JPS6373603A - 基体に導体路および／または抵抗路を製造するための方法及びこの方法により製造されるポテンシオメータ - Google Patents
基体に導体路および／または抵抗路を製造するための方法及びこの方法により製造されるポテンシオメータInfo
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- JPS6373603A JPS6373603A JP62225456A JP22545687A JPS6373603A JP S6373603 A JPS6373603 A JP S6373603A JP 62225456 A JP62225456 A JP 62225456A JP 22545687 A JP22545687 A JP 22545687A JP S6373603 A JPS6373603 A JP S6373603A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
- H01C17/06—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C10/00—Adjustable resistors
- H01C10/30—Adjustable resistors the contact sliding along resistive element
- H01C10/32—Adjustable resistors the contact sliding along resistive element the contact moving in an arcuate path
- H01C10/34—Adjustable resistors the contact sliding along resistive element the contact moving in an arcuate path the contact or the associated conducting structure riding on collector formed as a ring or portion thereof
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、まず導体路および／または抵抗路が中間支持
体上に製造され、次に基体がこの中間支持体上に付着さ
れた導体路および／または抵抗路と結合され、最後に中
間支持体が導体路および／または抵抗路から分離される
様に、基体に導体路および／または抵抗路を製造するた
めの方法に関し、更にこの方法により製造されるポテン
シオメータに関する。
体上に製造され、次に基体がこの中間支持体上に付着さ
れた導体路および／または抵抗路と結合され、最後に中
間支持体が導体路および／または抵抗路から分離される
様に、基体に導体路および／または抵抗路を製造するた
めの方法に関し、更にこの方法により製造されるポテン
シオメータに関する。
上述した種の方法は西ドイツ特許公開公報第３３２２３
８２号に記載されている。この逆表面処理方法では平ら
な中間支持体から出発しているものである。これに対応
して導体路及び抵抗路が一平面内に延びている。
８２号に記載されている。この逆表面処理方法では平ら
な中間支持体から出発しているものである。これに対応
して導体路及び抵抗路が一平面内に延びている。
ヨーロッパ特許公開第ＯＱ １５７６６６号公報には回
転可能なポテンシオメータが記載されており、はぼ円筒
状の空間の内壁に抵抗路が配設されている。
転可能なポテンシオメータが記載されており、はぼ円筒
状の空間の内壁に抵抗路が配設されている。
本発明の課題は、導体路および／または抵抗路が凹面湾
曲された壁面に製造されうる様な初めに述べた種の方法
を提案することである。
曲された壁面に製造されうる様な初めに述べた種の方法
を提案することである。
本発明によれば前記課題は、初めに述べた種の方法にお
いては次の様にして解決される、即ち中間体として円筒
状又は円錐状物体が使われ、導体路および／または抵抗
路を支持する中間支持体の周辺を取り巻いて基体が取り
付けられ、硬化され、次に中間支持体が引き抜かれる様
にして解決される。
いては次の様にして解決される、即ち中間体として円筒
状又は円錐状物体が使われ、導体路および／または抵抗
路を支持する中間支持体の周辺を取り巻いて基体が取り
付けられ、硬化され、次に中間支持体が引き抜かれる様
にして解決される。
この方法によって簡単な方法で円筒状乃至は円錐状の内
部空間を有する基体が作られ、その壁に導体路および／
または抵抗路が配設されている。
部空間を有する基体が作られ、その壁に導体路および／
または抵抗路が配設されている。
本発明の発展形態において、基体の取り付けは周辺温度
よりも高い温度で行われ、中間支持体の熱膨張係数は基
体の熱膨張係数よりも高く選定される。これによって冷
却後中間支持体は基体から簡単に引き出すことができる
ことになる。
よりも高い温度で行われ、中間支持体の熱膨張係数は基
体の熱膨張係数よりも高く選定される。これによって冷
却後中間支持体は基体から簡単に引き出すことができる
ことになる。
特に有利には中間支持体はそれ自体周知の方法で金属で
できているのが好ましく、そして分Ｍ層として酸化層が
設けられている。このことは基体中の導体路および／ま
たは抵抗路を中間支持体から分離するのが好都合である
。本発明の他の形態にあっては中間支持体は熱可塑性の
プラスチックから作ることができる。
できているのが好ましく、そして分Ｍ層として酸化層が
設けられている。このことは基体中の導体路および／ま
たは抵抗路を中間支持体から分離するのが好都合である
。本発明の他の形態にあっては中間支持体は熱可塑性の
プラスチックから作ることができる。
基体は特に有利には熱硬化性のプラスチック塊状体から
形成される。この基体はその時同時に安定性のあるケー
シングを形成しうる。
形成される。この基体はその時同時に安定性のあるケー
シングを形成しうる。
上記方法により製造されるポテンシ才メータは、基体が
ポテンシオメータのケーシングを形成し、円筒状の中空
室を取り囲み、その内壁に導体路及び抵抗路が設けられ
ており、中空室内にはそのφ６軸の周りに回転可能な測
定部分が支承されており、その部分が導体路及び抵抗路
に接触しているという特徴がある。
ポテンシオメータのケーシングを形成し、円筒状の中空
室を取り囲み、その内壁に導体路及び抵抗路が設けられ
ており、中空室内にはそのφ６軸の周りに回転可能な測
定部分が支承されており、その部分が導体路及び抵抗路
に接触しているという特徴がある。
この種の構成部材において導体路及び抵抗路は極端に平
坦であり、段落なしに基体乃至はケーシングの中に挿入
される。これにより摩耗はそれ相応に僅かなものとなる
。
坦であり、段落なしに基体乃至はケーシングの中に挿入
される。これにより摩耗はそれ相応に僅かなものとなる
。
導体路及び抵抗路は、同心的なラジアル方向円環平面上
に延在せず、ケーシングの円筒状中空室の内壁に接して
延在する。等電位線はその際平行に延び、従って比較的
高い電気的負荷可能性が達成される。この配置により温
度変動による内壁と路との間の機械的応力は低下されて
いる。
に延在せず、ケーシングの円筒状中空室の内壁に接して
延在する。等電位線はその際平行に延び、従って比較的
高い電気的負荷可能性が達成される。この配置により温
度変動による内壁と路との間の機械的応力は低下されて
いる。
路がラジアル方向に延在するので、直径において極めて
小さな構造のポテンシオメータが可能となる。更にケー
シング内の路は外側からの影響に対して保護された状態
となる。
小さな構造のポテンシオメータが可能となる。更にケー
シング内の路は外側からの影響に対して保護された状態
となる。
本発明の更に別の形状のものは特許請求の範囲の従属項
及び実施例に関する以下の説明から明らかとなる。
及び実施例に関する以下の説明から明らかとなる。
円筒状の中間支持体上に酸化層２がうわのせされる。酸
化層２上には例えばスクリーンプリント法でポリマー厚
膜導体ペースト３が印刷される。印刷をするのに丸型ス
クリーンプリント機が適することになる。印刷されるス
クリーンプリントペーストは２５０℃迄の温度で硬化さ
れる。
化層２上には例えばスクリーンプリント法でポリマー厚
膜導体ペースト３が印刷される。印刷をするのに丸型ス
クリーンプリント機が適することになる。印刷されるス
クリーンプリントペーストは２５０℃迄の温度で硬化さ
れる。
その後で中間支持体ｌはプラスチック加圧機のプレス工
具内に挿入され、ポリエステル−プレス塊状体５でもっ
て約１５０℃で周りに射出成形される。この塊状体は導
体ペースト３乃至抵抗ペースト４からなる導体路乃至抵
抗路３′。
具内に挿入され、ポリエステル−プレス塊状体５でもっ
て約１５０℃で周りに射出成形される。この塊状体は導
体ペースト３乃至抵抗ペースト４からなる導体路乃至抵
抗路３′。
４′用の基体を形成し、そして以下に詳細に説明するポ
テンシオメータのケーシング５′を形成する。青銅製中
間支持体１の熱膨張係数はポリエステル−プレス塊状体
５によって形成されたケーシング５′の熱膨張係数より
も大きい。
テンシオメータのケーシング５′を形成する。青銅製中
間支持体１の熱膨張係数はポリエステル−プレス塊状体
５によって形成されたケーシング５′の熱膨張係数より
も大きい。
プレス加工品（第２図参照）を冷却した後中間支持体１
は軸方向、矢印Ｐの方向にケーシング５′から引き出さ
れる。その際層状の導体路乃至は抵抗路はケーシング５
′の内壁に付着したままとなる、というのはこれら路と
ケーシング５′のポリエステル−プラスチックとの間に
は中間支持体１とその酸化層２との間よりも大きな付着
力が生ずるからである。
は軸方向、矢印Ｐの方向にケーシング５′から引き出さ
れる。その際層状の導体路乃至は抵抗路はケーシング５
′の内壁に付着したままとなる、というのはこれら路と
ケーシング５′のポリエステル−プラスチックとの間に
は中間支持体１とその酸化層２との間よりも大きな付着
力が生ずるからである。
最後に酸化Ｂ２が腐食剤で洗浄される。
本発明の他の実施例では中間支持体Ｉが、線形ポリエス
テル、ポリイミド、ポリアミド又はポリフェニルスルフ
ァイトの様な、高温強度のある可塑物でできている。分
離層２の構造はここでは省く。ポリマー厚膜ペースト３
，４用の硬化温度はこの場合、より低く決められるべき
であり、それは概ね１８０℃を越えない。
テル、ポリイミド、ポリアミド又はポリフェニルスルフ
ァイトの様な、高温強度のある可塑物でできている。分
離層２の構造はここでは省く。ポリマー厚膜ペースト３
，４用の硬化温度はこの場合、より低く決められるべき
であり、それは概ね１８０℃を越えない。
硬化されたポリエステル−ブレス塊状体５によって形成
されたケーシング５′から中間支持体Ｉを取り除くこと
は、中間支持体ｌが僅かに円錐形に形成されるようにし
て簡単とされうる。
されたケーシング５′から中間支持体Ｉを取り除くこと
は、中間支持体ｌが僅かに円錐形に形成されるようにし
て簡単とされうる。
中間支持体ｌは何ら円筒形の中実体とする必要はない。
これは管から形成することもできる。
ポテンシオメータは上述した方法で製造されたケーシン
グ５′を使ってほぼ次の様に構成されている（第３図、
第４図参照）。ポリエステル−プレス塊状体５によって
形成されたケーシング５′は円筒状の内部室６を備えて
おり、その内壁７の周りに導体路３′及び抵抗路４′が
延びている。中間支持体Ｉを適当に形状付けることによ
ってケーシング５′の閉じられた床には支承皿体８が形
成されている。内部室６の内径は例えば単に７ＩＩＩ１
１の直径を有している。
グ５′を使ってほぼ次の様に構成されている（第３図、
第４図参照）。ポリエステル−プレス塊状体５によって
形成されたケーシング５′は円筒状の内部室６を備えて
おり、その内壁７の周りに導体路３′及び抵抗路４′が
延びている。中間支持体Ｉを適当に形状付けることによ
ってケーシング５′の閉じられた床には支承皿体８が形
成されている。内部室６の内径は例えば単に７ＩＩＩ１
１の直径を有している。
内部室６内には、支承ビンｌＯで支承皿体８に係合する
測定部分９が係合している。測定部分９の周辺には数個
の接触スライダー１１が固定されている。接触スライダ
ー１１は部分的に導体路３′に、そして部分的に抵抗路
４′に従属している。接触スライダー１１は電気的に互
いに結合されている。 導体路３′及び抵抗路・１゛の
接続部１２はケーシング５′を通って外へと通じている
。接続部１２はケーシング５′を製造する際−緒に射出
成形することが出来る。
測定部分９が係合している。測定部分９の周辺には数個
の接触スライダー１１が固定されている。接触スライダ
ー１１は部分的に導体路３′に、そして部分的に抵抗路
４′に従属している。接触スライダー１１は電気的に互
いに結合されている。 導体路３′及び抵抗路・１゛の
接続部１２はケーシング５′を通って外へと通じている
。接続部１２はケーシング５′を製造する際−緒に射出
成形することが出来る。
ケーシング５′はカバー１３を用いて閉鎖されており、
そのカバー１３は測定部分９のグリップ部分１４を貫通
するための切欠きを備えている。
そのカバー１３は測定部分９のグリップ部分１４を貫通
するための切欠きを備えている。
抵抗路４″上の等電位線は回転軸に平行に、しかしこれ
に対してラジアル方向でなく、且つ互いに平行に延びて
いる。抵抗路４′の負荷可能性はその際比較的大きいも
のである。更に抵抗路４′に沿って接触スライダーＩＩ
を回転する時、抵抗領域に高い分解が生ずる。測定部分
９の配向の公差が抵抗位置に殆ど影響を及ぼさないとい
うことは、抵抗路４′をこのように配置することで好ま
しいものとなる。
に対してラジアル方向でなく、且つ互いに平行に延びて
いる。抵抗路４′の負荷可能性はその際比較的大きいも
のである。更に抵抗路４′に沿って接触スライダーＩＩ
を回転する時、抵抗領域に高い分解が生ずる。測定部分
９の配向の公差が抵抗位置に殆ど影響を及ぼさないとい
うことは、抵抗路４′をこのように配置することで好ま
しいものとなる。
接触スライダーＩＩと、導体路乃至は抵抗路３’ 、４
’ のラジアル方向の配置とは測定部分９が高い回転速
度の場合でもその接触を互いに確保する。
’ のラジアル方向の配置とは測定部分９が高い回転速
度の場合でもその接触を互いに確保する。
測定部分９の回転角を制限するためにこれには突出部Ｉ
５が形成されている。この突出部には内部室６内のスト
ッパー１６が従属している。
５が形成されている。この突出部には内部室６内のスト
ッパー１６が従属している。
このストッパーＩ６は中間支持体ｌを適当に形状付ける
ことによってプレス塊状体５でその支持体の周りに射出
成形する際作られるものである。
ことによってプレス塊状体５でその支持体の周りに射出
成形する際作られるものである。
第１図は印刷された導体路及び抵抗路を有する中間支持
体を示し、第２図は基体で取り巻く様に射出成形された
第１図による中間支持体を部分図で示したものであり、
第３図は第２図による基体乃至はケーシングを有するポ
テンシオメータを示すものであり、第４図は第３図によ
る線ＩＶ−ＩＶに沿った断面図である。 図中参照番号 １・・・・・・中間支持体 ２・・・・・・酸化層 ３・・・・・・導体ペースト ３′ ・・・・・導体路 ４・・・・・・抵抗ペースト ４′ ・・・・・抵抗路 ５・・・・・・ポリエステル−プレス塊状体５′ ・・
・・・ケーシング ６・・・・・・内部室 ７・・・・・・内壁 ８・・・・・・支承皿体 ９・・・・・・測定部分 １０・・・・・支承ピン １１・・・・・接触スライダー １２・・・・・電気接続部 １３・・・・・・カバー １４・・・・・グリップ部分 １５・・・・・突出部 １６・・・・・ストッパー Ｐ・・・・・・矢印
体を示し、第２図は基体で取り巻く様に射出成形された
第１図による中間支持体を部分図で示したものであり、
第３図は第２図による基体乃至はケーシングを有するポ
テンシオメータを示すものであり、第４図は第３図によ
る線ＩＶ−ＩＶに沿った断面図である。 図中参照番号 １・・・・・・中間支持体 ２・・・・・・酸化層 ３・・・・・・導体ペースト ３′ ・・・・・導体路 ４・・・・・・抵抗ペースト ４′ ・・・・・抵抗路 ５・・・・・・ポリエステル−プレス塊状体５′ ・・
・・・ケーシング ６・・・・・・内部室 ７・・・・・・内壁 ８・・・・・・支承皿体 ９・・・・・・測定部分 １０・・・・・支承ピン １１・・・・・接触スライダー １２・・・・・電気接続部 １３・・・・・・カバー １４・・・・・グリップ部分 １５・・・・・突出部 １６・・・・・ストッパー Ｐ・・・・・・矢印
Claims (10)
- （１）まず導体路および／または抵抗路が中間支持体上
に製造され、次に基体がこの中間支持体上に付着された
導体路および／または抵抗路と結合され、最後に中間支
持体が導体路および／または抵抗路から分離される様に
、基体に導体路および／または抵抗路を製造するための
方法において、中間体として円筒状又は円錐状物体が使
われ、導体路および／または抵抗路を支持する中間支持
体の周辺を取り囲んで基体が取り付けられ、硬化され、
次に中間支持体が引き抜かれることを特徴とする方法。 - （２）基体の取り付けを周辺温度よりも高い温度で行い
、中間支持体の熱膨張係数を基体の熱膨張係数よりも高
く選択することを特徴とする特許請求の範囲第１項に記
載の方法。 - （３）中間支持体が金属でできており、そして分離層と
して酸化層が設けられることを特徴とする特許請求の範
囲第１項または第２項に記載の方法。 - （４）中間支持体が熱可塑性プラスチックでできている
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項または第２項に
記載の方法。 - （５）基体が熱硬化性のプラスチック塊状体から形成さ
れることを特徴とする特許請求の範囲第１項〜第４項の
うちの１項に記載の方法。 - （６）中間支持体が管によって形成されていることを特
徴とする特許請求の範囲第１項〜第５項のうちの１項に
記載の方法。 - （７）中間体として円筒状又は円錐状物体が使われ、導
体路および／または抵抗路を支持する中間支持体の周辺
の周りに基体が取り付けられ、硬化され、次に中間支持
体が引き抜かれる様に成された、まず導体路および／ま
たは抵抗路が中間支持体上に製造され、次に基体がこの
中間支持体上に付着された導体路および／または抵抗路
と結合され、最後に中間支持体が導体路および／または
抵抗路から分離される様に、基体に導体路および／また
は抵抗路を製造するための方法により製造されるポテン
シオメータにおいて、基体がポテンシオメータのケーシ
ング（５′）を形成し、円筒状の中空室（６）を取り囲
み、その内壁（７）に導体路および／または抵抗路（３
′、４′）が設けられており、中空室（６）内にはその
中心軸の周りに回転可能な測定部分（９）が支承されて
おり、この測定部分が導体路および／または抵抗路（３
′、４′）と接触していることを特徴とするポテンシオ
メータ。 - （８）導体路および／または抵抗路（３′、４′）が内
壁（７）の周辺方向に延びていることを特徴とする特許
請求の範囲第７項に記載のポテンシオメータ。 - （９）導体路および／または抵抗路（３′、４′）の電
気接続部（１２）がケーシング（５′）を形成する基体
の中に一緒に射出成形されていることを特徴とする特許
請求の範囲第７項または第８項に記載のポテンシオメー
タ。 - （１０）ケーシング（５′）には中間支持体（１）を適
当に形状つけることによって測定部分（９）用の付加形
状体（８、１６）が形成されていることを特徴とする特
許請求の範囲第７項〜第９項のうちの１項に記載のポテ
ンシオメータ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3631058.1 | 1986-09-12 | ||
| DE19863631058 DE3631058A1 (de) | 1986-09-12 | 1986-09-12 | Verfahren zur herstellung von leit- und/oder widerstandsbahnen an einem substrat und nach diesem verfahren hergestelltes potentiometer |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6373603A true JPS6373603A (ja) | 1988-04-04 |
Family
ID=6309437
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62225456A Pending JPS6373603A (ja) | 1986-09-12 | 1987-09-10 | 基体に導体路および／または抵抗路を製造するための方法及びこの方法により製造されるポテンシオメータ |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0259709A3 (ja) |
| JP (1) | JPS6373603A (ja) |
| DE (1) | DE3631058A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3808583C1 (ja) * | 1988-03-15 | 1989-05-11 | Preh, Elektrofeinmechanische Werke Jakob Preh Nachf. Gmbh & Co, 8740 Bad Neustadt, De | |
| JP3372636B2 (ja) * | 1994-03-16 | 2003-02-04 | アルプス電気株式会社 | 抵抗基板の製造方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH295509A (fr) * | 1950-07-13 | 1953-12-31 | Limited Voltohm Processes | Procédé de fabrication d'une résistance électrique en métal. |
| US3240642A (en) * | 1960-01-18 | 1966-03-15 | Zenith Radio Corp | Method of printing an electrical component |
| GB1268756A (en) * | 1968-06-14 | 1972-03-29 | Plessey Co Ltd | Improvements in or relating to electrical or electronic components |
| GB1232350A (ja) * | 1969-04-18 | 1971-05-19 | ||
| DE2115369A1 (en) * | 1971-03-30 | 1972-10-05 | Siemens Ag | Printed circuits with glass or ceramic platelets - printed with the conducting layer using a silicone rubber layered roller |
| JPS5235109B2 (ja) * | 1972-02-23 | 1977-09-07 | ||
| CH598681A5 (ja) * | 1976-10-08 | 1978-05-12 | Kif Parechoc Sa | |
| US4355293A (en) * | 1979-10-22 | 1982-10-19 | The Bendix Corporation | Electrical resistance apparatus having integral shorting protection |
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1986
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-
1987
- 1987-08-27 EP EP87112459A patent/EP0259709A3/de not_active Withdrawn
- 1987-09-10 JP JP62225456A patent/JPS6373603A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3631058A1 (de) | 1988-03-24 |
| EP0259709A3 (de) | 1989-12-06 |
| EP0259709A2 (de) | 1988-03-16 |
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