JPS6324515B2 - - Google Patents
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- C07D499/00—Heterocyclic compounds containing 4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. penicillins, penems; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
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Description
本発明は式
を有するペネム―３―カルボン酸誘導体およびそ
の塩に関する。 式中、R1は１―ヒドロキシエチル基を示し、
R2は１〜３個の弗素原子で置換された低級アル
キル基を示し、R3は水素原子、アシルオキシア
ルキル基、アルコキシカルボニルオキシアルキル
基、またはフタリジル基を示す。 ペネム―３―カルボン酸誘導体の塩としては、
たとえばリチウム，ナトリウム，カリウム，カル
シウム，マグネシウムのような無機塩またはアン
モニウム，シクロヘキシルアンモニウム，ジイソ
プロピルアンモニウム，トリエチルアンモニウム
のようなアンモニウム塩があげられ、好適にはナ
トリウム，カリウム塩である。 R2の１〜３個の弗素原子で置換された低級ア
ルキル基のアルキル基は、好適には―CHR4R5
（式中R4は水素原子、メチルまたはフルオロメチ
ルを示し、R5はフルオロメチルまたはトリフル
オロメチルを示す。）があげられ、とくに好適な
R2は２―フルオロエチルまたは２，２，２―ト
リフルオロエチルがあげられる。 R3の好適なアシルオキシアルキル基は、たと
えばアセトキシメチルまたはピバロイルオキシメ
チルがあげられる。 R3の好適なアルコキシカルボニルオキシアル
キル基は、たとえば１―エトキシカルボニルオキ
シエチルがあげられる。 なお、前記式(1)を有する化合物においては不斉
炭素原子に基く光学異性体および立体異性体が存
在し、これらの異性体がすべて単一の式で示され
ているが、これによつて本発明の記載の範囲は限
定されるものではない。しかしながら、それらの
異性体のうちで好適なものとしては、５位がチエ
ナマイシンと同一配位すなわちＲ配位であり、６
位が１―ヒドロキシエチル基により置換された化
合物では6S配位および8R配位の化合物をあげる
ことができる。 近年耐性菌の著るしい増加に伴ない、抗菌スペ
クトルが広くしかも強い抗菌活性を有する化学治
療剤が広く望まれている。本発明者らは、ペニシ
リン環の２位と３位の間に二重結合が存在するペ
ネム―３―カルボン酸誘導体について鋭意検討し
た結果、ペネム骨格の２位にフルオロ原子で置換
された低級アルキルチオ置換分を有するペネム―
３―カルボン酸誘導体が著るしく強い抗菌活性を
有することを見出し、本発明を完成した。 本発明の前記式(1)を有する化合物は以下に示す
方法によつて製造することができる。 なお、本発明に係るペネム―３―カルボン酸誘
導体は以下の公知文献（特開昭54―88291号、特
開昭54―119486号および特開昭55―153789号）の
記載事項に関連するものであるが、それらの中に
は何ら具体的に記載されていない新規化合物であ
る。 上記式中、R1，R2およびR3は前述したものと
同意義を表わし、R6は水酸基が保護された１―
ヒドロキシエチルを表わし、R7はカルボン酸の
保護基を表わし、Ｘはブロモ、ヨウドのようなハ
ロゲン原子、メタンスルホニルオキシ、エタンス
ルホニルオキシのようなアルカンスルホニルオキ
シ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシのよ
うなトリハロゲノメタンスルホニルオキシ基また
はベンゼンスルホニルオキシ、ｐ―トルエンスル
ホニルオキシのようなアリールスルホニルオキシ
基を表わす。 Ａ法は本発明の目的化合物である式（1a）を
有するペネム―３―カルボン酸誘導体を製造する
方法で、式(2)を有する化合物に式(3)を有するアル
キル化剤を反応させて式（4a）を有する化合物
を製造し、次いで所望に応じて得られた化合物を
カルボキシル基の保護基R7ならびにR6に含まれ
る保護基を除去して、それぞれカルボキシル基若
しくは水酸基を復元する反応に付すことによつて
達成される。 本発明の出発物質である化合物(2)は、特開昭56
―142282号に開示された方法によつて得ることが
できる。またアゼチジノン誘導体６に塩基 を反応させた後、二硫化炭素、フタロイルクロリ
ドを反応させ化合物(7)とし、これに塩素を反応さ
せた後、塩基処理することにより化合物(2)が得ら
れる。 本発明の方法を実施するに当つて、前記式(2)を
有する化合物を前記式(3)を有するアルキル化剤と
反応させて前記式（4a）を有する化合物を製造
する反応は不活性溶剤中塩基共存下で好適に行な
われる。使用される溶剤としては本反応に関与し
なければ特に限定はなく、例えばクロロホルム、
ジクロロメタン、ジクロロエタンのようなハロゲ
ン化炭化水素類、エーテル、テトラヒドロフラン
のようなエーテル類、ニトロメタンまたはこれら
の有機溶剤との混合溶剤若しくは水との混合溶剤
があげられる。また使用される塩基としては、化
合物の他の部分特にβ―ラクタム環に影響を与え
ないものであれば特に限定はないが、好適には酸
結合剤であるトリエチルアミン、ピリジン、２，
６―ルチジン、ジメチルアニリン等の有機塩基、
炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸カルシウム等のアルカリ金属重炭酸塩
若しくは炭酸塩等があげられる。 反応温度には特に限定はないが、副反応を抑え
るためには比較的低温で行うのが望ましく、通常
は−10℃乃至100℃位で行なわれる。反応時間は
主に反応温度、原料化合物の種類によつて異なる
が数分乃至200時間である。 反応終了後、本反応の目的化合物（4a）は常
法に従つて反応混合物から採取される。例えば反
応混合物に水と混和しない有機溶剤を加え、水洗
後、溶剤を留去することによつて得られる。得ら
れた目的化合物は必要ならば常法、例えば再結
晶、再沈澱またはクロマトグラフイーなどによつ
て更に精製することができる。 ここで得られる化合物（4a）が5S配位の異性
体である場合には、これを例えばトルエン、キシ
レン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミドのような有機溶媒中または溶媒の不存在中加
熱することによつて、容易に5R配位の異性体に
変換することができる。この反応において、副反
応を抑制する目的で必要なら、ハイドロキノン等
の重合禁止剤を添加することもできる。 次いで得られた化合物（4a）は必要に応じて
常法に従つてカルボキシル基の保護基R7の除去
処理を行つて、カルボン酸誘導体に変換すること
ができる。カルボキシル基保護基R7としては一
般にこの分野の技術で知られているものであれば
さしつかえないが好適には例えばベンジル、ｐ―
ニトロベンジルのようなアラルキル基が好適であ
り、特に好適にはｐ―ニトロベンジル基である。
反応は相当する化合物（4a）を還元剤接触させ
ることによつて実施することができる。 本反応に使用される還元剤としては、水素およ
びパラジウム―炭素のような接触還元触媒が好適
である。反応は溶剤の存在下で行なわれ、使用さ
れる溶剤としては本反応に関与しないものであれ
ば特に限定はないが、メタノール、エタノールの
ようなアルコール類、テトラヒドロフララン、ジ
オキサンのようなエーテル類、酢酸のような脂肪
酸およびこれらの有機溶剤と水またはリン酸緩衝
液との混合溶剤が好適である。反応温度は通常は
０℃乃至室温付近であり、反応時間は原料化合物
および還元剤の種類によつて異なるが、通常は数
分間乃至100時間である。 反応終了後、カルボキシル基の保護基の除去反
応の目的化合物は常法に従つて反応混合物から採
取される。例えば反応混合物より析出した不溶物
を去して後、有機溶剤層を水洗、乾燥し溶剤を
留去することによつて得ることができる。 このようにして得られた目的化合物は、必要な
らば常法例えば再結晶法、分取用薄層クロマトグ
ラフイー、カラムクロマトグラフイーなどによつ
て精製することができる。 また化合物（4a）は必要に応じて常法に従つ
て、R6に含まれる保護基の除去処理を行つて、
水酸基を有する化合物に変換することができ、さ
らにこのようにして得られた化合物を上述したカ
ルボキシル基の保護基R7の除去反応に付するこ
ともできる。R6に含まれる保護基としては一般
にこの分野の技術で知られているものであればさ
しつかえないが、好適には例えばベンジルオキシ
カルボニル、ｐ―ニトロベンジルオキシカルボニ
ルのようなアラルキルオキシカルボニル基または
例えばトリメチルシリル、ジメチル―tert―ブチ
ルシリルのようなトリアルキルシリル基であり、
好適にはジメチル―tert―ブチルシリル基であ
る。R6がｐ―ニトロベンジルオキシカルボニル
オキシアルキルのようなアラルキルオキシカルボ
ニルオキシ低級アルキル基である場合には、反応
は相当する化合物（4a）を還元剤と接触させる
ことによつて実施することができる。本反応に使
用される還元剤および反応条件は前述したカルボ
キシル基の保護基R7を除去する場合と同様であ
り、従つてカルボキシル基の保護基R7も同時に
除去することができる。 またR6がジメチル―tert―ブチルシリルオキシ
アルキルのようなトリアルキルシリルオキシ低級
アルキル基である場合には、反応は相当する化合
物（4a）をテトラブチルアンモニウムフルオラ
イドのようなフルオライドイオンで処理すること
により実施される。本反応に使用される溶媒とし
ては、特に限定はないが、テトラヒドロフラン、
ジオキサンのようなエーテル類が好適である。反
応は室温乃至60℃において数分乃至100時間処理
することによつて好適に行なわれる。 以上の保護基の除去反応の目的化合物（1a）
は、それぞれ常法に従つて反応混合物から採取さ
れ、さらに必要ならば例えば再結晶法、分取用薄
層クロマトグラフイー、カラムクロマトグラフイ
ーなどによつて精製することができる。 Ｂ法は本発明の目的化合物である式（1b）を
有するペネム―３―カルボン酸誘導体を製造する
工程で、式(2)を有する化合物に式(5)を有するヒド
ロキシ化合物をトリフエニルホスフインおよびア
ゾジカルボン酸ジエチルエステルのようなアゾジ
カルボン酸ジアルキルエステルの存在下で反応さ
せて一般式（4b）を有する化合物を製造し、次
いで所望に応じて得られた化合物をカルボキシル
基の保護基R7ならびにR6に含まれる保護基を除
去して、それぞれカルボキシル基若しくは水酸基
を復元する反応に付すことによつて達成される。 本発明の方法を実施するに当つて、前記式(2)を
有する化合物をトリフエニルホスフインおよびア
ゾジカルボン酸ジエチルエステルの存在下、式(5)
を有するヒドロキシ化合物と反応させて前記式
（4b）を有する化合物を製造する反応は不活性溶
剤中で行なわれる。使用される溶剤としては本反
応に関与しなければ特に限定はなく、例えばエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのような
エーテル類、ベンゼン、トルエンのような芳香族
炭化水素類またはこれら有機溶剤の混合溶剤があ
げられる。 反応温度には特に限定はないが、副反応を抑え
るためには比較的低温で行うのが望ましく、通常
は−20℃乃至室温付近で行なわれる。反応時間は
主に反応温度、原料化合物の種類によつて異なる
が数分乃至100時間である。 反応終了後、本反応の目的化合物（4b）は常
法に従つて反応混合物から採取される。例えば反
応混合物に水と混和しない有機溶剤を加え、水洗
し溶剤を留去することによつて得ることができ
る。得られた化合物（4b）は必要ならば常法、
例えば再結晶、再沈澱またはクロマトグラフイー
などによつて更に精製することができる。 次いで得られた化合物（4b）は必要に応じて
Ａ法第２工程と同様に常法に従つてカルボキシル
基の保護基R7の除去処理を行つて、カルボン酸
誘導体に変換することができる。 また化合物（4b）において置換基R6に含まれ
る保護基がアラルキルオキシカルボニル基または
トリアルキルシリル基である時には所望に応じ
て、Ａ法において前述したように保護基を除去し
て水酸基を有する化合物に変換することができ、
さらにこのようにして得られた化合物を上述した
カルボキシル基の保護基R7の除去反応に付すこ
とができる。 本発明によつて得られる前記式(1)を有する化合
物としては例えば以下に記載する化合物があげら
れる。 １ （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロエチ
ルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネ
ム―３―カルボン酸およびそのナトリウム塩、
カリウム塩若しくはピバロイルオキシメチルエ
ステル ２ （5R，6S，8R）―２―（２，２，２―トリ
フルオロエチルチオ）―６―（１―ヒドロキシ
エチル）ペネム―３―カルボン酸およびそのナ
トリウム塩、カリウム塩若しくはピバロイルオ
キシメチルエステル ３ （5R，6S，8R）―２―（１，３―ジフルオ
ロ―２―プロピルチオ）―６―（１―ヒドロキ
シエチル）ペネム―３―カルボン酸およびその
ナトリウム塩、カリウム塩若しくはピバロイオ
キシメチルエステル ４ （5R，6S，8R）―２―（１―フルオロ―２
―プロピルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチ
ル）ペネム―３―カルボン酸およびそのナトリ
ウム塩、カリウム塩若しくはピバロイルオキシ
メチルエステル ５ （5R，6S，8R）―２―（１，１，１―トリ
フルオロ―２―プロピルチオ）―６―（１―ヒ
ドロキシエチル）ペネム―３―カルボン酸およ
びそのナトリウム塩、カリウム塩若しくはピバ
ロイルオキシメチルエステル ６ （5R，6S，8R）―２―（３―フルオロプロ
ピルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペ
ネム―３―カルボン酸およびそのナトリウム
塩、カリウム塩若しくはピバロイルオキシメチ
ルエステル 本発明の前記式(1)を有する化合物は前述したよ
うに、ペニシリン環の２位と３位の間に二重結合
が存在するペネム誘導体に属し、その２位に各種
置換メルカプト基を有する新規な化合物の一群で
あり、広域スペクトルの抗菌活性さらに６位に１
―ヒドロキシエチル基を有する化合物はまたβ―
ラクタマーゼ抑制活性も有している。抗菌作用に
ついては寒天平板希釈法により測定したところ、
後述の第１表に示すように例えば、黄色ブドウ状
球菌、枯草菌などのグラム陽性菌および大腸菌、
赤痢菌、肺炎桿菌、変形菌などのグラム陰性菌を
包含する広範囲な病原菌に対して優れた活性を示
した。 従つてこのような化合物はこれらの病原菌によ
る細菌感染症を治療する抗菌剤として有用であ
る。その目的のための投与形態としては、例えば
錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤、シロツプ剤な
どによる経口投与あるいは静脈内注射、筋肉内注
射などによる非経口投与があげられる。投与量は
年令、体重、症状など並びに投与形態および投与
回数によつて異なるが、通常成人に対して１日約
100mg乃至3000mgを１回または数回に分けて投与
する。 次に実施例をあげて本発明をさらに具体的に説
明する。 実施例 １ （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロエチル
チオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネム
―３―カルボン酸ナトリウム (1) （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロエチ
ルチオ）―６―（１―tert―ブチルジメチルシ
リルオキシエチル）ペネム―３―カルボン酸ｐ
―ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）―６―（１―tert―ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）―２―チオキソペナ
ム―３―カルボン酸ｐ―ニトロベンジルエステル
（447mg）のニトロメタン溶液（５ml）を氷冷窒素
気流下、１―ブロモ―２―フルオロエタン（171
mg）のニトロメタン溶液（１ml）とトリエチルア
ミン（138μ）を加え、室温で３日間撹拌した
後、反応液を減圧濃縮し、残渣をメチレンクロリ
ドで抽出し、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネ
シウム上で乾燥する。溶剤を留去後、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフイーに付し、ベンゼ
ン―酢酸エチル（20：１）で溶出する部分から粗
目的化合物を得た。これを更にシリカゲルカラム
クロマトグラフイーに付し、ｎ―ヘキサン―酢酸
エチル（５：１）で溶出する部分から標記化合物
（110mg）を得た。 赤外線吸収スペクトル νLiq naxcm-1：1790，1680 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppn：0.90
（9H，ｓ），1.45（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），
3.30（2H，dt，Ｊ＝6.0，19.0Hz），3.90
（1H，dd，Ｊ＝4.0，10.0Hz），4.2〜4.60
（1H，ｍ），4.65（2H，dt，Ｊ＝6.0，47.0
Hz），5.20，5.50（2H，AB―ｑ，Ｊ＝14.0
Hz），5.70（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），7.62，
8.23（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） (2) （5R，6S，8R）―２―（フルオロエチルチ
オ）―６―（１―tert―ブチルジメチルシリル
オキシエチル）ペネム―３―カルボン酸 ｐ―
ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロエチル
チオ）―６―（１―tert―ブチルジメチルシリル
オキシエチル）ペネム―３―カルボン酸 ｐ―ニ
トロベンジルエステル（110mg）のキシレン溶液
（18ml）にハイドロキノン（2.0mg）を加え、窒素
気流下135℃の油浴上３時間加熱する。溶媒を留
去した後、残渣をローバーカラム（メルク社製シ
リカゲル sizeB；展開溶剤、ベンゼン―酢酸エ
チル（25：１））を用いて精製すると目的化合物
と原料が得られる。回収した原料を同様に加熱す
ると更に標記化合物が得られた。全得量82mg（収
率74.5％）。 赤外線吸収スペクトル νLiq nax：1790，1690，
1605 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppn：0.90
（9H，ｓ）1.35（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），
3.32（2H，dt，Ｊ＝6.0，19.0Hz），3.80
（1H，dd，Ｊ＝2.0，4.0Hz），4.0〜4.60
（1H，ｍ），4.70（2H，dt，Ｊ＝6.0，47.0
Hz），5.25，5.50（2H，AB―ｑ，Ｊ＝14.0
Hz），5.72（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz），7.68，
8.24（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） (3) （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロエチ
ルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネ
ム―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエス
テル （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロエチル
チオ）―６―（１―tert―ブチルジメチルシリル
オキシエチル）ペネム―３―カルボン酸 ｐ―ニ
トロベンジルエステル（82mg）のテトラヒドロフ
ラン溶液（２ml）に酢酸（86μ）とテトラブチ
ルアンモニウムフルオライドの１モルテトラヒド
ロフラン溶液（0.604ml）を加え、室温で一夜撹
拌、30℃の油浴上10時間撹拌する。酢酸エチルで
反応液を希釈した後、飽和食塩水、５％重曹水、
飽和食塩水で順次洗浄し、溶剤を留去して得られ
る残渣をローバーカラム（メルク社製、sizeA、
展開溶剤、ベンゼン―酢酸エチル（65：35））を
用いて精製すると標記化合物（40mg）が得られ
た。 融点168〜170℃ 紫外線吸乃スペクトル λEtOH naxnm：261，339 核磁気共鳴スベクトル（DMSO―d6）δppn：
1.18（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），2.9〜3.7（2H，
ｍ），3.86（1H，dd，Ｊ＝2.0，6.0Hz），3.8
〜4.15（1H，ｍ），4.66（2H，dt，Ｊ＝6.0，
47.0Hz），5.19（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），5.30，
5.48（2H，AB―ｑ，Ｊ＝14.0Hz），5.77
（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz），7.72，8.25（4H，
A2B2，Ｊ＝9.0Hz） (4) （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロエチ
ルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネ
ム―３―カルボン酸ナトリウム （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロエチル
チオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネム―
３―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステル
（39mg）をテトラヒドロフラン（３ml）に溶かし、
リン酸緩衝液（PH＝7.1，３ml）および10％パラ
ジウム炭素（78mg）を加え、水素気流下、室温で
2.5時間撹拌する。触媒を去した後、酢酸エチ
ルで洗浄し、水層を約２mlにまで減圧濃縮する。
これをダイアイオンHP―20AG（三菱化成工業
製）のカラムに付し、５％アセトン水で溶出され
る部分から、減圧濃縮、凍結乾燥して白色粉末の
目的化合物（17mg）を得た。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：3425，
1765，1600 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm：252.5，321.5 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppn：1.30（3H，
ｄ，Ｊ＝6.0Hz），2.9〜3.5（2H，ｍ），3.90
（1H，dd，Ｊ＝2.0，6.0Hz），4.0〜4.45
（1H，ｍ），4.70（2H，dt，Ｊ＝6.0，47.0
Hz），5.69（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz） 実施例 ２ （5R，6S，8R）―２―（２，２，２―トリフ
ルオロエチルチオ）―６―（１―ヒドロキシエ
チル）ペネム―３―カルボン酸ナトリウム (1) （5R，6S，8R）―２―（２，２，２―トリ
フルオロエチルチオ）―６―（１―tert―ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル）ペネム―３―
カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステル
（5R，6S，8R）―６―（１―tert―ブチルジメ
チルシリルオキシエチル）―２―チオキソペナ
ム―３―カルボン酸ｐ―ニトロベンジルエステ
ル（350mg）とジエチルアゾジカルボキシレー
ト（175μ）のテトラヒドロフラン（２ml）
溶液に氷冷窒素気流下、トリフエニルホスフイ
ン（293mg）および２，２，２―トリフルオロ
エタノール（105mg）のテトラヒドロフラン溶
液（0.5ml）を加え、10分間撹拌する。反応液
を−10〜−15℃に冷却し、（5R，6S，8R）―
６―（tert―ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル）―２―チオキソペネム―３―カルボン酸ｐ
―ニトロベンジルエステル（350mg）のテトラ
ヒドロフラン溶液（0.5ml）を加え、０〜５℃
で20分間撹拌し、更に室温で30分間撹拌した
後、酢酸エチルで抽出する。飽和食塩水で洗
浄、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去
し残渣を実施例１―(1)と同様にシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーで精製し標記化合物（44
mg）を得た。 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 nax：1795，1700cm
-1 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppn：0.11
（6H，ｓ），0.88（9H，ｓ），1.42（3H，ｄ，
Ｊ＝6.0Hz），3.60（2H，ｑ，Ｊ＝10.0Hz），
3.89（1H，dd，Ｊ＝4.0，10.0Hz），4.10〜
4.66（1H，ｍ），5.20，5.47（2H，AB―ｑ，
Ｊ＝14.1Hz），5.73（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），
7.61，8.22（4H，A2B2，Ｊ＝9.3Hz） (2) （5R，6S，8R）―２―（２，２，２―トリ
フルオロエチルチオ）―６―（１―tert―ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル）ペネム―３―
カルボン酸ｐ―ニトロベンジルエステル （5S，6S，8R）―２―（２，２，２―トリ
フルオロエチルチオ）―６―（１―tert―ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル）ペネム―３―
カルボン酸ｐ―ニトロベンジルエステル（65
mg）を実施例１―(2)と同様に反応処理し、標記
化合物42mgが得られた。 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppn：0.04
（3H，ｓ），0.08（3H，ｓ），0.11（9H，
ｓ），1.25（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz），3.57
（2H，dq，Ｊ＝2.0，10.0Hz），3.79（1H，
dd，Ｊ＝2.0，4.0Hz），3.98〜4.55（1H，
ｍ），5.20，5.42（2H，AB―ｑ，Ｊ＝13.5
Hz），5.69（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz），7.63，
8.23（4H，A2B2，Ｊ＝9.3Hz） (3) （5R，6S，8R）―２―（２，２，２―トリ
フルオロエチルチオ）―６―（１―ヒドロキシ
エチル）ペネム―３―カルボン酸ｐ―ニトロベ
ンジルエステル （5R，6S，8R）―２―（２，２，２―トリ
フルオロエチルチオ）―６―（１―tert―ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル）ペネム―３―
カルボン酸ｐ―ニトロベンジルエステル（42
mg）を実施例１―(3)と同様に反応処理し標記化
合物27mgを得た。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：3450，
1775，1690 核磁気共鳴スペクトル（CD3COCD3）δppn：
1.33（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），3.62〜4.60
（4H，ｍ），5.33，5.52（2H，AB―ｑ，Ｊ
＝14.4Hz），5.92（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz），
7.78，8.26（4H，A2B2，Ｊ＝8.4Hz） (4) （5R，6S，8R）―２―（２，２，２―トリ
フルオロエチルチオ）―６―（１―ヒドロキシ
エチル）ペネム―３―カルボン酸ナトリウム （5R，6S，8R）―２―（２，２，２―トリ
フルオロエチルチオ）―６―（１―ヒドロキシ
エチル）ペネム―３―カルボン酸 ｐ―ニトロ
ベンジルエステル（25mg）を実施例１―(4)と同
様に反応処理し、目的化合物13mgを得た。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：3420，
1770，1610 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppn：1.30（3H，
ｄ，Ｊ＝6.0Hz），3.71（2H，dofq，Ｊ＝
2.0，Ｊ＝10.0Hz），3.95（1H，dd，Ｊ＝
2.0，6.0Hz），4.10〜4.40（1H，ｍ），5.72
（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz） 実施例 ３ （5R，6S，8R）―２―（１，３―ジフルオロ
―２―プロピルチオ）―６―（１―ヒドロキシ
エチル）ペネム―３―カルボン酸ナトリウム (1) （5R，6S，8R）―２―（１，３―ジフルオ
ロ―２―プロピルチオ）―６―（１―tert―ブ
チルジメチルシリルオキシエチル）ペネム―３
―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）―６―（１―tert―ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）―２―チオキソペナ
ム―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステ
ル（596mg）、１，３―ジフルオロ―２―プロパノ
ール（230mg）、ジエチルアゾジカルボキシレート
（418mg）、トリフエニルホスフイン（629mg）より
実施例２―(1)と同様の反応処理により標記化合物
32mgが得られた。 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1：1780，
1600 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppn：0.89
（9H，ｓ），1.44（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz）、
3.30〜4.70（2H，ｍ），3.90（1H，dd，Ｊ＝
4.0，10.0Hz）、4.65（4H，dd，Ｊ＝5.0，
46.0Hz）、5.13，5.45（2H，AB―ｑ，Ｊ＝
14.0Hz）、5.69（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz）、7.56，
8.16（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） (2) （5R，6S，8R）―２―（１，３―ジフルオ
ロ―２―プロピルチオ）―６―（１―tert―ブ
チルジメチルシリルオキシエチル）ペネム―３
―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）―２―（１，３―ジフルオロ
―２―プロピルチオ）―６―（１―tert―ブチル
ジメチルシリルオキシエチル）ペネム―３―カル
ボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステル（45mg）を
実施例１―(2)と同様に反応処理し、標記化合物18
mgが得られた。 紫外線吸収スペクトル λEtOH naxnm：261，336.5 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppn：0.84
（9H，ｓ），1.25（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz）、
3.20〜4.65（2H，ｍ）、3.75（1H，dd，Ｊ＝
2.0，4.0Hz）、4.65（4H，dd，Ｊ＝5.0，46.0
Hz）、5.14，5.41（2H，AB―ｑ，Ｊ＝14.0
Hz）、5.64（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz）、7.57，
8.16（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） (3) （5R，6S，8R）―２―（１，３―ジフルオ
ロ―２―プロピルチオ）―６―（１―ヒドロキ
シエチル）ペネム―３―カルボン酸 ｐ―ニト
ロベンジルエステル （5R，6S，8R）―２―（１，３―ジフルオロ
―２―プロピルチオ）―６―（１―tert―ブチル
ジメチルシリルオキシエチル）ペネム―３―カル
ボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステル（17mg）を
実施例１―(3)と同様に反応処理し、標記化合物
7.0mgを得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフイー： Rf＝0.60（ベンゼン／酢酸エチル＝１／１） (4) （5R，6S，8R）―２―（１，３―ジフルオ
ロ―２―プロピルチオ）―６―（１―ヒドロキ
シエチル）ペネム―３―カルボン酸ナトリウム （5R，6S，8R）―２―（１，３―ジフルオロ
―２―プロピルチオ）―６―（１―ヒドロキシエ
チル）ペネム―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベン
ジルエステル（７mg）を実施例１―(4)と同様に反
応処理し、目的化合物２mgを得た。 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm：256，320 実施例 ４ （5R，6S，8R）―２―（３―フルオロプロピ
ルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネ
ム―３―カルボン酸ナトリウム (1) （5R，6S，8R）―２―（３―フルオロプロ
ピルチオ）―６―（１―tert―ブチルジメチル
シリルオキシエチル）ペネム―３―カルボン酸
ｐ―ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）―６―（１―tert―ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）―２―チオキソペナ
ム―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステ
ル（834mg）、３―フルオロプロパノール（262
mg）、ジエチルアゾジカルボキシレート（585mg）、
トリフエニルホスフイン（881mg）より実施例２
―(1)と同様の反応処理により標記化合物68mgが得
られた。 赤外線吸収スペクトル νLiq naxcm-1：1775，
1685，1605，1520，1495 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppn：0.88
（9H，ｓ），1.41（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz）、
1.60〜2.58（2H，ｍ）、3.08（2H，ｔ，Ｊ＝
6.0Hz）、3.86（1H，dd，Ｊ＝10.0，4.0Hz）、
Ca.4.0〜4.50（1H，ｍ）、4.48（2H，dt，Ｊ
＝47.0，6.0Hz）、5.08，5.47（2H，AB―ｑ，
Ｊ＝14.0Hz）、5.66（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz）、
7.55，8.15（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） (2) （5R，6S，8R）―２―（３―フルオロプロ
ピルチオ）―６―（１―tert―ブチルジメチル
シリルオキシエチル）ペネム―３―カルボン酸
ｐ―ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）―２―（３―フルオロプロピ
ルチオ）―６―（１―tert―ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル）ペネム―３―カルボン酸 ｐ―
ニトロベンジルエステル（68mg）を実施例１―(2)
と同様に反応処理し、融点107゜〜108℃を有する
標記化合物41mgが得られた。 赤外線吸収スペクトル νNujol naxcm-1：1765，
1675，1605，1510 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppn：0.84
（9H，ｓ）、1.25（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz）、
2.09（2H，dquintet，Ｊ＝25.0，6.0Hz）、
3.09（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz）、3.71（1H，dd，
Ｊ＝4.0，2.0Hz）、4.00〜4.46（1H，ｍ）、
4.54（2H，dt，Ｊ＝47.0，6.0Hz）、5.14，
5.44（2H，AB―ｑ，Ｊ＝14.0Hz）、5.65
（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz）、7.61，8.22（4H，
A2B2，Ｊ＝9.0Hz） (3) （5R，6S，8R）―２―（３―フルオロプロ
ピルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペ
ネム―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエ
ステル （5R，6S，8R）―２―（３―フルオロプロピ
ルチオ）―６―（１―tert―ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル）ペネム―３―カルボン酸 ｐ―
ニトロベンジルエステル（40mg）を実施例１―(3)
と同様に反応処理し融点157〜158℃を有する標記
化合物22mgを得た。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：3450，
1780，1690，1610，1525，1500 紫外線吸収スペクトル λEtOH naxnm：262.5，340 核磁気共鳴スペクトル（DMSO―d6）δppn：
1.19（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz）、1.76〜2.33
（2H，ｍ）、3.10（2H，td，Ｊ＝6.0，2.0
Hz）、3.83（1H，dd，Ｊ＝5.0，2.0Hz）、
3.80〜4.14（1H，ｍ）、4.52（2H，dt，Ｊ＝
47.0，6.0Hz）、5.17（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz）、
5.27，5.47（2H，AB―ｑ，Ｊ＝14.0Hz）、
5.76（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz）、7.71，8.25
（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） (4) （5R，6S，8R）―２―（３―フルオロプロ
ピルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペ
ネム―３―カルボン酸ナトリウム （5R，6S，8R）―２―（３―フルオロプロピ
ルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネム
―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステル
（20mg）を実施例１―(4)と同様に反応処理し、目
的化合物11mgを得た。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：3400，
1780，1600，1585，1510 赤外線吸収スペクトル λH2O naxnm：254，324 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppn：2.32（3H，
ｄ，Ｊ＝6.0Hz）、2.80〜3.40（2H，ｍ）、
3.80〜4.31（3H，ｍ）、4.92（1H，dd，Ｊ＝
5.0，2.0Hz）、5.27（1H，quintet，Ｊ＝6.0
Hz）、5.64（2H，dt，Ｊ＝47.0，6.0Hz）、
6.71（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz） 実施例 ５ （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロエチル
チオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネム
―３―カルボン酸カリウム 実施例１―(3)で得た（5R，6S，8R）―２―
（２―フルオロエチルチオ）―６―（１―ヒドロ
キシエチル）ペネム―３―カルボン酸ｐ―ニトロ
ベンジルエステル（1.53ｇ）をテトラヒドロフラ
ン（100ml）に溶かし、リン酸緩衝液（リン酸一
カリウム、リン酸二カリウム、PH＝7.1、100ml）
及び10％パラジウム炭素（3.00ｇ）を加え、水素
気流下、室温で３時間撹拌する。反応液を実施例
１―(4)と同様に処理精製すると白色粉末状の目的
化合物729mgが得られた。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：3420，
1770，1595，1520 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm：251.5（ε＝
5490）、320.5（ε＝7050） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppn：1.30（3H，
ｄ，Ｊ＝6.0Hz）、3.04〜3.54（2H，ｍ）、
3.91（1H，dd，Ｊ＝6.0，2.0Hz）、4.25（1H，
quintet.J＝6.0Hz）、4.70（2H，dd，Ｊ＝
47.0，6.0Hz）、5.69（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz） 実施例 ６ （5R，6S，8R）―２―（フルオロエチルチ
オ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネム―
３―カルボン酸ピバロイルオキシメチルエステ
ル （5R，6S，8R）―６―（１―tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）―２―チオキソペナ
ム―３―カルボン酸ピバロイルオキシメチルエス
テルと１―ブロモ―２―フルオロエタンを出発原
料として、実施例１―(1)，(2)および(3)と同様に反
応を行い、無色アワ状の目的化合物を得た。 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1：3400，
1790，1750，1710 紫外線吸収スペクトル λEtOH naxnm：259.6，340.1 核磁気共鳴吸収スペクトル（CDCl3）δppn：
1.22（9H，ｓ）、1.35（3H，ｄ，Ｊ＝6.0
Hz）、1.94（1H，br，ｓ）、3.04〜3.46（2H，
ｍ）、3.72（1H，dd，Ｊ＝6.0，2.0Hz）、
4.22（1H，ｑ，Ｊ＝6.0Hz）、4.63（2H，dt，
Ｊ＝47.0，6.0Hz）、5.68（1H，ｄ，Ｊ＝2.0
Hz）、5.86，5.92（2H，AB―ｑ，Ｊ＝12.0
Hz） 実施例 ７ （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロエチル
チオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネム
―３―カルボン酸フタリジルエステル （5R，6S，8R）―６―（１―tert―ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）―２―チオキソペナ
ム―３―カルボン酸フタリジルエステルと１―ブ
ロモ―２―フルオロエタンを出発原料として、実
施例１―(1)，(2)および(3)と同様に反応を行い、無
色アワ状の目的化合物を得た。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：3450，
1790，1700，1490 紫外線吸収スペクトル λEtOH naxnm：345，262，
229 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppn：1.33，
1.35（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz）、1.82（1H，br，
ｓ）、3.04〜3.52（2H，ｍ）、3.75（1H，dd，
Ｊ＝6.0，2.0Hz）、4.0〜4.34（1H，ｍ）、
4.62，4.67（2H，dt，Ｊ＝47.0，6.0Hz）、
5.69（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz）、7.32〜8.04
（5H，ｍ） 実施例 ８ （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロエチル
チオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネム
―３―カルボン酸１―エトキシカルボニルオキ
シエチルエステル （5R，6S，8R）―６―（１―tert―ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）―チオキソペナム―
３―カルボン酸１―エトキシカルボニルオキシエ
チルエステルと１―ブロモ―２―フルオロエタン
を出発原料として、実施例１―(1)，(2)および(3)と
同様に反応を行い、無色油状の目的化合物を得
た。 赤外線吸収スペクトル νLiq naxcm-1：3500，
1785，1755，1690，1495 紫外線吸収スペクトル λEtOH naxnm：340，259.5 核磁気共鳴吸収スペクトル δppn，CDCl3
（100MHz）：1.22〜1.72（10H，ｍ）、3.09〜
3.46（2H，ｍ）、3.74（1H，dd，Ｊ＝6.0，
2.0Hz）、4.11〜4.40（3H，ｍ）、4.63（2H，
dt，Ｊ＝47.0.6.0Hz）、5.67（1H，ｄ，Ｊ＝
2.0Hz）、6.88，6.89（1H，ｑ，Ｊ＝6.0Hz） 実施例 ９ （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロプロピ
ルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネ
ム―３―カルボン酸ナトリウム (1) （5S，6S，8R）―２―（２―フルオロプロ
ピルチオ）―６―（１―tert―ブチルジメチル
シリルオキシエチル）ペネム―３―カルボン酸
ｐ―ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）―６―（１―tert―ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）―２―チオキソペナ
ム―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステ
ル（894mg）、２―フルオロプロパノール（281
mg）、ジエチルアゾジカルボキシレート（627mg）、
トリフエニルホスフイン（944mg）より実施例２
―(1)と同様に反応処理し、標記化合物76mgを得
た。 (2) （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロプロ
ピルチオ）―６―（１―tert―ブチルジメチル
シリルオキシエチル）ペネム―３―カルボン酸
ｐ―ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロプロピ
ルチオ）―６―（１―tert―ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル）ペネム―３―カルボン酸 ｐ―
ニトロベンジルエステル（76mg）を実施例１―(2)
と同様に反応処理し標記化合物50mgが得られた。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：1775，
1685，1605，1520，1495 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppn：0.84
（9H，ｓ）、1.25（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz）、
1.43（3H，dd，Ｊ＝22.0，6.0Hz）、2.85〜
3.50（2H，ｍ）、3.70（1H，dd，Ｊ＝4.0，
2.0Hz）、3.90〜5.30（2H，ｍ）、5.11，5.43
（2H，AB―ｑ，Ｊ＝14.0Hz）、5.60（1H，
ｄ，Ｊ＝2.0Hz）、7.57，8.17（4H，A2B2，
Ｊ＝9.0Hz） (3) （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロプロ
ピルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペ
ネム―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエ
ステル （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロプロピ
ルチオ）―６―（１―tert―ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル）ペネム―３―カルボン酸 ｐ―
ニトロベンジルエステル（50mg）を実施例１―(3)
と同様に反応処理し融点150〜152℃を有する標記
化合物27mgを得た。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：3540，
1790，1690，1665，1610，1520，1490 紫外線吸収スペクトル λEtOH naxnm：262，340 (4) （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロプロ
ピルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペ
ネム―３―カルボン酸ナトリウム （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロプロピ
ルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネム
―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステル
25mgを実施例１―(4)と同様に反応処理し、目的化
合物12mgを得た。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：3420，
1775，1600，1520，1380 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm：252（5400）、
321（7100） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppn：1.31（3H，
ｄ，Ｊ＝6.0Hz）、1.44（3H，dd，Ｊ＝25.0，
6.0Hz）、3.00〜3.44（2H，ｍ）、3.92（1H，
dd，Ｊ＝6.0，2.0Hz）、4.26（1H，quintet，
Ｊ＝6.0Hz）、4.65〜5.36（1H，ｍ）、5.69
（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz） 実施例 10 （5R，6S，8R）―２―（１―フルオロ―２―
プロピルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチ
ル）ペネム―３―カルボン酸ナトリウム (1) （5R，6S，8R）―２―（１―フルオロ―２
―プロピルチオ）―６―（１―tert―ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）ペネム―３―カル
ボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）―６―（１―tert―ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）―２―チオキソペナ
ム―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステ
ル（596mg）、１―フルオロ―２―プロパノール
（187mg）、ジエチルアゾジカルボキシレート（418
mg）、トリフエニルホスフイン（629mg）より実施
例２―(1)と同様の反応処理により標記化合物32mg
を得た。 (2) （5R，6S，8R）―２―（１―フルオロ―２
―プロピルチオ）―６―（１―tert―ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）ペネム―３―カル
ボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）―２―（１―フルオロ―２―
プロピルチオ）―６―（１―tert―ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）ペネム―３―カルボン酸
ｐ―ニトロベンジルエステル（32mg）を実施例
１―(2)と同様に反応処理し標記化合物18mgが得ら
れた。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：1765，
1680，1605，1515，1485 核磁気共鳴スペクトル（CDCL3）δppn：0.84
（9H，ｓ）、1.25（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz）、
1.32〜1.58（3H，ｍ）、3.20〜5.10（4H，
ｍ）、3.72（1H，dd，Ｊ＝4.0，2.0Hz）、
5.10，5.41（2H，AB―ｑ，Ｊ＝14.0Hz）、
5.63（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz）、7.56，8.14
（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） (3) （5R，6S，8R）―２―（１―フルオロ―２
―プロピルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチ
ル）ペネム―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベン
ジルエステル （5R，6S，8R）―２―（１―フルオロ―２―
プロピルチオ）―６―（１―tert―ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）ペネム―３―カルボン酸
ｐ―ニトロベンジルエステル18mgを実施例１―
(3)と同様に反応処理し、融点87〜89℃を有する標
記化合物12mgを得た。 紫外線吸収スペクトル λEtOH naxnm：261.5，338 (4) （5R，6S，8R）―２―（１―フルオロ―２
―プロピルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチ
ル）ペネム―３―カルボン酸ナトリウム （5R，6S，8R）―２―（１―フルオロ―２―
プロピルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）
ペネム―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエ
ステル11mgを実施例１―(4)と同様に反応処理し目
的化合物５mgを得た。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：3400，
1770，1600，1520，1380 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）：255
（5124）、321（6762） 試験例 本発明の化合物および化合物(A)（特開昭53―
13795号）；化合物(B)（特開昭55―153789号）の寒
天平板希釈法による発育阻止濃度を第１表に示
す。
の塩に関する。 式中、R1は１―ヒドロキシエチル基を示し、
R2は１〜３個の弗素原子で置換された低級アル
キル基を示し、R3は水素原子、アシルオキシア
ルキル基、アルコキシカルボニルオキシアルキル
基、またはフタリジル基を示す。 ペネム―３―カルボン酸誘導体の塩としては、
たとえばリチウム，ナトリウム，カリウム，カル
シウム，マグネシウムのような無機塩またはアン
モニウム，シクロヘキシルアンモニウム，ジイソ
プロピルアンモニウム，トリエチルアンモニウム
のようなアンモニウム塩があげられ、好適にはナ
トリウム，カリウム塩である。 R2の１〜３個の弗素原子で置換された低級ア
ルキル基のアルキル基は、好適には―CHR4R5
（式中R4は水素原子、メチルまたはフルオロメチ
ルを示し、R5はフルオロメチルまたはトリフル
オロメチルを示す。）があげられ、とくに好適な
R2は２―フルオロエチルまたは２，２，２―ト
リフルオロエチルがあげられる。 R3の好適なアシルオキシアルキル基は、たと
えばアセトキシメチルまたはピバロイルオキシメ
チルがあげられる。 R3の好適なアルコキシカルボニルオキシアル
キル基は、たとえば１―エトキシカルボニルオキ
シエチルがあげられる。 なお、前記式(1)を有する化合物においては不斉
炭素原子に基く光学異性体および立体異性体が存
在し、これらの異性体がすべて単一の式で示され
ているが、これによつて本発明の記載の範囲は限
定されるものではない。しかしながら、それらの
異性体のうちで好適なものとしては、５位がチエ
ナマイシンと同一配位すなわちＲ配位であり、６
位が１―ヒドロキシエチル基により置換された化
合物では6S配位および8R配位の化合物をあげる
ことができる。 近年耐性菌の著るしい増加に伴ない、抗菌スペ
クトルが広くしかも強い抗菌活性を有する化学治
療剤が広く望まれている。本発明者らは、ペニシ
リン環の２位と３位の間に二重結合が存在するペ
ネム―３―カルボン酸誘導体について鋭意検討し
た結果、ペネム骨格の２位にフルオロ原子で置換
された低級アルキルチオ置換分を有するペネム―
３―カルボン酸誘導体が著るしく強い抗菌活性を
有することを見出し、本発明を完成した。 本発明の前記式(1)を有する化合物は以下に示す
方法によつて製造することができる。 なお、本発明に係るペネム―３―カルボン酸誘
導体は以下の公知文献（特開昭54―88291号、特
開昭54―119486号および特開昭55―153789号）の
記載事項に関連するものであるが、それらの中に
は何ら具体的に記載されていない新規化合物であ
る。 上記式中、R1，R2およびR3は前述したものと
同意義を表わし、R6は水酸基が保護された１―
ヒドロキシエチルを表わし、R7はカルボン酸の
保護基を表わし、Ｘはブロモ、ヨウドのようなハ
ロゲン原子、メタンスルホニルオキシ、エタンス
ルホニルオキシのようなアルカンスルホニルオキ
シ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシのよ
うなトリハロゲノメタンスルホニルオキシ基また
はベンゼンスルホニルオキシ、ｐ―トルエンスル
ホニルオキシのようなアリールスルホニルオキシ
基を表わす。 Ａ法は本発明の目的化合物である式（1a）を
有するペネム―３―カルボン酸誘導体を製造する
方法で、式(2)を有する化合物に式(3)を有するアル
キル化剤を反応させて式（4a）を有する化合物
を製造し、次いで所望に応じて得られた化合物を
カルボキシル基の保護基R7ならびにR6に含まれ
る保護基を除去して、それぞれカルボキシル基若
しくは水酸基を復元する反応に付すことによつて
達成される。 本発明の出発物質である化合物(2)は、特開昭56
―142282号に開示された方法によつて得ることが
できる。またアゼチジノン誘導体６に塩基 を反応させた後、二硫化炭素、フタロイルクロリ
ドを反応させ化合物(7)とし、これに塩素を反応さ
せた後、塩基処理することにより化合物(2)が得ら
れる。 本発明の方法を実施するに当つて、前記式(2)を
有する化合物を前記式(3)を有するアルキル化剤と
反応させて前記式（4a）を有する化合物を製造
する反応は不活性溶剤中塩基共存下で好適に行な
われる。使用される溶剤としては本反応に関与し
なければ特に限定はなく、例えばクロロホルム、
ジクロロメタン、ジクロロエタンのようなハロゲ
ン化炭化水素類、エーテル、テトラヒドロフラン
のようなエーテル類、ニトロメタンまたはこれら
の有機溶剤との混合溶剤若しくは水との混合溶剤
があげられる。また使用される塩基としては、化
合物の他の部分特にβ―ラクタム環に影響を与え
ないものであれば特に限定はないが、好適には酸
結合剤であるトリエチルアミン、ピリジン、２，
６―ルチジン、ジメチルアニリン等の有機塩基、
炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸カルシウム等のアルカリ金属重炭酸塩
若しくは炭酸塩等があげられる。 反応温度には特に限定はないが、副反応を抑え
るためには比較的低温で行うのが望ましく、通常
は−10℃乃至100℃位で行なわれる。反応時間は
主に反応温度、原料化合物の種類によつて異なる
が数分乃至200時間である。 反応終了後、本反応の目的化合物（4a）は常
法に従つて反応混合物から採取される。例えば反
応混合物に水と混和しない有機溶剤を加え、水洗
後、溶剤を留去することによつて得られる。得ら
れた目的化合物は必要ならば常法、例えば再結
晶、再沈澱またはクロマトグラフイーなどによつ
て更に精製することができる。 ここで得られる化合物（4a）が5S配位の異性
体である場合には、これを例えばトルエン、キシ
レン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミドのような有機溶媒中または溶媒の不存在中加
熱することによつて、容易に5R配位の異性体に
変換することができる。この反応において、副反
応を抑制する目的で必要なら、ハイドロキノン等
の重合禁止剤を添加することもできる。 次いで得られた化合物（4a）は必要に応じて
常法に従つてカルボキシル基の保護基R7の除去
処理を行つて、カルボン酸誘導体に変換すること
ができる。カルボキシル基保護基R7としては一
般にこの分野の技術で知られているものであれば
さしつかえないが好適には例えばベンジル、ｐ―
ニトロベンジルのようなアラルキル基が好適であ
り、特に好適にはｐ―ニトロベンジル基である。
反応は相当する化合物（4a）を還元剤接触させ
ることによつて実施することができる。 本反応に使用される還元剤としては、水素およ
びパラジウム―炭素のような接触還元触媒が好適
である。反応は溶剤の存在下で行なわれ、使用さ
れる溶剤としては本反応に関与しないものであれ
ば特に限定はないが、メタノール、エタノールの
ようなアルコール類、テトラヒドロフララン、ジ
オキサンのようなエーテル類、酢酸のような脂肪
酸およびこれらの有機溶剤と水またはリン酸緩衝
液との混合溶剤が好適である。反応温度は通常は
０℃乃至室温付近であり、反応時間は原料化合物
および還元剤の種類によつて異なるが、通常は数
分間乃至100時間である。 反応終了後、カルボキシル基の保護基の除去反
応の目的化合物は常法に従つて反応混合物から採
取される。例えば反応混合物より析出した不溶物
を去して後、有機溶剤層を水洗、乾燥し溶剤を
留去することによつて得ることができる。 このようにして得られた目的化合物は、必要な
らば常法例えば再結晶法、分取用薄層クロマトグ
ラフイー、カラムクロマトグラフイーなどによつ
て精製することができる。 また化合物（4a）は必要に応じて常法に従つ
て、R6に含まれる保護基の除去処理を行つて、
水酸基を有する化合物に変換することができ、さ
らにこのようにして得られた化合物を上述したカ
ルボキシル基の保護基R7の除去反応に付するこ
ともできる。R6に含まれる保護基としては一般
にこの分野の技術で知られているものであればさ
しつかえないが、好適には例えばベンジルオキシ
カルボニル、ｐ―ニトロベンジルオキシカルボニ
ルのようなアラルキルオキシカルボニル基または
例えばトリメチルシリル、ジメチル―tert―ブチ
ルシリルのようなトリアルキルシリル基であり、
好適にはジメチル―tert―ブチルシリル基であ
る。R6がｐ―ニトロベンジルオキシカルボニル
オキシアルキルのようなアラルキルオキシカルボ
ニルオキシ低級アルキル基である場合には、反応
は相当する化合物（4a）を還元剤と接触させる
ことによつて実施することができる。本反応に使
用される還元剤および反応条件は前述したカルボ
キシル基の保護基R7を除去する場合と同様であ
り、従つてカルボキシル基の保護基R7も同時に
除去することができる。 またR6がジメチル―tert―ブチルシリルオキシ
アルキルのようなトリアルキルシリルオキシ低級
アルキル基である場合には、反応は相当する化合
物（4a）をテトラブチルアンモニウムフルオラ
イドのようなフルオライドイオンで処理すること
により実施される。本反応に使用される溶媒とし
ては、特に限定はないが、テトラヒドロフラン、
ジオキサンのようなエーテル類が好適である。反
応は室温乃至60℃において数分乃至100時間処理
することによつて好適に行なわれる。 以上の保護基の除去反応の目的化合物（1a）
は、それぞれ常法に従つて反応混合物から採取さ
れ、さらに必要ならば例えば再結晶法、分取用薄
層クロマトグラフイー、カラムクロマトグラフイ
ーなどによつて精製することができる。 Ｂ法は本発明の目的化合物である式（1b）を
有するペネム―３―カルボン酸誘導体を製造する
工程で、式(2)を有する化合物に式(5)を有するヒド
ロキシ化合物をトリフエニルホスフインおよびア
ゾジカルボン酸ジエチルエステルのようなアゾジ
カルボン酸ジアルキルエステルの存在下で反応さ
せて一般式（4b）を有する化合物を製造し、次
いで所望に応じて得られた化合物をカルボキシル
基の保護基R7ならびにR6に含まれる保護基を除
去して、それぞれカルボキシル基若しくは水酸基
を復元する反応に付すことによつて達成される。 本発明の方法を実施するに当つて、前記式(2)を
有する化合物をトリフエニルホスフインおよびア
ゾジカルボン酸ジエチルエステルの存在下、式(5)
を有するヒドロキシ化合物と反応させて前記式
（4b）を有する化合物を製造する反応は不活性溶
剤中で行なわれる。使用される溶剤としては本反
応に関与しなければ特に限定はなく、例えばエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのような
エーテル類、ベンゼン、トルエンのような芳香族
炭化水素類またはこれら有機溶剤の混合溶剤があ
げられる。 反応温度には特に限定はないが、副反応を抑え
るためには比較的低温で行うのが望ましく、通常
は−20℃乃至室温付近で行なわれる。反応時間は
主に反応温度、原料化合物の種類によつて異なる
が数分乃至100時間である。 反応終了後、本反応の目的化合物（4b）は常
法に従つて反応混合物から採取される。例えば反
応混合物に水と混和しない有機溶剤を加え、水洗
し溶剤を留去することによつて得ることができ
る。得られた化合物（4b）は必要ならば常法、
例えば再結晶、再沈澱またはクロマトグラフイー
などによつて更に精製することができる。 次いで得られた化合物（4b）は必要に応じて
Ａ法第２工程と同様に常法に従つてカルボキシル
基の保護基R7の除去処理を行つて、カルボン酸
誘導体に変換することができる。 また化合物（4b）において置換基R6に含まれ
る保護基がアラルキルオキシカルボニル基または
トリアルキルシリル基である時には所望に応じ
て、Ａ法において前述したように保護基を除去し
て水酸基を有する化合物に変換することができ、
さらにこのようにして得られた化合物を上述した
カルボキシル基の保護基R7の除去反応に付すこ
とができる。 本発明によつて得られる前記式(1)を有する化合
物としては例えば以下に記載する化合物があげら
れる。 １ （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロエチ
ルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネ
ム―３―カルボン酸およびそのナトリウム塩、
カリウム塩若しくはピバロイルオキシメチルエ
ステル ２ （5R，6S，8R）―２―（２，２，２―トリ
フルオロエチルチオ）―６―（１―ヒドロキシ
エチル）ペネム―３―カルボン酸およびそのナ
トリウム塩、カリウム塩若しくはピバロイルオ
キシメチルエステル ３ （5R，6S，8R）―２―（１，３―ジフルオ
ロ―２―プロピルチオ）―６―（１―ヒドロキ
シエチル）ペネム―３―カルボン酸およびその
ナトリウム塩、カリウム塩若しくはピバロイオ
キシメチルエステル ４ （5R，6S，8R）―２―（１―フルオロ―２
―プロピルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチ
ル）ペネム―３―カルボン酸およびそのナトリ
ウム塩、カリウム塩若しくはピバロイルオキシ
メチルエステル ５ （5R，6S，8R）―２―（１，１，１―トリ
フルオロ―２―プロピルチオ）―６―（１―ヒ
ドロキシエチル）ペネム―３―カルボン酸およ
びそのナトリウム塩、カリウム塩若しくはピバ
ロイルオキシメチルエステル ６ （5R，6S，8R）―２―（３―フルオロプロ
ピルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペ
ネム―３―カルボン酸およびそのナトリウム
塩、カリウム塩若しくはピバロイルオキシメチ
ルエステル 本発明の前記式(1)を有する化合物は前述したよ
うに、ペニシリン環の２位と３位の間に二重結合
が存在するペネム誘導体に属し、その２位に各種
置換メルカプト基を有する新規な化合物の一群で
あり、広域スペクトルの抗菌活性さらに６位に１
―ヒドロキシエチル基を有する化合物はまたβ―
ラクタマーゼ抑制活性も有している。抗菌作用に
ついては寒天平板希釈法により測定したところ、
後述の第１表に示すように例えば、黄色ブドウ状
球菌、枯草菌などのグラム陽性菌および大腸菌、
赤痢菌、肺炎桿菌、変形菌などのグラム陰性菌を
包含する広範囲な病原菌に対して優れた活性を示
した。 従つてこのような化合物はこれらの病原菌によ
る細菌感染症を治療する抗菌剤として有用であ
る。その目的のための投与形態としては、例えば
錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤、シロツプ剤な
どによる経口投与あるいは静脈内注射、筋肉内注
射などによる非経口投与があげられる。投与量は
年令、体重、症状など並びに投与形態および投与
回数によつて異なるが、通常成人に対して１日約
100mg乃至3000mgを１回または数回に分けて投与
する。 次に実施例をあげて本発明をさらに具体的に説
明する。 実施例 １ （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロエチル
チオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネム
―３―カルボン酸ナトリウム (1) （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロエチ
ルチオ）―６―（１―tert―ブチルジメチルシ
リルオキシエチル）ペネム―３―カルボン酸ｐ
―ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）―６―（１―tert―ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）―２―チオキソペナ
ム―３―カルボン酸ｐ―ニトロベンジルエステル
（447mg）のニトロメタン溶液（５ml）を氷冷窒素
気流下、１―ブロモ―２―フルオロエタン（171
mg）のニトロメタン溶液（１ml）とトリエチルア
ミン（138μ）を加え、室温で３日間撹拌した
後、反応液を減圧濃縮し、残渣をメチレンクロリ
ドで抽出し、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネ
シウム上で乾燥する。溶剤を留去後、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフイーに付し、ベンゼ
ン―酢酸エチル（20：１）で溶出する部分から粗
目的化合物を得た。これを更にシリカゲルカラム
クロマトグラフイーに付し、ｎ―ヘキサン―酢酸
エチル（５：１）で溶出する部分から標記化合物
（110mg）を得た。 赤外線吸収スペクトル νLiq naxcm-1：1790，1680 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppn：0.90
（9H，ｓ），1.45（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），
3.30（2H，dt，Ｊ＝6.0，19.0Hz），3.90
（1H，dd，Ｊ＝4.0，10.0Hz），4.2〜4.60
（1H，ｍ），4.65（2H，dt，Ｊ＝6.0，47.0
Hz），5.20，5.50（2H，AB―ｑ，Ｊ＝14.0
Hz），5.70（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），7.62，
8.23（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） (2) （5R，6S，8R）―２―（フルオロエチルチ
オ）―６―（１―tert―ブチルジメチルシリル
オキシエチル）ペネム―３―カルボン酸 ｐ―
ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロエチル
チオ）―６―（１―tert―ブチルジメチルシリル
オキシエチル）ペネム―３―カルボン酸 ｐ―ニ
トロベンジルエステル（110mg）のキシレン溶液
（18ml）にハイドロキノン（2.0mg）を加え、窒素
気流下135℃の油浴上３時間加熱する。溶媒を留
去した後、残渣をローバーカラム（メルク社製シ
リカゲル sizeB；展開溶剤、ベンゼン―酢酸エ
チル（25：１））を用いて精製すると目的化合物
と原料が得られる。回収した原料を同様に加熱す
ると更に標記化合物が得られた。全得量82mg（収
率74.5％）。 赤外線吸収スペクトル νLiq nax：1790，1690，
1605 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppn：0.90
（9H，ｓ）1.35（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），
3.32（2H，dt，Ｊ＝6.0，19.0Hz），3.80
（1H，dd，Ｊ＝2.0，4.0Hz），4.0〜4.60
（1H，ｍ），4.70（2H，dt，Ｊ＝6.0，47.0
Hz），5.25，5.50（2H，AB―ｑ，Ｊ＝14.0
Hz），5.72（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz），7.68，
8.24（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） (3) （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロエチ
ルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネ
ム―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエス
テル （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロエチル
チオ）―６―（１―tert―ブチルジメチルシリル
オキシエチル）ペネム―３―カルボン酸 ｐ―ニ
トロベンジルエステル（82mg）のテトラヒドロフ
ラン溶液（２ml）に酢酸（86μ）とテトラブチ
ルアンモニウムフルオライドの１モルテトラヒド
ロフラン溶液（0.604ml）を加え、室温で一夜撹
拌、30℃の油浴上10時間撹拌する。酢酸エチルで
反応液を希釈した後、飽和食塩水、５％重曹水、
飽和食塩水で順次洗浄し、溶剤を留去して得られ
る残渣をローバーカラム（メルク社製、sizeA、
展開溶剤、ベンゼン―酢酸エチル（65：35））を
用いて精製すると標記化合物（40mg）が得られ
た。 融点168〜170℃ 紫外線吸乃スペクトル λEtOH naxnm：261，339 核磁気共鳴スベクトル（DMSO―d6）δppn：
1.18（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），2.9〜3.7（2H，
ｍ），3.86（1H，dd，Ｊ＝2.0，6.0Hz），3.8
〜4.15（1H，ｍ），4.66（2H，dt，Ｊ＝6.0，
47.0Hz），5.19（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），5.30，
5.48（2H，AB―ｑ，Ｊ＝14.0Hz），5.77
（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz），7.72，8.25（4H，
A2B2，Ｊ＝9.0Hz） (4) （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロエチ
ルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネ
ム―３―カルボン酸ナトリウム （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロエチル
チオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネム―
３―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステル
（39mg）をテトラヒドロフラン（３ml）に溶かし、
リン酸緩衝液（PH＝7.1，３ml）および10％パラ
ジウム炭素（78mg）を加え、水素気流下、室温で
2.5時間撹拌する。触媒を去した後、酢酸エチ
ルで洗浄し、水層を約２mlにまで減圧濃縮する。
これをダイアイオンHP―20AG（三菱化成工業
製）のカラムに付し、５％アセトン水で溶出され
る部分から、減圧濃縮、凍結乾燥して白色粉末の
目的化合物（17mg）を得た。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：3425，
1765，1600 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm：252.5，321.5 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppn：1.30（3H，
ｄ，Ｊ＝6.0Hz），2.9〜3.5（2H，ｍ），3.90
（1H，dd，Ｊ＝2.0，6.0Hz），4.0〜4.45
（1H，ｍ），4.70（2H，dt，Ｊ＝6.0，47.0
Hz），5.69（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz） 実施例 ２ （5R，6S，8R）―２―（２，２，２―トリフ
ルオロエチルチオ）―６―（１―ヒドロキシエ
チル）ペネム―３―カルボン酸ナトリウム (1) （5R，6S，8R）―２―（２，２，２―トリ
フルオロエチルチオ）―６―（１―tert―ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル）ペネム―３―
カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステル
（5R，6S，8R）―６―（１―tert―ブチルジメ
チルシリルオキシエチル）―２―チオキソペナ
ム―３―カルボン酸ｐ―ニトロベンジルエステ
ル（350mg）とジエチルアゾジカルボキシレー
ト（175μ）のテトラヒドロフラン（２ml）
溶液に氷冷窒素気流下、トリフエニルホスフイ
ン（293mg）および２，２，２―トリフルオロ
エタノール（105mg）のテトラヒドロフラン溶
液（0.5ml）を加え、10分間撹拌する。反応液
を−10〜−15℃に冷却し、（5R，6S，8R）―
６―（tert―ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル）―２―チオキソペネム―３―カルボン酸ｐ
―ニトロベンジルエステル（350mg）のテトラ
ヒドロフラン溶液（0.5ml）を加え、０〜５℃
で20分間撹拌し、更に室温で30分間撹拌した
後、酢酸エチルで抽出する。飽和食塩水で洗
浄、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去
し残渣を実施例１―(1)と同様にシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーで精製し標記化合物（44
mg）を得た。 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 nax：1795，1700cm
-1 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppn：0.11
（6H，ｓ），0.88（9H，ｓ），1.42（3H，ｄ，
Ｊ＝6.0Hz），3.60（2H，ｑ，Ｊ＝10.0Hz），
3.89（1H，dd，Ｊ＝4.0，10.0Hz），4.10〜
4.66（1H，ｍ），5.20，5.47（2H，AB―ｑ，
Ｊ＝14.1Hz），5.73（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），
7.61，8.22（4H，A2B2，Ｊ＝9.3Hz） (2) （5R，6S，8R）―２―（２，２，２―トリ
フルオロエチルチオ）―６―（１―tert―ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル）ペネム―３―
カルボン酸ｐ―ニトロベンジルエステル （5S，6S，8R）―２―（２，２，２―トリ
フルオロエチルチオ）―６―（１―tert―ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル）ペネム―３―
カルボン酸ｐ―ニトロベンジルエステル（65
mg）を実施例１―(2)と同様に反応処理し、標記
化合物42mgが得られた。 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppn：0.04
（3H，ｓ），0.08（3H，ｓ），0.11（9H，
ｓ），1.25（3H，ｄ，Ｊ＝7.0Hz），3.57
（2H，dq，Ｊ＝2.0，10.0Hz），3.79（1H，
dd，Ｊ＝2.0，4.0Hz），3.98〜4.55（1H，
ｍ），5.20，5.42（2H，AB―ｑ，Ｊ＝13.5
Hz），5.69（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz），7.63，
8.23（4H，A2B2，Ｊ＝9.3Hz） (3) （5R，6S，8R）―２―（２，２，２―トリ
フルオロエチルチオ）―６―（１―ヒドロキシ
エチル）ペネム―３―カルボン酸ｐ―ニトロベ
ンジルエステル （5R，6S，8R）―２―（２，２，２―トリ
フルオロエチルチオ）―６―（１―tert―ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル）ペネム―３―
カルボン酸ｐ―ニトロベンジルエステル（42
mg）を実施例１―(3)と同様に反応処理し標記化
合物27mgを得た。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：3450，
1775，1690 核磁気共鳴スペクトル（CD3COCD3）δppn：
1.33（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），3.62〜4.60
（4H，ｍ），5.33，5.52（2H，AB―ｑ，Ｊ
＝14.4Hz），5.92（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz），
7.78，8.26（4H，A2B2，Ｊ＝8.4Hz） (4) （5R，6S，8R）―２―（２，２，２―トリ
フルオロエチルチオ）―６―（１―ヒドロキシ
エチル）ペネム―３―カルボン酸ナトリウム （5R，6S，8R）―２―（２，２，２―トリ
フルオロエチルチオ）―６―（１―ヒドロキシ
エチル）ペネム―３―カルボン酸 ｐ―ニトロ
ベンジルエステル（25mg）を実施例１―(4)と同
様に反応処理し、目的化合物13mgを得た。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：3420，
1770，1610 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppn：1.30（3H，
ｄ，Ｊ＝6.0Hz），3.71（2H，dofq，Ｊ＝
2.0，Ｊ＝10.0Hz），3.95（1H，dd，Ｊ＝
2.0，6.0Hz），4.10〜4.40（1H，ｍ），5.72
（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz） 実施例 ３ （5R，6S，8R）―２―（１，３―ジフルオロ
―２―プロピルチオ）―６―（１―ヒドロキシ
エチル）ペネム―３―カルボン酸ナトリウム (1) （5R，6S，8R）―２―（１，３―ジフルオ
ロ―２―プロピルチオ）―６―（１―tert―ブ
チルジメチルシリルオキシエチル）ペネム―３
―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）―６―（１―tert―ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）―２―チオキソペナ
ム―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステ
ル（596mg）、１，３―ジフルオロ―２―プロパノ
ール（230mg）、ジエチルアゾジカルボキシレート
（418mg）、トリフエニルホスフイン（629mg）より
実施例２―(1)と同様の反応処理により標記化合物
32mgが得られた。 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1：1780，
1600 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppn：0.89
（9H，ｓ），1.44（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz）、
3.30〜4.70（2H，ｍ），3.90（1H，dd，Ｊ＝
4.0，10.0Hz）、4.65（4H，dd，Ｊ＝5.0，
46.0Hz）、5.13，5.45（2H，AB―ｑ，Ｊ＝
14.0Hz）、5.69（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz）、7.56，
8.16（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） (2) （5R，6S，8R）―２―（１，３―ジフルオ
ロ―２―プロピルチオ）―６―（１―tert―ブ
チルジメチルシリルオキシエチル）ペネム―３
―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）―２―（１，３―ジフルオロ
―２―プロピルチオ）―６―（１―tert―ブチル
ジメチルシリルオキシエチル）ペネム―３―カル
ボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステル（45mg）を
実施例１―(2)と同様に反応処理し、標記化合物18
mgが得られた。 紫外線吸収スペクトル λEtOH naxnm：261，336.5 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppn：0.84
（9H，ｓ），1.25（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz）、
3.20〜4.65（2H，ｍ）、3.75（1H，dd，Ｊ＝
2.0，4.0Hz）、4.65（4H，dd，Ｊ＝5.0，46.0
Hz）、5.14，5.41（2H，AB―ｑ，Ｊ＝14.0
Hz）、5.64（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz）、7.57，
8.16（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） (3) （5R，6S，8R）―２―（１，３―ジフルオ
ロ―２―プロピルチオ）―６―（１―ヒドロキ
シエチル）ペネム―３―カルボン酸 ｐ―ニト
ロベンジルエステル （5R，6S，8R）―２―（１，３―ジフルオロ
―２―プロピルチオ）―６―（１―tert―ブチル
ジメチルシリルオキシエチル）ペネム―３―カル
ボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステル（17mg）を
実施例１―(3)と同様に反応処理し、標記化合物
7.0mgを得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフイー： Rf＝0.60（ベンゼン／酢酸エチル＝１／１） (4) （5R，6S，8R）―２―（１，３―ジフルオ
ロ―２―プロピルチオ）―６―（１―ヒドロキ
シエチル）ペネム―３―カルボン酸ナトリウム （5R，6S，8R）―２―（１，３―ジフルオロ
―２―プロピルチオ）―６―（１―ヒドロキシエ
チル）ペネム―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベン
ジルエステル（７mg）を実施例１―(4)と同様に反
応処理し、目的化合物２mgを得た。 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm：256，320 実施例 ４ （5R，6S，8R）―２―（３―フルオロプロピ
ルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネ
ム―３―カルボン酸ナトリウム (1) （5R，6S，8R）―２―（３―フルオロプロ
ピルチオ）―６―（１―tert―ブチルジメチル
シリルオキシエチル）ペネム―３―カルボン酸
ｐ―ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）―６―（１―tert―ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）―２―チオキソペナ
ム―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステ
ル（834mg）、３―フルオロプロパノール（262
mg）、ジエチルアゾジカルボキシレート（585mg）、
トリフエニルホスフイン（881mg）より実施例２
―(1)と同様の反応処理により標記化合物68mgが得
られた。 赤外線吸収スペクトル νLiq naxcm-1：1775，
1685，1605，1520，1495 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppn：0.88
（9H，ｓ），1.41（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz）、
1.60〜2.58（2H，ｍ）、3.08（2H，ｔ，Ｊ＝
6.0Hz）、3.86（1H，dd，Ｊ＝10.0，4.0Hz）、
Ca.4.0〜4.50（1H，ｍ）、4.48（2H，dt，Ｊ
＝47.0，6.0Hz）、5.08，5.47（2H，AB―ｑ，
Ｊ＝14.0Hz）、5.66（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz）、
7.55，8.15（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） (2) （5R，6S，8R）―２―（３―フルオロプロ
ピルチオ）―６―（１―tert―ブチルジメチル
シリルオキシエチル）ペネム―３―カルボン酸
ｐ―ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）―２―（３―フルオロプロピ
ルチオ）―６―（１―tert―ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル）ペネム―３―カルボン酸 ｐ―
ニトロベンジルエステル（68mg）を実施例１―(2)
と同様に反応処理し、融点107゜〜108℃を有する
標記化合物41mgが得られた。 赤外線吸収スペクトル νNujol naxcm-1：1765，
1675，1605，1510 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppn：0.84
（9H，ｓ）、1.25（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz）、
2.09（2H，dquintet，Ｊ＝25.0，6.0Hz）、
3.09（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz）、3.71（1H，dd，
Ｊ＝4.0，2.0Hz）、4.00〜4.46（1H，ｍ）、
4.54（2H，dt，Ｊ＝47.0，6.0Hz）、5.14，
5.44（2H，AB―ｑ，Ｊ＝14.0Hz）、5.65
（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz）、7.61，8.22（4H，
A2B2，Ｊ＝9.0Hz） (3) （5R，6S，8R）―２―（３―フルオロプロ
ピルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペ
ネム―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエ
ステル （5R，6S，8R）―２―（３―フルオロプロピ
ルチオ）―６―（１―tert―ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル）ペネム―３―カルボン酸 ｐ―
ニトロベンジルエステル（40mg）を実施例１―(3)
と同様に反応処理し融点157〜158℃を有する標記
化合物22mgを得た。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：3450，
1780，1690，1610，1525，1500 紫外線吸収スペクトル λEtOH naxnm：262.5，340 核磁気共鳴スペクトル（DMSO―d6）δppn：
1.19（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz）、1.76〜2.33
（2H，ｍ）、3.10（2H，td，Ｊ＝6.0，2.0
Hz）、3.83（1H，dd，Ｊ＝5.0，2.0Hz）、
3.80〜4.14（1H，ｍ）、4.52（2H，dt，Ｊ＝
47.0，6.0Hz）、5.17（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz）、
5.27，5.47（2H，AB―ｑ，Ｊ＝14.0Hz）、
5.76（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz）、7.71，8.25
（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） (4) （5R，6S，8R）―２―（３―フルオロプロ
ピルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペ
ネム―３―カルボン酸ナトリウム （5R，6S，8R）―２―（３―フルオロプロピ
ルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネム
―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステル
（20mg）を実施例１―(4)と同様に反応処理し、目
的化合物11mgを得た。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：3400，
1780，1600，1585，1510 赤外線吸収スペクトル λH2O naxnm：254，324 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppn：2.32（3H，
ｄ，Ｊ＝6.0Hz）、2.80〜3.40（2H，ｍ）、
3.80〜4.31（3H，ｍ）、4.92（1H，dd，Ｊ＝
5.0，2.0Hz）、5.27（1H，quintet，Ｊ＝6.0
Hz）、5.64（2H，dt，Ｊ＝47.0，6.0Hz）、
6.71（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz） 実施例 ５ （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロエチル
チオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネム
―３―カルボン酸カリウム 実施例１―(3)で得た（5R，6S，8R）―２―
（２―フルオロエチルチオ）―６―（１―ヒドロ
キシエチル）ペネム―３―カルボン酸ｐ―ニトロ
ベンジルエステル（1.53ｇ）をテトラヒドロフラ
ン（100ml）に溶かし、リン酸緩衝液（リン酸一
カリウム、リン酸二カリウム、PH＝7.1、100ml）
及び10％パラジウム炭素（3.00ｇ）を加え、水素
気流下、室温で３時間撹拌する。反応液を実施例
１―(4)と同様に処理精製すると白色粉末状の目的
化合物729mgが得られた。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：3420，
1770，1595，1520 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm：251.5（ε＝
5490）、320.5（ε＝7050） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppn：1.30（3H，
ｄ，Ｊ＝6.0Hz）、3.04〜3.54（2H，ｍ）、
3.91（1H，dd，Ｊ＝6.0，2.0Hz）、4.25（1H，
quintet.J＝6.0Hz）、4.70（2H，dd，Ｊ＝
47.0，6.0Hz）、5.69（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz） 実施例 ６ （5R，6S，8R）―２―（フルオロエチルチ
オ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネム―
３―カルボン酸ピバロイルオキシメチルエステ
ル （5R，6S，8R）―６―（１―tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）―２―チオキソペナ
ム―３―カルボン酸ピバロイルオキシメチルエス
テルと１―ブロモ―２―フルオロエタンを出発原
料として、実施例１―(1)，(2)および(3)と同様に反
応を行い、無色アワ状の目的化合物を得た。 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1：3400，
1790，1750，1710 紫外線吸収スペクトル λEtOH naxnm：259.6，340.1 核磁気共鳴吸収スペクトル（CDCl3）δppn：
1.22（9H，ｓ）、1.35（3H，ｄ，Ｊ＝6.0
Hz）、1.94（1H，br，ｓ）、3.04〜3.46（2H，
ｍ）、3.72（1H，dd，Ｊ＝6.0，2.0Hz）、
4.22（1H，ｑ，Ｊ＝6.0Hz）、4.63（2H，dt，
Ｊ＝47.0，6.0Hz）、5.68（1H，ｄ，Ｊ＝2.0
Hz）、5.86，5.92（2H，AB―ｑ，Ｊ＝12.0
Hz） 実施例 ７ （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロエチル
チオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネム
―３―カルボン酸フタリジルエステル （5R，6S，8R）―６―（１―tert―ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）―２―チオキソペナ
ム―３―カルボン酸フタリジルエステルと１―ブ
ロモ―２―フルオロエタンを出発原料として、実
施例１―(1)，(2)および(3)と同様に反応を行い、無
色アワ状の目的化合物を得た。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：3450，
1790，1700，1490 紫外線吸収スペクトル λEtOH naxnm：345，262，
229 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppn：1.33，
1.35（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz）、1.82（1H，br，
ｓ）、3.04〜3.52（2H，ｍ）、3.75（1H，dd，
Ｊ＝6.0，2.0Hz）、4.0〜4.34（1H，ｍ）、
4.62，4.67（2H，dt，Ｊ＝47.0，6.0Hz）、
5.69（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz）、7.32〜8.04
（5H，ｍ） 実施例 ８ （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロエチル
チオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネム
―３―カルボン酸１―エトキシカルボニルオキ
シエチルエステル （5R，6S，8R）―６―（１―tert―ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）―チオキソペナム―
３―カルボン酸１―エトキシカルボニルオキシエ
チルエステルと１―ブロモ―２―フルオロエタン
を出発原料として、実施例１―(1)，(2)および(3)と
同様に反応を行い、無色油状の目的化合物を得
た。 赤外線吸収スペクトル νLiq naxcm-1：3500，
1785，1755，1690，1495 紫外線吸収スペクトル λEtOH naxnm：340，259.5 核磁気共鳴吸収スペクトル δppn，CDCl3
（100MHz）：1.22〜1.72（10H，ｍ）、3.09〜
3.46（2H，ｍ）、3.74（1H，dd，Ｊ＝6.0，
2.0Hz）、4.11〜4.40（3H，ｍ）、4.63（2H，
dt，Ｊ＝47.0.6.0Hz）、5.67（1H，ｄ，Ｊ＝
2.0Hz）、6.88，6.89（1H，ｑ，Ｊ＝6.0Hz） 実施例 ９ （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロプロピ
ルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネ
ム―３―カルボン酸ナトリウム (1) （5S，6S，8R）―２―（２―フルオロプロ
ピルチオ）―６―（１―tert―ブチルジメチル
シリルオキシエチル）ペネム―３―カルボン酸
ｐ―ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）―６―（１―tert―ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）―２―チオキソペナ
ム―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステ
ル（894mg）、２―フルオロプロパノール（281
mg）、ジエチルアゾジカルボキシレート（627mg）、
トリフエニルホスフイン（944mg）より実施例２
―(1)と同様に反応処理し、標記化合物76mgを得
た。 (2) （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロプロ
ピルチオ）―６―（１―tert―ブチルジメチル
シリルオキシエチル）ペネム―３―カルボン酸
ｐ―ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロプロピ
ルチオ）―６―（１―tert―ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル）ペネム―３―カルボン酸 ｐ―
ニトロベンジルエステル（76mg）を実施例１―(2)
と同様に反応処理し標記化合物50mgが得られた。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：1775，
1685，1605，1520，1495 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppn：0.84
（9H，ｓ）、1.25（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz）、
1.43（3H，dd，Ｊ＝22.0，6.0Hz）、2.85〜
3.50（2H，ｍ）、3.70（1H，dd，Ｊ＝4.0，
2.0Hz）、3.90〜5.30（2H，ｍ）、5.11，5.43
（2H，AB―ｑ，Ｊ＝14.0Hz）、5.60（1H，
ｄ，Ｊ＝2.0Hz）、7.57，8.17（4H，A2B2，
Ｊ＝9.0Hz） (3) （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロプロ
ピルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペ
ネム―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエ
ステル （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロプロピ
ルチオ）―６―（１―tert―ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル）ペネム―３―カルボン酸 ｐ―
ニトロベンジルエステル（50mg）を実施例１―(3)
と同様に反応処理し融点150〜152℃を有する標記
化合物27mgを得た。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：3540，
1790，1690，1665，1610，1520，1490 紫外線吸収スペクトル λEtOH naxnm：262，340 (4) （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロプロ
ピルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペ
ネム―３―カルボン酸ナトリウム （5R，6S，8R）―２―（２―フルオロプロピ
ルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）ペネム
―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステル
25mgを実施例１―(4)と同様に反応処理し、目的化
合物12mgを得た。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：3420，
1775，1600，1520，1380 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm：252（5400）、
321（7100） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppn：1.31（3H，
ｄ，Ｊ＝6.0Hz）、1.44（3H，dd，Ｊ＝25.0，
6.0Hz）、3.00〜3.44（2H，ｍ）、3.92（1H，
dd，Ｊ＝6.0，2.0Hz）、4.26（1H，quintet，
Ｊ＝6.0Hz）、4.65〜5.36（1H，ｍ）、5.69
（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz） 実施例 10 （5R，6S，8R）―２―（１―フルオロ―２―
プロピルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチ
ル）ペネム―３―カルボン酸ナトリウム (1) （5R，6S，8R）―２―（１―フルオロ―２
―プロピルチオ）―６―（１―tert―ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）ペネム―３―カル
ボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）―６―（１―tert―ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）―２―チオキソペナ
ム―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステ
ル（596mg）、１―フルオロ―２―プロパノール
（187mg）、ジエチルアゾジカルボキシレート（418
mg）、トリフエニルホスフイン（629mg）より実施
例２―(1)と同様の反応処理により標記化合物32mg
を得た。 (2) （5R，6S，8R）―２―（１―フルオロ―２
―プロピルチオ）―６―（１―tert―ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）ペネム―３―カル
ボン酸 ｐ―ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）―２―（１―フルオロ―２―
プロピルチオ）―６―（１―tert―ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）ペネム―３―カルボン酸
ｐ―ニトロベンジルエステル（32mg）を実施例
１―(2)と同様に反応処理し標記化合物18mgが得ら
れた。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：1765，
1680，1605，1515，1485 核磁気共鳴スペクトル（CDCL3）δppn：0.84
（9H，ｓ）、1.25（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz）、
1.32〜1.58（3H，ｍ）、3.20〜5.10（4H，
ｍ）、3.72（1H，dd，Ｊ＝4.0，2.0Hz）、
5.10，5.41（2H，AB―ｑ，Ｊ＝14.0Hz）、
5.63（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz）、7.56，8.14
（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） (3) （5R，6S，8R）―２―（１―フルオロ―２
―プロピルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチ
ル）ペネム―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベン
ジルエステル （5R，6S，8R）―２―（１―フルオロ―２―
プロピルチオ）―６―（１―tert―ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）ペネム―３―カルボン酸
ｐ―ニトロベンジルエステル18mgを実施例１―
(3)と同様に反応処理し、融点87〜89℃を有する標
記化合物12mgを得た。 紫外線吸収スペクトル λEtOH naxnm：261.5，338 (4) （5R，6S，8R）―２―（１―フルオロ―２
―プロピルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチ
ル）ペネム―３―カルボン酸ナトリウム （5R，6S，8R）―２―（１―フルオロ―２―
プロピルチオ）―６―（１―ヒドロキシエチル）
ペネム―３―カルボン酸 ｐ―ニトロベンジルエ
ステル11mgを実施例１―(4)と同様に反応処理し目
的化合物５mgを得た。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1：3400，
1770，1600，1520，1380 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）：255
（5124）、321（6762） 試験例 本発明の化合物および化合物(A)（特開昭53―
13795号）；化合物(B)（特開昭55―153789号）の寒
天平板希釈法による発育阻止濃度を第１表に示
す。
【表】
Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ
ａｕｒｅｕｓ 209Ｐ ≦0.01 ≦0.01 0.1 0.
05
ａｕｒｅｕｓ 209Ｐ ≦0.01 ≦0.01 0.1 0.
05
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式 を有するペネム―３―カルボン酸誘導体およびそ
の塩 式中、R1は１―ヒドロキシエチル基を示し、
R2は１〜３個の弗素原子で置換された低級アル
キル基を示し、R3は水素原子、アシルオキシア
ルキル基、アルコキシカルボニルオキシアルキル
基、またはフタリジル基を示す。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56133203A JPS5835190A (ja) | 1981-08-25 | 1981-08-25 | ペネム−３−カルボン酸誘導体 |
| GB08224330A GB2105329B (en) | 1981-08-25 | 1982-08-25 | Penem-3-carboxylic acid derivatives their preparation and their use as antimicrobial agents |
| CH5058/82A CH654308A5 (de) | 1981-08-25 | 1982-08-25 | Penem-3-carbonsaeurederivate und deren herstellung. |
| IT68039/82A IT1156494B (it) | 1981-08-25 | 1982-08-25 | Derivati dell acido penem 3 carbossilico loro preparazione ed uso come agenti antimicrobici |
| DE19823231596 DE3231596A1 (de) | 1981-08-25 | 1982-08-25 | Penem-3-carbonsaeurederivate, verfahren zu deren herstellung und diese enthaltende pharmazeutische zusammensetzungen |
| FR8214580A FR2512027A1 (fr) | 1981-08-25 | 1982-08-25 | Derives d'acide peneme-3-carboxylique, leur preparation et leur utilisation comme agents antimicrobiens |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56133203A JPS5835190A (ja) | 1981-08-25 | 1981-08-25 | ペネム−３−カルボン酸誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5835190A JPS5835190A (ja) | 1983-03-01 |
| JPS6324515B2 true JPS6324515B2 (ja) | 1988-05-20 |
Family
ID=15099135
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56133203A Granted JPS5835190A (ja) | 1981-08-25 | 1981-08-25 | ペネム−３−カルボン酸誘導体 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
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| CH (1) | CH654308A5 (ja) |
| DE (1) | DE3231596A1 (ja) |
| FR (1) | FR2512027A1 (ja) |
| GB (1) | GB2105329B (ja) |
| IT (1) | IT1156494B (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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Family Cites Families (4)
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| EP0003960B1 (de) * | 1978-02-02 | 1983-06-29 | Ciba-Geigy Ag | 6-Substituierte Thia-Azaverbindungen, ihre Herstellung und diese enthaltende pharmazeutische Präparate |
| CA1212105A (en) * | 1980-04-30 | 1986-09-30 | Shoji Ikeda | Ampicillin esters and production thereof |
| US4411906A (en) * | 1981-11-25 | 1983-10-25 | Schering Corporation | (5R,6S,8R)-6-(1-Hydroxyethyl)-2-(2-fluoroethylthio)-penem-3-carboxylates |
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1982
- 1982-08-25 DE DE19823231596 patent/DE3231596A1/de active Granted
- 1982-08-25 CH CH5058/82A patent/CH654308A5/de not_active IP Right Cessation
- 1982-08-25 GB GB08224330A patent/GB2105329B/en not_active Expired
- 1982-08-25 IT IT68039/82A patent/IT1156494B/it active
- 1982-08-25 FR FR8214580A patent/FR2512027A1/fr active Granted
Patent Citations (3)
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|---|---|---|---|---|
| JPS53137951A (en) * | 1977-05-09 | 1978-12-01 | Ciba Geigy Ag | Thiaaaza compound having betaalactum ring |
| JPS55153789A (en) * | 1979-04-11 | 1980-11-29 | Sankyo Co Ltd | Penem-3-carboxylic acid derivative and its preparation |
| JPS572290A (en) * | 1980-06-03 | 1982-01-07 | Sankyo Co Ltd | Production of penem-3-carboxylic derivative |
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|---|---|
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| IT8268039A0 (it) | 1982-08-25 |
| FR2512027B1 (ja) | 1984-12-14 |
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