JPWO2005100354A1 - ピラゾール縮合環誘導体の製造方法 - Google Patents

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Abstract

本発明の目的は、ピラゾール縮合環誘導体(7−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン誘導体など)の合成において有用な中間体およびその製造方法を見出すことにある。下記式(I)で表わされる化合物(I)(式中、Z1およびZ2は、それぞれ独立してメチン基または窒素原子を意味する。R1はエチル基などを意味する。R5は水素原子などを意味する。R2およびR3はそれぞれ独立して、C1−6アルキル基などを意味する。)と有機金属試薬とを反応させた後、ペンタフルオロヨードベンゼンを反応させることを特徴とする、下記式(II)で表わされる化合物(II)(式中、Z1、Z2、R5、R1、R2およびR3は前記のZ1、Z2、R5、R1、R2およびR3とそれぞれ同意義である。)もしくはその塩またはそれらの溶媒和物の製造方法。【化1】

Description

本発明は、副腎皮質刺激ホルモン放出因子(Corticotropin−releasing−factor:CRF)受容体拮抗剤としてうつ病、不安病などの予防または治療に有用なピラゾール縮合環誘導体(7−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン誘導体など)の合成中間体として有用なピラゾール縮合環誘導体(ピラゾロ[1,5−a]ピリジン誘導体など)の製造方法およびピラゾール縮合環誘導体(7−ヨードピラゾロ[1,5−a]ピリジン誘導体など)もしくはその塩またはそれらの溶媒和物に関する。
CRF受容体拮抗作用を有し、うつ、不安病などの治療剤として期待される(1)7−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン誘導体およびその製造方法(特許文献1、特許文献2参照)、(2)7−フェニルピラゾロピリミジン誘導体およびその製造方法(特許文献3参照)、(3)7−フェニルピラゾロトリアジン誘導体およびその製造方法(特許文献4参照)について報告がある。
当該各文献記載のピラゾール縮合環誘導体(7−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン誘導体など)の製造方法中のハロゲン化反応の工程およびアミノ基導入反応の工程に関して、工業的生産に用いる場合の課題として次の点が挙げられる。
(1)ハロゲン化反応の工程において、反応後カラムクロマトグラフィーによる精製を用いている。
(2)ハロゲン化反応の工程において、ハロゲン化試薬として工業的な製造にあまり適していない1,2−ジヨードエタンを用いている。
(3)ハロゲン化反応の工程において、1,2−ジヨードエタンを用いたピラゾロ[1,5−a]ピリジン誘導体のヨウ素化反応では収率が60〜70%である例が多く、収率的に満足できるものではない(特許文献2参照)
(4)ピラゾール縮合環誘導体(ピラゾロ[1,5−a]ピリジン環など)へのアミノ基導入の工程において、ニトロ化反応の後の還元反応−アルキル化反応、またはカルボン酸誘導体からのCrutius反応を用いているが、これらの反応は収率が悪く反応工程も長い。またこれらの反応の中間体である3−アミノピラゾピリジン体は不安定であるため、工業的合成法の中間体として適していない。
上記の点を総合して、前記公報に記載の製造方法は工業的な製造方法として満足行くものではない。
7−ヨードピラゾロ[1,5−a]ピリジン誘導体である式
Figure 2005100354
で表わされる化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物は新規であり現在まで知られていない。
〔ヨウ素化反応について〕
ペンタフルオロヨードベンゼンは公知化合物であるが、ヨウ素化反応における試薬として用いた例はない。また、ピラゾール縮合環誘導体(ピラゾロ[1,5−a]ピリジン誘導体など)のヨウ素化反応では、上記のようにn−ブチルリチウムおよび1,2−ジヨードエタンを使った報告がある(特許文献1参照、特許文献2参照)。
〔二環へテロ芳香族化合物へのカップリング反応によるアミド化反応について〕
銅触媒を用いたアリールハライドをアミド化する反応に関してはBuchwald等が報告している(非特許文献1参照)。しかし、ピラゾロ[1,5−a]ピリジンなどの二環へテロ芳香族化合物へのカップリング反応によるアミド化反応は知られていない。
国際公開第02/088121号パンフレット 国際公開第03/078435号パンフレット 国際公開第00/59908号パンフレット 国際公開第00/59907号パンフレット J. Am. Chem. Soc., 7421-7428, 124, 2002
本発明の目的は、ピラゾール縮合環誘導体(前記7−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン誘導体など)の合成中間体として有用な、(1)ピラゾール縮合環誘導体(ピラゾロ[1,5−a]ピリジン誘導体など)の製造方法および(2)ピラゾール縮合環誘導体(7−ヨードピラゾロ[1,5−a]ピリジン誘導体など)もしくはその塩またはそれらの溶媒和物に関する。
本発明者らは、上記事情に鑑みて、鋭意検討を重ね、精力的に研究を行った結果、ピラゾール縮合環誘導体(前記7−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン誘導体など)の合成中間体として有用な、(1)ピラゾール縮合環誘導体(ピラゾロ[1,5−a]ピリジン誘導体など)の製造方法および(2)ピラゾール縮合環誘導体(7−ヨードピラゾロ[1,5−a]ピリジン誘導体など)もしくはその塩またはそれらの溶媒和物を見出した。すなわち本発明は、〔1〕
Figure 2005100354
(式中、ZおよびZは、それぞれ独立してメチン基または窒素原子を意味する。
は水素原子またはC1−6アルキル基を意味する。
は式−R10−R11(式中、R10は単結合、酸素原子または硫黄原子を意味する;R11はメチル基またはエチル基を意味する。)で表わされる基またはメトキシメチル基を意味する。
およびRはそれぞれ独立して、水素原子、t−ブトキシカルボニル基または式−X21−X31(式中、X21はメチレン基またはカルボニル基を意味する;X31はC1−6アルキル基、C3−8シクロアルキル基、テトラヒドロピラン−イル基またはテトラヒドロフラン−イル基を意味する。)で表わされる基を意味する。)で表わされる化合物(I)と有機金属試薬とを反応させた後、ペンタフルオロヨードベンゼンを反応させることを特徴とする、式
Figure 2005100354
(式中、Z、Z、R、R、RおよびRは前記Z、Z、R、R、RおよびRとそれぞれ同意義である。)で表わされる化合物(II)もしくはその塩またはそれらの溶媒和物の製造方法。
〔2〕
有機金属試薬がn−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、フェニルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、n−ブチルマグネシウムブロマイドまたはイソプロピルマグネシウムブロマイドである前記〔1〕記載の製造方法。
〔3〕
ペンタフルオロヨードベンゼンを反応させた後、ヨウ素を加えることを特徴とする前記〔1〕または〔2〕記載の製造方法。
〔3.1〕
式(I)で表わされる化合物と有機金属試薬との反応を−40℃以下(より好適には−40〜−75℃)で行う前記〔2〕、〔3〕または〔4〕いずれか1記載の製造方法。
〔3.2〕
式(I)で表わされる化合物の量に対して、有機金属試薬を1〜2倍モルの量(より好適には1.4〜1.6倍モルの量)を用いる前記〔1〕、〔2〕、〔3〕または〔3.1〕いずれか1記載の製造方法。
〔3.3〕
式(I)で表わされる化合物とペンタフルオロヨードベンゼンとの反応を−30℃以下(より好適には−30〜−75℃)で行う前記〔1〕、〔2〕、〔3〕、〔3.1〕または〔3.2〕いずれか1記載の製造方法。
〔3.4〕
式(I)で表わされる化合物の量に対して、ペンタフルオロヨードベンゼンを1〜2倍モルの量(より好適には1.4〜1.6倍モルの量)を用いる前記〔1〕、〔2〕、〔3〕、〔3.1〕、〔3.2〕または〔3.3〕いずれか1記載の製造方法。
〔3.5〕
ペンタフルオロヨードベンゼンの量に対して、ヨウ素を1〜2倍モルの量(より好適には1.4〜1.6倍モルの量)を用いる〔1〕、〔2〕、〔3〕、〔3.1〕、〔3.2〕、〔3.3〕または〔3.4〕いずれか1記載の製造方法
〔4〕
金属触媒(銅触媒またはパラジウム触媒など)、リン酸塩およびアミン化合物存在下、式
Figure 2005100354
(式中、Z、Z、RおよびRは前記〔1〕記載のZ、Z、RおよびRとそれぞれ同意義である。Xは、脱離基を意味する。Rは、水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子または式
Figure 2005100354
(式中、R41、R42、およびR43はそれぞれ独立して(1)水素原子、(2)ハロゲン原子、(3)フッ素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ基、C1−6アルコキシ基、ピロリジニル基、ピペラジニル基、ピペリジル基、モルホリニル基、C3−8シクロアルキル基、テトラヒドロピラン−イル基およびテトラヒドロフラン−イル基からなる群から選ばれる基を1〜2個有していてもよいC1−6アルコキシ基または(4)フッ素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ基、C1−6アルコキシ基、ピロリジニル基、ピペラジニル基、ピペリジル基、モルホリニル基、C3−8シクロアルキル基、テトラヒドロピラン−イル基およびテトラヒドロフラン−イル基からなる群から選ばれる基を1〜2個有していてもよいC1−6アルキル基を意味する。)で表わされる基を意味する。)で表される化合物と式
Figure 2005100354
(式中、R20およびR30はそれぞれ独立して、水素原子または式−X22−X32(式中、X22はメチレン基またはカルボニル基を意味する;X32はC1−6アルキル基、C3−8シクロアルキル基、テトラヒドロピラン−イル基またはテトラヒドロフラン−イル基を意味する。)で表わされる基を意味する。)で表される化合物とを反応させることを特徴とする式
Figure 2005100354
(式中、R20、R30およびRは前記R20、R30およびRとそれぞれ同意義である。Z、Z、RおよびRは前記〔1〕記載のZ、Z、RおよびRとそれぞれ同意義である。)で表わされる化合物もしくはその塩の製造方法。
〔5〕
金属触媒がヨウ化銅(I)、ヨウ化銅(II)、臭化銅(I)、臭化銅(II)、塩化銅(I)、塩化銅(II)、酢酸銅(I)、 酢酸銅(II)または酸化銅である前記〔4〕記載の製造方法。
〔6〕
リン酸塩がリン酸三カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸三ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸三リチウム、リン酸水素二リチウムもしくはリン酸マグネシウムまたはそれらの水和物である前記〔4〕または〔5〕記載の製造方法。
〔7〕
アミン化合物が1,2−シクロヘキサンジアミン、N,N'−ジメチルエチレンジアミン、テトラメチルエチレンジアミンまたはフェナンスロリンである前記〔4〕〜〔6〕いずれか1記載の製造方法。
〔7.1〕
式(III)で表わされる化合物と式(IV)で表わされる化合物との反応を50〜200℃(より好適には90〜150℃)で行う前記〔4〕、〔5〕、〔6〕または〔7〕いずれか1記載の製造方法。
〔7.2〕
式(III)で表わされる化合物の量に対して、銅触媒を0.001〜1.0倍モルの量(より好適には0.18〜0.22倍モルの量)を用いる前記〔4〕、〔5〕、〔6〕、〔7〕または〔7.1〕いずれか1記載の製造方法。
〔7.3〕
式(III)で表わされる化合物の量に対して、式(IV)で表わされる化合物を1.0〜3.0倍モルの量(より好適には1.0〜1.5倍モルの量)を用いる前記〔4〕、〔5〕、〔6〕、〔7〕、〔7.1〕または〔7.2〕いずれか1記載の製造方法。
〔7.4〕
式(III)で表わされる化合物の量に対して、リン酸塩を1.0〜5.0倍モルの量(より好適には1.8〜2.2倍モルの量)を用いる前記〔4〕、〔5〕、〔6〕、〔7〕、〔7.1〕、〔7.2〕または〔7.3〕いずれか1記載の製造方法。
〔7.5〕
式(III)で表わされる化合物の量に対して、アミン化合物を0.001〜1.0倍モルの量(より好適には0.38〜0.42倍モルの量)を用いる前記〔4〕、〔5〕、〔6〕、〔7〕、〔7.1〕、〔7.2〕、〔7.3〕または〔7.4〕いずれか1記載の製造方法。
〔8〕
Figure 2005100354
で表わされる化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物。
〔9〕
Figure 2005100354
(式中、Z、Z、R、R、RおよびRは前記〔1〕記載のZ、Z、R、R、RおよびRとそれぞれ同意義である。)で表わされる化合物(II)もしくはその塩またはそれらの溶媒和物、などに関するものである。
1.カラムクロマトグラフィーを用いなくても単離精製可能な結晶性物質である、ピラゾール縮合環誘導体(7−ヨードピラゾロ[1,5−a]ピリジン誘導体など)もしくはその塩またはそれらの溶媒和物を見出した。
2.工業的な製造において取扱いやすく、収率も優れたペンタフロオロヨードベンゼンを用いたピラゾール縮合環誘導体(ピラゾロ[1,5−a]ピリジン誘導体など)のヨウ素化反応を見出した。
3.また、反応の後のヨウ素を使用した処理により、試薬として用いたペンタフロオロヨードベンゼンを再度回収できる方法を見いだした。
4.アミド化カップリング反応を用いたピラゾール縮合環誘導体(ピラゾロ[1,5−a]ピリジン誘導体など)への窒素置換基導入方法を新たに見出した。
すなわち、CRF受容体拮抗作用を有するピラゾール縮合環誘導体(前記7−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン誘導体など)の合成中間体として有用な、(1)ピラゾール縮合環誘導体(ピラゾロ[1,5−a]ピリジン誘導体など)の製造方法および(2)ピラゾール縮合環誘導体(7−ヨードピラゾロ[1,5−a]ピリジン誘導体など)もしくはその塩またはそれらの溶媒和物を提供することができた。
以下、本発明について詳細に説明する。
本明細書中においては、化合物の構造式が便宜上一定の異性体を表すことがあるが、本発明には化合物の構造上生ずる全ての、幾何異性体、不斉炭素に基づく光学異性体、立体異性体、互変異生体などの総ての異性体および異性体混合物を含み、便宜上の式の記載に限定されるものではない。
また、化合物は塩を形成してもよく、その無水物、水和物または溶媒和物もすべて本発明に含まれる。さらに、特に明示しない限り、化合物は結晶であっても非結晶であってもよく、結晶形に関しても特に限定されるものではない。
本明細書において、「n−」とはnormalを、「sec−」とはsecondaryを、「tert−」または「t−」とはtertiaryを、それぞれ示す。
[ZおよびZの意義]
およびZは、それぞれ独立してメチン基または窒素原子を意味するが、好ましくはZおよびZがメチン基を意味するか、またはZおよびZのいずれか一方がメチン基を意味し、かつ、もう一方が窒素原子を意味し、より好ましくはZおよびZがメチン基を意味するか、またはZが窒素原子を意味し、かつ、Zがメチン基を意味し、さらに好ましくはZおよびZがメチン基を意味する。
[Rの意義]
は、水素原子またはC1−6アルキル基を意味するが、好ましくは水素原子である。
[Rの意義]
は、式−R10−R11(式中、R10は単結合、酸素原子または硫黄原子を意味する;R11はメチル基またはエチル基を意味する。)で表わされる基またはメトキシメチル基を意味するが、好ましい例としてはメチル基、エチル基、メトキシ基、メチルチオ基、エトキシ基またはメトキシメチル基であり、より好ましくはエチル基、メトキシ基またはメチルチオ基であり、さらに好ましくはエチル基である。
[RおよびRの意義]
およびRは、それぞれ独立して、水素原子、t−ブトキシカルボニル基または式−X21−X31(式中、X21はメチレン基またはカルボニル基を意味する;X31はC1−6アルキル基、C3−8シクロアルキル基、テトラヒドロピラン−イル基またはテトラヒドロフラン−イル基を意味する。)で表わされる基を意味する。
好ましくは、RおよびRは、それぞれ独立してn−プロピル基、n−ブチル基、(シクロブチル)メチル基、シクロプロピルメチル基、(テトラヒドロピラニル)メチル基、(テトラヒドロフラニル)メチル基である。より好ましくは、RおよびRは、それぞれ独立してシクロプロピルメチル基、(4−テトラヒドロピラニル)メチル基、(3−テトラヒドロフラニル)メチル基または(2−テトラヒドロフラニル)メチル基である。さらに好ましくは、Rがシクロプロピルメチル基または(4−テトラヒドロピラニル)メチル基であり、もっとも好ましくはRがシクロプロピルメチル基であり、かつRが(4−テトラヒドロピラニル)メチル基を意味する。
[Xの意義]
Xは、脱離基を意味する。有機化学反応において用いられる脱離基であれば特に限定されないが、Xとして、好ましくは臭素原子、ヨウ素原子または1〜5個のハロゲン原子で置換されてもよいC1−6アルキルスルホニルオキシ基であり、より好ましくは臭素原子、ヨウ素原子またはトリフルオロメチルスルホニルオキシ基であり、さらに好ましくはヨウ素原子である。
[R20およびR30の意義]
20およびR30はそれぞれ独立して、水素原子または式−X22−X32(式中、X22はメチレン基またはカルボニル基を意味する;X32はC1−6アルキル基、C3−8シクロアルキル基、テトラヒドロピラン−イル基またはテトラヒドロフラン−イル基を意味する。)で表わされる基を意味する。
好ましくはR20が水素原子であり、かつ、R30が式−X42−X32(式中、X42はカルボニル基を意味する;X32はC1−6アルキル基、C3−8シクロアルキル基、テトラヒドロピラン−イル基またはテトラヒドロフラン−イル基を意味する。)で表わされる基であり、より好ましくはR20が水素原子であり、かつ、R30が4−テトラハイドロピラニルカルボニル基である。
[Rの意義]
は、水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子または式
Figure 2005100354
(式中、R41、R42、およびR43はそれぞれ独立して(1)水素原子、(2)ハロゲン原子、(3)フッ素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ基、C1−6アルコキシ基、ピロリジニル基、ピペラジニル基、ピペリジル基、モルホリニル基、C3−8シクロアルキル基、テトラヒドロピラン−イル基およびテトラヒドロフラン−イル基からなる群から選ばれる基を1〜2個有していてもよいC1−6アルコキシ基または(4)フッ素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ基、C1−6アルコキシ基、ピロリジニル基、ピペラジニル基、ピペリジル基、モルホリニル基、C3−8シクロアルキル基、テトラヒドロピラン−イル基およびテトラヒドロフラン−イル基からなる群から選ばれる基を1〜2個有していてもよいC1−6アルキル基を意味する。
(R41、R42、およびR43の好ましい例としては、R40、R41およびR42のうち2つはメトキシ基を意味し、より好ましくはR40およびR42がメトキシ基を意味する。)
好ましくはRは水素原子である。
「ピロリジニル基」とは、ピロリジンから任意の水素原子を1個除いて誘導される一価の基であり、具体的には例えば1−ピロリジニル基、2−ピロリジニル基または3−ピロリジニル基を意味する。
「ピペラジニル基」とは、ピペラジンから任意の水素原子を1個除いて誘導される一価の基であり、具体的には例えば1−ピペラジニル基、2−ピペラジニル基、3−ピペラジニル基または4−ピペラジニル基を意味する。
「ピペリジル基」とは、ピペリジンから任意の水素原子を1個除いて誘導される一価の基であり、具体的には例えば1−ピペリジル基、2−ピペリジル基、3−ピペリジル基または4−ピペリジル基を意味する。
「モルホリニル基」とは、モルホリンから任意の水素原子を1個除いて誘導される一価の基であり、具体的には例えば2−モルホリニル基、3−モルホリニル基または4−モルホリニル基を意味する。
「テトラヒドロピラン−イル基」とは、テトラヒドロピランから任意の水素原子を1個除いて誘導される一価の基であり、具体的には例えばテトラヒドロピラン−2−イル基、テトラヒドロピラン−3−イル基またはテトラヒドロピラン−4−イル基を意味し、好ましくは式
Figure 2005100354
で表されるテトラヒドロピラン−4−イル基である。
「テトラヒドロフラン−イル基」とは、テトラヒドロフランから任意の水素原子を1個除いて誘導される一価の基であり、具体的には例えばテトラヒドロフラン−2−イル基、またはテトラヒドロフラン−3−イル基を意味し、好ましくは式
Figure 2005100354
で表されるテトラヒドロフラン−3−イル基である。
(4−テトラヒドロピラニル)メチル基とは前記テトラヒドロピラン−4−イル基で置換されたメチル基を意味する。
(2−テトラヒドロフラニル)メチル基とは前記テトラヒドロフラン−2−イル基で置換されたメチル基を意味する。
(3−テトラヒドロフラニル)メチル基とは前記テトラヒドロフラン−3−イル基で置換されたメチル基を意味する。
「C1−6アルキル基」とは、炭素数1ないし6個の直鎖状または分枝鎖状のアルキル基を意味し、具体的には例えば、メチル基、エチル基、1−プロピル基(n−プロピル基)、2−プロピル基(iso−プロピル基)、2−メチル−1−プロピル基(iso−ブチル基)、2−メチル−2−プロピル基(t−ブチル基)、1−ブチル基(n−ブチル基)、2−ブチル基(sec−ブチル基)、1−ペンチル基、2−ペンチル基、3−ペンチル基、2−メチル−1−ブチル基、3−メチル−1−ブチル基、2−メチル−2−ブチル基、3−メチル−2−ブチル基、2,2−ジメチル−1−プロピル基、1−へキシル基、2−へキシル基、3−へキシル基、2−メチル−1−ペンチル基、3−メチル−1−ペンチル基、4−メチル−1−ペンチル基、2−メチル−2−ペンチル基、3−メチル−2−ペンチル基、4−メチル−2−ペンチル基、2−メチル−3−ペンチル基、3−メチル−3−ペンチル基、2,3−ジメチル−1−ブチル基、3,3−ジメチル−1−ブチル基、2,2−ジメチル−1−ブチル基、2−エチル−1−ブチル基、3,3−ジメチル−2−ブチル基、2,3−ジメチル−2−ブチル基などがあげられる。
「C3−10シクロアルキル基」とは、炭素数が3ないし10個の単環または二環の飽和脂肪族炭化水素基を意味し、具体的には例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基などがあげられ、好ましくはシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基であり、より好ましくはシクロプロピル基である。
「C1−6アルコキシ基」とは、上記定義「C1−6アルキル基」の末端に酸素原子が結合した基であることを意味し、具体的には例えば、メトキシ基、エトキシ基、1−プロポキシ基(n−プロポキシ基)、2−プロポキシ基(iso−プロポキシ基)、2−メチル−1−プロポキシ基(iso−ブトキシ基)、2−メチル−2−プロポキシ基(t−ブトキシ基)、1−ブトキシ基(n−ブトキシ基)、2−ブトキシ基(sec−ブトキシ基)、1−ペンチルオキシ基、2−ペンチルオキシ基、3−ペンチルオキシ基、2−メチル−1−ブトキシ基、3−メチル−1−ブトキシ基、2−メチル−2−ブトキシ基、3−メチル−2−ブトキシ基、2,2−ジメチル−1−プロポキシ基、1−へキシルオキシ基、2−へキシルオキシ基、3−へキシルオキシ基、2−メチル−1−ペンチルオキシ基、3−メチル−1−ペンチルオキシ基、4−メチル−1−ペンチルオキシ基、2−メチル−2−ペンチルオキシ基、3−メチル−2−ペンチルオキシ基、4−メチル−2−ペンチルオキシ基、2−メチル−3−ペンチルオキシ基、3−メチル−3−ペンチルオキシ基、2,3−ジメチル−1−ブトキシ基、3,3−ジメチル−1−ブトキシ基、2,2−ジメチル−1−ブトキシ基、2−エチル−1−ブトキシ基、3,3−ジメチル−2−ブトキシ基、2,3−ジメチル−2−ブトキシ基などがあげられる。
本発明の化合物(II)もしくはその塩またはそれらの溶媒和物における溶媒和とは、本発明の化合物(II)またはその塩と溶媒和を形成するものであれば特に限定されないが、溶媒が当該化合物1分子に対し0.1〜5分子の適宜な比で溶媒和を形成する形態である。溶媒和における溶媒としては、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、イソプロパノール、n−プロパノールおよびエタノールからなる群から選ばれる1〜3個の溶媒(複数の組合せの場合は、任意の比率の混合物)などがあげられ、好ましくは炭酸ジメチルおよびイソプロパノールとの溶媒和(任意の比率の混合物)などがあげられる。
本発明の化合物(II)の塩としては、本発明の化合物(II)と塩を形成するものであれば特に限定されないが、例えば無機酸との塩、有機酸との塩、酸性アミノ酸との塩などが挙げられ、中でも薬理学的に許容される塩が好ましい。酸は、当該化合物1分子に対し0.1〜5分子の適宜な比で塩を形成する。
無機酸との塩の好ましい例としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸などとの塩が挙げられ、有機酸との塩の好ましい例としては、例えば酢酸、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、クエン酸、乳酸、ステアリン酸、安息香酸、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸などとの塩が挙げられる。
酸性アミノ酸との塩の好ましい例としては、例えばアスパラギン酸、グルタミン酸などとの塩が挙げられる。
本発明の化合物(II)の塩の好ましい例としては、塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、または臭化水素酸との塩が挙げられ、より好ましい例としては、塩酸塩またはp−トルエンスルホン酸との塩が挙げられる。
次に本発明に係る製造方法について詳細に説明する。
下記各式中、Z、Z、R、R、R、R、R、R20、R30およびXは、前記Z、Z、R、R、R、R、R、R20、R30およびXとそれぞれ同意義である。
〔工程1A〕
Figure 2005100354
工程1Aは、化合物(I)を有機金属試薬を用いてアニオン化し、次いでペンタフルオロヨードベンゼンを反応させることにより化合物(II)を得る工程である。以下、工程1Aの反応、処理、精製等の条件について説明するが、具体例としては下記製造例6、14、15を参照して、反応を行うことができる。
化合物(I)は、下記実施例3、4、5、WO02/088121、WO03/078435、WO00/59908、WO00/59907などの記載の方法により製造することができる。
有機金属試薬を用いる化合物(I)のアニオン化反応、およびアニオン化した化合物(I)とペンタフルオロヨードベンゼンとの反応はテトラハイドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、メチル−t−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジシクロペンチルエーテルなどのエーテル溶媒、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素系芳香環溶媒、ヘプタン、ヘキサンなどの炭化水素系溶媒などの有機溶媒中で行う。有機溶媒の好適な例としてはエーテル溶媒などをあげることができ、より好適な例としてはテトラハイドロフランなどをあげることができる。
有機金属試薬による化合物(I)のアニオン化反応、およびアニオン化した化合物(I)とペンタフルオロヨードベンゼンとの反応は0℃(反応容器中の内温)以下で行うが、好適にはドライアイス−エタノール浴等を用い−30℃以下(反応容器中の内温)で反応を行うことができ、より好適には−30〜−75℃で反応を行うことができ、さらに好適には−40〜−75℃で反応を行うことができる。
有機金属試薬を用いる化合物(I)のアニオン化反応は、化合物(I)の上記有機溶媒の溶液中に有機金属試薬を滴下するか、または、有機金属試薬の上記有機溶媒の溶液中に化合物(I)を上記有機溶媒に溶かした溶液を滴下して、反応を行うことができる。
上記有機金属試薬とは有機リチウム化合物(n−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、フェニルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドなど)、有機マグネシウム化合物(ブチルマグネシウムブロマイド、イソプロピルマグネシウムブロマイドなど)、有機アルカリ土類金属化合物などを意味するが、有機金属試薬の好適な例としては有機リチウム化合物をあげることができ、より好適な例としては、n−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウムをあげることができ、さらに好適な例としてはn−ブチルリチウムをあげることができる。
上記有機金属試薬は、化合物(I)に対して1.0〜2.0倍モルの量を用いて行うことができるが、好適には1.4〜1.6倍モルの量を用いて行うことができ、さらに好適には1.5倍モルの量を用いて行うことができる。
上記有機金属試薬による化合物(I)のアニオン化反応の反応時間は特に制限されないが、試薬を加えた後、上記反応温度にて30分〜2時間撹拌を行うことが好ましく、約1時間撹拌を行うことがより好ましい。
アニオン化した化合物(I)とペンタフルオロヨードベンゼンとの反応は、アニオン化した化合物(I)の上記有機溶媒の溶液中にペンタフルオロヨードベンゼンの上記有機溶媒の溶液を滴下するか、またはペンタフルオロヨードベンゼンの上記有機溶媒の溶液中にアニオン化した化合物(I)の上記有機溶媒の溶液を滴下して行う。好適にはアニオン化した化合物(I)の上記有機溶媒の溶液中にペンタフルオロヨードベンゼンの上記有機溶媒の溶液を滴下して反応を行う。
ペンタフルオロヨードベンゼンは、化合物(I)に対して1.0〜2.0倍モルの量を用いて行うことができるが、好適には1.4〜1.6倍モルの量を用いて行うことができ、好適には1.5倍モルの量を用いて行うことができる。
アニオン化した化合物(I)とペンタフルオロヨードベンゼンとの反応時間は特に制限されないが、試薬を加えた後、上記反応温度で30分〜2時間撹拌を行うことが好ましく、約1時間撹拌を行うことがより好ましい。
アニオン化した化合物(I)とペンタフルオロヨードベンゼンとの反応後、上記反応温度で、または反応を行った温度〜室温の間の温度で、(1)水、(2)水およびテトラハイドロフラン、または、場合によって(3)ヨウ素などを加える。
ヨウ素を加える場合、その後、(2)水およびテトラハイドロフラン、チオ硫酸ナトリウム水溶液等を加える。ヨウ素は、ペンタフルオロヨードベンゼンに対して1.0〜2.0倍モルの量を用いて行うことができるが、好適には1.4〜1.6倍モルの量を用いて行うことができ、好適には1.5倍モルの量を用いて行うことができる。
以上の反応処理後、所望により(1)通常の有機溶媒/水による抽出処理、その有機溶媒の無水硫酸マグネシウムなどによる乾燥、およびその溶媒の溶液の留去、(2)カラムクロマトグラフィーによる精製や適当な溶媒から再結晶による精製、(3)有機溶媒および水(アセトニトリルと水の混合物)などを加えて生じた生成物のろ過などを適宜組み合わせて行うことにより、目的とする化合物を得ることができる。
有機溶媒/水による抽出処理における有機溶媒として、ヘプタン、トルエン、メチル−t−ブチルエーテル、酢酸エチル、酢酸メチル、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン溶媒等を用いることができる。当該抽出処理は、水層を5N−塩酸などの酸性水溶液により酸性にした後行うことも、5N苛性ソーダ水溶液などのアルカリ性水溶液によりアルカリ性にした後行うこともでき、これらを組みあわせて複数回抽出処理を行うことができる。
〔工程2A〕
Figure 2005100354
工程2Aは、化合物(II)から化合物(II)の塩酸体である化合物(IIb)を得る工程(塩酸塩化)である。
工程2Aの反応、処理、精製等の条件について説明するが、具体例としては下記製造例7を参照して、反応を行うことができる。
化合物(II)は、WO02/088121、WO03/078435、WO00/59908、WO00/59907などの記載の方法により製造することができる。
化合物(II)を有機溶媒(好ましくは炭酸ジメチル、炭酸ジエチルとイソプロパノール、n―プロパノールなど)に溶解し、次いで塩化水素の溶液を加え−10〜90℃(好適には室温)にて1〜24時間(好適には14〜16時間)撹拌する。次いで、当該混合物を20〜−10℃(好適には5〜−10℃)にする。このとき適宜、上記有機溶媒を追加して加えてもよい。
次いで、当該混合物をさらに1〜10時間(好適には1〜3時間)撹拌し、当該混合物中の析出物を濾取する。濾取した析出物は適宜、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、ヘプタン、ヘキサンまたは水等で洗浄し、目的とする化合物(IIb)を得ることができる。
化合物(IIb)は必要に応じて(50℃減圧などの条件において)乾燥することができる。
当該塩酸塩化の工程において用いる有機溶媒としては、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、酢酸エチル、イソプロパノール、n―プロパノール、t−ブチルメチルエーテル、ヘプタン、ヘキサンなど組み合わせても良い
塩化水素の溶液とは、濃塩酸、希塩酸、塩酸酢酸エチル溶液、塩酸メタノール溶液等をあげることができる。
〔工程3A〕
Figure 2005100354
工程3Aは、金属触媒、リン酸塩(もしくはリン酸塩の代わりに炭酸塩を用いることができる。)およびアミン化合物存在下、化合物(III)と化合物(IV)とを反応させることにより化合物(V)を得る工程(アミンカップリング反応)である。以下、工程3Aの反応、処理、精製等の条件について説明するが、具体例としては下記製造例3を参照して、反応を行うことができる。
化合物(III)は、下記実施例、WO02/088121、WO03/078435などの記載の方法により製造することができる。
化合物(IV)としては購入できる化合物のほか、下記製造例2に記載の反応条件を用いて、公知のカルボン酸化合物、エステル化合物、酸クロライド化合物などから製造した化合物を用いることができる
金属触媒、リン酸塩、アミン化合物、化合物(III)および化合物(IV)を有機溶媒(トルエン、キシレン、ジグライム、ジエトキシエタン、N,N−ジメチルフォルムアミド、N−メチルピロリドンなど)に溶解し、50〜200℃(好適には90〜150℃であり、さらに好適には約110℃)にて3〜48時間(好適には14〜16時間)撹拌する。
金属触媒としては、銅触媒またはパラジウム触媒などカップリング反応に用いられる触媒があげられ、金属触媒として好ましくは銅触媒である。
銅触媒としては、ヨウ化銅(I)、ヨウ化銅(II)、臭化銅(I)、臭化銅(II)、塩化銅(I)、塩化銅(II)、酢酸銅(I)、 酢酸銅(II)、酸化銅などを意味するが、銅触媒の好適例としてはヨウ化銅をあげることができる。
パラジウム触媒としては、Pd(OAc)、Pd(dba)などカップリング反応に用いられる触媒であれば特に制限されない。
リン酸塩としては、リン酸三カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸三ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸三リチウム、リン酸水素二リチウムもしくはリン酸マグネシウムまたはそれらの水和物などを意味するが、リン酸塩の好適例としてリン酸三カリウムまたはその水和物をあげることができ、より好適な例としてはリン酸三カリウム水和物をあげることができる。炭酸塩としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムもしくは炭酸セシウムまたはそれらの水和物などが挙げられる。
アミン化合物としては、銅触媒やパラジウム触媒を用いて行うカップリング反応において配位子として用いることができるアミン化合物であれば特に制限されないが、好ましくは1,2−シクロヘキサンジアミン、N,N'−ジメチルエチレンジアミン、テトラメチルエチレンジアミン、フェナンスロリンなどを意味し、より好適な例としては1,2−シクロヘキサンジアミン、N,N'−ジメチルエチレンジアミンであり、さらに好適な例としては1,2−シクロヘキサンジアミンをあげることができる。
化合物(IV)は、化合物(III)に対して1.0〜3.0倍モルの量を用いて行うことができるが、好適には1.0〜1.5倍モルの量を用いて行うことができ、さらに好適には1.5倍モルの量を用いて行うことができる。
銅触媒は、化合物(III)に対して0.001〜1.0倍モルの量を用いて行うことができるが、好適には0.15〜0.25倍モルの量を用いて行うことができ、さらに好適には0.2倍モルの量を用いて行うことができる。
リン酸塩は、化合物(III)に対して1.0〜5.0倍モルの量を用いて行うことができるが、好適には1.5〜2.5倍モルの量を用いて行うことができ、さらに好適には2.0倍モルの量を用いて行うことができる。リン酸塩のかわりに炭酸塩を用いる場合の炭酸塩の用いる量は、リン酸塩と同様である。
アミン化合物は、化合物(III)に対して0.001〜1.0倍モルの量を用いて行うことができるが、好適には0.35〜0.45倍モルの量を用いて行うことができ、さらに好適には0.4倍モルの量を用いて行うことができる。
反応後、上記反応温度〜室温(好適には90〜20℃)で水または40〜70℃の温水を加える。ついで反応混合物を1時間〜一昼夜撹拌する。さらにその後、反応混合物中にアンモニア水、エチレンジアミン水溶液などを加え、30分〜1時間撹拌する。
以上の反応処理後、必要に応じて(1)通常の有機溶媒/水による抽出処理、その有機溶媒の硫酸マグネシウムなどによる乾燥、およびその溶媒の溶液の留去、(2)カラムクロマトグラフィーによる精製や適当な溶媒から再結晶による精製、(3)有機溶媒および水(酢酸エチルと水の混合物など)などを加えて生じた生成物のろ過などを適宜組み合わせて行うことにより、目的とする化合物を得ることができる。
有機溶媒/水による抽出処理における有機溶媒として、酢酸エチル、t―ブチルメチルエーテル、トルエン等を用いることができ、単数回もしくは複数回、抽出処理を行うことができる。反応処理としては、反応混合物に水を入れた後、濾過による方法も用いることができる。
以下の実施例により本発明を詳細に且つ具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
製造例1
2−エチル−3−ヨードピラゾロ[1,5−a]ピリジン
Figure 2005100354
2−エチルピラゾロ[1,5−a]ピリジン(360g、2.46mol)、酢酸エチル(3600mL)、水(1800mL)およびヨウ化ナトリウム(480g、3.20mol、1.3当量)の混合物に、氷水浴による冷却下、N−クロロコハク酸イミド(411g、3.08mol)を30分間かけて少しずつ加え、その後、その反応混合物を室温で2時間20分攪拌した。反応混合物に水および酢酸エチルを加え、酢酸エチルで抽出した。分取した有機層を10%チオ硫酸ナトリウム水溶液で2回洗浄後、減圧下濃縮した。得られた残渣にヘキサンを加え、加熱溶解後そのヘキサン溶液を濾過し不溶物を除いた。このヘキサン溶液を水で洗浄後、減圧下濃縮した。次いで得られた残渣を酢酸エチルに溶解後、溶媒を減圧下留去し、標記化合物663gを得た(収率98.9%)。
1H NMR (400MHz, CDCl3) δ 1.35 (t, J = 7.7 Hz, 3H), 2.84 (q, J = 7.7 Hz, 2H), 6.72 (ddd, J = 6.8, 6.8, 1.3 Hz, 1H), 7.15 (ddd, J = 9.0, 6.8, 1.1 Hz, 1H), 7.37 (ddd, J = 9.0, 1.3 Hz, 1.3, 1H), 8.36 (ddd, J = 6.8, 1.1, 1.1 Hz, 1H).
製造例2
テトラヒドロ−2H−ピラン−4−カルボキサミド
Figure 2005100354
メチル テトラヒドロ−2H−ピラン−4−カルボキシレート(50g、347mmol)に濃アンモニア水(50mL)を加え、その反応混合物を室温で43.5時間攪拌した。その後反応混合物を氷水浴により冷却し、析出物を濾取した。次いで当該析出物を40℃で減圧乾燥し、標記化合物33.4gを得た(収率74.6%)。
1H NMR (400MHz, DMSO-d6) δ 1.45-1.62 (m, 4H), 2.28 (tt, J = 11.1, 4.4 Hz, 1H), 3.26 (ddd, J = 11.4, 11.4, 2.7 Hz, 2H), 3.82 (br d, J = 11.4 Hz, 2H), 6.74 (br s, 1H), 7.21 (br s, 1H).
製造例3
N−(2−エチル−[1,5−a]ピリジン−3−イル)テトラヒドロ−2H−ピラン−4−カルボキサミド
Figure 2005100354
2−エチル−3−ヨードピラゾロ[1,5−a]ピリジン(350g、1.29mol)、テトラヒドロ−2H−ピラン−4−カルボキサミド(249g、1.93mol)、ヨウ化銅(49.0g,258mmol)、リン酸三カリウム(水和物)(546g,2.57mol)、1,2−シクロヘキサンジアミン(シスとトランス混合物)(58.7g,514mmol)およびキシレン(3500mL)の混合物を外温120℃(オイルバス)で6時間撹拌した。加熱を止めて、反応混合物の内温が61.5℃になったところで、反応混合物に58℃の温水(3500mL)を加え、そのまま終夜攪拌した。反応混合物に、28%アンモニア水(1050mL)を加えて1時間攪拌した後、析出物を濾取した。その析出物を水(1750mL)および酢酸エチル(1050mL)で洗浄し、次いで60℃で一夜通風乾燥し、標記化合物280g(主コンフォマー:副コンフォマー=6:1の混合物)を得た(収率79.6%)。
主コンフォマー
1H NMR (400MHz, CDCl3) δ 1.33 (t, J = 7.7 Hz, 3H), 1.88-2.05 (m, 4H), 2.57-2.67 (m, 1H), 2.75 (q, J = 7.7 Hz, 2H), 3.50 (ddd, J = 11.4, 11.4, 2.9 Hz, 2H), 4.09 (ddd, J = 11.4, 4.0, 2.6 Hz, 2H), 6.68 (ddd, J = 6.8, 6.8, 1.3 Hz, 1H), 6.82 (br s, 1H), 7.07 (ddd, J = 9.0, 6.8, 1.3 Hz, 1H), 7.29 (br d, J = 9.0 Hz, 1H), 8.30 (d, J = 6.8 Hz, 1H)
副コンフォマー
1H NMR (400MHz, CDCl3) δ 1.34 (t, J = 7.7 Hz, 3H), 1.40-1.50 (m, 2H), 1.88-2.05 (m, 2H), 2.37-2.48 (m, 1H), 2.78 (q, J = 7.7 Hz, 2H), 3.14 (ddd, J = 11.9, 11.9, 1.8 Hz, 2H), 3.84-3.92 (m, 2H), 6.56 (br s, 1H), 6.80 (ddd, J = 6.8, 6.8, 1.3 Hz, 1H), 7.20 (br dd, J = 9.0, 6.8 Hz, 1H), 7.34 (br d, J = 9.0 Hz, 1H), 8.39 (d, J = 6.8 Hz, 1H)
製造例4
N−シクロプロピルメチル−N−(2−エチル−[1,5−a]ピリジン−3−イル)テトラヒドロ−2H−ピラン−4−カルボキサミド
Figure 2005100354
N−(2−エチル−[1,5−a]ピリジン−3−イル)テトラヒドロ−2H−ピラン−4−カルボキサミド(272g,915mmol)、カリウムt−ブトキシド(144g,1.28mol)および1,2−ジメトキシエタン(1750mL)の混合物を外温40℃で撹拌した。その反応混合物中に内温50℃以下になるように(ブロモメチル)シクロプロパン(161g、1.19mol)を滴下した。その反応混合物を4時間加熱撹拌後、反応混合物中に水(1250mL)およびトルエン(3750mL)を加えた。その反応混合物の水層を除去後、有機層を10%食塩水(1250mL)および水(1250mL×2回)で順次洗浄し、次いで溶媒を減圧下濃縮し、標記化合物277gを褐色油状物として得た(収率92.6%)。
1H NMR (400MHz, CDCl3) δ 0.03-0.11 (m, 1H), 0.14-0.22 (m, 1H), 0.32-0.46 (m, 2H), 0.85-0.98 (m, 1H), 1.36 (t, J = 7.6 Hz, 3H), 1,29-1.40 (m, 1H), 1.40-1.50 (m, 1H), 1.85 (ddd, J = 16.3, 11.9, 4.4 Hz, 1H), 1.97 (ddd, J = 16.5, 11.9, 4.6 Hz, 1H), 2.41 (tt, J = 11.5, 3.8 Hz, 1H), 2.66-2.84 (m, 2H), 3.03 (ddd, J = 11.9, 11.9, 2.2 Hz, 1H), 3.15 (ddd, J = 11.9, 11.9, 2.2 Hz, 1H), 3.31 (dd, J = 13.7, 7.3 Hz, 1H), 3.79 (dd, J = 13.7, 7.3 Hz, 1H), 3.76-3.86 (m, 1H), 3.91 (ddd, J = 11.9, 4.4, 2.0 Hz, 1H), 6.79 (ddd, J = 6.8, 6.8, 1.4 Hz, 1H), 7.17 (br dd, J = 8.8, 6.8 Hz, 1H), 7.33 (br d, J = 8.8 Hz, 1H), 8.40 (d, J = 6.8 Hz, 1H).
製造例5
N−シクロプロピルメチル−N−(2−エチルピラゾロ[1,5−a]ピリジン−3−イル)−N−(テトラヒドロ−2H−4−ピラニルメチル)アミン
Figure 2005100354
N−シクロプロピルメチル−N−(2−エチル−[1,5−a]ピリジン−3−イル)テトラヒドロ−2H−ピラン−4−カルボキサミド(220g,672mmol)のテトラヒドロフラン(1100mL)溶液を外温55℃(温浴)で撹拌した。反応混合物にボラン−テトラハイドロフラン錯体(BH−THF)(1M溶液,1748mL)を滴下し、さらに2時間加熱撹拌後、反応混合物を氷水浴で冷却した。反応混合物に2N塩酸(437mL)を加えた。その後、更に反応混合物を外温50℃(温水浴)で1時間撹拌した。反応後、反応混合物に5N水酸化ナトリウム水溶液(299mL)を滴下してpH8とした後、水層を除去した。有機層にトルエン(2200mL)を加え、次いで有機層を水で二回洗浄した後、溶媒を減圧下濃縮し、標記化合物209gを得た(収率99.2%)。
1H NMR (400MHz, CDCl3) δ -0.04-0.06 (m, 2H), 0.30-0.40 (m, 2H), 0.73-0.86 (m, 1H), 1.18-1.36 (m, 2H), 1.33 (t, J = 7.6 Hz, 3H), 1.46-1.60 (m, 1H), 1.72 (br d, J = 12.8 Hz, 2H), 2.82 (q, J =7.6 Hz, 2H), 2.84 (d, J = 7.2 Hz, 2H), 3.01 (d, J = 7.2 Hz, 2H), 3.28 (ddd, J = 12.0, 12.0, 2.0 Hz, 2H), 3.92 (br dd, J = 12.0, 4.4 Hz, 2H), 6.59 (ddd, J = 6.8, 6.8, 1.2 Hz, 1H), 6.95 (ddd, J = 8.8, 6.8, 1.2 Hz, 1H), 7.44 (ddd, J = 8.8, 1.2, 1.2 Hz, 1H), 8.29 (ddd, J = 6.8, 1.2, 1.2 Hz, 1H).
製造例6
N−シクロプロピルメチル−N−(2−エチル−7−ヨードピラゾロ[1,5−a]ピリジン−3−イル)−N−(テトラヒドロ−2H−4−ピラニルメチル)アミン
Figure 2005100354
N−シクロプロピルメチル−N−(2−エチルピラゾロ[1,5−a]ピリジン−3−イル)−N−(テトラヒドロ−2H−4−ピラニルメチル)アミン(180g、574mmol)のテトラヒドロフラン(1620mL)溶液をドライアイス−エタノール浴で冷却した。反応混合物に内温−73℃〜−64.5℃でn−ブチルリチウム(1.6Mヘキサン溶液;538mL,854mmol)を滴下した。同温度で反応混合物を1時間攪拌後、反応混合物にペンタフルオロヨードベンゼン(115mL,861mmol)を滴下した。さらに反応混合物を同温度で1時間20分攪拌後、反応混合物に水/テトラハイドロフラン(1/1,v/v,360mL)を加えた。反応混合物中に水(3600mL)およびヘプタン(3600mL)を加えて水層を除去し、有機層を水(3600mL)で洗浄した。次いで有機層に5N塩酸(1800mL)を加えて水層を分取した。次にその水層を氷水浴で冷却し、5N水酸化ナトリウム水溶液(1620mL)を加えた後、トルエン(3600mL)を加え、有機層を分取した。残った水層は更にトルエン(3600mL)で抽出し、両有機層を合わせた。この溶液を減圧下濃縮し、標記化合物220gを深緑色油状物として得た(収率87.3%)。
1H NMR (400MHz, CDCl3) δ -0.02-0.05 (m, 2H), 0.33-0.40 (m, 2H), 0.74-0.86 (m, 1H), 1.19-1.32 (m, 2H), 1.36 (t, J = 7.6 Hz, 3H), 1.46-1.60 (m, 1H), 1.71 (br d, J = 13.2 Hz, 2H), 2.86 (d, J = 6.8 Hz, 2H), 2.88 (q, J = 7.6 Hz, 2H), 3.02 (d, J = 6.8 Hz, 2H), 3.28 (ddd, J = 11.6, 11.6 2.0 Hz, 2H), 3.92 (br dd, J = 11.6, 2.6 Hz, 2H), 6.71 (dd, J = 8.8, 6.8Hz, 1H), 7.20 (dd, J = 6.8, 1.2 Hz, 1H), 7.47 (dd, J = 8.8, 1.2 Hz, 1H).
製造例7
N−シクロプロピルメチル−N−(2−エチル−7−ヨードピラゾロ[1,5−a]ピリジン−3−イル)−N−(テトラヒドロ−2H−4−ピラニルメチル)アミン 塩酸塩
Figure 2005100354
N−シクロプロピルメチル−N−(2−エチル−7−ヨードピラゾロ[1,5−a]ピリジン−3−イル)−N−(テトラヒドロ−2H−4−ピラニルメチル)アミン(220g、501mmol)の炭酸ジメチル(3600mL)溶液に、室温で濃塩酸(48.5mL,575mmol)のイソプロパノール(270mL)溶液を20分間で滴下し、さらに室温で約15時間攪拌した。反応混合物を氷水浴で冷却し、この反応混合物に炭酸ジメチル(900mL)を加えた。この混合物を約5時間撹拌後、析出物を濾取した。この析出物を炭酸ジメチル(900mL)で洗浄し、さらに50℃で減圧乾燥し、炭酸ジメチルおよびイソプロパノール溶媒和物として標記化合物250gを得た(収率93.7%)。
1H NMR (400MHz, CD3OD) δ 0.08-0.40 (m, 2H), 0.42-0.56 (m, 2H), 0.81-0.94 (m, 1H), 1.30-1.60 (m, 4H), 1.50 (t, J = 7.5 Hz, 3H), 1.67-1.81 (m, 1H), 3.06 (q, J = 7.5 Hz, 2H), 3.24 (ddd, J = 11.7, 11.7 2.4 Hz, 2H), 3.56-3.76 (m, 4H), 3.82-3.90 (m, 2H), 7.20 (dd, J = 8.8, 7.1Hz, 1H), 7.66 (d, J = 7.1 Hz, 1H), 7.98 (d, J = 8.8 Hz, 1H).
製造例8
2−ブロモ−1,3−ジメトキシ−5−(メトキシメチル)ベンゼン
Figure 2005100354
氷水浴による冷却下、(4−ブロモ−3,5−ジメトキシフェニル)メタノール(100g,405mmol)およびトリエチルアミン(67.5mL,484mmol)のジメトキシエタン(1000mL)溶液にメシルクロライド(34.5mL,446mmol)を加え、さらに反応混合物を30分攪拌した。次いで反応混合物に28%ナトリウムメトキシド メタノール溶液(350mL,1.72mol)を加えた後、反応混合物を室温で3時間攪拌した。反応後、反応混合物にトルエン(1000mL)および水(1000mL)を加えた後、水層を除去し、有機層を水(1000mL)、1N塩酸(500mL)および水(500mL)で順次洗浄し、次いで溶媒を減圧下濃縮して、標記化合物105gを無色油状物として得た(収率99.5%)。
製造例9
2,6−ジメトキシ−4−(メトキシメチル)フェニルホウ酸
Figure 2005100354
窒素気流中、ドライアイス−アセトン浴による冷却下、2−ブロモ−1,3−ジメトキシ−5−(メトキシメチル)ベンゼン(20.0g、76.6mmol)のテトラヒドロフラン(200mL)溶液に1.58M n−ブチルリチウムのヘキサン溶液(50.9mL,80.4mmol)を加え反応混合物を30分攪拌した。次いで、反応混合物にトリメトキシボラン(8.75g、84.2mmol)のテトラヒドロフラン(20mL)溶液を加え、撹拌下、反応温度を0℃まで昇温した。反応混合物に1N塩酸(200mL)を加え、室温下反応混合物を30分攪拌した。反応後、反応混合物中にトルエン(200mL)を加えて有機層を分取後、残った水層はさらにトルエン(100mL)で抽出した。あわせた有機層を水(100mL)で洗浄後、溶媒を減圧下濃縮した。得られた残渣をt−ブチル メチル エーテル(75mL)に溶かして反応混合物を30分攪拌後、これにヘプタン(223mL)を加えてさらにこの混合物を2時間攪拌した。析出物を濾取し、その析出物をt−ブチルメチルエーテル−ヘプタン混合溶液(1:3,3.75mL)で洗浄後、40℃で24時間乾燥して標記化合物12.4gを得た(収率71.8%)。
製造例10
メチル 4−ブロモ−3,5−ジメトキシベンゾエート
Figure 2005100354
氷水浴による冷却下、4−ブロモ−3,5−ジヒドロキシ安息香酸(127.5g)のN,N−ジメチルホルムアミド(1020mL)溶液に、炭酸カリウム(359g)を加え、次いでヨードメタン(143mL)を加えた。次いで反応混合物を17時間室温で攪拌した後に、反応混合物を氷水に注いだ。析出した固体を濾取し、その析出物を水洗した。次いで残渣を酢酸エチルに溶解した後、その溶液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで減圧下溶媒を留去し、標記化合物133.2gを白色固体として得た。
製造例11
(4−ブロモ−3,5−ジメトキシフェニル)メタノール
Figure 2005100354
メチル 4−ブロモ−3,5−ジメトキシベンゾエート(133.2g)のテトラヒドロフラン(500mL)溶液に、リチウムボロハイドライド(20.8g)を室温でゆっくり加え、さらに加熱還流下3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、氷水(1.5L)および酢酸エチル(1.2L)を加えて、酢酸エチルにて抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去し、標記化合物118.8gを白色固体として得た。
製造例12
2−ブロモ−1,3−ジメトキシ−5−(メトキシメチル)ベンゼン
Figure 2005100354
氷水浴による冷却下、(4−ブロモ−3,5−ジメトキシフェニル)メタノール(118.8g)のN,N−ジメチルホルムアミド(960mL)溶液に、水素化ナトリウム(60%油性;24.7g)を加え10分間撹拌した後に、ヨードメタン(41.7mL)を滴下した。その後、反応混合物を室温で1時間攪拌した。反応混合物を氷水(2.5L)に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層は飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、n−ヘキサン:酢酸エチル(4:1)の画分から標記化合物121.3gを無色油状物として得た。
製造例13
2,6−ジメトキシ−4−(メトキシメチル)フェニルホウ酸
Figure 2005100354
2−ブロモ−1,3−ジメトキシ−5−(メトキシメチル)ベンゼン(121.3g)のテトラヒドロフラン(730mL)溶液に、−78℃でn−ブチルリチウム(2.64Mヘキサン溶液;182mL)を滴下し、20分間撹拌した。反応混合物に−78℃で、トリメトキシボラン(61.7mL)のテトラヒドロフラン(20mL)溶液を加えた。反応混合物の内温が−10℃になるまで昇温し、飽和塩化アンモニウム水溶液(730mL)を加え、さらに15分攪拌した。得られた反応混合物に酢酸エチルを加え、酢酸エチルで抽出し、得られた有機層は飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、n−ヘキサン:酢酸エチル(2:3)の画分から標記化合物90.4gを白色固体として得た。
1H NMR (400MHz, CDCl3) δ 3.44 (s, 3H), 3.93 (s, 6H), 4.47 (s, 2H), 6.62 (s, 2H), 7.19 (s, 2H).
製造例14
N−シクロプロピルメチル−2−エチル−7−ヨード−N−(テトラハイドロ−2H−ピラン−4−イルメチル)ピラゾロ[1,5−a]ピリジン−3−アミン
Figure 2005100354
N−シクロプロピルメチル−2−エチル−N−(テトラハイドロ−2H−ピラン−4−イルメチル)ピラゾロ[1,5−a]ピリジン−3−アミン(500mg、1.6mmol)をテトラハイドロフラン(4.5mL)に溶解し、ドライアイス−エタノール浴で冷却した。反応混合物へ−73〜−64.5℃で1.6M n−ブチルリチウム ヘキサン溶液(1.5mL,2.4mmol)を滴下した。反応混合物を1時間攪拌後、ペンタフルオロヨードベンゼン(706mg,2.4mmol) を滴下し、さらに1時間20分攪拌した。次いで反応混合物にヨウ素(406mg,1.6mmol)を加えた後、室温で攪拌した。反応混合物へチオ硫酸ナトリウム水溶液(20mL)およびヘプタン(15mL)を加えた。
この有機層および水層の混合物を十分振とう後有機層を分取した。有機層はさらに水(10mL)にて洗浄後、次いで5N塩酸(10mL)を加え、有機層と水層を十分に振とうした。
当該混合物から有機層および水層をそれぞれ分取した。
当該有機層は、減圧下で溶媒を留去し、ペンタフルオロヨードベンゼンを回収した。一方、水層は氷水浴で冷却下、5N苛性ソーダ水溶液(9mL)を加え、次いでトルエン(10mL)を加えて、この有機層と水層の混合物を十分に振とう後、有機層を分取した。水層は再度トルエン(10mL)を加え、抽出し、両有機層を合わせて濃縮し、標記化合物を深緑色オイルとして632mg得た(収率90%)。
製造例15
N−シクロプロピルメチル−2−エチル−7−ヨード−N−(テトラハイドロ−2H−ピラン−4−イルメチル)ピラゾロ[1,5−a]ピリジン−3−アミン
Figure 2005100354
窒素気流下、N−シクロプロピルメチル−2−エチル−N−(テトラハイドロ−2H−ピラン−4−イルメチル)ピラゾロ[1,5−a]ピリジン−3−アミン(1.27g,4.05mmol)のテトラヒドロフラン溶液(11mL)を、ドライアイス/エタノール浴で冷却した。反応混合物の内温が−70℃になったところで反応混合物へn−ブチルリチウム(1.6Mヘキサン溶液;3.85mL,6.08mmol)を8分間で滴下し、1時間攪拌した。次いで反応混合物中にペンタフルオロヨードベンゼン(1.62mL,12.15mmol)を10分間で滴下後1時間攪拌した。その後反応混合物へテトラヒドロフラン(2mL)、水(2mL)の混液を滴下した。その反応混合物へ水(25mL)およびヘプタン(25mL)を加えて有機層を分取した。次いでこの有機層を水(25mL)で洗浄した。
次いでこの有機層に5N塩酸(13mL)を加えて水層を分取後、この水層に5N−水酸化ナトリウム水溶液(13.5mL)を滴下し、次いでt−ブチルメチルエーテル(25mL)を加えた。この混合液から有機層を分取し、この有機層を減圧下濃縮した。残渣にアセトニトリル(6mL)と水(6mL)を加え、さらに標記化合物の種結晶を加えて激しく一晩撹拌した。析出物をろ過し、得られた析出物をアセトニトリルと水の混合液(6mL)で2回洗浄し、減圧乾燥することで灰色結晶の標記化合物1.17gを得た。(収率63%)
製造例16
N−シクロプロピルメチル−2−エチル−7−ヨード−N−(テトラハイドロ−2H−ピラン−4−イルメチル)ピラゾロ[1,5−a]ピリジン−3−アミン
Figure 2005100354
N−シクロプロピルメチル−2−エチル−7−ヨード−N−(テトラハイドロ−2H−ピラン−4−イルメチル)ピラゾロ[1,5−a]ピリジン−3−アミン塩酸塩(16g)へ飽和重曹水(200mL)を加え中性とした後、酢酸エチル(100mL)を加え、有機層を分取した。有機層を減圧下溶媒を留去した。得られた残滓にアセトニトリル(30mL)と水(120mL)を滴下し、一晩撹拌後、生じた析出物を濾取した。その析出物を減圧乾燥後、標題化合物13gを白色結晶として得た。
製造例17
N−シクロプロピルメチル−N−{7−[2,6−ジメトキシ−4−(メトキシメチル)フェニル]−2−エチルピラゾロ[1,5−a]ピリジン−3−イル}−N−(テトラヒドロ−2H−4−ピラニルメチル)アミン p−トルエンスルホン酸塩
Figure 2005100354
N−シクロプロピルメチル−N−(2−エチル−7−ヨードピラゾロ[1,5−a]ピリジン−3−イル)−N−(テトラヒドロ−2H−4−ピラニルメチル)アミン 塩酸塩(193g,405mmol)、2,6−ジメトキシ−4−(メトキシメチル)フェニルホウ酸(143g、105mmol,1.56当量)、酢酸パラジウム(4.7g,21mmol,5mol%)、トリフェニルホスフィン(27.6g,105mmol,26mol%)、炭酸カリウム(203g,1.47mmol,3.63当量)、ジメトキシエタン(6667mL)および水(3333mL)をフラスコに入れ、100℃のオイルバスによる加熱開始後、反応系内を窒素ガス置換した。還流開始から約6時間後、反応混合物を室温まで冷却した。
その後、反応混合物中にトルエン(2000mL)を加え、分離した水層を除去した。このトルエン層を5N塩酸で2回(一回目:3000mL,二回目:1000mL)抽出した。水層に酢酸イソプロピル(2000mL)を加え、氷水浴で冷却下、5N水酸化ナトリウム水溶液(4200mL)を加えpH14とし、酢酸イソプロピル層を分取した。この酢酸イソプロピル層を10%エチレンジアミン水溶液(2000mLで三回)および水(2000mLで二回)で洗浄し、濃縮した後、エタノール(400mL)を加えて共沸し、反応混合物を濃縮して緑色固体を207g得た。
この残留物を加熱下エタノール(1720mL)に溶解し、内温60℃でp−トルエンスルホン酸一水和物(65.5g、344mmol)のエタノール溶液(170mL)を3分間で滴下した。その後放冷攪拌し、内温が35℃になった時点で種結晶(100mg)を添加した。30分後、7℃の恒温槽で冷却し、15時間45分攪拌した。その後析出した結晶を濾取し、イソプロパノール(400mL)で洗浄した。結晶を60℃減圧下3.5時間乾燥し、214gの標記化合物を白色結晶として得た(収率79.5%)。

Claims (8)


  1. Figure 2005100354
    (式中、ZおよびZは、それぞれ独立してメチン基または窒素原子を意味する。
    は水素原子またはC1−6アルキル基を意味する。
    は式−R10−R11(式中、R10は単結合、酸素原子または硫黄原子を意味する;R11はメチル基またはエチル基を意味する。)で表わされる基またはメトキシメチル基を意味する。
    およびRはそれぞれ独立して、水素原子、t−ブトキシカルボニル基または式−X21−X31(式中、X21はメチレン基またはカルボニル基を意味する;X31はC1−6アルキル基、C3−8シクロアルキル基、テトラヒドロピラン−イル基またはテトラヒドロフラン−イル基を意味する。)で表わされる基を意味する。)で表わされる化合物(I)と有機金属試薬とを反応させた後、ペンタフルオロヨードベンゼンを反応させることを特徴とする、式
    Figure 2005100354
    (式中、Z、Z、R、R、RおよびRは前記Z、Z、R、R、RおよびRとそれぞれ同意義である。)で表わされる化合物(II)もしくはその塩またはそれらの溶媒和物の製造方法。
  2. 有機金属試薬がn−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、フェニルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、n−ブチルマグネシウムブロマイドまたはイソプロピルマグネシウムブロマイドである請求項1記載の製造方法。
  3. ペンタフルオロヨードベンゼンを反応させた後、ヨウ素を加えることを特徴とする請求項1記載の製造方法。
  4. 金属触媒、リン酸塩およびアミン化合物存在下、式
    Figure 2005100354
    (式中、Z、Z、RおよびRは請求項1記載のZ、Z、RおよびRとそれぞれ同意義である。Xは、脱離基を意味する。Rは、水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子または式
    Figure 2005100354
    (式中、R41、R42、およびR43はそれぞれ独立して(1)水素原子、(2)ハロゲン原子、(3)フッ素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ基、C1−6アルコキシ基、ピロリジニル基、ピペラジニル基、ピペリジル基、モルホリニル基、C3−8シクロアルキル基、テトラヒドロピラン−イル基およびテトラヒドロフラン−イル基からなる群から選ばれる基を1〜2個有していてもよいC1−6アルコキシ基または(4)フッ素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ基、C1−6アルコキシ基、ピロリジニル基、ピペラジニル基、ピペリジル基、モルホリニル基、C3−8シクロアルキル基、テトラヒドロピラン−イル基およびテトラヒドロフラン−イル基からなる群から選ばれる基を1〜2個有していてもよいC1−6アルキル基を意味する。)で表わされる基を意味する。)で表される化合物と式
    Figure 2005100354
    (式中、R20およびR30はそれぞれ独立して、水素原子または式−X22−X32(式中、X22はメチレン基またはカルボニル基を意味する;X32はC1−6アルキル基、C3−8シクロアルキル基、テトラヒドロピラン−イル基またはテトラヒドロフラン−イル基を意味する。)で表わされる基を意味する。)で表される化合物とを反応させることを特徴とする式
    Figure 2005100354
    (式中、R20、R30およびRは前記R20、R30およびRとそれぞれ同意義である。Z、Z、RおよびRは請求項1記載のZ、Z、RおよびRとそれぞれ同意義である。)で表わされる化合物もしくはその塩の製造方法。
  5. 金属触媒がヨウ化銅(I)、ヨウ化銅(II)、臭化銅(I)、臭化銅(II)、塩化銅(I)、塩化銅(II)、酢酸銅(I)、 酢酸銅(II)または酸化銅である請求項4記載の製造方法。
  6. リン酸塩がリン酸三カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸三ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸三リチウム、リン酸水素二リチウムもしくはリン酸マグネシウムまたはそれらの水和物である請求項4記載の製造方法。
  7. アミン化合物が1,2−シクロヘキサンジアミン、N,N'−ジメチルエチレンジアミン、テトラメチルエチレンジアミンまたはフェナンスロリンである請求項4記載の製造方法。

  8. Figure 2005100354
    で表わされる化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物。
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