JPWO2004077585A1 - 半導体センサ及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
一般に、ホール素子の感度は、その材料である半導体材料の電子移動度に比例し、ホール素子の入力抵抗は、材料のシート抵抗に比例する。ホール素子の入力抵抗と感度は、設計で調整可能であるが、トレードオフの関係である。このため、高感度で、大きな入力抵抗の素子を形成するには、電子移動度が大きく、シート抵抗の大きな材料が必要になる。電子移動度μとシート抵抗Rs、シートキャリア濃度Nsの関係は、eを電荷とすると次式で表わされる。
1/(Rs*μ)=Ns・e
従って、電子移動度μが大きく、シート抵抗Rsの大きな材料を形成するには、シートキャリア濃度Nsを小さくする必要があることになる。
従来は、電子移動度が比較的大きな、InSb、InAs、GaAsなどが、ホール素子用材料として用いられており、特に、バルク単結晶の電子移動度が75000cm2/Vsと大きいInSbが高感度素子の形成には有利である。
通常、InSbやInAsのバルク単結晶成長は困難であるため、基板上に、これら材料の薄膜を形成して素子化する。この際、膜の質が悪いと欠陥に起因したキャリアが発生し、シートキャリア濃度が大きくなり、実用化に向かないホール素子となる。また、膜質を向上させて電子移動度を改善するために、膜厚を厚くすると、やはりシートキャリア濃度は大きくなり、同様に実用化に向かない。
高感度で消費電力の比較的小さなホール素子を得るためには、1μm前後の薄い薄膜で、シートキャリア濃度が2×E12/cm2以下の良質な薄膜を形成する必要がある。そのため、従来は、基板としてはInSbやInAsと結晶構造が同じであるGaAsが用いられてきており、1μmの膜厚でシートキャリア濃度が2×E12/cm2前後の良好な膜が得られている。
しかし、GaAs基板は高価であり、重量が重く、LSIプロセスで用いられているプロセス機器が使用できない場合が多い。さらに、素子化の際に基板を研磨するので、その削りかすは環境にも好ましくない。
Si基板の使用が可能であれば、上述した問題は全て解決し、さらに、ICと磁気センサのモノリシック化も可能となって大きなメリットを生じる。ところが、Si基板上では、InSb、InAsと結晶構造が異なるためか、良質の膜が得られていない。例えば、特開平11−251657号公報には、(111)GaAs及び(111)Si基板上にInSbを形成すると高抵抗の膜が得られることが記載されており、また、(111)GaAs上にInSb膜を形成し、高抵抗で高感度の磁気センサが得られることが記載されている。
しかしながら、本発明者らは、上述した特開平11−251657号公報に基づき、(111)Si上に直接InSb膜を1μm形成した結果、高電子移動度の膜が得られないことを確認した。
また、(111)Si上のInSb膜、およびそれを用いた磁気センサは、上述した特開平11−251657号公報の出願前に既に公知であり、高感度の磁気センサが得られたという報告がある(例えば、「National Technical Report」1996、Vol.42、No.4、P84−P92)。ただし、高感度の膜を得るために、InSbは3μm以上形成されており、高感度かつ高抵抗の素子形成は困難であることが、この報告からも示唆されている。
本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、電子移動度が高く、シート抵抗が比較的大きなInSbやInAs膜をSi基板上に形成することを可能にし、もって、高感度で低消費電力の優れた半導体センサ及びその製造方法を提供することにある。
このような現象が、(100)Siでは発生せず、(111)Si上で得られるのは、Si表面上の結合ボンド数の違いに起因する可能性が高いと推察される。
(111)Siと第一化合物半導体層間で、結晶構造の違い等による欠陥が発生するが、その欠陥の影響が第二化合物半導体まで及ばない。その結果として、第一化合物半導体と第二化合物半導体は、通常は5%以上も格子間隔が異なるにもかかわらず、良好な膜が得られると考えられる。さらに、得られた薄膜を用いてホール素子を形成し、高感度で比較的高抵抗の素子形成が可能であることを確認し、本発明を実現するに至った。
本発明は、このような目的を達成するために、(111)面が基板表面に平行なSi基板上に、Ga、Al、In、As、Sb、Pのうち少なくとも2種以上の元素から構成された第一化合物半導体層が設けられ、さらに、該第一化合物半導体層上に、InxGa1−xAsySb1−y(0<x≦1.0、0≦y≦1.0)より好ましくは、InxGa1−xAsySb1−y(0.5≦x≦1.0、0≦y≦1.0)からなる第二化合物半導体層が設けられる。その結果、第一化合物半導体層及び第二化合物半導体層の(111)面が、基板表面に平行に形成されることとなる。
この第二化合物半導体層が機能層として動作する。さらに、前記第二化合物半導体層の面内方向に電流が流れるように、該第二化合物半導体層の両端側に電極が設けられる。
また、第一化合物半導体層がAl1−zGazAs(0≦z≦1)であることが好ましく、第二化合物半導体層はInAsySb1−y(0≦y≦1)であることが好ましい。第二化合物半導体層には不純物、好ましくはSiまたはSnがドープされてもよい。
また、第二化合物半導体層は、電極との接触部以外が、パッシベーション膜で覆われていることが好ましい。
このような半導体センサは、(111)面が基板表面に平行なSi基板上に、Ga、Al、In、As、Sb、Pのうち少なくとも2種以上の元素から構成された第一化合物半導体層を形成し、さらに、第一化合物半導体層上に、InxGa1−xAsySb1−y(0<x≦1.0、0≦y≦1.0)からなる第二化合物半導体層を形成し、第二化合物半導体層上に電極を形成することにより製造される。第二化合物半導体層にSiまたはSn不純物をドープしてもよい。
図2は、図1に示した積層体を用いた磁気センサの一例を示す断面構造模式図である。
図3は、化合物半導体層の表面のX線回析結果を示す図である。
図1は、本発明に係るSi上の化合物半導体層を含む積層体を示す断面模式図で、図中符号1は(111)Si基板、2は第一化合物半導体層、3は第二化合物半導体層を示している。
この積層体は、(111)面が基板表面に平行なSi基板1上に、Ga、Al、In、As、Sb、Pのうち少なくとも2種以上の元素から構成された第一化合物半導体層2が設けられ、さらに、この第一化合物半導体層2上に、InxGa1−xAsySb1−y(0<x≦1.0、0≦y≦1.0)からなる第二化合物半導体層3が設けられている。第一化合物半導体層2及び第二化合物半導体層3の(111)面が、基板表面に平行であるように構成されている。
基板1は、(111)Siであることが必要で、通常(111)±10度の基板が用いられる。
また、第一化合物半導体層2は、Ga,Al,In,As,Sb,Pのうち少なくとも2種以上の元素から構成された化合物半導体からなり、この第一化合物半導体層2の厚さは、通常0.01μm〜10μmであり、好ましくは、0.1μm〜5μmであり、さらに0.5μm〜2μmであることが望ましい。Al1−zGazAs(0≦z≦1)は第一化合物半導体層2として好ましい例であり、特にGaAsが好ましい例である。
また、第二化合物半導体層3は、InxGa1−xAsySb1−y(0≦y≦1)からなり、この第二化合物半導体層3の厚さは、通常0.1μm以上であり、厚くなるとシート抵抗が小さくなる。高感度で比較的抵抗の高いホール素子を形成する場合、通常、0.15μm〜2μmであり、好ましくは、0.3μm〜1.5μmであり、さらに好ましくは、0.5μm〜1.2μmであることが望ましい。InAsySb1−y(0≦y≦1)は、第二化合物半導体層3として好ましい例であり、特に、InSbやInAsが好ましい例である。
また、第二化合物半導体層2には不純物がドープされていても良い。ドーピング元素としては、SiやSnなどが好ましい例である。不純物濃度としては、通常、1×E15/cm3〜3.5×E16/cm3、好ましくは、2×E15/cm3〜2.5×E16/cm3、さらに好ましくは、5×E15/cm3〜2×E16/cm3であることが望ましい。
図2は、図1に示した積層体を用いた磁気センサの一例を示す断面構造模式図で、図中符号4は金属電極層、5は保護層(パッシベーション膜)を示している。なお、図1と同じ機能を有する構成要素には同一の符号を付してある。
この磁気サンサは、(111)面が基板表面に平行なSi基板1上に、Ga、Al、In、As、Sb、Pのうち少なくとも2種以上の元素から構成された第一化合物半導体層2が設けられ、さらに、この第一化合物半導体層2上に、InxGa1−xAsySb1−y(0.5≦x≦1.0、0≦y≦1.0)からなる第二化合物半導体層3が設けられていて、第一化合物半導体層2及び第二化合物半導体層3の(111)面が、基板表面に平行であるように構成されており、さらに、第二化合物半導体層3上の両端側に金属電極層4が設けられている。この第二化合物半導体層3は、金属電極層4との接触部以外が保護層5(パッシベーション膜)で覆われている。
この磁気センサを構成している金属電極層4は、通常はオーミック電極であり、センサ層にオーミックコンタクトすることが好ましい。電極の材質は、AuGe/Ni/Auなどの公知の多層電極でも良いし、単層の金属でも良い。
パッシベーション膜としては、SiN、SiON、SiO2が好ましい例である。また、本発明の磁気センサとしては、ホール素子や磁気抵抗素子などが含まれる。
第一化合物半導体層2及び第二化合物半導体層3の(111)面が基板1の表面に平行であることはX線回折法で確認した。
電気特性は、van der Pauw法を用いて測定した。その結果、シートキャリア濃度が、1.7E12/cm2で、電子移動度も37000以上の良好な特性が得られた。
[比較例1]
まず、直径2インチの(111)Si基板上に分子線エピタキシー(MBE)法により、じかに、InSb膜を1μm形成した。
電気特性は、van der Pauw法を用いて測定した。その結果、シートキャリア濃度は、3.1×E12/cm2と大きく、電子移動度も11000cm2/Vsしか得られなかった。
[比較例2]
次に、比較例1で形成したInSb膜上に、フォトリソグラフィー法を用いて、実施例2と同様にホール素子を形成して特性評価を行った。その結果を表2に示す。
第一化合物半導体層、及び、第二化合物半導体層の(111)面が基板の表面に平行である事はX線回折法で確認した。単結晶であることは、InSbの(220)面の測定を行う事により確認した。その結果を図3に示す。120度おきに、3本のピークが得られており、単結晶膜となっていることが確認できた。
電気特性はvan der Pauw法を用いて測定した。その結果、シートキャリア濃度が、1.0E12/cm2で、電子移動度も48000cm2/Vsの良好な特性がれられた。
次に、上記第二化合物半導体上に、フォトリソグラフィー法を用いて、図2と同様な磁気センサであるホール素子を形成し、ホール素子特性を測定した。なお、電極は、真空蒸着法によりTi層100nm、Au層600nmを連続蒸着して用いた。ホール素子のチップサイズは360μm×360μmであり、3種類の設計の異なる構造を同時に形成し、各設計構造の素子の特性を50mTの磁場中で1Vの入力電圧を加えて評価した。結果を下表に示す。
設計Bで、素子抵抗も300Ω以上と大きく、感度も80mVと低消費電力で、かつ、高感度な素子が形成できる事が確認された。設計で、より高感度にもできるが、その場合は、抵抗が小さくなり(設計A)、より、高抵抗にもできるが、その場合は、感度が悪くなる(設計C)が、材料のシートキャリア濃度が1.0E12/cm2と良好であるため、設計の自由度が大きく高感度、かつ、高抵抗の素子設計が可能である。
Claims (16)
- (111)面が基板表面に平行なSi基板上に設けられ、Ga、Al、In、As、Sb、Pのうち少なくとも2種以上の元素から構成された第一化合物半導体層と、該第一化合物半導体層上に設けられ、InxGa1−xAsySb1−y(0<x≦1.0、0≦y≦1.0)からなり、機能層として動作する第二化合物半導体層と、該第二化合物半導体層の面内方向に電流が流れるように、該第二化合物半導体層の両端側に設けられた電極とを備えたことを特徴とする半導体センサ。
- 前記第一化合物半導体層及び第二化合物半導体層の(111)面が、前記基板表面に平行であることを特徴とする請求項1に記載の半導体センサ。
- 前記第一化合物半導体層がAl1−zGazAs(0≦z≦1)であることを特徴とする請求項1に記載の半導体センサ。
- 前記第二化合物半導体層がInxGa1−xAsySb1−y(0.5≦x≦1.0、0≦y≦1.0)であることを特徴とする請求項1に記載の半導体センサ。
- 前記第二化合物半導体層がInAsySb1−y(0≦y≦1)であることを特徴とする請求項4に記載の半導体センサ。
- 前記第二化合物半導体層の厚さが、0.15μm以上、2μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の半導体センサ。
- 前記第二化合物半導体層に不純物がドープされていることを特徴とする請求項1に記載の半導体センサ。
- 前記不純物はSiまたはSnであることを特徴とする請求項6に記載の半導体センサ。
- 前記第二化合物半導体層は、前記電極との接触部以外がパッシベーション膜で覆われていることを特徴とする請求項1に記載の半導体センサ。
- 前記第二化合物半導体層が感磁層であり、磁束密度を検出するセンサであることを特徴とする請求項1に記載の半導体センサ
- (111)面が基板表面に平行なSi基板上に、Ga、Al、In、As、Sb、Pのうち少なくとも2種以上の元素から構成された第一化合物半導体層を形成し、さらに、第一化合物半導体層上に、InxGa1−xAsySb1 −y(0<x≦1.0、0≦y≦1.0)からなる第二化合物半導体層を形成し、該第二化合物半導体層上に複数の電極を形成することを特徴とする半導体センサの製造方法。
- 前記第一化合物半導体層がAl1−zGazAs(0≦z≦1)であることを特徴とする請求項10に記載の半導体センサの製造方法。
- 前記第二化合物半導体層がInxGa1−xAsySb1−y(0.5≦x≦1.0、0≦y≦1.0)であることを特徴とする請求項10に記載の半導体センサの製造方法。
- 前記第二化合物半導体層がInAsySb1−y(0≦y≦1)であることを特徴とする請求項13に記載の半導体センサの製造方法。
- 前記第二化合物半導体層の厚さが、0.15μm以上、2μm以下であることを特徴とする請求項10に記載の半導体センサの製造方法。
- 前記第二化合物半導体層にSiまたはSn不純物をドープすることを特徴とする請求項10に記載の半導体センサの製造方法。
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