これにより、小型RFコイルが90°−180°励起パルスを適切に照射し、純水試料のT緩和時定数がソレノイドコイルと同等に計測できていることが分かる。
[高分子膜の水分含有量測定]
上記装置を用い、高分子膜の水分含有量を変化させ、CPMG法とHahnエコー法のそれぞれを用いてT緩和時定数を計測した結果を図17に示す。横軸の水蒸気濃度は、高分子膜の周囲の水蒸気濃度を示しており、膜はその水蒸気濃度に平衡な水分含有量を有する。すなわち、横軸は、高分子膜の水分含有量と見なしてよい。この図から、膜の水分含有量の増加に従って、CPMG法によるT緩和時定数は長くなるが、Hahnエコー法によるT緩和時定数は一定であることが分かる。
通常のNMR計測では、Hahnエコー法を用いてエコー信号を取得し、信号強度を画像化させているために、T緩和時定数(Hahnエコー)が膜の水分含有量には依存せず、水分分布に高濃度と低濃度の領域があったとしても、T緩和時定数(Hahnエコー)によるコントラストの相違ができず、単純に水分含有量に比例する。このために、Hahnエコー法による計測は水分含有量に対して鈍感な計測法となる。
これに対し、CPMG法では、水分含有量と共にT緩和時定数(CPMG)は長くなり、水分含有量が高濃度の領域と低濃度領域ではT緩和時定数(CPMG)の明確な差が生ずる。このため、CPMG法によりT緩和時定数を計測することで、水分含有量が算出できる。また、CPMG法で画像計測を行えば、水分含有量とT緩和時定数(CPMG)の両方の増大効果で、コントラストが増強されて計測できる。
以上のように本実施例で用いた装置、方法によれば、NMR信号を振幅とT緩和時定数の両面から水分含有量を算出することができ、CPMG法を用いマルチエコーを取得することで、高感度で高分子膜内の水分含有量を計測することができる。CPMG法の計測時間は1秒以下であり、この方法による水分含有量の計測時間は1秒以下に短縮される。
(実施例2)
本実施例では、小型表面コイルを用いた場合に、標準コイルと同等のT2(CPMG)が計測できることを検証した。時間的に安定した試料の硫酸銅水溶液を用いてT2(CPMG)計測を行った。
まず、濃度が異なる硫酸銅水溶液を用いてT2(CPMG)計測を行った。試料は、濃度が0、2.5、5.0mmol/lの硫酸銅水溶液とした。それらの濃度の相違によってT2緩和時定数は異なる。
試料は容器(内側寸法15mm×15mm×隙間0.5mm、肉厚0.12mm)内に封入した。小型表面コイルは試料容器中央に貼り付けられ、コイルと水溶液の距離は30μm厚のポリイミドフィルムを含んで0.15mmである。また、比較のため、試料よりも充分に大きく、高周波磁場照射の均一性が良い直径25mm、長さ38mmのソレノイドコイルを標準的なソレノイドコイル(標準コイル)として用いた。
図18は、測定結果を示す図である。ここでは、標準コイルによる計測結果も、小型コイルとの比較のために図18中に併記した。
また、T2緩和時定数の異なる試料として、蒸留水と1.2mmol/lの硫酸銅水溶液を用いた。試料は高分子膜と同じ形状の容器(内側寸法15mm×15mm×隙間0.5mm、肉厚0.12mm)内に封入した。小型表面コイルは試料容器中央に貼り付けられ、コイルと水溶液の距離は30μm厚のポリイミドフィルムを含んで0.15mmである。また、標準コイルとは、試料よりも充分に大きく、高周波磁場照射の均一性が良い直径25mm、長さ38mmのソレノイドコイルのことで、それは従来から用いられている標準的なソレノイドコイルである。
コイル直径が緩和時定数の計測精度に与える影響を調べるために、直径0.8mm、2.0mmの二つの小型表面コイルを用いて硫酸銅水溶液のT2(CPMG)を計測した。その結果を図19と、図20に示す。
図20には、上から順に、10〜20回計測して算出したT2(CPMG)の平均値、標準コイルでのT2(CPMG)の平均値を基準とした場合の比率(括弧内の数値)、計測のばらつきを示す標準偏差、標準偏差を平均値で徐した変動係数を示した。
図19の横軸は、同一試料、同一条件の下、標準コイルで計測したT2(CPMG)であり、図中の細かい破線が標準コイルと同じT2(CPMG)となった場合を表す。エラーバーは、10〜20回計測して算出したT2(CPMG)のばらつきを示す標準偏差(図20の標準偏差)である。
これらの図より、直径2.0mmのコイルでは標準コイルと同じT2(CPMG)となり、直径2.0mmのコイルにおける変動係数は、0.11〜0.13であった。
これに対し、直径0.8mmのコイルでは、T2(CPMG)の平均値が、標準コイルのT2(CPMG)に比べ、1.32〜1.54倍に長くなった。また、直径0.8mmのコイルの変動係数は0.14〜0.16であり、直径2.0mmのコイルの変動係数に比べて増加した。
また図19および図20より、小型コイルで計測した際のT2(CPMG)は、標準コイルで計測したT2(CPMG)よりも長くなる場合がある。その場合、予め標準試料を用いて、その増加分を較正する必要がある。図20より、その手法は、硫酸銅濃度によらず、一定の較正値を用いて行うことができる。具体的には、CPMG法によりT2(CPMG)を算出した後に、コイル形状、巻き数などの幾何学特性により予め用意されたテーブルからT2(CPMG)の増分を引き出し、求められたT2(CPMG)から一定値だけ引くか、一定割合だけ除算するかによって補正を行い、較正する。
また、コイルの小型化はNMR信号を低下させ、T2(CPMG)のばらつきを増加させる。前述したように、直径0.8mmでの変動係数は0.14〜0.16であり、直径2.0mmのコイルの変動係数に比べて増加した。
直径0.8mmでのT2(CPMG)が長くなる理由として、コイル直径に比べて銅線径が無視できない程に太く、励起パルス強度分布が測定領域内で不均一となり、180度励起パルス後の自由誘導減衰波形とエコーが干渉したために、見かけ上、T2(CPMG)が長くなったものと推察される。
(実施例4)
本実施例では、小型表面コイルおよび標準コイルを用いて、高分子膜からのT緩和時定数をCPMG法により、計測した。
ここでは、参考例と同様の高分子膜を使用した。
また、小型表面コイルとしては、直径が0.8mmのものと、直径が2.0mmのものとを使用した。各小型表面コイルは、それぞれ直径50μmのポリウレタン皮膜付導線を渦巻き状に3.5回巻いた後、形状を保つように30μm厚の粘着性ポリイミドフィルムで挟み込んだものである。
参考例と同様の方法で高分子膜に標準化処理を施し、その後、室温の蒸留水に浸して保管した。
この高分子膜を乾燥したティッシュペーパに10秒間、3回押し付けて、高分子膜表面の水分を取った。
そして、この高分子膜を二枚のカバーガラス(寸法18mm×18mm×肉厚0.12mm)に挟み、乾燥しないように周囲をポリイミ
ドフィルムで密閉した。小型表面コイルはポリイミドフィルムの中央に貼り付けられ、コイルと水溶液の距離は30μm厚のポリイミドフィルムを含んで0.15mmであった。
また、計測時の高分子膜の温度は、23℃であった。
図21に、測定結果を示す。図21の数値は、各コイルにおいて10回測定したT2緩和時定数(CPMG)の平均値であり、括弧内の数字は標準コイルでのT2緩和時定数(CPMG)の平均値を基準とした場合の比率を表す。さらに、図中のエラーバーは計測値の標準偏差を示す。
図21から、直径2.0mmの小型表面コイルでは標準コイルとほぼ同等のT2緩和時定数(CPMG)の値が計測されていることがわかる。また、直径0.8mmの小型表面コイルでは、実施例2での硫酸銅水溶液での計測結果と同様に、T2緩和時定数(CPMG)の値が増加している。直径0.8mmの小型表面コイルで計測したT2緩和時定数の平均値は、標準コイルでのT2緩和時定数(CPMG)の平均値を基準とした場合、1.20倍となる。
計測のばらつきは、直径2.0mmの小型表面コイルでは標準偏差が47ms、変動係数が0.047であり、直径0.8mmの小型表面コイルでは標準偏差が340ms、変動係数が0.31であった。
実施例2に比べて、直径0.8mmの小型表面コイルでの計測のばらつきが大きくなった理由としては、高分子膜からのエコー信号の強度が小さく、信号対雑音比が大きく低下していることが考えられる。
また、標準コイルでのT2緩和時定数(CPMG)に対する直径0.8mmの小型表面コイルでのT2緩和時定数(CPMG)の比率が、実施例2に比べて減少していることがわかる。
実施例3でも延べたが、標準コイルでのT2緩和時定数(CPMG)に対する、小型表面コイルでのT2緩和時定数(CPMG)の比率は、小型表面コイルの直径や、幾何形状による励起強度分布の不均一性に主に依存し、同一形状の小型表面コイルであれば前記比率は、一定になると考えられる。
そのため、この比率を小型表面コイルの直径や、小型表面コイルの幾何形状による補正因子と見なして、小型表面コイルでのT2緩和時定数(CPMG)の値をこれで除すれば、標準コイルでの計測値に換算できる。
(実施例4)
本実施例では、第二の実施形態に記載の装置(図8)において、複数の小型表面コイルを用い、複数チャンネル計測システムによって試料を測定し、大型ソレノイドコイルと同等なT2(CPMG)値が計測できることを検証した。
図8における小型RFコイル114は、直径50μmの銅線を外径2.0mmで3.5回巻いて製作した。本例では、2個のコイルを用い、それぞれを同一試料上に配置した。以下、二つの小型RFコイル114の一方に接続されるチャンネルを第1チャンネルと呼び、他方を第2チャンネルと呼ぶ。
試料として、薄い濃度の硫酸銅水溶液を用いた。厚さ0.5mmのアクリル板(18mm×18mm)の中心に穴(15mm×15mm)を開け、その両側に0.12mm厚のカバーガラス(18mm×18mm)を貼り付けて、隙間0.5mmの試料容器を製作した。硫酸銅水溶液はその容器内に密閉した。
二つのコイルは、その試料容器のカバーガラスの上に約5mmの間隔をあけて貼り付けられ、さらにアクリル板でコイルを押さえつけて固定した。各コイルには、それぞれ、共鳴周波数(43.5MHz)で共振するLC共振回路を接続した。
試料、二組のコイルおよび共振回路は、コイルホルダーの中で固定され、磁石中心部に入れられる。コイルホルダーは0.05mm厚の銅箔が内部に張られており、中心部にある二組のコイルを含む共振回路に外部ノイズが入り込むことを防いでいる。
コイルホルダーは磁石(1Tesla、45mmエアーギャップ永久磁石)の中に配置され、各チャンネルの信号線は「送受信切り替えスイッチ」(スイッチ部161)と「増幅器」に接続される。これらはチャンネル数に合わせて二組用いた。
本実施例では、検波後のNMR信号をPCへ転送するための「AD変換ボード」を1台とした。このため、すべてのチャンネルのNMR信号を足し合わせて出力がなされ、それを1台のAD変換ボードで受け取る構成とした。なお、AD変換ボードが複数枚あり、それらを制御できるソフトウェアがあれば、AD変換ボードはそれぞれのNMR信号を独立に取得し、NMR信号からT2(CPMG)値をチャンネルごとに算出することができる。
さらに、「AD変換ボード」を1台とすると、同時に二つのチャンネルからNMR信号を受信しようとすると、これらの信号が混ざり合う場合がある。そこで、本実施例では、各チャンネルでの計測を行うタイミングをずらすことで、チャンネル間の信号を分離した。具体的には、0秒から1秒までは第1チャンネルでのCPMG計測を行い、それが終了した後の1秒から2秒で第2チャンネルでのCPMG計測を行った。
計測ソフトウェアで表示されたNMR信号を確認したところ、第1チャンネル、第2チャンネルともにほぼ同じ程度の減衰定数でNMR信号が小さくなることが分かった。
本実施例では、一つの容器の中に密閉された同一の硫酸銅水溶液を2つの小型RFコイルを用い2チャンネルで計測した。したがって、それぞれのチャンネルで計測されたT2(CPMG)値は同一の値になるはずである。
図22は、取得されたNMR信号の減衰定数を算出した結果の表を示す図である。図22より、2組の小型表面コイルを用いて同一試料のT2(CPMG)を計測した結果、ほぼ同一の値を得ることができた。これより、本システムを用いれば、複数コイルを用いて試料のT2(CPMG)分布を計測することができると言え、アレイ化の実証ができた。
(実施例5)
本実施例では、前記第一の実施形態に記載の測定装置を使用し、高分子膜中のメタノール量の測定を行った。
[試料]
本実施例では、メタノールの含有量の異なる以下の2種類の高分子膜の測定を行った。
・メタノール含有量30mgの高分子膜
・メタノール含有量115mgの高分子膜
なお、高分子膜としては、乾燥状態における膜厚500μm、乾燥状態における寸法11mm×11mmの高分子膜(旭硝子株式会社製、商品名フレミオン)を用いた。
以下に試料の調整方法について述べる。
[メタノール含有量115mgの高分子膜の調整方法]
まず、充分にドライヤーで乾燥させた高分子膜を用意した。そして、乾燥時の高分子膜の重量を測定した(ここでは、90mgであった)。
次に、この高分子膜をメタノールに浸し、1ヶ月以上放置した。
メタノールに浸した前記高分子膜の重量を測定し、この重量から乾燥時の高分子膜の質量をひき、これを高分子膜に含まれるメタノール量とした。ここでは、メタノール量は115mgであった。
なお、メタノール含有量115mgの高分子膜は、膨潤しており、厚さ0.6mmであり、平面における寸法が約16mm×約16mmとなっていた。
[メタノール含有量30mgの高分子膜の調整方法]
充分にドライヤーで乾燥させた高分子膜を用意した。そして、乾燥時の高分子膜の重量を測定した(ここでは、90mgであった)。
一方、メタノールに浸した高分子膜をドライヤーで適度に乾燥させて、高分子膜に含まれるメタノール量を調整した。
その後、高分子膜の重量を測定し、この重量から乾燥時の高分子膜の質量をひき、これを高分子膜に含まれるメタノール量とした。ここでは、メタノール量は30mgであった。
なお、メタノール含有量30mgの高分子膜は、厚さ0.5mmであり、平面における寸法が約11mm×約11mmとなっていた。
[装置構成]
第一の実施形態に記載の測定装置を用いた。
測定装置の小型表面コイルとしては、直径2.0mm、3.5回巻きのものを使用した。
[測定方法]
CPMG法を用い、偶数番目のエコー信号の強度を取得し、この強度の減衰から、T緩和時定数(CPMG)を算出した。
ここで、測定を行う際には、高分子膜を2枚のカバーガラス(厚さ0.12mm)によりはさみ、その周囲をポリイミドフィルムで密閉した。これにより、高分子膜からのメタノールの蒸発を防止することができる。
高分子膜中のメタノール量を測定する際には、小型コイルをカバーガラスに当接させた。
メタノール含有量30mgの高分子膜からのエコー信号の一例を図23に示す。
そして、図23に示したエコー信号の減衰曲線からT緩和時定数(CPMG)を算出した。
なお、ここでは、図23に示すようなエコー信号の取得を5回行い、T緩和時定数(CPMG)の算出を5回行った。T2緩和時定数(CPMG)の平均値は428.5msであり、その標準偏差は88.3msであった。
次に、メタノール含有量115mgの高分子膜のT緩和時定数(CPMG)の測定を行った。
図24に、メタノール含有量115mgの高分子膜からのエコー信号の一例を示す。
次に、図24に示したエコー信号の減衰曲線からT緩和時定数(CPMG)を算出した。
なお、本実施例では、メタノール含有量115mgの高分子膜からのT緩和時定数(CPMG)の取得を6回行った。T緩和時定数(CPMG)の平均値は1715.9msであり、その標準偏差は359.1msであった。
図25に、高分子膜中に含まれるメタノール量と、T2緩和時定数との関係を示す。
また、高分子膜のメタノールの含有による膨潤を考慮し、図26には、単位体積あたりのメタノール量(mg/mm)と、T2緩和時定数との関係を示す。
メタノール含有量と共にT緩和時定数(CPMG)は長くなり、メタノール含有量が高濃度の領域と低濃度領域ではT緩和時定数(CPMG)に明確な差が生ずる。
これにより、CPMG法によりT緩和時定数を計測することで、メタノール含有量が算出できることがわかる。
本実施例に係る装置、方法により得られる利点を以下に列挙する。
第一に、高分子膜に貼り付けた小型RFコイルにより、そのコイル直径程度の局所領域の膜内水分含有量が計測できる。
第二に、水分含有量の計測時間が1秒以内に短縮できる。本実施例では、渦巻き型の小型RFコイルを用い、CPMG法によりT緩和時定数を計測するため、コイル直径程度の局所領域の水分含有量を高感度でかつ1秒程度の短時間で計測することができる。本実施例では、直径0.8mm、2.0mmの小型RFコイルを示したが、この直径をより小さくすることで、微小領域での高分子膜内の水分含有量の計測が可能となる。
第三に、高分子膜が持つ水分含有量に依存したT緩和時定数(CPMG)の変化を利用しているため、従来にない高感度の計測が可能となる。
第四に、高精度で水分含有量を短時間に計測できることを利用して、膜の水分含有量を監視し、適切な水分含有量になるように膜を湿潤させる水蒸気、または水の供給量を制御することが可能となる。
第五に、小型RFコイルを高分子膜の厚さよりも小型化することで、表面近傍のみの膜内水分含有量の計測が可能となる。
第六に、高分子膜の厚さよりも小型のRFコイルを高分子膜の燃料側と酸化剤側の両側に貼り付けることで、膜の両側の水分含有量の監視ができ、どちらの側から水蒸気加湿することがより有効かが分かり、より適切な膜の水分含有量の制御が可能となる。
以上、図面を参照して本発明の好ましい実施形態および実施例について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
なお、以上の実施形態および実施例においては、励起用振動磁場を、高周波パルスシーケンスとして与える例について説明したが、励起用振動磁場はこれに限られるものではない。たとえば、エコー信号群等のNMR信号群を取得できるものであればこれ以外の態様を採用することもできる。
また、図5の装置構成において、試料載置台116を省略してもよい。試料115がある製品の構成部材である場合、その製品中に小型RFコイル114を配置することにより、当該構成部材の水分量を局所的に算出することができる。
さらに、前記実施形態、実施例においては、高分子膜中のプロトン性溶媒量を測定したが、これに限らず、例えば、フォトレジスト膜中に残存する溶媒(プロトン性溶媒)の量を測定してもよい。
一般に、フォトレジスト膜を被塗布面に形成した後、100℃〜200℃で加熱され、適度に乾燥される。このようにフォトレジスト膜を適度に乾燥することで、露光工程での必要とされるフォトレジスト膜の機械的強度を付与することができる。
ここで、フォトレジスト膜をソフトベークする際には、レジスト中の溶媒を完全に乾燥させず、露光時の化学反応が適切に行われるよう、溶媒を一定量、フォトレジスト膜中に残存させることが好ましい。本発明の測定装置により、フォトレジスト膜中に残存する溶媒量を把握することで、所望の溶媒量を有するフォトレジスト膜を得ることが可能となる。
さらに、前記各実施形態では、検量線テーブル126には、試料の種類毎に、試料中の水分量とT緩和時定数との相関関係を示す検量線データが格納されているとしたが、これに限られるものではない。
例えば、検量線テーブル126に、試料中に含まれるプロトン性溶媒の種類毎のプロトン性溶媒量と、T緩和時定数との相関関係を示す情報(検量線)が格納されていてもよい。
ユーザが、測定装置を使用する際に、測定対象となるプロトン性溶媒を特定するための情報(プロトン性溶媒の種類)を入力する。測定装置のデータ受付部120では、この情報を受付、水分量算出部124に送出する。
水分量算出部124において、プロトン性溶媒量を算出する際には、受け付けたプロトン性溶媒の種類に応じた検量線を検量線テーブル126から取得し、試料中のプロトン性溶媒量を算出する。

Claims (25)

  1. 核磁気共鳴法を用いて試料中の特定箇所のプロトン性溶媒量を局所的に測定する方法であって、
    静磁場におかれた前記試料の特定箇所に対し、前記試料より小さい小型RFコイルを用いて、励起用振動磁場を複数回、順次印加するとともに前記励起用振動磁場に対応する複数のエコー信号を取得する第1ステップと、
    前記複数のエコー信号の強度から、T緩和時定数を算出する第2ステップと、
    前記試料中のプロトン性溶媒量とT緩和時定数との相関関係を示すデータを取得し、該データと第2ステップで算出された前記T緩和時定数とから、前記試料中の特定箇所における前記プロトン性溶媒量を求める第3ステップと、
    を含むことを特徴とする測定方法。
  2. 前記プロトン性溶媒は、水であることを特徴とする請求項1に記載の測定方法。
  3. 前記小型RFコイルとして、平面型コイルを用いることを特徴とする請求項2に記載の測定方法。
  4. 前記第1ステップにおいて、所定のパルスシーケンスで前記励起用振動磁場を印加することを特徴とする請求項2に記載の測定方法。
  5. 前記第1ステップにおいて、
    (a)90°パルス、および、
    (b)(a)のパルスの時間τ経過後からはじまり、時間2τの間隔で印加されるn個の180°パルス
    からなるパルスシーケンスで、前記励起用振動磁場を印加することを特徴とする請求項4に記載の測定方法。
  6. 前記90°パルスが第1位相にあり、
    n個の前記180°パルスが、前記第1位相と90°ずれた第2位相にある
    ことを特徴とする請求項5に記載の測定方法。
  7. 前記第1ステップおよび前記第3ステップにおける前記パルスシーケンスは、前記90°パルスより時間τだけ前の時刻に印加される180°パルスを含むことを特徴とする請求項5に記載の測定方法。
  8. 前記第1ステップにおいて、複数の前記小型RFコイルを用い、前記試料の複数箇所に対し、励起用振動磁場を印加するとともに、前記励起用振動磁場に対応するエコー信号を取得し、
    前記第2ステップにおいて、前記試料の複数箇所に対しT緩和時定数を算出し、
    前記第3ステップにおいて、前記T緩和時定数に基づいて、前記試料の前記複数箇所における水分量を求める、
    ことを特徴とする請求項2に記載の測定方法。
  9. 前記第3ステップの後、前記試料の前記複数箇所における水分量に基づいて前記試料の水分量分布を提示する第4ステップをさらに含むことを特徴とする請求項8に記載の測定方法。
  10. 前記試料が水分を含有する膜であることを特徴とする請求項2に記載の測定方法。
  11. 核磁気共鳴法を用いて試料中の特定箇所のプロトン性溶媒量を局所的に測定する装置であって、
    前記試料に対して静磁場を印加する静磁場印加部と、
    前記試料に対し励起用振動磁場を印加するとともに、前記励起用振動磁場に対応するエコー信号を取得する、前記試料より小さい小型RFコイルと、
    前記エコー信号の強度から、T緩和時定数を算出し、算出した前記T緩和時定数から、試料中の特定箇所における前記プロトン性溶媒量を算出する演算部と、
    を備えることを特徴とする測定装置。
  12. 前記プロトン性溶媒は、水であることを特徴とする請求項11に記載の測定装置。
  13. 前記小型RFコイルは、平面型コイルであることを特徴とする請求項12に記載の測定装置。
  14. 前記小型RFコイルは、平面型コイルであり、
    導線が右巻きに巻かれたコイル部と、導線が左巻きにまかれたコイル部とを連結したものであることを特徴とする請求項11に記載の測定装置。
  15. 前記小型RFコイルおよび
    前記静磁場印加部を支持する支持体を有し、
    前記支持体は、スティック状であり、その先端部に前記小型RFコイルが取り付けられていることを特徴とする請求項11に記載の測定装置。
  16. 試料の種類毎に、試料中の水分量とT緩和時定数との相関関係を示す情報を保有する記憶部をさらに備え、
    前記演算部は、前記記憶部から測定対象の試料に対応する前記情報を取得し、該情報に基づいて水分量を算出することを特徴とする請求項12に記載の測定装置。
  17. 前記小型RFコイルは、所定のパルスシーケンスで前記励起用振動磁場を印加することを特徴とする請求項12に記載の測定装置。
  18. 前記小型RFコイルは、
    (a)90°パルス、および、
    (b)(a)のパルスの時間τ経過後からはじまり、時間2τの間隔で印加されるn個の180°パルス
    からなるパルスシーケンスで、前記励起用振動磁場を印加することを特徴とする請求項17に記載の測定装置。
  19. 前記90°パルスが第1位相にあり、
    n個の前記180°パルスが、前記第1位相と90°ずれた第2位相にある
    ことを特徴とする請求項18に記載の測定装置。
  20. 前記パルスシーケンスは、前記90°パルスより時間τだけ前の時刻に印加される180°パルスを含むことを特徴とする請求項18に記載の測定装置。
  21. 前記小型RFコイルを複数備え、該複数の小型RFコイルは、前記試料の複数箇所に対し、励起用振動磁場を印加するとともに、前記励起用振動磁場に対応するエコー信号を取得し、
    前記演算部は、前記試料の前記複数箇所における水分量を算出する、
    ように構成されていることを特徴とする請求項12に記載の測定装置。
  22. 前記試料の水分量分布を提示する出力部をさらに備え、
    前記演算部は、前記試料の前記複数箇所における水分量に基づいて前記試料の水分量分布を算出し、
    前記出力部は、前記演算部により算出された前記水分量分布を提示する
    ことを特徴とする請求項21に記載の測定装置。
  23. 前記演算部が、
    前記エコー信号の強度から水分量計算値を計算する計算部と、
    前記水分量計算値に対し、前記小型RFコイルのサイズに応じた補正を施し、前記水分量を算出する補正部と、
    を含むことを特徴とする請求項12に記載の測定装置。
  24. 前記小型RFコイルに前記励起用振動磁場を発生させるRF信号を生成するRF信号生成部と、
    前記小型RFコイルにより取得されたエコー信号を検出するとともに、該エコー信号を前記演算部に送出するエコー信号検出部と、
    前記小型RFコイル、前記RF信号生成部および前記エコー信号検出部を接続する分岐部に設けられ、前記小型RFコイルと前記RF信号生成部とが接続された状態と、前記小型RFコイルと前記エコー信号検出部とが接続された状態とを切り替えるスイッチ回路と、
    をさらに備えることを特徴とする請求項12に記載の測定装置。
  25. 請求項11に記載の測定装置において、
    前記小型RFコイルを複数備えるとともに、前記試料のプロトン性溶媒量分布を提示する出力部をさらに備え、
    該複数の小型RFコイルは、前記試料の複数箇所に対し、励起用振動磁場を印加するとともに、前記励起用振動磁場に対応するエコー信号を取得し、
    前記演算部は、前記試料の前記複数箇所におけるプロトン性溶媒量を算出し、
    前記出力部は、前記演算部で算出した前記試料の前記複数箇所毎のプロトン性溶媒量を取得する測定データ取得部と、
    前記測定データ取得部で取得したプロトン性溶媒量を、一画面の区画された領域に表示する表示部とを有することを特徴とする測定装置。

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