JPS6355783B2 - - Google Patents

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JPS6355783B2
JPS6355783B2 JP56096253A JP9625381A JPS6355783B2 JP S6355783 B2 JPS6355783 B2 JP S6355783B2 JP 56096253 A JP56096253 A JP 56096253A JP 9625381 A JP9625381 A JP 9625381A JP S6355783 B2 JPS6355783 B2 JP S6355783B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring
grid
type
width
integrated circuit
Prior art date
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Expired
Application number
JP56096253A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS57211249A (en
Inventor
Hitoshi Yoshizawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP9625381A priority Critical patent/JPS57211249A/ja
Publication of JPS57211249A publication Critical patent/JPS57211249A/ja
Publication of JPS6355783B2 publication Critical patent/JPS6355783B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/77Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
    • H01L21/78Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
    • H01L21/82Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は集積回路の装置に係り、特に大規模な
マスタースライス型集積回路の配線構造に関する
ものである。
マスタースライス型のLSIにおいては、機能セ
ル(又はブロツクと呼ばれ、一定の論理機能を実
現するように、トランジスター、抵抗等の素子を
結線したもの)相互間を結線するには、チツプの
部分又は全域にわたり各配線層ごとに仮想的な配
線格子を設定した上で、その格子にのせた配線型
を連ねる事によつて実現している。各配線層ごと
に設定される配線格子は、配線材料及び回路の標
準の電流等から決まる配線型の巾にあわせた許容
間隔を満たすピツチで刻まれる。電源配線等のチ
ツプに共通な配線以外の信号用配線は、設定され
た1格子分を占める標準巾の配線型を以つて構成
される。
例えば、第1図において水平方向に10乃至13、
垂直方向に14乃至18の如くに設けた配線格子系に
あわせて、配線型20乃至22が置かれている。
配線型20は、格子10,14の交点と格子1
0,17の交点を結ぶものである(以下直交する
格子の交点を格子点と呼ぶ)。
このような配線格子の設定と格子にのせた配線
型の使用は、チツプの配線設計を計算機の自動処
理で行なう時によく用いられる。
しかし、ワイヤード(布線)論理を実現するた
めに複数の機能セルの出力位置(ソース)同志を
結線する場合では、導通する電流値が信号配線を
流れる標準値の2倍以上となり、標準の配線型の
巾では電位降下が増大し、回路の動作に支障をき
たす事になる。これを避けるためには、配線型の
巾の標準の2倍以上太くすればよいが格子間隔が
該当配線層の配線許容間隔から決められているの
で、標準の巾より太い配線型を所望する格子に置
けるかどうかはその隣接格子上の配線型の有無に
左右される。加えて、一つの配線層に対して異な
る配線巾の配線型を扱う事になり、自動処理に煩
雑さを生じる。
また、設定する格子間隔をあらかじめワイヤー
ド論理配線に必要な太い配線巾にあわせた広いピ
ツチに設定すれば該当する太い配線型を任意の格
子にのせる事ができるが、これは設定できるチツ
プの配線格子の数を少なくする事になり得策では
ない。
本発明は上述した従来の欠点を除いた、自動処
理に適した配線型を有する集積回路装置を提供す
るものである。
本発明の特徴は、チツプ上に仮想的に設定した
配線格子にあわせて機能セル間を配線した集積回
路において、少なくともその配線の一部に隣接す
る前記配線格子上のそれぞれにおいた配線型の両
端をつないだ中抜き型の配線形状を有する集積回
路装置にある。すなわち、標準の配線巾より太い
配線巾を必要とする場合には、一格子分を占める
標準の配線型に加えて、隣接する平行格子上にも
同型の配線型を置いて、かつ両方の端を同一巾の
配線型で連結した中抜き型の配線型を用いる集積
回路装置にある。
本発明によれば、隣接平行な2つの格子を周回
とした形となる。この配線型においては両端の配
線抵抗は一格子分の配線型と比べて1/2となり、
2倍の巾をもつ配線型と同じ効果をもたらす事に
なるので、同一配線手法を用いて異なつた電流容
量の配線が実現できるので、設計の容易な集積回
路装置が実現できる。
また、2倍よりさらに太い巾を必要とする時は
連続した3格子以上を用いて上述の方法と同様に
して、多数の配線による配線型を形成すればよ
い。
以下、図面を用いて本発明の実施例を説明す
る。第2図において、水平、垂直方向に設定され
た配線格子10乃至17において、格子点30,
31を結線するのに太い巾の配線型を必要とする
場合には、格子11,12に標準巾の配線型を置
いて、その両端、すなわち、格子点30と33、
格子点31と32を同一巾の配線型でつなぎ、結
果として格子点30乃至33を周回する中抜き型
の配線型を構成する。一般には、前述の配線型を
幾つか連ねる事によつて機能セル間を結線する。
第3図は2つの配線層を使つて配線する場合の本
発明の応用実施例である。第1層、第2層で本発
明による配線型40,41を形成し、それらをス
ルーホール42乃至45を以つて接続する。
以上のように、本発明においては1つの配線層
につき、1種類の巾の配線型を以つて信号系の配
線を行なう事ができる。また配線型が配線格子に
のせて置けるので、配線許容間隔の考慮が簡便に
なり、自動処理に適した構造となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は仮想的に設定した配線格子と標準巾の
配線型を連結した構成図、第2図は本発明の集積
回路装置の実施例による基本的配線型の構成図、
第3図は2層配線を有する本発明の他の実施例の
配線型の構成図、である。 なお、図において、10乃至18……仮想的な
配線格子、20乃至22,34,41,42……
配線型、30乃至33……格子点、42乃至45
……スルーホール、である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 チツプ上に仮想的に設定した配線格子にあわ
    せて機能セル間を配線した集積回路装置におい
    て、少なくとも該配線の一部に、同一平面の配線
    層において隣接する前記配線格子上のそれぞれに
    おいた配線型の両端をつないだ中抜き型の配線形
    状を有する事を特徴とする集積回路装置。
JP9625381A 1981-06-22 1981-06-22 Integrated circuit device Granted JPS57211249A (en)

Priority Applications (1)

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JP9625381A JPS57211249A (en) 1981-06-22 1981-06-22 Integrated circuit device

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JP9625381A JPS57211249A (en) 1981-06-22 1981-06-22 Integrated circuit device

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JPS57211249A JPS57211249A (en) 1982-12-25
JPS6355783B2 true JPS6355783B2 (ja) 1988-11-04

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ID=14160039

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Families Citing this family (3)

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JPS5860561A (ja) * 1981-10-06 1983-04-11 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路装置
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