JPWO2015174377A1 - 2−ピリドン化合物の製造方法 - Google Patents

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Abstract

本発明は、医薬品または医薬品中間体として有用な2−ピリドン化合物である式(1)で表される化合物等を、高収率で製造する方法を提供することを課題とする。[化1]式(3)で表される6−ベンゾイル−2−ピリドン化合物と、式(4)で表されるスルホン化合物を反応させることを特徴とする、式(1)で表される、2−ピリドン化合物の製造方法。[化2]

Description

本発明は、2−ピリドン化合物の製造方法に関する。
式(2)で表される2−ピリドン化合物(化合物(2))は、一連の2−ピリドン化合物を請求する糖尿病治療薬の化合物特許(特許文献1)のクレームに含まれる化合物であり、医薬品としての使用の可能性が知られている。
Figure 2015174377
そのため化合物(2)の具体的な製造方法が求められていた。
国際公開第2011/068211号
本発明は、2−ピリドン化合物を製造する方法を提供する。
上記課題に対し、本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、鍵中間体である6−ベンゾイル−2−ピリドン化合物の合成ルートを構築し、その中間体を原料として、化合物(1)が得られることを見出した。
Figure 2015174377
6−ベンゾイル−2−ピリドン化合物を原料とした化合物(1)の製造において、本発明者らが特許文献1に記載の一般的合成方法の応用を試みたところ、目的物とするZ体である化合物(1)の他に、E体である化合物が副生することが判明した。E体である化合物の副生により、目的とする化合物(1)の収率が低下し、さらにその精製にはカラムクロマトグラフィーを用いる必要があったため、工業的な製造法としては課題があった。そこで本発明者らは、化合物(1)の製造において、鋭意検討し、Z体である化合物(1)の選択的な製造方法を見出した。
Figure 2015174377
また本発明者らは、上記方法により得られる化合物(1)をナトリウム塩とする事により結晶化することを初めて見出し、カラムクロマトグラフィーを必要としない精製方法を確立した。
さらに、本発明者らは、下記のスキームの化合物(1)を、化合物(2)へと誘導する工業的に応用可能な製造方法を見出し、本発明を完成させた。
Figure 2015174377
すなわち本発明は、以下を特徴とするものである。
(I)
式(3)で表される6−ベンゾイル−2−ピリドン化合物と、式(4)で表されるスルホン化合物を反応させることを特徴とする、式(1)で表される、2−ピリドン化合物の製造方法。
Figure 2015174377
(II)
尿素誘導体存在下で反応させる、(I)に記載の製造方法。
(III)
尿素誘導体が、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンである、(II)に記載の製造方法。
(IV)
式(1)で表される化合物。
Figure 2015174377
(V)
式(3)で表される化合物。
Figure 2015174377
(VI)
式(1)で表される化合物のナトリウム塩。
Figure 2015174377
(VII)
式(6)で表される化合物。
Figure 2015174377
(VIII)
式(7)で表される化合物。
Figure 2015174377
(IX)
式(8)で表される化合物。
Figure 2015174377
(X)
式(9)で表される化合物。
Figure 2015174377
(XI)
式(10)で表される化合物。
Figure 2015174377
本発明により、医薬品又はその中間体として有用な2−ピリドン化合物の製造法を提供することができた。
本発明のナトリウム(R,Z)−3−シクロプロピル−6−{1−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]−2−[5−オキソピロリジン−2−イル]ビニル}ピリジン−2−オラートの結晶の粉末X線回折パターンを示す。
以下に、本発明について詳細に説明する。
本発明において、「n」はノルマルを、「i」はイソを、「s」及び「sec」はセカンダリーを、「t」及び「tert」はターシャリーを、「c」はシクロを、「o」はオルトを、「m」はメタを、「p」はパラを、「Boc」はt−ブトキシカルボニルを、「Me」はメチルを示す。又、「(E)」はE体を、「(Z)」はZ体を意味する。
ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を意味する。
1−4アルキル基とは、炭素原子を1乃至4個有する直鎖又は分枝状のアルキル基を意味し、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s−ブチル基又はt−ブチル基を意味する。
次に本発明における各製造ルートについて詳細に説明する。
1.化合物(3)の製造方法
化合物(3)の一般的な製造法をスキーム1〜3に示すが、一般的製造法例を示すものであり、製造法を限定するものではない。工程を実施する順番を変更する、ヒドロキシ基等に保護基を施して反応を実施し後の工程で脱保護を実施する、それぞれの工程途中において新たな工程を追加する等の当業者において周知の方法を用いる事でも化合物(3)は製造出来る。
本発明化合物の製造において、出発原料又は中間体等に含まれる官能基の適当な保護及び脱保護の方法は、当業者に周知の方法、例えば、グリーンズ プロテクティブ グループス イン オーガニック シンセシス(Greene’s Protective Groups in Organic Synthesis) ジョン・ウィリー アンド サンズ(John Wily and Sons社)2006年刊等に記載の方法に準じて実施することができる。
スキーム1:化合物(1−a)から化合物(3)の製造方法。
Figure 2015174377
(スキーム1中、Gはヒドロキシピリジル基中のヒドロキシ基の保護基を示す。)
化合物(1−a)および化合物(1−b)は、国際公開第2008/103185号に記載されている方法又はそれに準じる方法により入手することができる。
工程(1−1)及び工程(1−2):
化合物(1−a)とヘテロアリールリチウム等のリチウム試薬、ヘテロアリールマグネシウムブロミド等のグリニャール試薬などのアニオンを用いた「付加反応」を行い、得られた化合物を塩酸等の酸で処理することにより化合物(1−c)を製造することができる。
該「付加反応」としては、例えば、化合物(1−b)を基質とし、不活性溶媒中、−78℃乃至100℃の温度でn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、ジイソプロピルマグネシウムブロミド等の有機金属試薬やマグネシウム等の金属試薬やリチウムビス(トリメチルシリル)アミド、カリウムビス(トリメチルシリル)アミド等の塩基を用いることにより発生したアニオンと化合物(1−a)のニトリル化合物を反応させる方法が挙げられる。
工程(1−3):
化合物(1−c)が有する保護基Gの「脱保護反応」を行うことにより化合物(3)を製造することができる。
該「脱保護反応」としては、例えば、(i)保護基Gがアルキル基又はアリル基である場合、0℃乃至200℃の温度で、不活性溶媒中、酸、又は強酸存在下加水分解反応により除去する方法や、トリメチルシリルヨージド等を用いた方法や塩化アルミニウムとアルキルチオールを用いた方法などの脱保護反応を挙げることができ、更に(ii)保護基Gがベンジル基、4−メトキシベンジル基、2,4−ジメトキシベンジル基、ベンジルオキシカルボニル基、又はベンズヒドリル(ジフェニルメチル)基等である場合、0℃乃至80℃の温度で、不活性溶媒中、酸存在下又は非存在下、パラジウム−活性炭素、又はロジウム−活性炭素等を触媒量用いた加水素分解反応により除去する方法、又は硝酸セリウム(IV)アンモニウムや2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−p−ベンゾキノン等の酸化剤を使用する方法が挙げられる。又、保護基Gがアルキル基である場合は、Gは、C1−4アルキル基を表し、好ましくはメチル基又はエチル基であり、より好ましくはメチル基である。
スキーム2:化合物(2−a)から化合物(3)の製造方法。
Figure 2015174377
化合物(2−a)及び化合物(2−b)は、市販化合物として入手できる。
工程(2−1)及び工程(2−2):
化合物(2−a)とフェニルアリールリチウム等のリチウム試薬、フェニルアリールマグネシウムブロミド等のグリニヤール試薬などのアニオンを用いた「付加反応」を行い、得られた化合物を塩酸等の酸で処理することにより化合物(6)を製造する事ができる。
「付加反応」としては、既述である工程(1−1)及び工程(1−2)の「付加反応」と同様の反応が挙げられる。
工程(2−3):
化合物(6)に対し、酸化剤を用いて「酸化反応」を行うことにより、化合物(7)を製造する事ができる。
「酸化反応」としては、例えば、クロロホルム、水等の不活性溶媒中、「酸化剤」を、−20℃乃至60℃で化合物(6)と反応させることにより、化合物(7)を与える方法が挙げられる。
該「酸化剤」としては、例えば、メタクロロ過安息香酸等の過酸が考えられる。過酸は過酸化水素と酸又は酸無水物との組み合わせにより系中で発生させて用いる事も出来る。
工程(2−4):
化合物(7)に対し、酸無水物を用いて「転移反応」を行うことにより、化合物(3)を製造する事ができる。
「転移反応」としては、例えば、クロロホルム、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、メチルt−ブチルエーテル等の不活性溶媒中、無水トリフルオロ酢酸等の酸無水物を、−20℃乃至60℃で化合物(7)と反応させることにより、化合物(3)を与える方法が挙げられる。
スキーム3:化合物(3−a)から化合物(3)の製造方法。
Figure 2015174377
(スキーム3中、Xはハロゲン原子を示し、Gは上記に同じである。)
化合物(3−a)は、国際公開第2008/103185号に記載されている方法又はそれに準じる方法により入手することができる。
工程(3−1):
化合物(3−a)を基質として、シクロプロピルマグネシウム化合物、シクロプロピル亜鉛化合物又はシクロプロピルボロン酸との「カップリング反応」を行うことにより、化合物(3−b)を製造することができる。
該「カップリング反応」とは、例えば、−20℃乃至40℃で、1,2−ジメトキシエタン、塩化メチレン、アセトニトリル、トルエン、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、N−メチルピロリドン又は1,4−ジオキサン等の不活性溶媒中、パラジウム、ニッケル又は鉄触媒存在下、シクロプロピルマグネシウム化合物、シクロプロピル亜鉛化合物又はシクロプロピルボロン酸と反応させる方法が挙げられる。
「カップリング反応」に用いるパラジウム触媒としては、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)アセテート又は[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリド ジクロロメタン錯体(1:1)等の当業者に公知のパラジウム触媒が挙げられる。また、酢酸パラジウム(II)又はパラジウム−活性炭素とトリフェニルホスフィンを用いて系中でパラジウム(0)触媒を発生させて反応に用いることもできる。
「カップリング反応」に用いるニッケル触媒としては、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケル(II)ジクロリド等の当業者に公知のニッケル触媒が挙げられる。また、塩化ニッケル(II)とトリフェニルホスフィンを用いて系中でニッケル触媒を発生させて反応に用いることもできる。
「カップリング反応」に用いる鉄触媒としては、トリス(2,4−ペンタンジオナト)鉄(III)等の当業者に公知の鉄触媒が挙げられる。また、系中で鉄触媒を発生させて反応に用いることもできる。
工程(3−2)及び工程(3−3):
化合物(3−b)とフェニルアリールリチウム等のリチウム試薬、フェニルアリールマグネシウムブロミド等のグリニヤール試薬などのアニオンを用いた「付加反応」を行い、得られた化合物を塩酸等の酸で処理することにより、化合物(1−c)を製造する事ができる。
「付加反応」としては、上記スキーム1における工程(1−1)及び工程(1−2)で記載した付加反応が挙げられる。
工程(3−4):
上記スキーム1における工程(1−3)の反応を実施することにより、化合物(3)を製造することができる。
2.化合物(1)の製造方法
化合物(1)の製造方法をスキーム4に示す。
スキーム4:化合物(3)から化合物(1)の製造方法。
Figure 2015174377
工程(4−1):
化合物(3)を基質として、塩基を用いて化合物(4)との「カップリング反応」を行うことにより、化合物(1)を製造することができる。
該「カップリング反応」に用いる化合物(4)は、国際公開第2008/103185号に記載されている方法により入手することができる。
「カップリング反応」で得られる化合物(1)はE体との混合物として得られる。
「カップリング反応」に使用する塩基は、特に種類は限定されず、単独で用いても、他に複数の塩基を混合して用いても良い。塩基としては有機塩基又は有機金属塩基が望ましく、アルキル、アリル又はその両方で置換されたシリル基が置換されているアミンのアルカリ金属塩基がより好ましく、リチウムビス(トリメチルシリル)アミドがさらに好ましい。
塩基は、化合物(3)に対して、1.0〜20.0モル当量用いるのが好ましく、3.0〜10.0モル当量がより好ましい。
化合物(4)は、化合物(3)に対して、1.0〜10.0モル当量用いるのが好ましく、1.0〜3.0モル当量がより好ましい。
「カップリング反応」は、溶媒の存在下で行うのが好ましく、使用される溶媒としては反応を阻害しないものならば特に限定されない。好ましい溶媒の例としては、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン等)、芳香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレン等)、エーテル類(ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、t−ブチルメチルエーテル等)、ハロゲン化脂肪族炭化水素類(塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等)、ニトリル類(アセトニトリル、プロピオニトリル等)、アミド系(N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド)などが挙げられ、より好ましくは脂肪族炭化水素類、エーテル類であり、さらに好ましくはヘキサン、テトラヒドロフランであり、特に好ましくはテトラヒドロフランである。
溶媒は、単独で用いても、複数の溶媒を混合して用いても良い。更に溶媒の使用量としては、一般的には基質が結晶か否か、粘性が高いか否か等によっても影響を受けるので、基質の種類に応じて任意に設定可能であり、一部でも溶解できる範囲であれば構わないが、攪拌効率、容積効率の影響等の点から、通常、化合物(3)の基質濃度として1〜50重量%、好ましくは2〜20重量%、より好ましくは3〜10重量%である。
「カップリング反応」は、−78℃から反応媒体の沸点までのいずれでも行なうことができるが、反応操作及び工業的観点から、通常−40℃以上60℃以下、好ましくは−30℃以上50℃以下、より好ましくは−20℃以上40℃以下で行なわれる。
「カップリング反応」は、添加剤の存在下に行ってもよい。添加剤としては尿素誘導体(1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、1,3−ジメチル−3,4,5,6−テトラヒドロ−2(1H)−ピリミジノン、テトラメチル尿素等)が好ましく、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンがより好ましい。尿素誘導体の存在下にカップリング反応を行うことにより、生成する化合物のE体とZ体の生成割合が変化し、Z体である化合物(1)の選択性及び収率が向上する。
添加剤を用いる場合、単独で用いても、複数の添加剤を混合して用いても良い。用いる場合の添加剤の使用量としては、基質の種類に応じて任意に設定可能であり、基質である化合物(3)に対して0.1〜100重量倍、好ましくは1〜20重量倍、より好ましくは2〜6重量倍である。
「カップリング反応」の終了後は、反応液に硫酸水等の酸性水溶液を添加し、攪拌することで、有機金属化合物を分解し、分液により主に塩基由来成分を除去した後、炭酸ナトリウム水溶液等のアルカリ性溶液を加え、分液して目的物を抽出する。得られた有機層をカラムクロマトグラフィーや晶析等の精製操作を行うことで目的物を得ることができる。
3.式(1)で表される化合物のナトリウム塩の製造方法
式(1)で表される化合物のナトリウム塩(以下、化合物(5)ともいう)の製造方法をスキーム5に示す。
スキーム5:化合物(1)から化合物(5)の製造方法。
Figure 2015174377
工程(5−1):
化合物(1)を基質として、ナトリウムアルコキシドを用いてナトリウム塩とすることにより化合物(5)を製造することができる。化合物(5)は結晶化して高純度の化合物(5)とすることができる。塩形成や結晶化における溶媒としてはアルコール溶媒やエステル溶媒が好ましい。ナトリウムアルコキシドはアルコール溶媒に溶解して使用し、化合物(1)はエステル溶媒に溶解して使用することが好ましい。
使用するナトリウムアルコキシドは、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムn−プロポキシド、ナトリウムi−プロポキシド、ナトリウムn−ブトポキシド、ナトリウムs−ブトポキシド、ナトリウムt−ブトポキシド等の炭素数が1乃至4のアルコキシドであり、好ましくはナトリウムメトキシドである。
ナトリウムアルコキシドはアルコキシドに対応するアルコールの溶液を用いるのがより好ましい。
これらのナトリウムアルコキシドは、他のナトリウムアルコキシドと任意の割合で混合して使用することができる。
また、これらのナトリウムアルコキシドは、化合物(1)に対して、1.0〜10.0モル当量用いるのが好ましく、1.0〜3.0モル当量がより好ましい。
使用するアルコール溶媒は、メタノール、エタノール、n−プロパノール、i−プロパノール、n−ブタノール、s−ブタノール、t−ブタノール等の炭素数が1乃至4のアルコールであり、好ましくはメタノールである。ナトリウムアルコキシドの溶液としてアルコールを加えても良い。
これらの溶媒は、他の溶媒と任意の割合で混合して使用することができる。
アルコール溶媒は、単独で用いても、複数の溶媒を混合して用いても良い。更に溶媒の使用量としては、ナトリウムアルコキシドを溶解する場合はその溶解度によっても影響を受けるので、ナトリウムアルコキシドの種類に応じて任意に設定可能であり、一部でも溶解できる範囲であれば構わないが、通常、ナトリウムアルコキシドの濃度として1〜90重量%、好ましくは5〜60重量%、より好ましくは10〜40重量%である。
使用するエステル溶媒は、ギ酸エステル(ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸n−プロピル)、又は酢酸エステル(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸i−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、酢酸t−ブチル)であり、好ましくは酢酸エチルである。
これらの溶媒は、他の溶媒と任意の割合で混合して使用することができる。
エステル溶媒は、単独で用いても、複数の溶媒を混合して用いても良い。更に溶媒の使用量としては、一般的には基質が結晶か否か、粘性が高いか否か等によっても影響を受けるので、基質の種類に応じて任意に設定可能であり、一部でも溶解できる範囲であれば構わないが、攪拌効率、容積効率の影響等の点から、通常、化合物(1)の基質濃度として1〜50重量%、好ましくは2〜20重量%、より好ましくは3〜10重量%である。
化合物(1)はナトリウムアルコキシドと混合させる事、ナトリウムアルコキシドと混合後に加熱、冷却、濃縮、溶解後溶解性の低い溶媒(貧溶媒)を加える方法のいずれか、もしくはこれらを組み合わせた方法で結晶化する。
結晶化の温度は、特記ない限り、−20℃から80℃の範囲で行なわれるが、好ましくは−10℃から50℃である。
結晶化に際しては、種晶を使用することができる。種晶は、目的物溶液の入った容器の壁をスパーテルでこするなど、当業者にとってよく知られた方法で取得しておくことができる。
化合物(1)のナトリウム塩である化合物(5)は、化合物(1)とナトリウムアルコキシドから製造される塩であり、化合物(1)のアニオンとナトリウムカチオンから構成される塩である。更にかかる塩の構成の比率については、化合物(1)のアニオン:ナトリウムカチオンの比率は1:1で構成されている。
なお、化合物(5)の構造については、式(5A)、式(5B)又は式(5C)で表される化合物の可能性があり、本発明では、化合物(5)は、式(5A)、式(5B)及び式(5C)で表される化合物の1種、又はそれらの2種以上の混合物を意味するものとする。
Figure 2015174377
結晶の特徴は、粉末X線回折測定により分析できる。粉末X線回折測定により得られるピークの位置(ピーク値)は2θで表される。ピーク値は、測定条件などにより変化することがある。また結晶形の同異は、測定条件、ピーク値、回折パターンなどを総合的に解析して決定すべきである。
粉末X線回折ピークの誤差としては通常±0.2を取り得るので、実施例6に記載した結晶の誤差を考慮したピーク値は通常
2θ=6.9±0.2,7.6±0.2,8.8±0.2,11.5±0.2,13.1±0.2,13.6±0.2,16.1±0.2,17.4±0.2,19.6±0.2,20.7±0.2,23.6±0.2である。
4.化合物(2)の製造方法
化合物(5)及び化合物(1)は、化合物(2)へと誘導する事が出来る。その一般的な製造法をスキーム6に示すが、一般的製造法例を示すものであり、製造法を限定するものではない。工程を実施する順番を変更する、アミド基等に保護基を施して反応を実施し後の工程で脱保護を実施する、それぞれの工程途中において新たな工程を追加する等の当業者において周知の方法を用いる事でも化合物(2)は製造出来る。
化合物(2)の合成において、出発原料又は中間体等に含まれる官能基の適当な保護及び脱保護の方法は、化合物(3)の一般的な製造法と同様に当業者に周知の方法に準じて実施することができる。
スキーム6:化合物(5)から化合物(2)の製造方法。
Figure 2015174377
(スキーム6中、Gは2−ピリドン基中の窒素原子の保護基を示す。Gはオキソ基で置換されたピロリジニル基中の窒素原子の保護基を示す。)
工程(6−1):
化合物(5)を水と分液可能な有機溶媒中、酸や塩等の水溶液との分液操作をする事により化合物(1)を得ることができる。
工程(6−2):
化合物(1)に二炭酸ジ−tert−ブチル等を作用させることにより、保護基G及び保護基Gを有する化合物(6−a)を製造することができる。
工程(6−3):
化合物(6−a)を基質とし、−20℃乃至80℃で、不活性溶媒中、パラジウム−活性炭素、ロジウム−活性炭素、又は白金−活性炭素等を触媒量用いた「接触水素添加反応」により還元することで、化合物(6−b)を製造することができる。この製造には必要に応じて酸又は塩基を添加する事ができる。
工程(6−4):
化合物(6−b)が有する保護基G、Gの「脱保護反応」を行うことにより化合物(2)を製造することができる。
該「脱保護反応」としては、塩酸やトリフルオロ酢酸などの酸を用いた方法が挙げられる。
以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
シリカゲルカラムクロマトグラフィーには、関東化学「シリカゲル60」または富士シリシア「PSQ60B」またはパックドカラム(YAMAZEN Hi−FlashTM Column または MORITEX Purif Pack または Biotage(登録商標)SNAP KP−Sil Catridge)を使用した。
本明細書中で用いられている略語は下記の意味を示す。
s : シングレット(singlet)
d : ダブレット(doublet)
t : トリプレット(triplet)
q : クァルテット(quartet)
dd : ダブルダブレット(double doublet)
m : マルチプレット(multiplet)
br : ブロード(broad)
J : カップリング定数(coupling constant)
Hz : ヘルツ(Hertz)
CDCl : 重クロロホルム
V/V : 体積対体積を意味する
H−NMRデータが記載してある場合は、テトラメチルシランを内部標準物質としたシグナルの化学シフトδ(単位:ppm)(分裂パターン、積分値)を表す。H−NMR(プロトン核磁気共鳴スペクトル)は下記のフーリエ変換型NMRで測定した。
300MHz: JNM−ECP300 (JEOL), JNM−ECX300 (JEOL)
600MHz: JNM−ECA600 (JEOL)
解析にはACD/SpecManager ver.12.01(商品名)などを用いた。
MS(マススペクトル)は以下の装置にて測定した。
micromass ZQ (Waters)
LTQ XL (Thermo Fisher Scientific)
LCMS−2010EV (Shimadzu)
LCMS−IT−TOF (Shimadzu)
Agilent 6150 (Agilent)
LCQ Deca XP (Thermo Fisher Scientific)
イオン化法としては、ESI(Electrospray Ionization、エレクトロスプレーイオン化)法または、ESIとAPCI(Atmospheric Pressure Chemical Ionization、大気圧化学イオン化)法とのデュアルイオン化法を用いた。
粉末X線回折測定は、リガク製MiniFlex600(線源:Cu、波長:1.54(10−10m)、パナリティカル社製X‘PertPRO(線源:Cu、波長:1.54(10−10m)を用いて行なった。
化合物名はACD/Name ver.12.01(商品名)などを用いて命名した。
実施例1
化合物(3)の製造(その1)
(1)(5−シクロプロピル−6−メトキシピリジン−2−イル)[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]メタノン
Figure 2015174377
窒素雰囲気下、−78℃において、6−ブロモ−3−シクロプロピル−2−メトキシピリジン(41.5g)のテトラヒドロフラン(273mL)溶液に1.6M n−ブチルリチウムのヘキサン溶液(127mL)を50分かけて滴下した後、−78℃で1時間攪拌した。続いて−78℃のまま反応溶液に4−(1,1−ジフルオロエチル)ベンゾニトリル(24.3g)のテトラヒドロフラン(137mL)溶液を75分かけて滴下し、さらに1時間攪拌した。反応溶液を0℃に昇温後、1M塩酸(437mL)、テトラヒドロフラン(365mL)、1M塩酸(146mL)の順に滴下した。
反応液を有機層と水層に分離後、水層を酢酸エチル(1000mL)で抽出した。あわせた有機層に無水硫酸マグネシウムを加え乾燥させ、乾燥剤をろ別後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=100/0→19/1,V/V)で精製し、表題化合物(34.0g,収率74%)を無色油状物質として得た。
H NMR(300MHz,CDCl)δ ppm 0.72−0.81(m,2H),1.00−1.10(m,2H),1.96(t,J=18.2Hz,3H),2.10−2.25(m,1H),3.95(s,3H),7.24(d,J=6.9Hz,1H),7.59(d,J=9.0Hz,2H),7.67(d,J=7.8Hz,1H),8.21(d,J=8.6Hz,2H).
MS(+):318[M+H]
(2)化合物(3):3−シクロプロピル−6−[4−(1,1−ジフルオロエチル)ベンゾイル]ピリジン−2(1H)−オン
窒素雰囲気下、23〜24℃において(5−シクロプロピル−6−メトキシピリジン−2−イル)[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]メタノン(76.31g)とヨウ化カリウム(146.97g)のアセトニトリル(656.07g)溶液にトリメチルシリルクロライド(104.36g)を5分かけて滴下した後、3時間32分かけて64℃まで昇温後、63〜64℃で5時間14分攪拌した。室温まで冷却して14時間攪拌後に64℃まで加熱しながら1時間30分攪拌した。冷却後17〜30℃において炭酸ナトリウム(50.97g)と水(201.34g)を混合させた水溶液を10分かけて滴下した後、水(102.93g)を加えて減圧下溶媒を留去して669.38gとした。得られた残渣に酢酸エチル(760.66g)を加えた後に混合後有機層と水層に分液した。有機層に10%チオ硫酸ナトリウム水溶液(349.82g)を加えて混合後有機層と水層に分液した。有機層に10%チオ硫酸ナトリウム水溶液(350.40g)を加えて混合後有機層と水層に分液した。有機層に対し減圧下溶媒を留去して116.49gとした後に、酢酸エチル(1496.40g)を加え、33℃まで昇温した。10%チオ硫酸ナトリウム水溶液(353.05g)と飽和食塩水(107.24g)を加えて混合後有機層と水層に分液した。
有機層に対し減圧下溶媒を留去して、有機層の重量を79.79gとした後、酢酸エチル(383.57g)を加え、40℃まで昇温した後に38〜41℃においてノルマルヘプタン(385.13g)を11分かけて滴下した後、42分かけて5℃まで冷却して15分攪拌することで懸濁液とした。得られた固体を濾過し、冷却した酢酸エチル(77.09g)とノルマルヘプタン(76.26g)の混合液で洗浄後、50℃で3時間減圧乾燥を行うことで表題化合物(67.95g、収率93.2%)を黄色固体として得た。
H NMR(300MHz,CDCl)δ ppm 0.78−0.83(m,2H),1.08−1.14(m,2H),1.96(t,J=18.2Hz,3H),2.25−2.35(m,1H),6.68(d,J=6.8Hz,1H),6.91(d,J=7.2Hz,1H),7.65(d,J=8.2Hz,2H),7.80(d,J=8.2Hz,2H),9.62(s,1H).
MS(+):304[M+H]
実施例2
化合物(3)の製造(その2)
(1)(5−シクロプロピルピリジン−2−イル)[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]メタノン
Figure 2015174377
窒素雰囲気下、−70℃以下にて1−ブロモ−4−(1,1−ジフルオロエチル)ベンゼン(5.54g)のテトラヒドロフラン(5.41g)溶液に1.6M n−ブチルリチウムのヘキサン溶液(13.9mL)を24分かけて滴下した後、テトラヒドロフラン(2.71g)で洗い込んだ。−70℃以下で1時間攪拌した後に−70℃以下にて5−シクロプロピルピコリノニトリル(2.77g)のテトラヒドロフラン(4.20g)溶液を15分かけて滴下し、テトラヒドロフラン(2.74g)で洗い込んだ。4時間19分撹拌後、室温まで昇温した。濃塩酸(4.48g)と水(5.43g)を加えて8分撹拌後に有機層と水層に分液した。得られた水層に酢酸エチル(11.08g)を加えて10分撹拌後に有機層と水層に分液した。得られた有機層を混合し、炭酸水素カリウム(1.35g)と水(8.43g)を混合した水溶液を加えて6分撹拌後有機層と水層に分液した。得られた有機層に塩化ナトリウム(0.55g)と水(8.43g)を混合した水溶液を加えて5分間撹拌後有機層と水層に分液した。得られた有機層に対し減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=19/1,V/V)で精製して油状物質(5.87g)を得た。
得られた油状物質にヘキサン(10.19g)と酢酸エチル(1.03g)を加え、50℃に昇温後に冷却し、36℃にて酢酸エチル(0.51g)を加えた。その後氷冷して4分撹拌する事で懸濁液とした。得られた固体を濾過し、冷却した酢酸エチル(0.75g)とヘキサン(4.95g)の混合液で洗浄後、40℃で減圧乾燥を行うことで表題化合物(3.98g、収率72.1%)を白色固体として得た。
H NMR(300MHz,CDCl)δ ppm 0.80−0.94(m,2H),1.12−1.24(m,2H),1.84−2.07(m,4H),7.46(dd,J=2.4,8.2Hz,1H),7.60(d,J=8.6Hz,2H),8.00(d,J=8.2Hz,1H),8.10(d,J=8.2Hz,2H),8.49(d,J=2.0Hz,1H).
MS(+):288[M+H]
(2)5−シクロプロピル−2−[4−(1,1−ジフルオロエチル)ベンゾイル]ピリジン1−オキサイド
Figure 2015174377
窒素雰囲気下、(5−シクロプロピルピリジン−2−イル)[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]メタノン(20.00g)のクロロホルム(100.00g)溶液にメタクロロ過安息香酸(30%含水品、34.32g)を加え、クロロホルム(10.02g)で洗い込んだ後に25℃で4時間攪拌した。この反応液にクロロホルム(150.01g)とチオ硫酸ナトリウム(14.31g)と水(60.01g)を混合した水溶液と5%炭酸水素ナトリウム水溶液(60.01g)を加え、混合後有機層と水層に分液した。有機層に5%炭酸水素ナトリウム水溶液(60.00g)を加え、混合後有機層と水層に分液した。有機層に5%炭酸水素ナトリウム水溶液(120.01g)を加え、混合後有機層と水層に分液した。有機層に5%炭酸水素ナトリウム水溶液(120.00g)を加え、混合後有機層と水層に分液した。有機層に水(60.02g)を加え、混合後有機層と水層に分液した。得られた有機層に対し減圧下溶媒を留去し、淡黄色固体(25.33g)を得た。得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=1/1,V/V)で精製し、表題化合物(18.05g,収率85.5%)を淡黄色固体として得た。
H NMR(300MHz,CDCl)δ ppm 0.81−0.92(m,2H),1.14−1.28(m,2H),1.91(t,J=18.2Hz,3H),1.87−2.04(m,1H),7.07(dd,J=1.7、8.3Hz,1H),7.34(d,J=8.3Hz,1H),7.59(d,J=8.3Hz,2H),7.86(d,J=8.3Hz,2H),7.99(d,J=1.4Hz,1H).
MS(+):304[M+H]
(3)化合物(3):3−シクロプロピル−6−[4−(1,1−ジフルオロエチル)ベンゾイル]ピリジン−2(1H)−オン
窒素雰囲気下、5−シクロプロピル−2−[4−(1,1−ジフルオロエチル)ベンゾイル]ピリジン1−オキサイド(12.00g)の2−メチルテトラヒドロフラン(120.02g)溶液に無水トリフルオロ酢酸(59.82g)を加えて23〜26℃にて7時間攪拌した。この反応液に水酸化ナトリウム(22.15g)と水(36.00g)を混合した水溶液を滴下後に炭酸水素カリウム(11.88g)と水(108.00g)を混合した水溶液を加え、クロロホルム(72.08g)を加えて混合後に有機層と水層に分液した。得られた水層にクロロホルム(60.00g)を加えて撹拌後に有機層と水層に分液した。得られた有機層を混合し、水(60.00g)を加えて撹拌後に有機層と水層に分液した。得られた有機層に対し減圧下溶媒を留去した後に室温で減圧乾燥する事により淡黄色固体(11.77g)を得た。
得られた固体に酢酸エチル(47.08g)を加え、50〜51℃にて30分懸濁状態で攪拌した。これを冷却して1℃にて30分攪拌した。得られた固体を濾過し、酢酸エチル(17.67g)で洗浄後、50℃で2時間減圧乾燥を行うことで表題化合物(9.07g、収率75.6%)を淡黄色固体として得た。
MS(+):304[M+H]
実施例3
化合物(3)の製造(その3)
(1)5−シクロプロピル−6−メトキシピコリノニトリル
Figure 2015174377
窒素雰囲気下、6〜7℃にて5−クロロ−6−メトキシピコリノニトリル(0.50g)のテトラヒドロフラン(2.51g)、N−メチルピロリドン(2.50g)溶液にトリス(2,4−ペンタンジオナト)鉄(III)(0.05g)を加えた後に0.7M シクロプロピルマグネシウムブロマイドのテトラヒドロフラン溶液(5.93mL)を加え、4〜7℃にて1時間15分攪拌した。この反応液に水(5.00g)と酢酸エチル(5.00g)を加えて混合後に有機層と水層に分液した。得られた水層に酢酸エチル(5.02g)を加えて混合後に有機層と水層に分液した。得られた水層に酢酸エチル(5.01g)を加えて混合後に有機層と水層に分液した。得られた有機層を混合した後、飽和食塩水(5.00g)を加えて混合後に有機層と水層に分液した。得られた有機層に無水硫酸マグネシウムを加え乾燥させ、乾燥剤をろ別後に減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン、酢酸エチル)で精製し、表題化合物(0.29g,収率55.8%)を淡黄色固体として得た。
H NMR(600MHz,CDCl)δ ppm 0.69−0.75(m,2H),1.02−1.09(m,2H),2.10−2.16(m,1H),4.00(s,3H),7.10(d,J=7.4Hz,1H),7.20(d,J=7.4Hz,1H).
MS(+):175[M+H]
(2)(5−シクロプロピル−6−メトキシピリジン−2−イル)[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]メタノン
Figure 2015174377
窒素雰囲気下、−60℃以下にて1−ブロモ−4−(1,1−ジフルオロエチル)ベンゼン(0.17g)のテトラヒドロフラン(0.61g)溶液に1.6M n−ブチルリチウムのヘキサン溶液(0.4mL)を滴下して1時間攪拌した後に、5−シクロプロピル−6−メトキシピコリノニトリル(0.10g)のテトラヒドロフラン(0.30g)溶液を4分かけて滴下した。2時間2分撹拌後、室温まで昇温した。5%塩酸水溶液(0.93g)を加えて攪拌した後に水と酢酸エチルを加えて混合後有機層と水層に分液した。得られた水層に酢酸エチル(4mL)を加えて混合後に有機層と水層に分液した。両方の有機層を混合し、5%炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて混合後有機層と水層に分液した。得られた水層に酢酸エチル(2mL)を加えて混合後に有機層と水層に分液した。両方の有機層を混合し、水を加えて混合後有機層と水層に分液した。得られた水層に酢酸エチル(2mL)を加えて混合後に有機層と水層に分液した。両方の有機層を混合し、硫酸ナトリウムを加えて乾燥した後に乾燥剤をろ別後減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=49/1,V/V)で精製して表題化合物(0.14g、収率75.1%)を淡黄色油状物質として得た。
MS(+):318[M+H]
(3)化合物(3):3−シクロプロピル−6−[4−(1,1−ジフルオロエチル)ベンゾイル]ピリジン−2(1H)−オン
実施例1−(2)と同じ方法にて合成した。
参考例1(特許文献1に記載の製造方法を適用)
(5R)−5−{(Z)−2−(5−シクロプロピル−6−メトキシピリジン−2−イル)−2−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]エテニル}ピロリジン−2−オン(参考例1a)及び
(5R)−5−{(E)−2−(5−シクロプロピル−6−メトキシピリジン−2−イル)−2−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]エテニル}ピロリジン−2−オン(参考例1b)の製造
Figure 2015174377
窒素雰囲気下、−17〜−12℃にて、(5−シクロプロピル−6−メトキシピリジン−2−イル)[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]メタノン(1.00g)と(R)−5−[(ベンゾチアゾール−2−イルスルホニル)メチル]ピロリジン−2−オン(1.90g)のテトラヒドロフラン(6.00g)、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(4.02g)溶液に1M リチウムビス(トリメチルシリル)アミドのテトラヒドロフラン溶液(22.0mL)を30分かけて滴下した後に−17〜−10℃で1時間50分攪拌した。これを22℃まで昇温後、水(10.10g)を加えた後に1時間4分攪拌した。次いで50%硫酸水溶液(4.78g)を加えた後に減圧下溶媒を留去した。得られた残渣に酢酸エチル(20.00g)と水(20.00g)を加えて混合後、有機層と水層に分液した。得られた有機層に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(20.00g)を加えて混合後有機層と水層に分液した。得られた有機層に食塩水を加えて混合後有機層と水層に分液した。得られた有機層に対し減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン、酢酸エチル)で精製して表題化合物の混合物(1.10g)を褐色アモルファス状物質として得た。H NMRデータによる特徴的なピークの面積比を用いた比率計算より、(5R)−5−{(Z)−2−(5−シクロプロピル−6−メトキシピリジン−2−イル)−2−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]エテニル}ピロリジン−2−オンは収率49.3%、(5R)−5−{(E)−2−(5−シクロプロピル−6−メトキシピリジン−2−イル)−2−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]エテニル}ピロリジン−2−オンは収率38.0%となった。
(5R)−5−{(Z)−2−(5−シクロプロピル−6−メトキシピリジン−2−イル)−2−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]エテニル}ピロリジン−2−オン(参考例1a)
H NMR(300MHz,CDCl)δ ppm 0.65−0.71(m,2H),0.96−1.02(m,2H),1.86−2.16(m,5H),2.28−2.49(m,3H),4.00(s,3H),4.65−4.72(m,1H),5.91(d,J=8.9Hz,1H),5.96(br,1H),6.54(d,J=7.7Hz,1H),7.05(d,J=7.0Hz,1H),7.30(d,J=8.6Hz,2H),7.44(d,J=8.6Hz,2H).
MS(+):399[M+H]
(5R)−5−{(E)−2−(5−シクロプロピル−6−メトキシピリジン−2−イル)−2−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]エテニル}ピロリジン−2−オン(参考例1b)
H NMR(600MHz,CDCl)δ ppm 0.56−0.64(m,2H),0.90−0.97(m,2H),1.93−2.09(m,5H),2.20−2.34(m,2H),2.37−2.45(m,1H),4.04(s,3H),4.07−4.16(m,1H),5.73−5.75(br.s.,1H),6.23(d,J=7.4Hz,1H),6.90(d,J=9.9Hz,1H),6.92(d,J=7.8Hz,1H),7.24(d,J=8.3Hz,2H),7.57(d,J=7.8Hz,2H).
MS(+):399[M+H]
実施例4及び実施例5では、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等で精製した(R,Z)−3−シクロプロピル−6−{1−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]−2−[5−オキソピロリジン−2−イル]ビニル}ピリジン−2(1H)−オンと(R,E)−3−シクロプロピル−6−{1−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]−2−[5−オキソピロリジン−2−イル]ビニル}ピリジン−2(1H)−オンを標準物質とし、フタル酸ジ(2−エチルヘキシル)エステルを内部標準物質として、高速液体クロマトグラフィーを用いた定量分析法にて反応収率を算出した。
カラム:L−ColumnODS(3.0×150mm,3μm)(財団法人化学物質評価研究機構製)
カラムオーブン温度:40℃
溶離液:アセトニトリル−0.01M 酢酸アンモニウム水溶液,22:78(0−15min),22:78−40:60(15−20min),40:60(20−30min),40:60−95:5(30−40min),95:5(40−55min),V/V
溶離液速度:0.4mL/min
検出波長:240nm
実施例4
(R,Z)−3−シクロプロピル−6−{1−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]−2−[5−オキソピロリジン−2−イル]ビニル}ピリジン−2(1H)−オン(実施例4a)及び
(R,E)−3−シクロプロピル−6−{1−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]−2−[5−オキソピロリジン−2−イル]ビニル}ピリジン−2(1H)−オン(実施例4b)の製造
Figure 2015174377
窒素雰囲気下、−12〜―10℃において、3−シクロプロピル−6−[4−(1,1−ジフルオロエチル)ベンゾイル]ピリジン−2(1H)−オン(1.00g)と(5R)−5−[(1,3−ベンゾチアゾール−2−イルスルホニル)メチル]ピロリジン−2−オン(1.95g)のテトラヒドロフラン(6.03g)と1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(4.02g)の溶液に1M リチウムビス(トリメチルシリル)アミドのテトラヒドロフラン溶液(23.0mL)を30分かけて滴下した後に、−11〜−10℃にて1時間30分攪拌した。この反応液を20℃まで昇温した後に定量した所、主生成物(目的化合物)である(R,Z)−3−シクロプロピル−6−{1−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]−2−[5−オキソピロリジン−2−イル]ビニル}ピリジン−2(1H)−オンは定量収率77.7%、副生成物である(R,E)−3−シクロプロピル−6−{1−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]−2−[5−オキソピロリジン−2−イル]ビニル}ピリジン−2(1H)−オンは定量収率9.2%であった。
(R,Z)−3−シクロプロピル−6−{1−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]−2−[5−オキソピロリジン−2−イル]ビニル}ピリジン−2(1H)−オン(実施例4a)
H NMR(300MHz,CDCl)δ ppm 0.61−0.71(m,2H),0.90−1.03(m,1H),1.14−1.30(m,1H),1.92(t,J=18.4Hz,3H),1.87−2.00(m,1H),2.09−2.18(m,1H),2.28−2.50(m,3H),4.33−4.41(m,1H),6.05(d,J=7.4Hz,1H),6.16(d,J=10.2Hz,1H),7.03(d,J=7.0Hz,1H),7.35(d,J=8.6Hz,2H),7.46(d,J=8.6Hz,1H),7.81(br,1H),13.17(br,1H).
MS(+):385[M+H]
(R,E)−3−シクロプロピル−6−{1−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]−2−[5−オキソピロリジン−2−イル]ビニル}ピリジン−2(1H)−オン(実施例4b)
H NMR(300MHz,CDCl)δ ppm 0.50−0.65(m,2H),0.90−1.03(m,2H),1.91−2.46(m,8H),4.07−4.15(m,1H),5.63(d,J=7.4Hz,1H),6.63(d,J=9.2Hz,1H),6.80(dd,J=0.7,7.4Hz,1H),7.15(s,1H),7.25(d,J=9.2Hz,2H),7.56(d,J=8.5Hz,2H),12.46(br,1H).
MS(+):385[M+H]
実施例5
(R,Z)−3−シクロプロピル−6−{1−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]−2−[5−オキソピロリジン−2−イル]ビニル}ピリジン−2(1H)−オン(実施例5a)及び
(R,E)−3−シクロプロピル−6−{1−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]−2−[5−オキソピロリジン−2−イル]ビニル}ピリジン−2(1H)−オン(実施例5b)の製造
Figure 2015174377
窒素雰囲気下、−11〜−9℃において、3−シクロプロピル−6−[4−(1,1−ジフルオロエチル)ベンゾイル]ピリジン−2(1H)−オン(1.00g)と(5R)−5−[(1,3−ベンゾチアゾール−2−イルスルホニル)メチル]ピロリジン−2−オン(1.95g)のテトラヒドロフラン(10.00g)溶液に1M リチウムビス(トリメチルシリル)アミドのテトラヒドロフラン溶液(23.0mL)を30分かけて滴下した後に、−11〜−9℃にて3時間35分攪拌した。この反応液を室温まで昇温した後に定量した所、主生成物(目的化合物)である(R,Z)−3−シクロプロピル−6−{1−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]−2−[5−オキソピロリジン−2−イル]ビニル}ピリジン−2(1H)−オンは定量収率66.2%、副生成物である(R,E)−3−シクロプロピル−6−{1−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]−2−[5−オキソピロリジン−2−イル]ビニル}ピリジン−2(1H)−オンは定量収率11.5%であった。
(R,Z)−3−シクロプロピル−6−{1−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]−2−[5−オキソピロリジン−2−イル]ビニル}ピリジン−2(1H)−オン(実施例5a)
MS(+):385[M+H]
(R,E)−3−シクロプロピル−6−{1−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]−2−[5−オキソピロリジン−2−イル]ビニル}ピリジン−2(1H)−オン(実施例5b)
MS(+):385[M+H]
以下、参考例1、実施例4及び実施例5の結果を、表1に示す。表中、添加剤は1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンを示す。
Figure 2015174377
参考例1と実施例4を比較すると、実施例4ではZ体である化合物の選択性及び収率が向上した。また、実施例4と実施例5を比較すると、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンを添加する方が、よりZ体である化合物の選択性及び収率が向上した。
実施例6
ナトリウム(R,Z)−3−シクロプロピル−6−{1−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]−2−[5−オキソピロリジン−2−イル]ビニル}ピリジン−2−オラートの製造
窒素雰囲気下、−15〜−13℃にてテトラヒドロフラン(80.1g)に対して3−シクロプロピル−6−[4−(1,1−ジフルオロエチル)ベンゾイル]ピリジン−2(1H)−オン(40.00g)と(5R)−5−[(1,3−ベンゾチアゾール−2−イルスルホニル)メチル]ピロリジン−2−オン(78.20g)のテトラヒドロフラン(160.12g)と1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(160.10g)溶液並びに1M リチウムビス(トリメチルシリル)アミドのテトラヒドロフラン溶液(930mL)を1時間50分かけて同時に滴下し、テトラヒドロフラン(80.06g)を用いて洗い込んだ。−17〜15℃にて1時間攪拌し、12℃まで昇温した後に水(400.19g)を加え、13〜15℃にて2時間5分攪拌した。次に50%硫酸水(199.30g)を加えた後、減圧下溶媒を留去する事により857.01gとした。得られた残渣に酢酸エチル(400.81g)と水(600.22g)を加えて攪拌した後に有機層と水層に分液した。得られた有機層を炭酸ナトリウム(30.02g)と水(570.00g)を混合した水溶液を加えて混合した後に有機層と水層に分液した。得られた有機層に塩化ナトリウム(30.00g)と水(570.01g)を混合した水溶液を加えて混合した後に有機層と水層に分液した。得られた有機層を減圧下にて溶媒を留去した後に酢酸エチルを加えて800.12gとした。得られた溶液を攪拌しながら−1℃に冷却した後に28%ナトリウムメトキシドのメタノール溶液(43.26g)を1時間かけて滴下した後に−4〜−2℃にて1時間攪拌後して懸濁液とした。得られた固体を濾過し、酢酸エチル(160.00g)で洗浄後、60℃で減圧乾燥を行うことで表題化合物(34.36g、収率67.8%)を白色固体として得た。
実施例6で得られた固体の粉末X線回折測定を行ったところ、下記の特徴的なピークを認めた。
(特徴的なピーク)
2θ=6.8,7.5,8.6,11.4,13.1,13.5,16.0,17.3,19.5,20.6,23.5
また同測定で得られた粉末X線回折パターンを、図1に示す。
実施例7
3−シクロプロピル−6−{(1R)−1−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]−2−[(2R)−5−オキソピロリジン−2−イル]エチル}ピリジン−2(1H)−オンの製造
Figure 2015174377
(1)(R,Z)−tert−ブチル 6−{2−[1−(tert−ブトキシカルボニル)−5−オキソピロリジン−2−イル]−1−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]ビニル}−3−シクロプロピル−2−オキソピリジン−1(2H)−カルボキシラート
Figure 2015174377
ナトリウム(R,Z)−3−シクロプロピル−6−{1−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]−2−[5−オキソピロリジン−2−イル]ビニル}ピリジン−2−オラート(10.00g)に10%塩化アンモニウム水溶液(100g)と酢酸エチル(100g)を加え、攪拌後に有機層と水層に分液した。
有機層に水(50g)を加え、攪拌後に有機層と水層に分液した。得られた有機層に対し減圧下溶媒を留去し、得られた残渣に酢酸エチル(50g)を加え、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣にアセトニトリル(50g)を加え、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣にアセトニトリル(70g)とトリエチルアミン(8.73g)、N,N−ジメチル−4−アミノピリジン(0.609g)を混合した後に、24℃にて二炭酸ジ−tert−ブチル(16.12g)とアセトニトリル(30g)を混合した溶液を6分かけて滴下した。40℃に昇温して1時間35分攪拌した後に減圧下溶媒を留去した。得られた残渣に10%塩化アンモニウム水溶液(100g)及び酢酸エチル(100g)を加え、混合後有機層と水層に分液した。有機層に水(50g)を加え、混合後有機層と水層に分液した。得られた水層に酢酸エチル(50g)を加えて混合後有機層と水層に分液した。得られた有機層を混合後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣にトルエン(30g)を加え、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=77/23→73/27,V/V)で精製し、表題化合物(12.10g,収率84.1%)を淡黄色アモルファス状物質として得た。
H NMR(300MHz,CDCl)δ ppm 0.70−0.75(m,2H),1.01−1.07(m,2H),1.40(s,9H),1.58(s,9H),1.93(t,J=18.0Hz,3H),1.96−2.08(m,2H),2.44−2.62(m,3H),5.06−5.14(m,1H),6.04(d,J=9.0Hz,1H),6.91(d,J=7.8Hz,1H),7.26(d,J=7.3Hz,1H),7.28(d,J=7.0Hz,2H),7.46(d,J=8.2Hz,2H).
MS(+):585[M+H]
(2)tert−ブチル 6−{(R)−2−[(R)−1−(tert−ブトキシカルボニル)−5−オキソピロリジン−2−イル]−1−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]エチル}−3−シクロプロピル−2−オキソピリジン−1(2H)−カルボキシラート
Figure 2015174377
(R,Z)−tert−ブチル 6−{2−[1−(tert−ブトキシカルボニル)−5−オキソピロリジン−2−イル]−1−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]ビニル}−3−シクロプロピル−2−オキソピリジン−1(2H)−カルボキシラート(7.00g)に酢酸エチル(35g)、5%パラジウム−活性炭素(1.40g、49.81%含水品)を混合し、水素雰囲気に置換した後に22〜23℃にて3時間攪拌した。反応液を濾過後、酢酸エチル(70g)で濾過残渣を洗浄して濾過液に加え、減圧下溶媒を留去した後にトルエン(20g)を加え、減圧下溶媒を留去した。
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=71/29→65/35,V/V)で精製し、表題化合物(5.55g,収率79.1%)を白色アモルファス状物質として得た。
H NMR(300MHz,CDCl)δ ppm 0.61−0.66(m,2H),0.91−0.98(m,2H),1.47−1.65(m,1H),1.48(s,9H),1.56(s,9H),1.69−1.77(m,1H),1.86−2.17(m,2H),1.88(t,J=18.2Hz,3H),2.30−2.54(m,2H),2.79−2.87(m,1H),4.07−4.16(m,2H),7.00(d,J=7.8Hz,1H),7.24(d,J=7.0Hz,1H),7.36(d,J=8.6Hz,2H),7.42(d,J=8.6Hz,2H).
MS(+):587[M+H]
(3)3−シクロプロピル−6−{(1R)−1−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]−2−[(2R)−5−オキソピロリジン−2−イル]エチル}ピリジン−2(1H)−オン
Figure 2015174377
tert−ブチル 6−{(R)−2−[(R)−1−(tert−ブトキシカルボニル)−5−オキソピロリジン−2−イル]−1−[4−(1,1−ジフルオロエチル)フェニル]エチル}−3−シクロプロピル−2−オキソピリジン−1(2H)−カルボキシラート(39.95g)を含んだ酢酸エチル溶液(376.48g)に32〜34℃にて35%塩酸(30.78g)を30分かけて滴下し、32〜34℃にて4時間攪拌した。これに水酸化ナトリウム(38.40g)と水(150.10g)を混合した水溶液を滴下し、33〜35℃にて30分攪拌した後に有機層と水層に分液した。得られた有機層に炭酸水素カリウム(29.88g)と水(150.00g)を混合した水溶液を加え、混合した後に有機層と水層に分液した。得られた有機層に水(150.00g)を加え、混合した後に有機層と水層に分液した。得られた有機層に対し減圧下溶媒を留去した後に、得られた残渣にエタノール(300.07g)を加えて減圧下溶媒を留去した。得られた残渣にエタノール(300.00g)を加えて減圧下溶媒を留去した。
得られた残渣にエタノールを加えて210.02gとした、18〜20℃にて1時間攪拌して懸濁液とした後に3時間かけて56℃まで昇温し、1時間攪拌した。次に−2℃まで冷却した後に103時間攪拌した。得られた固体を濾過し、エタノール(120.00g)で洗浄後、60℃で減圧乾燥を行うことで表題化合物(22.22g、収率84.5%)を白色固体として得た。
H NMR(300MHz,CDCl)δ ppm 0.56−0.67(m,2H),0.91−0.98(m,2H),1.66−1.78(m,1H),1.89(t,J=18.1Hz,3H),2.07−2.42(m,6H),3.44−3.53(m,1H),4.08(dd,J=6.0,9.6Hz,1H),5.97(d,J=7.4Hz,1H),6.91(d,J=7.0Hz,1H),7.44(s,4H),7.49(br,1H),12.36(br,1H).
MS(+):387[M+H]
本発明は、6−ベンゾイル−2−ピリドン化合物より、医薬品又は医薬品中間体として有用な2−ピリドン化合物を、高収率に製造できる点で有用である。
なお、2014年5月13日に出願された日本特許出願2014−099755号の明細書、特許請求の範囲、要約書及び図面の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (11)

  1. 式(3)で表される6−ベンゾイル−2−ピリドン化合物と、式(4)で表されるスルホン化合物とを反応させることを特徴とする、式(1)で表される、2−ピリドン化合物の製造方法。
    Figure 2015174377
  2. 尿素誘導体存在下で反応させる、請求項1に記載の製造方法。
  3. 尿素誘導体が、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンである、請求項2に記載の製造方法。
  4. 式(1)で表される化合物。
    Figure 2015174377
  5. 式(3)で表される化合物。
    Figure 2015174377
  6. 式(1)で表される化合物のナトリウム塩。
    Figure 2015174377
  7. 式(6)で表される化合物。
    Figure 2015174377
  8. 式(7)で表される化合物。
    Figure 2015174377
  9. 式(8)で表される化合物。
    Figure 2015174377
  10. 式(9)で表される化合物。
    Figure 2015174377
  11. 式(10)で表される化合物。
    Figure 2015174377
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