JP2003321468A - ピリドン化合物の製造法およびその中間体 - Google Patents
ピリドン化合物の製造法およびその中間体Info
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- JP2003321468A JP2003321468A JP2002127972A JP2002127972A JP2003321468A JP 2003321468 A JP2003321468 A JP 2003321468A JP 2002127972 A JP2002127972 A JP 2002127972A JP 2002127972 A JP2002127972 A JP 2002127972A JP 2003321468 A JP2003321468 A JP 2003321468A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ある種のピリドン化合物およびその中間体を提
供すること。 【解決手段】式（１） （式中、Ｒ1はハロゲン原子、シアノ基またはニトロ基
を表し、Ｒ2は水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｒ3
はＣ１−Ｃ３アルキル基を表す。）で示されるジエン化
合物と酸（例えば酢酸等の脂肪族カルボン酸）とを反応
させることにより式（２） （式中、Ｒ1およびＲ2は前記と同じ意味を表す。）で示
されるピリドン化合物が容易に製造することができる。
供すること。 【解決手段】式（１） （式中、Ｒ1はハロゲン原子、シアノ基またはニトロ基
を表し、Ｒ2は水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｒ3
はＣ１−Ｃ３アルキル基を表す。）で示されるジエン化
合物と酸（例えば酢酸等の脂肪族カルボン酸）とを反応
させることにより式（２） （式中、Ｒ1およびＲ2は前記と同じ意味を表す。）で示
されるピリドン化合物が容易に製造することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はピリドン化合物の製
造法およびその中間体に関する。
造法およびその中間体に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】式
（５）
（５）
【化６】
（式中、Ｒ1はハロゲン原子、シアノ基またはニトロ基
を表し、Ｒ2は水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｒ4
はＣ１−Ｃ６アルコキシ基を表す。）で示されるウラシ
ル化合物が除草剤として有用であることが知られており
（ＥＰ１１２２２４４Ａ１公報参照）、その工業的に有
利な製造法の開発が望まれている。本発明は、式（５）
で示されるウラシル化合物に短工程で誘導できる式
（２）で示されるピリドン化合物およびその中間体を提
供することを課題とする。
を表し、Ｒ2は水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｒ4
はＣ１−Ｃ６アルコキシ基を表す。）で示されるウラシ
ル化合物が除草剤として有用であることが知られており
（ＥＰ１１２２２４４Ａ１公報参照）、その工業的に有
利な製造法の開発が望まれている。本発明は、式（５）
で示されるウラシル化合物に短工程で誘導できる式
（２）で示されるピリドン化合物およびその中間体を提
供することを課題とする。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者は、式（５）で
示されるウラシル化合物を工業的に有利に製造する方法
を見出すべく鋭意検討した結果、後記式（１）で示され
るジエン化合物と酸とを反応させることにより式（５）
で示されるウラシル化合物に短工程で誘導できる式
（２）で示されるピリドン化合物が得られること；さら
に後記式（３）で示される２−フェノキシアセトアミド
化合物と後記式（４）で示される１，５−ジアザペンタ
ジエニウム塩とを反応させ、次いで酸と反応させること
により式（２）で示されるピリドン化合物が得られるこ
と、を見出し本発明を完成した。
示されるウラシル化合物を工業的に有利に製造する方法
を見出すべく鋭意検討した結果、後記式（１）で示され
るジエン化合物と酸とを反応させることにより式（５）
で示されるウラシル化合物に短工程で誘導できる式
（２）で示されるピリドン化合物が得られること；さら
に後記式（３）で示される２−フェノキシアセトアミド
化合物と後記式（４）で示される１，５−ジアザペンタ
ジエニウム塩とを反応させ、次いで酸と反応させること
により式（２）で示されるピリドン化合物が得られるこ
と、を見出し本発明を完成した。
【０００４】即ち、本発明は、
１．式（１）
【化７】
（式中、Ｒ1はハロゲン原子、シアノ基またはニトロ基
を表し、Ｒ2は水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｒ3
はＣ１−Ｃ３アルキル基を表す。）で示されるジエン化
合物と酸とを反応させることを特徴とする式（２）
を表し、Ｒ2は水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｒ3
はＣ１−Ｃ３アルキル基を表す。）で示されるジエン化
合物と酸とを反応させることを特徴とする式（２）
【化８】
（式中、Ｒ1およびＲ2は前記と同じ意味を表す。）で示
されるピリドン化合物の製造法（以下、本発明製造法１
と記す。）、および
されるピリドン化合物の製造法（以下、本発明製造法１
と記す。）、および
【０００５】２．式（３）
（式中、Ｒ1はハロゲン原子、シアノ基またはニトロ基
を表し、Ｒ2は水素原子またはハロゲン原子を表す。）
で示されるアミド化合物と式（４） Ｒ3 2ＮＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｎ+Ｒ3 2 Ａ- （４） （式中、Ｒ3はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ａはハロ
ゲン原子を表す。）で示される１，５−ジアザペンタジ
エニウム塩とを反応させ、次いで酸と反応させることを
特徴とする式（２） （式中、Ｒ1およびＲ2は前記と同じ意味を表す。）で示
されるピリドン化合物の製造法（以下、本発明製造法２
と記す。また、本発明製造法１と本発明製造法２とを合
わせて本発明製造法と総称する。）を提供する。
を表し、Ｒ2は水素原子またはハロゲン原子を表す。）
で示されるアミド化合物と式（４） Ｒ3 2ＮＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｎ+Ｒ3 2 Ａ- （４） （式中、Ｒ3はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ａはハロ
ゲン原子を表す。）で示される１，５−ジアザペンタジ
エニウム塩とを反応させ、次いで酸と反応させることを
特徴とする式（２） （式中、Ｒ1およびＲ2は前記と同じ意味を表す。）で示
されるピリドン化合物の製造法（以下、本発明製造法２
と記す。また、本発明製造法１と本発明製造法２とを合
わせて本発明製造法と総称する。）を提供する。
【０００６】本発明はさらに式（１）
【化９】
（式中、Ｒ1およびＲ2は請求項１と同じ意味を表す。）
で示されるジエン化合物をも提供する。
で示されるジエン化合物をも提供する。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明においてＲ1およびＲ2で示
されるハロゲン原子としては例えばフッ素原子、塩素原
子および臭素原子があげられ、Ｒ3で示されるＣ１−Ｃ
３アルキル基としては例えばメチル基があげられる。
されるハロゲン原子としては例えばフッ素原子、塩素原
子および臭素原子があげられ、Ｒ3で示されるＣ１−Ｃ
３アルキル基としては例えばメチル基があげられる。
【０００８】まず、本発明製造法１について説明する。
本発明製造法１は式（１）で示されるジエン化合物と酸
とを反応させることを特徴とする。該反応は溶媒の存在
下、または非存在下で行われる。反応に用いられる溶媒
としては、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂
肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，４−ジオ
キサン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエー
テル類およびこれらの混合物があげられる。該反応に用
いられる酸としては、例えば酢酸、プロピオン酸、シュ
ウ酸等の脂肪族カルボン酸、安息香酸、サリチル酸等の
芳香族カルボン酸、パラトルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン
酸、および塩化水素、硫酸、リン酸等の無機酸およびこ
れらの混合物があげられる。反応に用いられる酸の量
は、式（１）で示されるジエン化合物１モルに対して触
媒量〜過剰量の割合であり、具体的には例えば０．０１
〜１００モルの割合である。該反応の反応温度は通常２
０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常瞬時〜４８
時間の範囲である。該反応は例えば式（１）で示される
化合物と酸とを必要に応じて溶媒中で混合することによ
り行うことができる。反応終了後は反応混合物を水に注
加して、有機溶媒抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮
する等の後処理操作を行うことにより式（２）で示され
るピリドン化合物を単離することができる。単離した式
（２）で示される化合物はクロマトグラフィー等により
さらに精製することもできる。
本発明製造法１は式（１）で示されるジエン化合物と酸
とを反応させることを特徴とする。該反応は溶媒の存在
下、または非存在下で行われる。反応に用いられる溶媒
としては、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂
肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，４−ジオ
キサン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエー
テル類およびこれらの混合物があげられる。該反応に用
いられる酸としては、例えば酢酸、プロピオン酸、シュ
ウ酸等の脂肪族カルボン酸、安息香酸、サリチル酸等の
芳香族カルボン酸、パラトルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン
酸、および塩化水素、硫酸、リン酸等の無機酸およびこ
れらの混合物があげられる。反応に用いられる酸の量
は、式（１）で示されるジエン化合物１モルに対して触
媒量〜過剰量の割合であり、具体的には例えば０．０１
〜１００モルの割合である。該反応の反応温度は通常２
０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常瞬時〜４８
時間の範囲である。該反応は例えば式（１）で示される
化合物と酸とを必要に応じて溶媒中で混合することによ
り行うことができる。反応終了後は反応混合物を水に注
加して、有機溶媒抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮
する等の後処理操作を行うことにより式（２）で示され
るピリドン化合物を単離することができる。単離した式
（２）で示される化合物はクロマトグラフィー等により
さらに精製することもできる。
【０００９】次に、本発明製造法２について説明する。
本発明製造法２は式（３）で示されるアミド化合物と式
（４）で示される１，５−ジアザペンタジエニウム塩と
を反応させ、次いで酸とを反応させることを特徴とす
る。即ち、本発明製造法２は式（３）で示されるアミド
化合物と式（４）で示される１，５−ジアザペンタジエ
ニウム塩とを反応させる前半工程と、前半工程の生成物
と酸とを反応させることを特徴とする後半工程とからな
る。
本発明製造法２は式（３）で示されるアミド化合物と式
（４）で示される１，５−ジアザペンタジエニウム塩と
を反応させ、次いで酸とを反応させることを特徴とす
る。即ち、本発明製造法２は式（３）で示されるアミド
化合物と式（４）で示される１，５−ジアザペンタジエ
ニウム塩とを反応させる前半工程と、前半工程の生成物
と酸とを反応させることを特徴とする後半工程とからな
る。
【００１０】まず、前半工程から説明する。前半工程の
反応は、通常溶媒中、塩基と共に反応させることにより
行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えばヘ
キサン、ペンタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ジ
エチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、
テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレング
リコールジメチルエーテル等のエーテル類およびＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類があげられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリ
ウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、トリ
エチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−
ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン等
の第三級アミンおよびリチウムヘキサメチルジシラジ
ド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキ
サメチルジシラジド等の金属アミドがあげられる。反応
に供される試剤の量は、式（３）で示されるアミド化合
物１モルに対して式（４）で示される１，５−ジアザペ
ンタジエニウム塩が通常１〜３モルの割合、塩基が通常
１〜３モルの割合であるが、反応の状況に応じて適宜変
化させることもできる。該反応の反応温度は通常−３０
〜６０℃の範囲であり、反応時間は通常瞬時〜２４時間
の範囲である。該反応は例えば、溶媒中で式（３）で示
されるアミド化合物、式（４）で示される１，５−ジア
ザペンタジエニウム塩および塩基を混合することにより
行うことができる。反応終了後は、反応混合物を水また
は酸性水（例えば希塩酸）に注加し、これを有機溶媒抽
出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作
を行うことにより、式（１）で示されるジエン化合物を
単離することができる。単離した式（１）で示されるジ
エン化合物はクロマトグラフィー等によりさらに精製す
ることもできる。
反応は、通常溶媒中、塩基と共に反応させることにより
行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えばヘ
キサン、ペンタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ジ
エチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、
テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレング
リコールジメチルエーテル等のエーテル類およびＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類があげられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリ
ウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、トリ
エチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−
ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン等
の第三級アミンおよびリチウムヘキサメチルジシラジ
ド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキ
サメチルジシラジド等の金属アミドがあげられる。反応
に供される試剤の量は、式（３）で示されるアミド化合
物１モルに対して式（４）で示される１，５−ジアザペ
ンタジエニウム塩が通常１〜３モルの割合、塩基が通常
１〜３モルの割合であるが、反応の状況に応じて適宜変
化させることもできる。該反応の反応温度は通常−３０
〜６０℃の範囲であり、反応時間は通常瞬時〜２４時間
の範囲である。該反応は例えば、溶媒中で式（３）で示
されるアミド化合物、式（４）で示される１，５−ジア
ザペンタジエニウム塩および塩基を混合することにより
行うことができる。反応終了後は、反応混合物を水また
は酸性水（例えば希塩酸）に注加し、これを有機溶媒抽
出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作
を行うことにより、式（１）で示されるジエン化合物を
単離することができる。単離した式（１）で示されるジ
エン化合物はクロマトグラフィー等によりさらに精製す
ることもできる。
【００１１】このようにして製造できる式（１）で示さ
れるジエン化合物としては、例えばＲ1およびＲ2がハロ
ゲン原子である化合物が挙げられ、式（１）で示される
ジエン化合物の具体例を（表１）に示す。
れるジエン化合物としては、例えばＲ1およびＲ2がハロ
ゲン原子である化合物が挙げられ、式（１）で示される
ジエン化合物の具体例を（表１）に示す。
【００１２】式（１）
【化１０】
で示される化合物。
【００１３】
【表１】
【００１４】本発明製造法２の後半工程は本発明製造法
１と同様に行うことができる。
１と同様に行うことができる。
【００１５】本発明製造法により得られる式（２）で示
されるピリドン化合物は、例えばロジウム（ＩＩ）触媒
存在下で、式（６） Ｎ2ＣＨＣＯＲ5 （６） （式中、Ｒ5はメトキシ基またはエトキシ基を表す。）
で示されるジアゾ酢酸エステル化合物と反応させること
により式（７）
されるピリドン化合物は、例えばロジウム（ＩＩ）触媒
存在下で、式（６） Ｎ2ＣＨＣＯＲ5 （６） （式中、Ｒ5はメトキシ基またはエトキシ基を表す。）
で示されるジアゾ酢酸エステル化合物と反応させること
により式（７）
【化１１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ5は前記と同じ意味を表
す。）で示されるウラシル化合物に誘導することができ
る。該反応は通常溶媒中で行われ、反応温度は通常６０
〜１２０℃の範囲であり、反応時間は通常瞬時〜７２時
間の範囲である。反応に用いられる溶媒としては例えば
１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類があ
げられる。反応に供される試剤の量は式（２）で示され
るピリドン化合物１モルに対して式（６）で示されるジ
アゾ酢酸エステル化合物が通常０．５〜２モルの割合で
あり、ロジウム（ＩＩ）触媒が通常１〜５モル％の割合
であるが、反応の状況に応じて適宜変換させることがで
きる。該反応に用いられるロジウム（ＩＩ）触媒とは、
ロジウム（Ｒｈ）の２価の陽イオンと適当な陰イオン
（場合によりさらに適当な配位子）からなる金属触媒で
あり、具体的には例えばロジウム（ＩＩ）トリフルオロ
アセテートダイマーがあげられる。反応終了後は、反応
混合物を濾過し、濾液を濃縮する；反応混合物を有機溶
媒で希釈して、炭酸水素ナトリウム水溶液と分液し、得
られた有機層を乾燥した後、濃縮する、等の後処理を行
うことにより、式（７）で示されるウラシル化合物を単
離することができる。単離した式（７）で示されるウラ
シル化合物はクロマトグラフィー等により更に精製する
こともできる。
す。）で示されるウラシル化合物に誘導することができ
る。該反応は通常溶媒中で行われ、反応温度は通常６０
〜１２０℃の範囲であり、反応時間は通常瞬時〜７２時
間の範囲である。反応に用いられる溶媒としては例えば
１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類があ
げられる。反応に供される試剤の量は式（２）で示され
るピリドン化合物１モルに対して式（６）で示されるジ
アゾ酢酸エステル化合物が通常０．５〜２モルの割合で
あり、ロジウム（ＩＩ）触媒が通常１〜５モル％の割合
であるが、反応の状況に応じて適宜変換させることがで
きる。該反応に用いられるロジウム（ＩＩ）触媒とは、
ロジウム（Ｒｈ）の２価の陽イオンと適当な陰イオン
（場合によりさらに適当な配位子）からなる金属触媒で
あり、具体的には例えばロジウム（ＩＩ）トリフルオロ
アセテートダイマーがあげられる。反応終了後は、反応
混合物を濾過し、濾液を濃縮する；反応混合物を有機溶
媒で希釈して、炭酸水素ナトリウム水溶液と分液し、得
られた有機層を乾燥した後、濃縮する、等の後処理を行
うことにより、式（７）で示されるウラシル化合物を単
離することができる。単離した式（７）で示されるウラ
シル化合物はクロマトグラフィー等により更に精製する
こともできる。
【００１６】式（７）で示されるウラシル化合物は式
（８） Ｒ6Ｈ （８） （式中、Ｒ6はＣ３−Ｃ６アルコキシ基を表す。）で示
される化合物とのエステル交換反応を行うことにより式
（９）
（８） Ｒ6Ｈ （８） （式中、Ｒ6はＣ３−Ｃ６アルコキシ基を表す。）で示
される化合物とのエステル交換反応を行うことにより式
（９）
【化１２】
（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ6は前記と同じ意味を表
す。）で示されるウラシル化合物に誘導することができ
る。
す。）で示されるウラシル化合物に誘導することができ
る。
【００１７】以上説明したように、本発明製造法で製造
できる式（２）で示されるピリドン化合物は１〜２工程
の変換を行うことにより、除草剤として有用な式（５）
で示されるウラシル化合物に誘導することができる。即
ち、式（５）で示されるウラシル化合物は、本発明製造
法を用いることにより、ＥＰ１１２２２４４Ａ１公報に
記載された方法と比べ、工業的に入手困難な２−クロロ
−３−ニトロピリジンを使用することなく、また全体と
して短工程で製造できる。
できる式（２）で示されるピリドン化合物は１〜２工程
の変換を行うことにより、除草剤として有用な式（５）
で示されるウラシル化合物に誘導することができる。即
ち、式（５）で示されるウラシル化合物は、本発明製造
法を用いることにより、ＥＰ１１２２２４４Ａ１公報に
記載された方法と比べ、工業的に入手困難な２−クロロ
−３−ニトロピリジンを使用することなく、また全体と
して短工程で製造できる。
【００１８】本発明製造法に用いる式（３）で示される
アミド化合物は例えば特開昭６３−４１４６６号公報に
記載の公知化合物であるか、該公報に記載の方法に準じ
て製造することができる。また、本発明製造法に用いる
式（４）で示される１，５−ジアザペンタジエニウム塩
は例えばＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９８１，４６，４７
５９−４７６５に記載された方法で製造することができ
る。
アミド化合物は例えば特開昭６３−４１４６６号公報に
記載の公知化合物であるか、該公報に記載の方法に準じ
て製造することができる。また、本発明製造法に用いる
式（４）で示される１，５−ジアザペンタジエニウム塩
は例えばＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９８１，４６，４７
５９−４７６５に記載された方法で製造することができ
る。
【００１９】
【実施例】以下、本発明を製造例等によりさらに詳しく
説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものでは
ない。
説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものでは
ない。
【００２０】製造例１
２−クロロ−４−フルオロ−５−（３−メチル−２，６
−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，
３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル）フェノキ
シアセトアミド（下式（Ａ）で示される化合物）
−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，
３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル）フェノキ
シアセトアミド（下式（Ａ）で示される化合物）
【化１３】
０．２ｇをテトラヒドロフラン５ｍｌに溶解し、ここに
０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０４ｇを加
え、室温で２０分間攪拌した。次いで、反応混合物を約
０℃に冷却し、ここに塩化１，１，５，５−テトラメチ
ル−１，５−ジアザペンタジエニウム０．１８ｇを加
え、同温で３０分間、次いで室温で３時間攪拌した。そ
の後、反応混合物に氷水を加え、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付して、下式（Ｂ）で示される化合
物
０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０４ｇを加
え、室温で２０分間攪拌した。次いで、反応混合物を約
０℃に冷却し、ここに塩化１，１，５，５−テトラメチ
ル−１，５−ジアザペンタジエニウム０．１８ｇを加
え、同温で３０分間、次いで室温で３時間攪拌した。そ
の後、反応混合物に氷水を加え、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付して、下式（Ｂ）で示される化合
物
【化１４】
０．０５５ｇを得た。1
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／４００ＭＨｚ）δ（ｐｐ
ｍ）：２．８３（ｓ，６Ｈ），３．５２（ｓ，３Ｈ），
４．７８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１２．８，１２Ｈｚ），
５．２４（ｂｓ，１Ｈ），５．８８（ｂｓ，１Ｈ），
６．３１（ｓ，１Ｈ），６．６４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１
２．８Ｈｚ），６．８１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈ
ｚ），７．１８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１２Ｈｚ），７．３４
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
ｍ）：２．８３（ｓ，６Ｈ），３．５２（ｓ，３Ｈ），
４．７８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１２．８，１２Ｈｚ），
５．２４（ｂｓ，１Ｈ），５．８８（ｂｓ，１Ｈ），
６．３１（ｓ，１Ｈ），６．６４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１
２．８Ｈｚ），６．８１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈ
ｚ），７．１８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１２Ｈｚ），７．３４
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００２１】製造例２
式（Ｂ）で示される化合物０．０５ｇと酢酸０．２ｍｌ
との混合物を４０〜６０℃で２時間攪拌した。その後、
反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層
を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付し、３−［２−クロロ−４−フルオロ−５−
（３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロ
メチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−
１−イル）フェノキシ］−１Ｈ−ピリジン−２−オン
（下式（Ｃ）で示される化合物）
との混合物を４０〜６０℃で２時間攪拌した。その後、
反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層
を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付し、３−［２−クロロ−４−フルオロ−５−
（３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロ
メチル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリミジン−
１−イル）フェノキシ］−１Ｈ−ピリジン−２−オン
（下式（Ｃ）で示される化合物）
【化１５】
０．０２２ｇを得た。1
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐ
ｍ）：３．５２（ｓ，３Ｈ），６．２２（ｄｄ，１Ｈ，
Ｊ＝７．０，７．０Ｈｚ），６．３２（ｓ，１Ｈ），
６．９５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．００（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０，１．６Ｈｚ），７．２−７．３
（ｍ，１Ｈ），７．３９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）
ｍ）：３．５２（ｓ，３Ｈ），６．２２（ｄｄ，１Ｈ，
Ｊ＝７．０，７．０Ｈｚ），６．３２（ｓ，１Ｈ），
６．９５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．００（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０，１．６Ｈｚ），７．２−７．３
（ｍ，１Ｈ），７．３９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）
【００２２】参考製造例１
３−［２−クロロ−４−フルオロ−５−（３−メチル−
２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，
２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル）フェ
ノキシ］−１Ｈ−ピリジン−２−オン０．５ｇとロジウ
ム（ＩＩ）トリフルオロアセテートダイマー８ｍｇとを
１，２−ジクロロエタン１５ｍｌに加え、８０℃にてジ
アゾ酢酸メチル０．１５ｇを３時間かけて滴下した。滴
下終了後、８０℃にて１時間攪拌した後に、該反応混合
物を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付し（展開溶媒；ヘキサン／酢酸エチル＝３／１
〜０／１）た。未反応原料として、３−［２−クロロ−
４−フルオロ−５−（３−メチル−２，６−ジオキソ−
４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラ
ヒドロピリミジン−１−イル）フェノキシ］−１Ｈ−ピ
リジン−２−オン０．１８ｇを回収し、３−［２−クロ
ロ−４−フルオロ−５−（３−メチル−２，６−ジオキ
ソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テ
トラヒドロピリミジン−１−イル）フェノキシ］−２−
（メトキシカルボニルメトキシ）ピリジン（下式（Ｄ）
で示される化合物）
２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１，
２，３，６−テトラヒドロピリミジン−１−イル）フェ
ノキシ］−１Ｈ−ピリジン−２−オン０．５ｇとロジウ
ム（ＩＩ）トリフルオロアセテートダイマー８ｍｇとを
１，２−ジクロロエタン１５ｍｌに加え、８０℃にてジ
アゾ酢酸メチル０．１５ｇを３時間かけて滴下した。滴
下終了後、８０℃にて１時間攪拌した後に、該反応混合
物を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付し（展開溶媒；ヘキサン／酢酸エチル＝３／１
〜０／１）た。未反応原料として、３−［２−クロロ−
４−フルオロ−５−（３−メチル−２，６−ジオキソ−
４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テトラ
ヒドロピリミジン−１−イル）フェノキシ］−１Ｈ−ピ
リジン−２−オン０．１８ｇを回収し、３−［２−クロ
ロ−４−フルオロ−５−（３−メチル−２，６−ジオキ
ソ−４−（トリフルオロメチル）−１，２，３，６−テ
トラヒドロピリミジン−１−イル）フェノキシ］−２−
（メトキシカルボニルメトキシ）ピリジン（下式（Ｄ）
で示される化合物）
【化１６】
０．３４ｇを得た。
融点：５２．２℃1
Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ＴＭＳδ（ｐ
ｐｍ））：３．５０（３Ｈ，ｑ，Ｊ＝１．０Ｈｚ）、
３．７０（３Ｈ，ｓ）、４．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
５．８Ｈｚ）、４．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈ
ｚ）、６．２９（１Ｈ，ｓ）、６．９０〜６．９５（２
Ｈ，ｍ）、７．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，
７．７Ｈｚ）、７．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈ
ｚ）、７．９２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，４．９
Ｈｚ）
ｐｍ））：３．５０（３Ｈ，ｑ，Ｊ＝１．０Ｈｚ）、
３．７０（３Ｈ，ｓ）、４．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
５．８Ｈｚ）、４．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈ
ｚ）、６．２９（１Ｈ，ｓ）、６．９０〜６．９５（２
Ｈ，ｍ）、７．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，
７．７Ｈｚ）、７．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈ
ｚ）、７．９２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，４．９
Ｈｚ）
【００２３】
【発明の効果】本発明製造法により優れた除草活性を有
する式（５）で示されるウラシル化合物に短工程で誘導
することができる式（２）で示されるピリドン化合物を
容易に製造することができる。
する式（５）で示されるウラシル化合物に短工程で誘導
することができる式（２）で示されるピリドン化合物を
容易に製造することができる。
Claims (5)
- 【請求項１】式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1はハロゲン原子、シアノ基またはニトロ基
を表し、Ｒ2は水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｒ3
はＣ１−Ｃ３アルキル基を表す。）で示されるジエン化
合物と酸とを反応させることを特徴とする式（２） 【化２】 （式中、Ｒ1およびＲ2は前記と同じ意味を表す。）で示
されるピリドン化合物の製造法。 - 【請求項２】式（３） 【化３】 （式中、Ｒ1はハロゲン原子、シアノ基またはニトロ基
を表し、Ｒ2は水素原子またはハロゲン原子を表す。）
で示されるアミド化合物と式（４） Ｒ3 2ＮＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｎ+Ｒ3 2 Ａ- （４） （式中、Ｒ3はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ａはハロ
ゲン原子を表す。）で示される１，５−ジアザペンタジ
エニウム塩とを反応させ、次いで酸と反応させることを
特徴とする式（２） 【化４】 （式中、Ｒ1およびＲ2は前記と同じ意味を表す。）で示
されるピリドン化合物の製造法。 - 【請求項３】酸が脂肪族カルボン酸であることを特徴す
る請求項１または請求項２記載のピリドン化合物の製造
法。 - 【請求項４】酸が酢酸であることを特徴とする請求項１
または２記載のピリドン化合物の製造法。 - 【請求項５】式（１） 【化５】 （式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は請求項１と同じ意味を表
す。）で示されるジエン化合物。
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|---|---|---|---|
| JP2002127972A JP4239473B2 (ja) | 2002-04-30 | 2002-04-30 | ピリドン化合物の製造法およびその中間体 |
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| JP2003321468A true JP2003321468A (ja) | 2003-11-11 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018012573A1 (ja) | 2016-07-15 | 2018-01-18 | 住友化学株式会社 | ウラシル化合物結晶の製造方法 |
| KR20190026746A (ko) | 2016-07-15 | 2019-03-13 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 우라실 화합물 결정의 제조 방법 |
-
2002
- 2002-04-30 JP JP2002127972A patent/JP4239473B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| WO2018012573A1 (ja) | 2016-07-15 | 2018-01-18 | 住友化学株式会社 | ウラシル化合物結晶の製造方法 |
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| US10752608B2 (en) | 2016-07-15 | 2020-08-25 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing crystal of uracil compound |
| US11091461B2 (en) | 2016-07-15 | 2021-08-17 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing crystal of uracil compound |
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