JPS6363680A - (1r)−1−メチルカルバペネム−3−カルボン酸誘導体 - Google Patents
(1r)−1−メチルカルバペネム−3−カルボン酸誘導体Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/30—Against vector-borne diseases, e.g. mosquito-borne, fly-borne, tick-borne or waterborne diseases whose impact is exacerbated by climate change
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
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- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、カルバペネム−3−カルボン酸誘導体に関し
、詳細にはカルバペネム骨格の1位にβ−配置でメチル
基が導入された(IR)−1−メチルカルバペネム−3
−カルボン酸誘導体およゾその塩に関する。
、詳細にはカルバペネム骨格の1位にβ−配置でメチル
基が導入された(IR)−1−メチルカルバペネム−3
−カルボン酸誘導体およゾその塩に関する。
(従来の技術とその問題点)
従来より、種々の抗菌活性を目的として次式[1:
で表わされるカルパー2−ベネム−3−カルボン酸を基
本骨格とするカルバペネム系抗生物質が提案されて米で
いる。
本骨格とするカルバペネム系抗生物質が提案されて米で
いる。
例乏ば初期のカルバペネム化合物は、ストレプトミセス
・カトレヤ(S LreptoBces catt!
eya)の発酵より得られた次式: cooH で表わされるチェナマイシンのような天然由来のカルバ
ペネム化合物である。このチェナマイシンは広範囲にわ
たるグラム陽性菌、グラム陰性菌に対し、優れた抗菌ス
ベク(ラムを有し、有用性の高い1ヒ合物としてその開
発が期待されたものの、化学的安定性が悪(、実用化さ
れるまでには至っていない。
・カトレヤ(S LreptoBces catt!
eya)の発酵より得られた次式: cooH で表わされるチェナマイシンのような天然由来のカルバ
ペネム化合物である。このチェナマイシンは広範囲にわ
たるグラム陽性菌、グラム陰性菌に対し、優れた抗菌ス
ベク(ラムを有し、有用性の高い1ヒ合物としてその開
発が期待されたものの、化学的安定性が悪(、実用化さ
れるまでには至っていない。
そのため多くの研究者は、上記式で示されるチェナマイ
シンの抗菌活性を保有し、その安定性が確保されたカル
バペネム化合物の検討をして米でおり、その結果、チェ
ナマイシンの2位の側鎖のアミ7基をイミドイル基とし
た次式: で表わされるイミベネム(iωipenem; I N
N )が実用的抗菌剤として登場するに至った。
シンの抗菌活性を保有し、その安定性が確保されたカル
バペネム化合物の検討をして米でおり、その結果、チェ
ナマイシンの2位の側鎖のアミ7基をイミドイル基とし
た次式: で表わされるイミベネム(iωipenem; I N
N )が実用的抗菌剤として登場するに至った。
上記式で示されるイミベネムは、チェナマイシンより優
れた抗菌活性を示し、化学的安定性はある程度確保され
たものの、生体内において腎ヂヒドロペプチグーゼ(D
HP )により分解不活性化が短時間のうちに生じて
しまうという欠点を有している。そのためイミペネム単
独での投与が出来イ:シず、DHP抑制剤と併用しその
分解不活性化を抑制してやらなければならないものであ
る。したがって、この化合物の実際的製剤はDHP抑制
抑制一種であるシラスタチン(cilastatin;
I N N )と併用したイミベネム/シラスクチン
の配合処方となっている。
れた抗菌活性を示し、化学的安定性はある程度確保され
たものの、生体内において腎ヂヒドロペプチグーゼ(D
HP )により分解不活性化が短時間のうちに生じて
しまうという欠点を有している。そのためイミペネム単
独での投与が出来イ:シず、DHP抑制剤と併用しその
分解不活性化を抑制してやらなければならないものであ
る。したがって、この化合物の実際的製剤はDHP抑制
抑制一種であるシラスタチン(cilastatin;
I N N )と併用したイミベネム/シラスクチン
の配合処方となっている。
しかしながら実用的な抗菌剤としては、抗菌剤本来の抗
菌活性がそのまま発揮されるのが好ましく、また併用す
るDHP抑制剤が生トド内の池の組織において好ましか
らざる副作用を発揮するおそれも考えられることより、
配合処方は極力回避しなければならないものといえる。
菌活性がそのまま発揮されるのが好ましく、また併用す
るDHP抑制剤が生トド内の池の組織において好ましか
らざる副作用を発揮するおそれも考えられることより、
配合処方は極力回避しなければならないものといえる。
そのため抗菌活性と同時にDHPに対する耐性をも保有
するカルバペネム化合物の開発が期待されている。
するカルバペネム化合物の開発が期待されている。
最近に至り上述の目的を達成させるものとして、カルバ
ペネム骨格の1位にメチル基を導入した1一メチル力ル
パペネム化合物が種々提案されており(特開昭58−6
2887号)、該出願のなかに包含される次式: %式% 91)は、抗菌活性が優れたものであるとともにDHP
による分解不活性化に対する抵抗性が着しく改善され、
有用性が高いものであると報告されている[ヘテロサイ
クルズ(Heterocycles)、21(1)、2
9(1984)]。
ペネム骨格の1位にメチル基を導入した1一メチル力ル
パペネム化合物が種々提案されており(特開昭58−6
2887号)、該出願のなかに包含される次式: %式% 91)は、抗菌活性が優れたものであるとともにDHP
による分解不活性化に対する抵抗性が着しく改善され、
有用性が高いものであると報告されている[ヘテロサイ
クルズ(Heterocycles)、21(1)、2
9(1984)]。
ところで]上記特開昭58−62887号明細は、カル
バペネム骨格の1位にメチル基が導入されたカルバペネ
ム化合物について非常に広い一般的概念としての開示を
含むのみであって、本発明が提供せんとする化合物を特
定的に命名、記載してはいないものである。したがって
、該出願は本明細書において開示し、かつクレームする
選択的な発明をなんら示唆しているものではない。
バペネム骨格の1位にメチル基が導入されたカルバペネ
ム化合物について非常に広い一般的概念としての開示を
含むのみであって、本発明が提供せんとする化合物を特
定的に命名、記載してはいないものである。したがって
、該出願は本明細書において開示し、かつクレームする
選択的な発明をなんら示唆しているものではない。
(発明の目的)
本発明者らは、強力な抗菌活性ならびにβ−ラクタマー
ゼ阻害作用等を有するとともに、腎デヒドロペプチグー
ゼに対する耐性も確保されたカルバペネム化合物を提供
せんとして種々検討を行ない、その結果、これまで明示
的に検討が詳細にはなされてぃなかった1位がβ−配置
でメチル置換されたカルバペネム化合物において、2位
の側鎖が特異的複素環式基あるいは芳香環基で置換され
た化合物が、これらの目的に合致するものであることを
新規に見い出し、本発明を完成したものである。
ゼ阻害作用等を有するとともに、腎デヒドロペプチグー
ゼに対する耐性も確保されたカルバペネム化合物を提供
せんとして種々検討を行ない、その結果、これまで明示
的に検討が詳細にはなされてぃなかった1位がβ−配置
でメチル置換されたカルバペネム化合物において、2位
の側鎖が特異的複素環式基あるいは芳香環基で置換され
た化合物が、これらの目的に合致するものであることを
新規に見い出し、本発明を完成したものである。
(目的を達成するための手段)
しかして本発明は、次式I:
[式中、
2は非置換もしくは置換芳香環基を表わすか、少なくと
も窒素原子を1個含有する、置換もしくは非置換の脂環
族−または芳香族−複素環式基を表わし、 nは0,1.2または3の整数を表わす1で表わされる
(IR)−1−メチルカルバペネム−3−カルボン酸誘
導体およ1その塩に関するものである。
も窒素原子を1個含有する、置換もしくは非置換の脂環
族−または芳香族−複素環式基を表わし、 nは0,1.2または3の整数を表わす1で表わされる
(IR)−1−メチルカルバペネム−3−カルボン酸誘
導体およ1その塩に関するものである。
本発明は上記式Iで示されるカルバペネム化合物に関す
るものであるが、式中nが0,1または2の整数を表わ
すカルバペネム化合物が特に好まし〜1゜ 本発明の上記式Iで表わされるカルバペネム化金物にお
ける置換基Zとしては、非置換もしくは置換芳香環基を
表わすか、少なくとも窒素原子を1@含有する置換も゛
しくは非置換の′?X!環−一または芳香族−複素環式
基を意味するが、そのような置換基としては例えば、ベ
ンゼン、置換ベンゼン、ピロリル、ピロリニル、イミダ
ゾリル、ピラゾリル、ピリジルもしくはそのN−オキサ
イド、とリミジル、ビラシェル、ピロリジニル1.I
H−1。
るものであるが、式中nが0,1または2の整数を表わ
すカルバペネム化合物が特に好まし〜1゜ 本発明の上記式Iで表わされるカルバペネム化金物にお
ける置換基Zとしては、非置換もしくは置換芳香環基を
表わすか、少なくとも窒素原子を1@含有する置換も゛
しくは非置換の′?X!環−一または芳香族−複素環式
基を意味するが、そのような置換基としては例えば、ベ
ンゼン、置換ベンゼン、ピロリル、ピロリニル、イミダ
ゾリル、ピラゾリル、ピリジルもしくはそのN−オキサ
イド、とリミジル、ビラシェル、ピロリジニル1.I
H−1。
2.4−)リアゾリル、IH−1,2,3−)リアゾリ
ル、2H−1,2,3−)リアゾリル等のトリアゾリル
、IH−テトラゾリル、28−テトラゾリル等のテトラ
ゾリル等の窒素含有不飽和爪環複素環式基、ピロリジニ
ル、イミダゾリルニル、ピペリジ/、ピペラジニル等の
窒素含有飽和単環複素環式基、インドリル、インインド
リル、インドリノニル、ペンズイミrゾリル、キノリル
、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾトリアゾリル等
の窒素含有不飽和縮合複素環式基、オキサシリル、イソ
キサゾリル、1,2.4−オキサジアゾリル、1.3.
4−オキサノアゾリル、1,2.5−オキサノアゾリル
等のオキサノアゾリル等の酸素および窒素含有不飽和単
環複素環式基、モルホリニルのような酸素および窒素含
有飽和単環複素環式基、ベンズオキサシリル、ベンズオ
キサジアゾリル等の酸素および窒素含有不飽和縮合i素
環式基、チアゾリル、1,2.3−チアノアゾリル、1
.2.4−チアノアゾリル、1,3.4−チアジアゾリ
ル、1.2.5−チアジアゾリル等のチアジアゾリル等
の硫黄および窒素含有不飽和単環複素環式基、チアゾリ
ジニルの様な硫黄および窒素含有飽和単環複素環式基、
チェニルのような硫黄含有不飽和単環複素環式基、ベン
ゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル等の硫黄および窒
素含有不飽和単環複素環式基津が挙げられ、これら複素
環式基は、環原子として少なくとも窒素原子を1個含有
するものである。
ル、2H−1,2,3−)リアゾリル等のトリアゾリル
、IH−テトラゾリル、28−テトラゾリル等のテトラ
ゾリル等の窒素含有不飽和爪環複素環式基、ピロリジニ
ル、イミダゾリルニル、ピペリジ/、ピペラジニル等の
窒素含有飽和単環複素環式基、インドリル、インインド
リル、インドリノニル、ペンズイミrゾリル、キノリル
、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾトリアゾリル等
の窒素含有不飽和縮合複素環式基、オキサシリル、イソ
キサゾリル、1,2.4−オキサジアゾリル、1.3.
4−オキサノアゾリル、1,2.5−オキサノアゾリル
等のオキサノアゾリル等の酸素および窒素含有不飽和単
環複素環式基、モルホリニルのような酸素および窒素含
有飽和単環複素環式基、ベンズオキサシリル、ベンズオ
キサジアゾリル等の酸素および窒素含有不飽和縮合i素
環式基、チアゾリル、1,2.3−チアノアゾリル、1
.2.4−チアノアゾリル、1,3.4−チアジアゾリ
ル、1.2.5−チアジアゾリル等のチアジアゾリル等
の硫黄および窒素含有不飽和単環複素環式基、チアゾリ
ジニルの様な硫黄および窒素含有飽和単環複素環式基、
チェニルのような硫黄含有不飽和単環複素環式基、ベン
ゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル等の硫黄および窒
素含有不飽和単環複素環式基津が挙げられ、これら複素
環式基は、環原子として少なくとも窒素原子を1個含有
するものである。
上記した芳香環基または複素環式基は非置換であるか、
適当な置換分を有することができ、そのような置換分と
しては、例えばメチル、エチル、チル、5ee−ブチル
、tert−ブチル、n−ペンチル、インペンチル、n
−ヘキシル、インヘキシル基等の「低級アルキル基」;
アミ7、置換アミ/、アミツノ、イミノ、グアニジノ、
グアニシニワム、スルファモイル、ツレイド、アミド、
メルカプト、アルキルチオ、アリルチオ、ニトロ等を上
げることができ、かかる置換基は任意の個所に置換する
ことができる。
適当な置換分を有することができ、そのような置換分と
しては、例えばメチル、エチル、チル、5ee−ブチル
、tert−ブチル、n−ペンチル、インペンチル、n
−ヘキシル、インヘキシル基等の「低級アルキル基」;
アミ7、置換アミ/、アミツノ、イミノ、グアニジノ、
グアニシニワム、スルファモイル、ツレイド、アミド、
メルカプト、アルキルチオ、アリルチオ、ニトロ等を上
げることができ、かかる置換基は任意の個所に置換する
ことができる。
更にこのような置換分としては塩素、臭素、ヨウ素、弗
素等のハロゲン原子、アルコキシカルボニル基等を例示
することができる。
素等のハロゲン原子、アルコキシカルボニル基等を例示
することができる。
本発明に係る一般式Iで示される化合物は特開昭58−
62887号に開示される化合物に対し選択性を有し、
その点て・新規化合物であり、広範囲のスペクトルを有
しかつ強力な抗菌活ti−を示し、生体内でデヒドロシ
ベプチグーゼによる分解に灯してもチェナマイシンに比
して安定である。以上の、αから一般式I″Ch示され
る化合物はチェナマイシンよりもすぐれた抗菌剤である
ことが明らかとなり水路B月を完成した。
62887号に開示される化合物に対し選択性を有し、
その点て・新規化合物であり、広範囲のスペクトルを有
しかつ強力な抗菌活ti−を示し、生体内でデヒドロシ
ベプチグーゼによる分解に灯してもチェナマイシンに比
して安定である。以上の、αから一般式I″Ch示され
る化合物はチェナマイシンよりもすぐれた抗菌剤である
ことが明らかとなり水路B月を完成した。
また、前記一般式Iの化合物において、カルボンや化合
物は必要に応じて薬理上許容される塩のノ)うにするこ
とができる。そのような塩としてはリチウム、ナトリウ
ム、カリウム、カルシウム、マグネシウムのような無(
幾金属の塩、リジン、アルギニンのようなg ?S性ア
ミ/竣の塩あるいはアンモニウム、シクロへ八−シルア
ンモニウム、シイソプロビルアンモニフム、トリエチル
アンモニウムのようなアンモニウム塩類をあ1デること
ができるが、好適にはナトリウム塩およびカリウム塩で
ある。
物は必要に応じて薬理上許容される塩のノ)うにするこ
とができる。そのような塩としてはリチウム、ナトリウ
ム、カリウム、カルシウム、マグネシウムのような無(
幾金属の塩、リジン、アルギニンのようなg ?S性ア
ミ/竣の塩あるいはアンモニウム、シクロへ八−シルア
ンモニウム、シイソプロビルアンモニフム、トリエチル
アンモニウムのようなアンモニウム塩類をあ1デること
ができるが、好適にはナトリウム塩およびカリウム塩で
ある。
さら;こ、必要に応じて酸付加塩の形にすることがて゛
きる。そのような塩としては塩酸、臭化水素設のような
鉱酸の塩あるいはシュウ酸、酒石酸、クエン酸のような
有(双酸の塩をあげることができるが、好dには塩酸塩
である。なお、上記の本発明の化合物lおよび七の薬理
上許容される塩は、必要)こ応゛ニマ水和物の形にする
こともできる。
きる。そのような塩としては塩酸、臭化水素設のような
鉱酸の塩あるいはシュウ酸、酒石酸、クエン酸のような
有(双酸の塩をあげることができるが、好dには塩酸塩
である。なお、上記の本発明の化合物lおよび七の薬理
上許容される塩は、必要)こ応゛ニマ水和物の形にする
こともできる。
本発明の前記一般式Iを有する化合物は、チェアマイシ
ン誘導体であり、その1位に置換基を有する新規な化合
物の一群であり、これらの化合物は優れた抗菌活性を表
わし医薬として:a用な1ヒ合物であるか、あるいはそ
れらの活性を表わす化合物の重要合成中間体である。
ン誘導体であり、その1位に置換基を有する新規な化合
物の一群であり、これらの化合物は優れた抗菌活性を表
わし医薬として:a用な1ヒ合物であるか、あるいはそ
れらの活性を表わす化合物の重要合成中間体である。
本発明による新規化合物Iは例えば以下の製造法によっ
て製造することができる。
て製造することができる。
工程A:
本発明の式Iで表わされるカルバペネム化合物は、下記
の工程Aにより製造される。
の工程Aにより製造される。
(II) (III)ト1S−(CH
2)n Z (1’l’)0OH く上記式中、R1はカルボキン保護基を表わし、Raは
脱離基、好ましくはアシル基を表わし、X;よハロゲン
原子を表わし、nおよびZは前記定1と同一の意味を有
する。) すなわち、本発明の式I″C表わされるカルバペネム化
合物は、式■で表わされる(IR)−1−メチル−2−
オキソ−カルバペネム−3−カルボン酸1ヒ合物を、弐
:!la X″C表わされるアシル化剤ま二はその反応
性、J導きと反応させ、弐■で表わされる化8物となし
、次い″C塩基の存在下に式:!(5−(CH?)n
−Z t’表わされろメルカプト試薬と1スルさせ、R
1がカルボキン保護基のj、も合には該保護基f−除去
することからなる製造法により製造される。
2)n Z (1’l’)0OH く上記式中、R1はカルボキン保護基を表わし、Raは
脱離基、好ましくはアシル基を表わし、X;よハロゲン
原子を表わし、nおよびZは前記定1と同一の意味を有
する。) すなわち、本発明の式I″C表わされるカルバペネム化
合物は、式■で表わされる(IR)−1−メチル−2−
オキソ−カルバペネム−3−カルボン酸1ヒ合物を、弐
:!la X″C表わされるアシル化剤ま二はその反応
性、J導きと反応させ、弐■で表わされる化8物となし
、次い″C塩基の存在下に式:!(5−(CH?)n
−Z t’表わされろメルカプト試薬と1スルさせ、R
1がカルボキン保護基のj、も合には該保護基f−除去
することからなる製造法により製造される。
この場合の、アシル基Raを導入する■から…への工程
はp−)ルニンスルホン酸烈水物、p−二トロフェニル
スルホン酸無水物、2,4.6− ) +フイソプロビ
ルフェニルスルホン酸無水物、メタンスルホン酸無水物
、ドリブルオロメタンスルホンa無水物、ノフェニルク
ロロリン酸、トルエンスルホニルクロリド、p−ブロモ
フェニルスルホニルクロリドなどのようなアシル化剤R
a Xにより二環性化合物■をアシル化することにより
実行される。
はp−)ルニンスルホン酸烈水物、p−二トロフェニル
スルホン酸無水物、2,4.6− ) +フイソプロビ
ルフェニルスルホン酸無水物、メタンスルホン酸無水物
、ドリブルオロメタンスルホンa無水物、ノフェニルク
ロロリン酸、トルエンスルホニルクロリド、p−ブロモ
フェニルスルホニルクロリドなどのようなアシル化剤R
a Xにより二環性化合物■をアシル化することにより
実行される。
ここで、Raはトルエンスルホニロキシ基、p−ニトロ
フェニルスルホニロキシ基、ベンゼンスルホニロキシ基
、ノ7二二ルホスホリル基及びその池の通常の方法で導
入され、また当該技術分野でよく知られている脱離基の
ような相当する脱離基である。具体的には脱煎基Raを
導入する上の7シル化はメチレンクロリド、アセトニト
リルまたはツメチルホルムアミドのような溶74中で、
ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン、4−
ツメチルアミノピリジンなどのような塩基の存在下で、
−2−0〜40°Cの温度で、0.1〜5時間反応する
。化合物■のPiユ基Xはまた、ハロゲン原子であるこ
ともできる。ハロゲン脱離基は■を、Ph、Pct、、
P ht P B r2、(P ho )3 P B
r2、オキザリルクロリドなどのようなハロゲン化剤と
ジクロルメタン、アセトニトリル、テトラヒドロ7ラン
などのような溶で4中でノイソプロピルエチルアミン、
トリエチルアミンまたは4−ツメチルアミ7ビリジンな
どのような塩基の存在下で処理することにより導入され
る。
フェニルスルホニロキシ基、ベンゼンスルホニロキシ基
、ノ7二二ルホスホリル基及びその池の通常の方法で導
入され、また当該技術分野でよく知られている脱離基の
ような相当する脱離基である。具体的には脱煎基Raを
導入する上の7シル化はメチレンクロリド、アセトニト
リルまたはツメチルホルムアミドのような溶74中で、
ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン、4−
ツメチルアミノピリジンなどのような塩基の存在下で、
−2−0〜40°Cの温度で、0.1〜5時間反応する
。化合物■のPiユ基Xはまた、ハロゲン原子であるこ
ともできる。ハロゲン脱離基は■を、Ph、Pct、、
P ht P B r2、(P ho )3 P B
r2、オキザリルクロリドなどのようなハロゲン化剤と
ジクロルメタン、アセトニトリル、テトラヒドロ7ラン
などのような溶で4中でノイソプロピルエチルアミン、
トリエチルアミンまたは4−ツメチルアミ7ビリジンな
どのような塩基の存在下で処理することにより導入され
る。
次いで、■がらIへの変換は、例えば■をテトラヒドロ
フラン、ノクロルメタン、ジオキサン、ツメナルホルム
アミド、ツメチルスルホキシド、7セトニトリル、ヘキ
サメチルホスホラミドなどのような溶媒中で、はぼ当量
から過剰のメルカプト試薬■を存在させ、炭酸水素す)
17ウム、炭酸カリツム、トリエチルアミン、ジイソ
プロピルエチルアミンなどのような塩基の存在下で一4
0〜25℃で30分〜24時間処理することにより行な
われる。
フラン、ノクロルメタン、ジオキサン、ツメナルホルム
アミド、ツメチルスルホキシド、7セトニトリル、ヘキ
サメチルホスホラミドなどのような溶媒中で、はぼ当量
から過剰のメルカプト試薬■を存在させ、炭酸水素す)
17ウム、炭酸カリツム、トリエチルアミン、ジイソ
プロピルエチルアミンなどのような塩基の存在下で一4
0〜25℃で30分〜24時間処理することにより行な
われる。
かくして、式Iにおいてカルボキシル基がカルボキシル
保護基で置換された化合物を得ることができる。
保護基で置換された化合物を得ることができる。
このカルボキシル保護基を除去し、遊nのカルボン酸を
得るのは、ソルボリシスまたは水素i、5加のような通
常の方法により実行される。すなわち、脱保護基の条件
は次の通りである。典型的には、!中においてカルボキ
シル保護基の化合物はp!47のモルホリノプロパンス
ルホン酸−水酸化ナトリウムm樹液、pH7のリン酸塩
援個液、リン酸ニカリウム、重炭酸ナトリウムなどを含
むテトラヒドロ7ランー水、テトラヒドロ7ランーエタ
ノールー水、ジオキサン−水、ノオキサンーエタ/−ル
ー水、n−ブタノール−水などのような6 ;l、%中
で、1〜4気圧の水素気圧下で酸化白金、パラジウム−
活性炭、水酸化パラジウム−活性炭などのような触媒の
存在下、O〜50°C/)温度で0゜25〜4時間処理
して目的とするIが作られる。
得るのは、ソルボリシスまたは水素i、5加のような通
常の方法により実行される。すなわち、脱保護基の条件
は次の通りである。典型的には、!中においてカルボキ
シル保護基の化合物はp!47のモルホリノプロパンス
ルホン酸−水酸化ナトリウムm樹液、pH7のリン酸塩
援個液、リン酸ニカリウム、重炭酸ナトリウムなどを含
むテトラヒドロ7ランー水、テトラヒドロ7ランーエタ
ノールー水、ジオキサン−水、ノオキサンーエタ/−ル
ー水、n−ブタノール−水などのような6 ;l、%中
で、1〜4気圧の水素気圧下で酸化白金、パラジウム−
活性炭、水酸化パラジウム−活性炭などのような触媒の
存在下、O〜50°C/)温度で0゜25〜4時間処理
して目的とするIが作られる。
またカルボキシ保護基が0−ニトロベンノル基のような
基である場合、倒えば光分解もまた脱保護基に用いるこ
とができる。
基である場合、倒えば光分解もまた脱保護基に用いるこ
とができる。
かくして本発明の式1で表わされる(IR)−1−メチ
ルカルバペネム−3−カルボン酸誘導体が製造されるが
、本工程Aで出発化合物となる式■で表わされる1−メ
チル−2−オキソカルバペネム−3−カルボン酸化合物
は、本発明者らの開発した以下の工程Bにより、立体選
択的に製造することができる。
ルカルバペネム−3−カルボン酸誘導体が製造されるが
、本工程Aで出発化合物となる式■で表わされる1−メ
チル−2−オキソカルバペネム−3−カルボン酸化合物
は、本発明者らの開発した以下の工程Bにより、立体選
択的に製造することができる。
工程】]
(iV)
CH2COOR’
(V)
(■)
(■)
COOR’
(■)
(上記式中、R1は前記定義と同一の君味をりし、R2
は水酸基の!′る4基を表わし、丁<3は水素原子、低
級アルキル基、7リール基またはアラルキル基を表わす
、) 上記工程Bにおけるフ芝造ステップ(])〜(4)につ
いて詳細に説明すると;ステップ(1)は先に本発明者
が提案(特願昭60−269417号)に上り製liユ
される弐■で表わされるアセチノン−2−オン透導f較
を、イミダゾール、次いで式:(R100CH2CO2
)zMgで表わされるマグネシウムマロネート化合物と
反応させ、式Vで表わされる化合物を得る工程である。
は水酸基の!′る4基を表わし、丁<3は水素原子、低
級アルキル基、7リール基またはアラルキル基を表わす
、) 上記工程Bにおけるフ芝造ステップ(])〜(4)につ
いて詳細に説明すると;ステップ(1)は先に本発明者
が提案(特願昭60−269417号)に上り製liユ
される弐■で表わされるアセチノン−2−オン透導f較
を、イミダゾール、次いで式:(R100CH2CO2
)zMgで表わされるマグネシウムマロネート化合物と
反応させ、式Vで表わされる化合物を得る工程である。
反応は好ましくは不活性有機溶媒中で行なわれ、例えば
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル系溶8 ; F )レニン、キシレン、シクロヘキサ
ン等の炭化水素系溶媒、ジクロルメタン、クロロホルム
等のハロゲン化炭化水素系溶媒;アセトニトリル等など
を挙げることができるが、行にアセトニトリルが好適に
使用される。
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル系溶8 ; F )レニン、キシレン、シクロヘキサ
ン等の炭化水素系溶媒、ジクロルメタン、クロロホルム
等のハロゲン化炭化水素系溶媒;アセトニトリル等など
を挙げることができるが、行にアセトニトリルが好適に
使用される。
反13温度は厳密に制限されるものではなく、使用する
出発原料々〉に応じて広範に変乏ることができるが、一
般には約0゛Cないしほば100 ’C程度、好ましく
は室温ないし約70℃の温度がイ史用される。
出発原料々〉に応じて広範に変乏ることができるが、一
般には約0゛Cないしほば100 ’C程度、好ましく
は室温ないし約70℃の温度がイ史用される。
式■の化合物に対するマグネシウムマロネート化合物の
使用量はほぼ等モル量が使用され、反応は50時間程度
、好ましくは20時間程度で完了する。
使用量はほぼ等モル量が使用され、反応は50時間程度
、好ましくは20時間程度で完了する。
なお、使用するマグネシウムマロネート化合物としては
、パラニトロベンノルマグネシウムマロネート、ペンノ
ルマグネシウムマロネート、メチルマグネシフムマロネ
ート等を挙げることができるが、なかでもバラニトロペ
ンノルマグネシウムマロネートを用いるのが好ましい。
、パラニトロベンノルマグネシウムマロネート、ペンノ
ルマグネシウムマロネート、メチルマグネシフムマロネ
ート等を挙げることができるが、なかでもバラニトロペ
ンノルマグネシウムマロネートを用いるのが好ましい。
ステップ(2)は、ステップ(1)で得られた弐■の化
合物においてR2で示される水酸基の保護基を脱離させ
る工程である。例えば、R2がt−ブチルジメチルシリ
ル基のようなトリオル〃/シリル基である保護基の除去
はVをメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、
ジオキサンなどのような溶媒中で、塩酸、硫酸、酢酸な
どのような酸の存在下、0〜100℃の温度で0.5〜
18時開酸性加水分解することにより実行される。(“
トリオルがノシリル”の用語はより好ましくは1〜6個
の炭素原子を持つアルキル基、フェニル基及びフェニル
アルキル基から独立に選ばれる有概化合物部分を包含す
る。) ・ かかる工程により、目的とする式■で表わされる化合物
を定量的に得ることができる。
合物においてR2で示される水酸基の保護基を脱離させ
る工程である。例えば、R2がt−ブチルジメチルシリ
ル基のようなトリオル〃/シリル基である保護基の除去
はVをメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、
ジオキサンなどのような溶媒中で、塩酸、硫酸、酢酸な
どのような酸の存在下、0〜100℃の温度で0.5〜
18時開酸性加水分解することにより実行される。(“
トリオルがノシリル”の用語はより好ましくは1〜6個
の炭素原子を持つアルキル基、フェニル基及びフェニル
アルキル基から独立に選ばれる有概化合物部分を包含す
る。) ・ かかる工程により、目的とする式■で表わされる化合物
を定量的に得ることができる。
かくして入テップ(2)で得られた式■で表わされる1
ヒ合物を、塩基の存在下に前記ステップ(1)でイ・ξ
用し得る不活性有機溶U中アジド化合物と処理し、目的
とするジアゾ化合物TINを得る。
ヒ合物を、塩基の存在下に前記ステップ(1)でイ・ξ
用し得る不活性有機溶U中アジド化合物と処理し、目的
とするジアゾ化合物TINを得る。
使用される7ノド化合物としては、p−カルボキシベン
ゼンスルホニルアジド、トルエンスルホニルアット、メ
タンスルホニルアット、ドデシルベンゼンスルホニルア
ジドなどのようなアジドを・′:ちげることができ、塩
基としては、トリエチルアミン、ピリジン、ジエチルア
ミンのような塩基を例示することができる。
ゼンスルホニルアジド、トルエンスルホニルアット、メ
タンスルホニルアット、ドデシルベンゼンスルホニルア
ジドなどのようなアジドを・′:ちげることができ、塩
基としては、トリエチルアミン、ピリジン、ジエチルア
ミンのような塩基を例示することができる。
反応は、好ましくはトリエチルアミンの存在下アセトニ
トリル中、+1−)ルエンスルホニルアジドを加乏、0
〜100°C1好ましくは室温で1〜50時間処理する
ことにより、高収率で目的とする式■のジアゾ化合物を
得ることができる。
トリル中、+1−)ルエンスルホニルアジドを加乏、0
〜100°C1好ましくは室温で1〜50時間処理する
ことにより、高収率で目的とする式■のジアゾ化合物を
得ることができる。
次いでステップ(4)はステップ(3)で得られたジア
ゾ化合物■を環化し、化合物■とする工程であるが、例
えば■をベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、シ
クロヘキサン、酢酸エチル、ジクロルメタンなどのよう
な不活性溶媒、好ましくは酢酸エチル中で25〜110
℃の温度で0.25〜5時間、ビス(7セチルアセトナ
))Cu(If):[Cu(acac)z]、Cu5O
,、銅粉末、Rh2(OACL、ロノウムオクタノート
またはpd(OAc)=のような金属アセテート触媒の
存在下で処理することにより実行される。一方別の方法
として、環化工程は■をベンゼン、ジエチルエーテルな
どのような溶媒中で0〜25℃の温度で0.5〜2時間
パイレックスフィルター(彼氏は300nmより尺)を
通して照射することにより実行することができる。
ゾ化合物■を環化し、化合物■とする工程であるが、例
えば■をベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、シ
クロヘキサン、酢酸エチル、ジクロルメタンなどのよう
な不活性溶媒、好ましくは酢酸エチル中で25〜110
℃の温度で0.25〜5時間、ビス(7セチルアセトナ
))Cu(If):[Cu(acac)z]、Cu5O
,、銅粉末、Rh2(OACL、ロノウムオクタノート
またはpd(OAc)=のような金属アセテート触媒の
存在下で処理することにより実行される。一方別の方法
として、環化工程は■をベンゼン、ジエチルエーテルな
どのような溶媒中で0〜25℃の温度で0.5〜2時間
パイレックスフィルター(彼氏は300nmより尺)を
通して照射することにより実行することができる。
また、得られた化合物■においてR’がウル叡キシル保
護基を有する化合物の脱保護は、先に述べた工程Aと同
時に除去し、R’が水素原Pである化合物を得ることが
できる。
護基を有する化合物の脱保護は、先に述べた工程Aと同
時に除去し、R’が水素原Pである化合物を得ることが
できる。
なお、上記工程Bにおける定義中、1゛カルボキシル保
護基」としては、例えば工人チル残基を例ホすることが
でき、かがるエステル残基としてはメチル、エチル、n
−プロピル、イソプロピル、n+!So +5ec−
+tert−ブチル、n−ヘキシルエステル等の低級ア
ルキルエステル残基、ベンジル、p−ニトロベンノル、
0−ニトロベンジル、p−メトキシベンンル笠の7ラフ
ルキルエステル残基、アセトキシメチル、プロピオニル
オキシメチル、1’! +!So−ブチリルオキシメ
チル、ピバロイルオキシメチル等の低級脂肪族7シルオ
キシメチル残基である6 「アリール基」は単環式又は多環式のいずれであっても
よく、さらに環上に1個もしくはそれ以上の低級アルキ
ル基を有してもよく、例えば、7エ二ル、トリル、キシ
リル、α−す7チル、β−す7チル、ビフェニリル基等
が包含される。
護基」としては、例えば工人チル残基を例ホすることが
でき、かがるエステル残基としてはメチル、エチル、n
−プロピル、イソプロピル、n+!So +5ec−
+tert−ブチル、n−ヘキシルエステル等の低級ア
ルキルエステル残基、ベンジル、p−ニトロベンノル、
0−ニトロベンジル、p−メトキシベンンル笠の7ラフ
ルキルエステル残基、アセトキシメチル、プロピオニル
オキシメチル、1’! +!So−ブチリルオキシメ
チル、ピバロイルオキシメチル等の低級脂肪族7シルオ
キシメチル残基である6 「アリール基」は単環式又は多環式のいずれであっても
よく、さらに環上に1個もしくはそれ以上の低級アルキ
ル基を有してもよく、例えば、7エ二ル、トリル、キシ
リル、α−す7チル、β−す7チル、ビフェニリル基等
が包含される。
「アラルキル基」はアルキル基が上記低級アルキル基で
あり且つアリール基が上記の意味を有するアリール置換
アルキル基であり、具体的には、ベンジル、7エネチル
、a−メチルベンジル、フェニルプロピル、ナフチルメ
チル基等を例示することができる。
あり且つアリール基が上記の意味を有するアリール置換
アルキル基であり、具体的には、ベンジル、7エネチル
、a−メチルベンジル、フェニルプロピル、ナフチルメ
チル基等を例示することができる。
さらにR2で示される「水酸基の保護基」としては、例
えばトリメチルシリル、トリエチルシリル、tert−
ブチルジメチルシリル、ノフェニルーtert−プチル
シリル等のシリル基;ベンノルオキシカルボニル基;p
−ニトロベンジルオキシカルボニル、0−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル ンジルオキシカルボニル基;その池通常使用される水酸
基の保護基が挙げられる。
えばトリメチルシリル、トリエチルシリル、tert−
ブチルジメチルシリル、ノフェニルーtert−プチル
シリル等のシリル基;ベンノルオキシカルボニル基;p
−ニトロベンジルオキシカルボニル、0−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル ンジルオキシカルボニル基;その池通常使用される水酸
基の保護基が挙げられる。
以上の各工程BおよびAの反応を実施した後、各反応の
目的化合物は常法に従って反応混合物がら採取され、必
要ならば常法例えば再結晶法、分収用Tillクロマト
グラフィー、カラムクロマトグラフィーなどによってさ
らに精製することができる。
目的化合物は常法に従って反応混合物がら採取され、必
要ならば常法例えば再結晶法、分収用Tillクロマト
グラフィー、カラムクロマトグラフィーなどによってさ
らに精製することができる。
本発明の前記一般式(1)を有するカルバペネム−3−
カルボン酸誘導体は、すぐれた抗菌作用を示すものであ
り、またDHPによる攻撃に討しても安定である。その
うちの抗菌作用を示す化合物についてその活性を寒天平
板希釈法により測定したところ、例えば黄色ブドウ状球
菌、枯草菌などのダラム陽性菌および大腸菌、赤痢菌、
肺炎桿菌、変形菌、セラチア、エンテロバクタ−、緑膿
菌などのダラム陰性菌を包含する広範囲な病S菌に対し
て強力な活性を示した。
カルボン酸誘導体は、すぐれた抗菌作用を示すものであ
り、またDHPによる攻撃に討しても安定である。その
うちの抗菌作用を示す化合物についてその活性を寒天平
板希釈法により測定したところ、例えば黄色ブドウ状球
菌、枯草菌などのダラム陽性菌および大腸菌、赤痢菌、
肺炎桿菌、変形菌、セラチア、エンテロバクタ−、緑膿
菌などのダラム陰性菌を包含する広範囲な病S菌に対し
て強力な活性を示した。
従ってこのような化合物はこれらの病原面によるt!J
菌感染症を治療する抗菌剤として有用である。
菌感染症を治療する抗菌剤として有用である。
その目的のための投与形態としては、例えば錠剤、カプ
セル剤、顆粒M1散剤、シロップ剤などによる経口投与
あるいは靜脈内注射剤、筋肉的注射剤などによる非経口
投与があげられる。投与量は年令、体重、症状などM.
Vに投与形態および投与回数によって異なるが、通常は
成人に対して1日約200乃至3000+gを1回また
は数回に分けて投与する。
セル剤、顆粒M1散剤、シロップ剤などによる経口投与
あるいは靜脈内注射剤、筋肉的注射剤などによる非経口
投与があげられる。投与量は年令、体重、症状などM.
Vに投与形態および投与回数によって異なるが、通常は
成人に対して1日約200乃至3000+gを1回また
は数回に分けて投与する。
以上の如く、本発明は極めて有用な抗菌剤を提供するも
のであるが、本発明の有用性は以下の実施例により、更
に明確となるものである。
のであるが、本発明の有用性は以下の実施例により、更
に明確となるものである。
(実施例)
以下に本発明の!!造例およブ抗薗活性を実施例にて説
明する。
明する。
なお、実施例中の略号は以下の意味を有する。
PNB=バラニトロベンジル
PNZ=パラニトロペンノルオキシカルボニル実施例1
: スズトリ7レー)1.024gを窒素ブス気びこ下、無
水T h F 4 mj4 i:溶解し、−40〜−5
0℃に冷却後、)J−エチルピペリノン0.356mg
および化合物<1)335mgの無水T H F 2
z,:溶液を加え、同温にて3.5時間攪拌した。その
後化合物(2 )3 9 2i8の無水THF2+aj
溶液を加え、0”C1こで1時::fl ”rl ff
!する。反応液−二10%クエン酸水およびクロロホル
ムを加え、クロロホルムI゛1を飽和食塩水で洗浄し、
11人べき4g5o<で乾燥し、溶j、14を留去した
。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(I+−
ヘキサン:酢酸エチル=3:1で溶出)で精製し、化合
物(3)を40B(80!’6)4Gだ。
: スズトリ7レー)1.024gを窒素ブス気びこ下、無
水T h F 4 mj4 i:溶解し、−40〜−5
0℃に冷却後、)J−エチルピペリノン0.356mg
および化合物<1)335mgの無水T H F 2
z,:溶液を加え、同温にて3.5時間攪拌した。その
後化合物(2 )3 9 2i8の無水THF2+aj
溶液を加え、0”C1こで1時::fl ”rl ff
!する。反応液−二10%クエン酸水およびクロロホル
ムを加え、クロロホルムI゛1を飽和食塩水で洗浄し、
11人べき4g5o<で乾燥し、溶j、14を留去した
。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(I+−
ヘキサン:酢酸エチル=3:1で溶出)で精製し、化合
物(3)を40B(80!’6)4Gだ。
N 514−< (δ、 CDCl+>:0. 0
7 (6H、S)、0. 88(9H,sLI、
21(3Htd)tl、26(3H1dL3 、 3
0ti H1qL3. 2 8(2Hvt)+3
. 9 4(IHIJ)+4,18(LH+mL4,
55(28tt)実施例2: 化合物(4)を使用し、実施例1と同様に反応させ、化
合物(5)を80%の収率で得た。
7 (6H、S)、0. 88(9H,sLI、
21(3Htd)tl、26(3H1dL3 、 3
0ti H1qL3. 2 8(2Hvt)+3
. 9 4(IHIJ)+4,18(LH+mL4,
55(28tt)実施例2: 化合物(4)を使用し、実施例1と同様に反応させ、化
合物(5)を80%の収率で得た。
融点:85.5〜86.5’C
NMR(δ 、 CDCl5):0 、 0 7
(6jl 、s)、0. 90 (9H+s)−1
、OO(38,t)、1 、23 +3 HlJ)。
(6jl 、s)、0. 90 (9H+s)−1
、OO(38,t)、1 、23 +3 HlJ)。
1.26(3H,dLl、6〜2 、03 (2)1+
+*L2 。
+*L2 。
90(I Htc+)、3.07(I H+m)+3.
50(I H。
50(I H。
q)+3.95(IH,〜)+、i、00〜4.30(
IH。
IH。
m)、4.90〜5.20C28,mL6.1 tl(
I H+bs) 実施例3: 大1例2で得た化合物(5)290.agの無水7セト
ニトリル7IIIj溶液に、窒素〃ス気流下、イミダゾ
ール114.7Bを加え、室温で5.5時間授件後、M
g(02CCH□Co2PNBh500+gを加え、6
0℃で188時間攪拌る6次いで反応液に計酸エチル1
00+aJを加え、lN−HCl、5%N a HCO
)、飽和食塩水で順次洗浄し、無水5j6SO+で乾燥
後、溶媒を留去する。得られた残73をンリカデルクロ
マトにて精製し、無水油状物として化合物(6)を29
0mg(90%)得た。
I H+bs) 実施例3: 大1例2で得た化合物(5)290.agの無水7セト
ニトリル7IIIj溶液に、窒素〃ス気流下、イミダゾ
ール114.7Bを加え、室温で5.5時間授件後、M
g(02CCH□Co2PNBh500+gを加え、6
0℃で188時間攪拌る6次いで反応液に計酸エチル1
00+aJを加え、lN−HCl、5%N a HCO
)、飽和食塩水で順次洗浄し、無水5j6SO+で乾燥
後、溶媒を留去する。得られた残73をンリカデルクロ
マトにて精製し、無水油状物として化合物(6)を29
0mg(90%)得た。
〉シMR(δ、CD Clz):0 、 06 (6H
ls)−0、87(9H+q)+1.16(3Htd)
tl、20(3Htd)+2.90(2)1.+[+)
、3.63(2H,s)、3.96(IH,:a)、4
.17(I H,m)、5.27(2H,5)−5゜9
2 (1)(、bs) 実施例4: 実施例3で得た化合物(6)487mgのメタノール5
mj!溶液に濃塩酸0.25+++!を加え、室温にて
1.5時間攪拌する。次いで0℃に冷却し、5%NaH
CO,で、H7に調整する。酢酸エチル100wrlを
加え、水、飽和食塩水で洗浄し、無水Mg5O,で乾燥
後、溶媒を留去し、化合物(7)を白色固体物として3
63mg(95%)得た。
ls)−0、87(9H+q)+1.16(3Htd)
tl、20(3Htd)+2.90(2)1.+[+)
、3.63(2H,s)、3.96(IH,:a)、4
.17(I H,m)、5.27(2H,5)−5゜9
2 (1)(、bs) 実施例4: 実施例3で得た化合物(6)487mgのメタノール5
mj!溶液に濃塩酸0.25+++!を加え、室温にて
1.5時間攪拌する。次いで0℃に冷却し、5%NaH
CO,で、H7に調整する。酢酸エチル100wrlを
加え、水、飽和食塩水で洗浄し、無水Mg5O,で乾燥
後、溶媒を留去し、化合物(7)を白色固体物として3
63mg(95%)得た。
NMR(δ、CDCl、):1.25(3H,d)、1
.30<38=d)+2. 90(2H−m)、3.
65 (2H−s)+3− 83(I H+w)+4.
1 b(I HtmL5.27(2H、s)、 6 、
03 (I H、bs)実施例5: 実へ例4で得た化合物(7)350mgの無水アセトニ
トリル5m2溶液にトシルアジド250■およびトリエ
チルアミン0.17mgを論比、室温で20分団攪拌す
る。次いで溶媒を留去し、残渣をシリカゲル力ラムクフ
マトで精製し、黒色油状物として化合物(8)340m
g<92%)を得た。
.30<38=d)+2. 90(2H−m)、3.
65 (2H−s)+3− 83(I H+w)+4.
1 b(I HtmL5.27(2H、s)、 6 、
03 (I H、bs)実施例5: 実へ例4で得た化合物(7)350mgの無水アセトニ
トリル5m2溶液にトシルアジド250■およびトリエ
チルアミン0.17mgを論比、室温で20分団攪拌す
る。次いで溶媒を留去し、残渣をシリカゲル力ラムクフ
マトで精製し、黒色油状物として化合物(8)340m
g<92%)を得た。
IRI:cm−1):2150.1?50,1720,
16O N人IR(δ、CDCl、):1.23(3H,d)、
1.30C38,d)、2.92(I H,n)、3.
50−4,30(3H,Il+)、5.38(2H,s
)、6. 40(I H,bs)?、施例6: oopNB 実施例5で得た化合物(8)200+nsの耐酸エチル
1mj!溶液に、ITB+2中に2.51のロノ“7ム
オクタ/エート含有溶液0.24+++12を加え、8
0℃にて15分間攪袢する5次−1で溶で4を留去し、
化合物(9)を186mg(定量的)得た。
16O N人IR(δ、CDCl、):1.23(3H,d)、
1.30C38,d)、2.92(I H,n)、3.
50−4,30(3H,Il+)、5.38(2H,s
)、6. 40(I H,bs)?、施例6: oopNB 実施例5で得た化合物(8)200+nsの耐酸エチル
1mj!溶液に、ITB+2中に2.51のロノ“7ム
オクタ/エート含有溶液0.24+++12を加え、8
0℃にて15分間攪袢する5次−1で溶で4を留去し、
化合物(9)を186mg(定量的)得た。
I R(CHCI)ica+−’)”、2950.29
25 、i 360.183O N M R(δ、cocl)):1 、 22 (3H
j)、1 、 37 (38td)+2. 40(1)
1.bsL2. 83(i 1”r’r。
25 、i 360.183O N M R(δ、cocl)):1 、 22 (3H
j)、1 、 37 (38td)+2. 40(1)
1.bsL2. 83(i 1”r’r。
3、 2 8(1!−1.q)、4. 0 (’
) 〜 4. 5 0(2H,;り)。
) 〜 4. 5 0(2H,;り)。
4.75(IH,s)
実施例7:
C00PN B
0OPNB
実り1例6で得た化合物(9)186+ogの無水アセ
Fニトリル2ml溶液に、水冷下ジフェニルリン酸クロ
ライド0.11mQおよびノイソブロビルエチルアミン
0.09+IIQを加え、同温にて0゜5時間攪拌する
。次いで反応液を濃縮後、残渣をシリカゲルカラムによ
り精製し、化合物(10)を白色1体として252−g
得た。
Fニトリル2ml溶液に、水冷下ジフェニルリン酸クロ
ライド0.11mQおよびノイソブロビルエチルアミン
0.09+IIQを加え、同温にて0゜5時間攪拌する
。次いで反応液を濃縮後、残渣をシリカゲルカラムによ
り精製し、化合物(10)を白色1体として252−g
得た。
N M R(δ、CDCl、):1.24(3H,d)
、1.34(3H,d)、3. 3 0(I H,
q)、3. 5 2(I H,m)4.10〜4.
40(2H+m)+5.20及び5゜35(2HvQ)
+7.29(10H+a+)+7.58及ブ8 、 1
8 <48.d) 実施例8: oopNs 0OH 実施例7で得た化合物(10)1 i 5raBの無水
7セトニトリル1.5諭2ミ8 F、”iを一30°S
に1令却し、5−メルカプ)−1,2,3−チアジアゾ
ールのナトリフム塩42.2mgを加え、同温にて1時
間、次いで室温にて20時間庁件する。反応液に酢酸ニ
チル100a+2を加え、水及び飽和食塩水で洗浄し、
無水hi gS O4で乾燥し、溶媒を留去する。
、1.34(3H,d)、3. 3 0(I H,
q)、3. 5 2(I H,m)4.10〜4.
40(2H+m)+5.20及び5゜35(2HvQ)
+7.29(10H+a+)+7.58及ブ8 、 1
8 <48.d) 実施例8: oopNs 0OH 実施例7で得た化合物(10)1 i 5raBの無水
7セトニトリル1.5諭2ミ8 F、”iを一30°S
に1令却し、5−メルカプ)−1,2,3−チアジアゾ
ールのナトリフム塩42.2mgを加え、同温にて1時
間、次いで室温にて20時間庁件する。反応液に酢酸ニ
チル100a+2を加え、水及び飽和食塩水で洗浄し、
無水hi gS O4で乾燥し、溶媒を留去する。
1)られた残渣をシリカゾルカラムクロマトで精製し、
化合物(11)15.5mgを油状物として得た。
化合物(11)15.5mgを油状物として得た。
Nλ・IR(δ、CDCl、):1.09(3H,ci
)、1.34(::H,d>、3.00−3.43(I
Htm)、3.30<I Hltl)94.00〜4.
43(2H,国)、5,30及ブ5,59(2)!+Q
)+7.70(2HtdL8゜2 !J(2H,d)、
8. 73(I H,s)次いで、化合物(11)11
4BをTHFl、5iおよび水1,5mjに溶解し、酸
化白金57Bを加え1時間接触水素添加を行なう。埋冶
量の水素の1及収後、反応液をセライト濾過し、セライ
ト層を9塁のメタノールおよび水で洗浄する。枦改およ
び洗rp液を併せ、エーテルにて洗浄する。水層を凍結
乾燥し、化合物(12)を黄色粉末として53+ng得
た。
)、1.34(::H,d>、3.00−3.43(I
Htm)、3.30<I Hltl)94.00〜4.
43(2H,国)、5,30及ブ5,59(2)!+Q
)+7.70(2HtdL8゜2 !J(2H,d)、
8. 73(I H,s)次いで、化合物(11)11
4BをTHFl、5iおよび水1,5mjに溶解し、酸
化白金57Bを加え1時間接触水素添加を行なう。埋冶
量の水素の1及収後、反応液をセライト濾過し、セライ
ト層を9塁のメタノールおよび水で洗浄する。枦改およ
び洗rp液を併せ、エーテルにて洗浄する。水層を凍結
乾燥し、化合物(12)を黄色粉末として53+ng得
た。
I R(K B r、aaa−’): 1 76 ON
M R(δ−D20):1 、 03 (3Hld)
、1 、 23 (3H、dL 8 、 86 (3H
、s)実施例9: 0OPNB 0OH 実施例7で得た化合物(10)115mgの無水アセト
ニトリル1.5a+j溶液を0℃!=冷却し、2−メル
カブトビリミシン27.8mgおよびノイソプロとル二
子ルアミン0.042wff1の無水D)IF1mj溶
櫃を加え、同温度−二で2時間、次いで室温にて46時
間攪拌する0反応液をシリカゾルを用いて精製し、化合
物(13)を黄色油状物とし′ご 15 ll1g4
ニジ た。
M R(δ−D20):1 、 03 (3Hld)
、1 、 23 (3H、dL 8 、 86 (3H
、s)実施例9: 0OPNB 0OH 実施例7で得た化合物(10)115mgの無水アセト
ニトリル1.5a+j溶液を0℃!=冷却し、2−メル
カブトビリミシン27.8mgおよびノイソプロとル二
子ルアミン0.042wff1の無水D)IF1mj溶
櫃を加え、同温度−二で2時間、次いで室温にて46時
間攪拌する0反応液をシリカゾルを用いて精製し、化合
物(13)を黄色油状物とし′ご 15 ll1g4
ニジ た。
〉J\IR(δ、CDC1,):1.1 (3(3H,
d)、1.38(,3H,d)93.34(I H−Q
)、3.80〜4.50(:(H1+oL5.23及び
5.50(2H,q)、7゜10(2)1.t)、7.
63(2H,d)、8. 22(2H。
d)、1.38(,3H,d)93.34(I H−Q
)、3.80〜4.50(:(H1+oL5.23及び
5.50(2H,q)、7゜10(2)1.t)、7.
63(2H,d)、8. 22(2H。
dL3.56(2H,d)
次いで一ヒ記化合物(13)13+++gを酸化白金を
用いて実施例8と同様接触水素添加を行ない、化合物(
14)を黄色粉末として得た。
用いて実施例8と同様接触水素添加を行ない、化合物(
14)を黄色粉末として得た。
I k−E (K −B r、cm−’ ): 1
7 5 5支筒例10: 実施例8または9に記載の方法に準じ、化合物(10)
およブそ汽ぞれ対応するメルカプト試薬を反Σ′;させ
、次いで水素添加を行ない目的とするカ、ルバペネム化
合物を得た。
7 5 5支筒例10: 実施例8または9に記載の方法に準じ、化合物(10)
およブそ汽ぞれ対応するメルカプト試薬を反Σ′;させ
、次いで水素添加を行ない目的とするカ、ルバペネム化
合物を得た。
それらの化合物の構造式およブ物理データを示せば以下
の第1HLのとおりである。
の第1HLのとおりである。
次に本発明の式Iで表わされるカルバペネム化合物の抗
菌活性について記す。
菌活性について記す。
民1L汲:
日本化学療法学会標準法[Chemotherapy+
vol 29.76〜79(1981)]に準じた寒天
平板希釈法にしたがった。すなわち、被検菌のMuel
ler−Hinton(M H)寒天液体培地37°C
1−夜培養液を約10 ’cells/ mlになるよ
うにBuffered 5aline gelat
in(B S G )溶液で希釈し、ミクロプランタ−
を用い試験化合物含有MH寒天培地に約5μl接種し、
37℃、18時間培養後、被検菌の発育が認められない
最少濃度をもってMiniIOuminhibitor
y concentration(M I C)とし
た。
vol 29.76〜79(1981)]に準じた寒天
平板希釈法にしたがった。すなわち、被検菌のMuel
ler−Hinton(M H)寒天液体培地37°C
1−夜培養液を約10 ’cells/ mlになるよ
うにBuffered 5aline gelat
in(B S G )溶液で希釈し、ミクロプランタ−
を用い試験化合物含有MH寒天培地に約5μl接種し、
37℃、18時間培養後、被検菌の発育が認められない
最少濃度をもってMiniIOuminhibitor
y concentration(M I C)とし
た。
なお、使用菌株は標準菌株を用いた。
社盟ユ
本発明の式I″C表わされるカルバペネム化合物の代表
的なもののM I Cを示すと第2表にまとめられる。
的なもののM I Cを示すと第2表にまとめられる。
以上の各実施例ならびに抗菌活性試92一つ、本発明の
式1”C’表わされるカルバペネム化合・物は優れた抗
菌作用を有することが判明する。
式1”C’表わされるカルバペネム化合・物は優れた抗
菌作用を有することが判明する。
したがって、これら化合物は有用な抗菌剤となり得るも
のといえる。
のといえる。
特許出願人 日本レグ リ −株式会社、 −代 埋
人 弁理士 小出にb 平 吉外1名
人 弁理士 小出にb 平 吉外1名
Claims (1)
- (1)次式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、 Zは置換もしくは非置換芳香環基を表わすか、少なくと
も窒素原子を1個含有する、 置換もしくは非置換の脂環族−または芳香族−複素環式
基を表わし、 nは0、1、2または3の整数を表わす] で表わされる(1R)−1−メチルカルバペネム−3−
カルボン酸誘導体およびその塩。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61209109A JPS6363680A (ja) | 1986-09-05 | 1986-09-05 | (1r)−1−メチルカルバペネム−3−カルボン酸誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP61209109A JPS6363680A (ja) | 1986-09-05 | 1986-09-05 | (1r)−1−メチルカルバペネム−3−カルボン酸誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPS6363680A true JPS6363680A (ja) | 1988-03-22 |
Family
ID=16567437
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP61209109A Pending JPS6363680A (ja) | 1986-09-05 | 1986-09-05 | (1r)−1−メチルカルバペネム−3−カルボン酸誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPS6363680A (ja) |
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-
1986
- 1986-09-05 JP JP61209109A patent/JPS6363680A/ja active Pending
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