JPS6347068A - 被覆研摩材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 本発明は被覆研摩材製品に関し、そして特に放射線硬化
性結合剤を有する被覆研摩材製品に関する。

被覆研摩材は一般に基材と、それにより支持されかつそ
れに接着された研摩材粒子から成る。基材は紙、布、ポ
リマーフィルム、パルカンフアイバーなどまたはこれら
の材料の２種またはそれより多くの組合せであってＪ：
い。研摩材粒子はひうち石、ざくろ石、酸化アルミニウ
ム、アルミナ−ジルコニア、ダイアモンド、炭化ケイ素
などから形成されるものでよい。研摩材粒子を基材に接
着する目的の結合剤の例を挙げれば、フェノール樹脂、
にかわ、ワニス、エポキシ樹脂、尿素−ホルムアルデヒ
ド樹脂、およびポリウレタン樹脂である。

被覆研摩材は樹脂結合物質の゛′メーク°′塗層を用い
ることがある。この゛メーク″＠層は研摩材粒子が方向
づけられるように研摩材粒子の端を基材に固く結合する
ために使用される。また被覆研摩材はパメーク″塗層の
上に樹脂結合物質の゛サイズ″塗層を用いることがある
。この“サイズ″塗層は研摩材粒子のしつかりした接着
を可能にする。サイズ塗層の樹脂はメーク塗層の樹脂と
同じ物質であってもよいし、また異なる樹脂物質であっ
てもよい。

従来の被覆研摩材の製造においては、メーク塗層樹脂結
合剤が最初に基材に塗布され、次に研摩材粒子が着けら
れ、メーク塗層は部分的に硬化され、次にサイズ塗層が
塗布され、そして最後に、その構造が完全に硬化される
。一般に、熱硬化性結合剤は優れた特性（例えば、耐熱
性）を有する被覆研摩材を与える。熱硬化性結合剤の例
はフェノール樹脂、エポキシ樹脂、およびアルキド樹脂
である。しかし、ポリエステルまたはセルロースから作
られた基材については、硬化温度が最高的１３０℃に制
限される。この温度で、硬化時間はかなり長いのでフェ
スツーン硬化区域を必要とする。フェスツーン硬化区域
は吊下げ棒の所で欠陥の形成、大きなフェスツーン炉中
での温度変化による一致しない硬化、結合剤の垂れ下が
り、および研摩材粒子の移動を起すので不利である。そ
の上、フェスツーン硬化区域は大きな空間と多量のエネ
ルギー必要とする。従って、硬化を起すために多量の熱
を要しない樹脂を開発できれば、それは望ましいことで
あった。放射線硬化樹脂は当業界において知られている
。ドイツ特許公開出願第１．９５６，８１０号は研摩材
用結合剤としての不飽和ポリエステル樹脂、酸硬化性尿
素樹脂、およびその他の合成樹脂、特にスチレンとの混
合したもの、などの硬化のため放射線の使用を開示して
いる。米国特許第１１，０４７，９０３号は、（ａ）少
なくとも２つのエポキシ基を有するエポキシ樹脂（例え
ば、シフ■ニロールプロパンおよびエピクロルヒドリン
からの樹脂）と、（ｂ）不飽和モノカルボン酸、および
（Ｃ）任意に無水ポリカルボン酸の少なくとも部分的反
応により製造される樹脂を含む放射線硬化性結合剤を開
示している。

−１５＝ 米国特許第４，４５７，７６６号は被覆研摩利用放射線
硬化性結合剤としてアクリル化エポキシ樹脂（そこでは
“エポキシアクリレート″と称けられている）、例えば
ビスフェノールＡエポキシ樹脂のジアクリルエステル、
の使用を開示している。

前記の特許に記載されている被覆研摩材は、研摩材粒子
の基材に対する接着力の弱いという欠点を示す。なぜな
らば、高線量のイオン化放射線が使用されなければ、研
摩材粒子が放射線を遮蔽する区域で結合剤が硬化しない
からである。研摩材粒子の弱い接着は屈曲と研削に際し
て基材から多量の研摩材粒子の損失、すなわち、 ゛シエリング″を起す。研摩材粒子の接着力を改良する
試みが、基材の裏側を通してイオン化放射線（例えば、
電子線）照射による硬化によってなされたが、それはし
ばしば基材の劣化を導く。

発明の要約 本発明は被覆研摩材製品およびぞの被覆研摩材製品を製
造するための方法を含む。被覆研摩材製品は基材、メー
ク塗層、研摩材粒子の層、ナイス塗層、および、任意に
、含浸剤塗層、またはプレサイズ塗層、またはバックサ
イズ塗層、またはこれらの任意選択の塗層のいずれかの
組合せから成り、その際少なくとも１つの塗層は電磁輻
射線により硬化される組成物から形成されている。驚く
べきことに、この放射線硬化性組成物は研摩材粒子が放
ＩＪＪｌｆＡを遮蔽している区域においてさえも硬化す
ることができる。本発明の放射線硬化性組成物を使用す
ると、陽イオン硬化機構とフリーラジカル硬化機構を組
合せることにより結合剤の不完全硬化から起る研摩材粒
子の弱い接着力の問題が克服される。本発明の他の１つ
の重要な利点は、放射線硬化性結合剤が比較的速やかに
硬化されて堆積された研摩材粒子をしっかりと固定でき
ることである。メーク塗層用結合剤として熱硬化性フェ
ノール樹脂が使用される場合には、その比較的長い硬化
時間は、研摩材粒子が堆積時のその配向を変えるために
十分な機会を与える。

本発明における使用に適する放射線硬化性組成物は、エ
ヂ１ノン不飽和基と１，２−エポキシ基を含む樹脂部、
およびその放射線硬化性組成物を硬化させるために十分
な量の光開始剤から成り、前記光開始剤部分は （１）　　オニウム陽イオンと金属またはメタロイドの
ハロゲン含有錯陰イオンを有する塩、例えばジフェニル
ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、および （２＋（ａ）有機金Ｗｉ４錯陽イオンと金属またはメタ
ロイドのハロゲン含有錯陰イオンを有する少なくとも１
種の塩、例えば（η５−シクロペンタジェニル）トリカ
ルボニル鉄（１＋）ヘキサフルオロアンチモネートと、
（ｂ）少なくとも１種のフリーラジカル重合開始剤との
混合物、 から成る群より選択される少なくとも１種の重合光開始
剤を含むものである。

一般に、フリーラジカル重合開始剤を前記（１）群の光
開始剤塩と組合せて使用することが好まれる。

任意に、光開始剤はまた１種またはそれより多くの熱活
性化陽イオンまたはフリーラジカル開始剤を含有するこ
ともできる。その上、光開始剤は任意に、可視光に対し
て組成物を増感させる光増感剤を含有することができる
。

好ましくは、硬化性部分は次の（Ａ）〜（「）から成る
群より選択される。

（Ａ）　　少なくとも１つのエチレン不飽和基と少なく
とも１つの１，２−エポキシド基を含有する少なくとも
１種の二反応性化合物、 （Ｂ）　　少なくとも１種のエチレン不飽和化合物およ
び少な（とも１つの１，２−エポキシド基を含有する少
なくとも１種の化合物、 （Ｃ）　　少なくとも１つのエチレン不飽和基と少なく
とも１つの１，２−エポキシド基を含有する少なくとも
１種の二反応性化合物、および少なくとも１種のエチレ
ン不飽和化合物、 （０）　　少なくとも１つのエチレン不飽和基と少なく
とも１つの１．２−エポキシド基を含有する少なくとも
１種の二反応性化合物、および少なくとも１つの１，２
−エポキシド基を含有する少なくとも１種の化合物、お
よび （Ｅ）　　少なくとも１つのエチレン不飽和基と少なく
とも１つの１，２−エポキシド基を含有する少なくとも
１種の二反応性化合物、少なくとも１種のエチレン不飽
和化合物、および少なくとも１つの１，２−エポキシド
基を含有する少なくとも１種の化合物。

放射線硬化性樹脂系と従来の熱硬化性樹脂系とのいろい
ろな組合せを使用することは本発明の範囲内にある。例
えば、布基材のバックサイズ塗層を放射線硬化性樹脂を
用いて作り、そして次に従来の熱硬化性樹脂系を用いて
メーク塗層とサイズ塗層を作ることができる。他の１つ
の場合に、メーク塗層は放射線硬化性樹脂によって作ら
れたとして、一方サイズ塗層は従来の熱硬化性樹脂のも
のであることができる。従って、本発明の放射線硬化樹
脂系は従来の熱硬化性樹脂と相溶性があり、かつそれら
といろいろな組合せで使用されることができる。

詳細な説明 本発明の樹脂方式にＪ：り製造される被覆研摩材が第１
図と第２図に示されている。第１図に示されるように、
−船釣に１０として表わされている被覆研摩材は布を基
Ｉにするものである。布１２は任意のバックサイズ塗層
１４おにび任意のプレサイズ塗層１６により既に処理さ
れている。メーク塗層１８がこのプレサイズ塗層の上を
おおっているが、そのメーク塗層の中に炭化ケイ素また
は酸化アルミニウムのような研摩材粒子２０が埋め込ま
れている。サイズ塗層２２がメーク塗層１８および研摩
材２０の上に置かれた。布基材の内部で出会っているバ
ックサイズ塗層とプレサイズ塗層の間に明瞭な境界線は
なく、布桔材はこれらの塗層の樹脂によりできるだけ多
く含浸されている。

第２図には、紙基材３２の上に形成された被覆研摩材が
一般的に３０として表わされている。紙基材はバックサ
イズ塗層３４とプレサイズ塗層３６により処理されてい
る。プレサイズ塗層はメーク塗層３８でおおわれており
、メーク塗層の中に研摩材粒子４０が埋め込まれている
。研摩相粒子４ｏとメーク塗層３８はサイズ塗層４２に
より上塗りされており、サイズ塗層は使用の際に研摩材
粒子４０を基材の上に保持する助けとなり、またさらに
切削助材を含むこともある。

ここで使用されるとき用語゛電磁ｖＡ剣線″とは２００
〜７００　ｎｍの範囲内の波長を有する非粒子放射線を
意味する。“二反応性化合物″とは少なくとも１つのエ
チレン不飽和基と少なくとも１つの１．２−エポキシド
基を含有する化合物である。

本発明の重合性混合物中に用いることのできるエチレン
不飽和化合物は、炭素、水素、および酸素、そして任意
に、窒素およびハロゲン元素の原子を含有する七ツマ−
またはポリマーの化合物を包含する。酸素と窒素は一般
にエーテル、エステル、ウレタン、アミド、および尿素
の８基の中に存在する。化合物は好ましくは約４０００
以下の分子量を有するものであり、かつまた脂肪族モノ
ヒドロキシおよびポリヒドロキシ基含有化合物と不飽和
カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタ
コン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など
）とのエステルであることが望ましい。好ましいエチレ
ン不飽和化合物に含まれるものはメチルメタクリレート
、エチルメタクリレート、スチレン、ジビニルベンゼン
、ビニルトルエン、エチレングリコールジアクリレート
およびメタクリレート、ヘキサンジオールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレートおよびメタ
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート
、グリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレートおよびメタクリレート、ペンタエリ
スリトールテ１−ラアクリレートおよびメタクリレート
、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ソルビ
トールトリアクリレート、ソルビト一ルへキサアクリレ
ート、ビスフェノールＡジアクリレート、および１１−
キシル化ビスフェノールＡジアクリレートなどである。

エチレン不飽和化合物の他の例はエヂレングリコールジ
イタコネート、１，４−ブタンジオールシイタコネート
、プロピレングリフールジクロトネート、ジメチルマレ
エートなどを含む。

その他エチレン不飽和化合物に含まれるものにはカルボ
ン酸のモノアリル、ポリアリルおＪ、びポリメタリルエ
ステルおよびアミド、例えばジアリルフタレート、ジア
リルアジペートおよびＮ、Ｎ−ジアリルアジパミドなど
がある、さらにその他の窒素含有化合物に含まれるもの
にトリス（２−アクリロイル−オキシエチル）イソシア
ヌレート、１．３．５−トリ（２−メタクリルオキシエ
チル）一旦−トリアジン、アクリルアミ乍、メタクリル
アミド、Ｎ〜メチルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチル
アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、およびＮ−ビ
ニルピペリドンがある。エチレン不飽和化合物はアクリ
ル化合物であることが好まれるが、それはアクリル化合
物の容易に入手できることと高速度の硬化のためである
。

使用されることのできるポリマーのエチレン不飽和化合
物に含まれるものはアクリル酸またはメタクリル酸ある
いはイソシアナトアルキルアクリレ−］・またはメメタ
クリル酸とポリマーのポリエーテルまたはポリエステル
ポリオールとの反応生成物である。ポリマーポリオール
の代表的な例はポリオキシアルキレンポリオール（すな
わち、ジー２／１．− オール、トリオール、およびテ１−ロール）、有機ジカ
ルボン酸と多価アルコールとの反応により生成したポリ
エステルジオール、トリオール、およびテトロール、お
よびポリラクトンジオール、トリオール、およびテトロ
ールを含む。市販のポリマーポリオールの例に含まれる
ものはポリオキシエチレンジオール、トリオールおよび
テトロール（例えば、１ｌｎｉｏｎ　Ｃａｒｂｉｄｅ発
売のＣａｒｂＯＷａＸｏポリオール）、ポリオキシテト
ラメヂレンジオール（例えば、Ｑｕａｋｅｒ　Ｑａｔｓ
　Ｃｏｍｐａｎｙ発売のＰＯｌｙ＋ｎｅｏ■ポリオール
）、ポリエステルポリオール（例えば、Ｈｏｂａｙ　ｃ
ｈｅｍｉｃａｌ　Ｃｏｍｐａｎｙ発売のＨＩＪｌｔｒＯ
ｎ■ポリ（エチレンアジペート）ポリオール）、ポリカ
プロラクトンポリオール（例えば、口ｎ１ｏｎ　Ｃａｒ
ｂｉｄｅ発売のＰＣＰポリオール）、およびウレタンア
クリレート（例えば、ＡＲＣＯｃｈｅｍ　ｉ　Ｃａ　Ｉ
　Ｓ発売の’Ｃ−９５０４”）である。

本発明の重合性混合物中に使用することのできる１、２
−エポキシド含有化合物はオキシラン環、すなわち、 を有し、またその化合物は開環により重合することがで
きる。そのような物質は広くエポキシドと呼ばれるが、
七ツマ−のエポキシ化合物とポリマーのエポキシドを含
み、かつそれらの主鎖および置換基の性質において大い
に異なることがある。

例えば、主鎖はいかなる型のものであってもよく、そし
てその上の置換基は、室温でオキシラン環と反応性であ
る活性水素原子を含まないいかなる基であってもよい。

許容される置換基の代表的な例はハロゲン、エステル基
、エーテル基、スルホネート基、シロキサン基、ニトロ
基、およびホスフェート基を含む。エポキシ含有物質の
分子措は約６０から約４０００まで、そして好ましくは
約１００から約６００までの範囲で変動することができ
る。いろいろなエポキシ含有物質の混合物も本発明の組
成物中に使用することができる。

本発明の実施において特に有用なエポキシ含有物質は次
の式のグリシジルエーテルモノマーを含む。

Ｏ 上式中Ｒ′はアルキルまたはアリール、そしてｍは１か
ら６までの整数である。これらの物質の代表的な例は、
多価フェノールと過剰のクロロヒドリン（例えば、エビ
クロロヒドリン）との反応により得られる多価フェノー
ルのグリシジルエーテルである。そのような物質の特定
の例を挙げれば、２．２−ヒス［４−（２，３−エポキ
シプロポキシ）フェニル］プロパン（ビスフェノールＡ
のジグリシジルエーテル）および市販の物質であって、
５ｈｅｌｌ　Ｃｈｅｒｔｉｔｃａｌ　Ｃｏ、発売の商品
名”　Ｅ’ＱＯｎ　８２Ｂ”、“Ｅｐｏｎ　１００４”
、および”Ｅｐｏｎ　１０１０　”　、ＤＯＷＣｈｅｍ
ｉｃａｌ　Ｃｏ、発売の’ＤＦＲ−３３１”、”ＤＦＲ
−３３２”および”ＤＥＲ−３３４”　、難燃性エポキ
シ樹脂（例えば、口ｏｗ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｃｏ、発
売の臭素化ビス７エ／−ル型エポキシ樹脂、”ＤＥＲ−
５８０”　）フェノール−ホルムアルデヒドノボラツク
のグリシジルエーテル（例えば、Ｄｏｗ　Ｃｈｅｍｉｃ
ａｌ　Ｃｏ、発売の”ＤＥＮ−４３１”および’０ＩＥ
Ｎ−４２８”　）　、およびレゾルシノールジグリジル
エーテル（例えば、Ｋｏｐｐｃｒｓ　Ｃｏｍｐａｎｙ　
。

Ｉｎｃ、発売の’　Ｋｏｐｏｘｉｔｅ”　）などである
。本発明の実施において使用できるさらに他のエポキシ
ドの例が米国特許用３，０１８，２６２号（引用により
ここに組み込まれる）、およびｌｅｅ　＆　Ｎｅｖｉｌ
ｌｅ　。

”Ｈａｎｄｂｏｏｋ　ｏｆ　Ｅｇｏｘｙ　ＲＣｓｉｎｓ
”　、ＨｃＧｒａｗ−１１ｉｌＩＢｏｏｋ　Ｃｏ、、　
Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ　（１９６７）に記載されティる。

本発明において有用な市販のエポキシ含有物質にはエポ
キシシクロヘキサンカルボキシレートのような脂環式エ
ポキシドモノマーが含まれ、それを代表するものは３．
４−エポキシシクロヘキシルメチル３，４−エポキシシ
クロヘキサンカルボキシレート（例えば、１ｌｎｉｏｎ
　Ｃａｒｂｉｄｅ　Ｃｏｒｐ、発売の“’ＥＲＬ−４２
２１”　）、３．４−エポキシ−２−メチルシクロへキ
シルメチル　３．４−エポキシ−２−メチルシクロヘキ
サンカルボキシレート、 ビス（３，４−エポキシ−６−メヂルシクロヘキシルメ
チル）アジペート、 ３．４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル　
３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキ
シレート（例えば、ｔＪｎｉｏｎ　ＣａｒｂｉｄｅＣｏ
ｒｐ、発売の’ＥＲＬ−４２０１”　）、ビニルシクロ
ヘキセンジオキシド（例えば、ＵｎｉｏｎＣａｒｂｉｄ
ｅ　Ｃｏｒｐ、発売の’ＥＲＩ−４２０６”）、ビス（
２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル（例えば、
Ｕｎｉｏｎ　Ｃａｒｂｉｄｅ　Ｃｏｒｐ、発売の”　Ｅ
　ＲＬ　−０４００”　）である。この種の他の有用な
エポキシドが米国特許用３，１１７．０９９号に記載さ
れている。

本発明の実施において使用できるその他の市販のエポキ
シ含有物質に含まれるものはオクタデシルオキシド、エ
ビクロロヒドリン、スチレンオキシド、グリシドール、
ブチルグリシジルエーテル、グリシジルアクリレートお
よびメタクリレート、エポキシ変性ポリプロピレングリ
コール（例えば、１Ｊｎｉｏｎ　Ｃａｒｂｉｄｅ　Ｃｏ
ｒｐ、発売の”　Ｅ　ＲＬ　−４０５０”　、！：“Ｅ
ＲＬ−４０５２”）。

エポキシド化ポリブタジェン（例えば、ＦＨＣｃｏｒｐ
。

発売の”０ｘｉｓｏｎ　２００１”）、エポキシ官能価
を含むシリコン樹脂、およびグリシドールのアクリル酸
エステル（例えば、グリシジルアクリレートおよびグリ
シジルメタクリレート）と１種またはそれにより多くの
共重合性ビニル七ツマ−（例えば、メチルメタクリレー
ト、塩化ビニル、およびスチレン）との共重合体である
。そのような共重合体の例は、１：１スチレン：グリシ
ジルメタクリレート、１：１メチルメタクリレート：グ
リジルアクリレート、および６２．５：２４：１３．５
メチルメタクリレート：エチルアクリレート：グリシジ
ルメタクリレートである。

ポリマーのエポキシドに含まれるものは末端のエポキシ
基を有Ｊる線状ポリマー（例えば、ポリオキシアルキレ
ングリコールのジグリシジルエーテル）、骨格のオキシ
ラン単位を有するポリマー（例えば、ボリブタジエンポ
リエボキシド）、および側鎖のエポキシ基を有するポリ
マー（例えば、グリシジルメタクリレートポリマーまた
はコポリマー）である。エポキシドは単離される、個々
の化合物であってにいが、一般に分子当り１つ、２つ、
またはそれより多くのエポキシ基を含む混合物である。

分子当りのエポキシ基の“平均数はエポキシ含有物質中
のエポキシ基の全数を存在するエポキシ分子の全数で割
ることにより定められる。

二反応性化合物は、既に１つまたはそれより多くの１，
２−エポキシド基を含有する化合物の中に少なくとも１
つのエチレン不飽和基を導入することにより、あるいは
、反対に、既に１つまたはそれより多くのエチレン不飽
和基を含有する化合物の中に少なくとも１つの１．２−
エポキシド基を導入することにより造ることができる。

二反応性化合物は、少なくとも２つのエポキシド基を有
する化合物と、（エポキシド含量に基づいて）化学量論
上不足量の、エチレン不飽和基と活性水素を有する基［
例えば、カルボキシル（−一　　３１　− ＣＯＯ）ｌ）　、ヒドロキシル（−ＯＨ）、メルカプト
（−８１−１）、またはアミド（−ＣＮＨ２）基］の両
省共含有する化合物との反応により製造することができ
る。この製造方法は通常５０％以下の二反応性化合物を
生成する。従って、１モルのジエボキシドと１モルのア
クリル酸との反応は、統計学に基づき、５０モル％のア
クリル基とエポキシ基の両者を有する化合物、２５モル
％のジアクリレート、および２５モル％の未変化のジエ
ボキシドから成る生成物を生産するであろう。もしそれ
より少ないまたは多い層のアクリル酸と反応させれば、
それぞれより少ないまたはより多い量のジアクリレート
とジエボキシドが得られるであろうが、しかしいずれの
場合にも得られるエポキシアクリレートの量はより少な
くなる。

特に、二反応性化合物は芳香族、アルキル、シクロアル
キル、またはアルカリール化合物でｎ個の１，２−エポ
キシ基を有するもの（ｎは２〜１０またはそれ以上の値
を有する数である）と活性水素原子を有する０、２ｎ〜
０゜９ｎ当量のエチレン不飽和化合物との反応生成物で
ある。

好ましい二反応性化合物は、アクリル酸く用語′“アク
リル酸″は一般にアクリル酸、メタクリル酸、およびα
−クロロアクリル酸を含むために用いられている）と、
ｎ個の１．２−エポキシ基（ｎは前記に定義されている
）を有するシクロアルキル、アリール、またはアルカリ
ールポリエポキシ化合物との反応生成物中に含まれる化
合物である。そのような好ましい二反応性化合物の例は
、０．４〜０．６当量のアクリル酸と１モルのビスフェ
ノールＡのジクリシジルエーテル （ＤＧＥＢＡ）　、フェノール−ホルムアルデヒドノボ
ラツクのポリグリシジルエーテル、クレゾール−ホルム
アルデヒドノボラックのポリグリシジルエーテル、ジグ
リシジルテレフタレート、トリメリット酸のトリグリシ
ジルエステル、ジシクロペンタジェンジオキシド、ビニ
ルシクロヘキセンジオキシド、ビス（２，３−エポキシ
シクロペンチル）エーテル、３，４−エポキシシクロヘ
キシルメチル３，４−■ボキシシクロヘキサン力ルポキ
シレート、およびビス（３，４−エポキシ−６−メチル
シクロヘキシル）メチルアジペートとの反応生成物中に
含まれる化合物である。

グループ中の光開始剤、すなわち、オニウム錯陽イオン
と金属またはメタロイドのハロゲン含有銘陰イオンは（
１）周期表の族ＶＡ、ＶＩＡ、またはＶＩＡの元素（最
近ｃｈｅｍ、　＆　Ｅｎｏ、Ｎｅｗｓ、シ０１６３、Ｎ
。

５．２６（Ｆｅｂ、　　４．１９８５）において族１５
．１６、および１１の名称を与えられた）、特にリン、
アンチモン、硫黄、窒素、塩素、およびヨウ素の原子、
および（２）陰イオンとの付加物である。

族１５．１６または１１の原子であって、それから塩の
名が出ているもの（例えば、ホスホニウムにおけるリン
、スルホニウムにおける硫黄、ヨードニウムにおけるヨ
ウ素、など）は以後呼称原子と呼ぶことにする。用語゛
′芳香族゛′は光開始剤における基の記述に用いるとき
、炭素環式のあるいは５−１６−または７−員の複素環
式の環であり得る芳香族環を意味する。その場合に環の
原子は炭素および１つまたはそれより多くの、Ｎ、Ｓ。

０１およびＳｅ原子から成る群より選択される原子で、
その芳香族環が少なくともフェニルと同等に電子求引性
であるＪ：うに呼称原子に付いている原子から成る。例
えば、 〇 ニルと同等に電子求引性であるからである。しか不安定
性のために有用でない。芳香族環の代表的な例はフェニ
ル、ナフチル、チエニル、ピラニル、フラニル、および
ピラゾリルなどで、これらの置換体または非置換体であ
る。

本発明の実施において有用なオニウム塩光開始剤は次の
式により表わすことができる。

上式中、Ｒは少なくともフェニルと同等に電子求田作の
芳香族基を表わす。

Ｒ１は芳香族基があるいは、例えば、１〜１９炭素原子
を有する直鎖、枝分れ、または環式アルキル、あるいは
アルケ ニル基のいずれかを表わす。

Ａは周期表のＭ１５．１６、または１１の原子を表わす
。

ｎは少なくとも２（好ましくは２）からＡの原子価に１
を加えた値までの正の 整数を表わす。

ａはＯまたはへの原子価に１を加えた値までの正の整数
を表わす。

Ｘは金属またはメタロイドのハロゲン含有錯陰イオンを
表わす。

米国特許用４．０２６．７０５号、第４．ｏ３２．６７
３号、第４．０６９，０５４号、第４゜１３６．１０２
＠および第４．１１３，４７６号（これらはすべて引用
によりここに組み込まれる）は、特定のモノマー、例え
ば、オルガノシリコン環式化合物、ビニル樹脂、環式エ
ーテル、環式１ステル、環式スルフィド、エポキシ樹脂
、フェノール樹脂、ポリアミド、ラクトン、スチレン、
尿素／ホルムアルデヒド樹脂、およびメラミン／ホルム
アルデヒド樹脂、のためのカヂオン徂合触媒としである
種のオニウム化合物の使用を示している。

前記有機基はまた互いに共有結合、メヂレン基、（Ｉ −Ｃ−基、−８０２−基、酸素原子、硫黄原子などを経
由して直接結合されていてもよい。１つ以上の有機基が
縮合環系内で２つの原子を共有することもできる。

本発明の実施において有用であるオニウム塩の代表的な
例は次のものを含む。

＾、呼称元素として周期表の族１５の陽イオンを有する
オニウム塩：ジフェニルステルアンモニウムテトラフル
オロボレート、テトラフェニルホスホニウムへキサフル
オロホスフェート、（４−ブロモフェニル）トリフェニ
ルホスホニウムへキサフルオロホスフェート、テ１〜ラ
フェニルアルソニラムテトラフルオロボレート、テ］・
ラフェニルアンモニウムへキサフルオロホスフェート、
ジ（１−ナフチル）ジメチルアンモニウムテトラフルオ
ロボレート、トリ（３−チエニル）メチルアンモニウム
テトラフルオロボレート、およびジフエナシルジメチル
アンモニウムへキサフルオロホスフェート。これらのお
よびその他のオニウム塩ならびにそれらの製造方法はベ
ルギー特許第８２８゜６６８号に記載されている。

Ｂ、呼称元素として周期表の族１６の陽イオンを有する
オニウム塩ニトリフェニルスルホニウムへキザフルオロ
アンチモネート、４−クロロフエニルジフェニルスルホ
ニウムテトラフルオロボレート、４−クロロフエニルジ
フェニルスルホニウムへキサフルオロホスフェート、ト
リフェニルテルロニウムペンタクロロビスムテート、お
よびトリフェニルセレノニウムへキザフルオロアンチモ
ネート。これらのおよびその他の呼称元素として周期表
の族１６の陽イオンを有するオニウム塩およびそれらの
製造方法はベルギー特許第８２８．６７０号と第８３３
，４７２号および米国特許筒４゜２５６．８２５号に記
載されている。

Ｃ１呼称元素として周期表の族１１の陽イオンを有する
オニウム塩ニジフェニルヨードニウムへキサフルオロホ
スフェ−１へ、４−クロロフェニルフ工二ルヨードニウ
ムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニ
ウムへキサフルオロアルセネート、４−トリフルオロメ
チルフェニルコードニウムテトラフルオロボレート、ジ
（４−メトキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロ
アルセネート、４−メチルフェニルフェニルヨードニウ
ムテトラフルオロボレート、ジフェニルブロモニウムへ
キサフルオロホスフェート、および２゜２′−ビフェニ
ルヨードニウムへキサフルオロホスフェート。これらの
およびその他のハロニウム塩ならびにそれらの製造方法
番よベルギー特許第８２８．６６９号および米国特許筒
４．２５６，８２８号に記載されている。

有機金属錯陽イオンと金属またはメタロイドのハロゲン
含有錯陰イオンを有する光開始剤の塩は、陽イオンが中
位の力の求核物質（例えば、トリフェニルホスフィン）
を付加することができるか、または光分解に際して少な
くとも１つの配位塵を発生させることができる塩である
。有機金属錯陽イオンの金属は周期表の族ｒＶＢ、ＶＢ
、ＶＩＢ。

■Ｂ、および■Ｂ（最近、前記Ｃｈｅｍ、　＆　Ｅｎｇ
。

Ｎｅｗｓにより族４．５．６．７．８．９、および１０
の呼称を与えられた）の元素から選択されることができ
る。そのようなイオンの塩の例、およびその製造方法は
譲受人の同時係属特許出願Ｕ、Ｓ。

Ｓ、Ｎ第４４３，６６０号（１９８２年１１月２２日出
願）に記載されている（引用によりここに組み込まれる
）。

本発明の実施における使用に好ましい塩は次の式によっ
て表わされることができる。

１０ｆ ［（Ｌ　　）　　（Ｌ　　）　　（Ｍ　　）］＋ｑＹ上
式中、 ＭｆはＯｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、およびＣＯ
から成る群より選択される金属を表わす。

Ｌ９は１つまたは２つのπ電子を与える配位子（同一ま
たは異なることができる）を表わす。前記配位子は置換
および非置換のη３−アリル、η５−シクロペンタジェ
ニル、およびη７−シクロへブタトリエニル、さらにま
たη６−ベンゼン化合物および２〜４の綜合環を有する
化合物から選択されるη６−芳香族化合物より選択され
、それぞれは３〜８のπ電子をＭｆの原子価酸に与える
ことができる。

Ｌｌｏは無かまたは１〜３の配位子（同一または異なる
ことができる）を表わし、前記配位子は偶数のσ電子を
与えるものであり、そして−酸化炭素またはニトロソニ
ウムより選択される。

ｑは１または２の値を有する整数を表わし、錯陽イオン
の残余電荷を表わす。

１；ｔＡ　ｓ　Ｆ６　、Ｓ　ｂ　Ｆ６　オヨヒｓ　ｂ　
Ｆ５０ｆ−ｌ力ら成る群より選択されるハロゲン含有錯
陰イオンを表わす。そして ｎは１または２の値を存する整数を表わし、ずなわち錯
陽イオン上の電荷ｑを中和するために要する錯陰イオン
の数を表わす。ただし、Ｌ９と１０ｆ Ｌ　によりＭ　に与えられる合計の電子電荷に金属Ｍｆ
上のイオ“ン電荷を加えたものがその錯体に対する最終
的残余正電荷ｑを生ぜしめるものとする。

本発明の実施において有用な有機金属＠陽イオンの塩の
代表的な例は次のものを含む。

（η５−シクロペンタジェニル）トリカルボニル鉄（１
＋）へキサフルオロホスフェート（η６−メシチレン）
（η５−シクロペンタジェニル）鉄（１＋）ヘキサフル
オロホスフェ−ト （η５−シクロペンタジェニル）カルボニルビス（トリ
フェニルスチどン）鉄（１＋〉ヘキサフルオロホスフェ
ート （η５−メチルシクロペンタジェニル）ジカルボニルニ
トロソシルマンガン（１＋）へキサフルオロホスフェ−
ト （η５−シクロペンタジェニル）テトラカルボニルモリ
ブデン（１＋）へキサフルオロホスフェート （η５−シクロペンタジェニル）ジカルボニルメチルイ
ソニトリル鉄（１＋）へキサフルオロアルセネート ビス（η６−ベンゼン）クロミウム（１＋）ヘキサフル
オロアンチモネート ごス（η６−へキサメチルベンゼン）コバルト（２＋）
ヘキサフルオロアンチモネートビス（η６−メシチレン
）鉄（２＋）ビス（ヘキサブルオロアンチモネート）。

本発明の実施において有用な有機金属Ｉｆｆ陽イオンの
塩のその他の例は前記の特許出願 Ｌ１．Ｓ、Ｓ、Ｎ、第４４３，６６０号に記載されてい
る。

グループ（２）の光開始剤の塩はフリーラジカル重合開
始剤の使用を必要とする。フリーラジカル重合開始剤を
グループ（１）の光開始剤と共に使用することが好まれ
る。

熱エネルギーによるかまたは光エネルギーにより活性化
されることのできる、フリーラジカルを発生する化合物
の代表的な例は有機過酸化物、アゾ化合物、キノン、ベ
ンゾフェノン、ニトロソ化合物、アシルハロゲン化物、
アリールハロゲン化物、ヒドラシーン、メルカプト化合
物、ビリリウム化合物、トリアリールイミダゾール、ご
スイミダゾール、クロロアルキルトリアジン、ベンゾイ
ンエーテル、ベンジルケタール、チオキサントン、およ
びアセトフェノン誘導体である。エチレン不飽和化合物
用のフリーラジカル光開始剤系のその他の参考事項は米
国特許第３，８８７，４５０号（例えば、第４欄）およ
び米国特許第３．８９５゜９４９号（例えば、第７８）
に含まれている。その他の望ましい光開始剤は米国特許
第３．７７５゜１１３号に記載されているようなりロロ
アルキルトリアジンである。フリーラジカル光開始剤系
の他の１つの良い参考文献はＪ、にｏｓａｒ　。

Ｌｉｇｈｔ−８ｅｎｓｉｔｉｖｅ　Ｓｙｓｔｅｍｓ、　
Ｊ、Ｗｉｌｅｙ　ａｎｄ　５ｏｎｓ。

Ｉｎｃ、　　（１９６５）　、特に第５章である。

本発明において有用なことが発見された放射線硬化性組
成物は米国特許第４．１５６．０３５号に記載されたも
のである。この組成物はホトレジストを提供するために
有用であり、そしてそれ自体は電磁輻射線に直接暴露さ
れなければ硬化できるとは期持されないと主張されてい
るが、被覆研摩材の場合には、この組成物は研摩材粒子
が放射線を遮蔽する区域においてさえも電磁輻射線によ
り十分に硬化されて研摩材粒子を基材にしっかりと固定
することができるということが発見された。

十分な吊の重合光開始剤が組成物を硬化させるために使
用されなければならない。一般に、本発明の放射線硬化
性組成物における光開始剤の総量は組成物全体の１００
重量部につき０．０５〜１０重間部、好ましくは０．１
〜５重吋部の濃度の範囲にあることができる。カチオン
重合開始剤とフリーラジカル重合開始剤の混合物が使用
される場合には、その混合物は約５〜５０重量％、好ま
しくは１５〜３０Ｍｆｆ１％、のカチオン重合開始剤、
および９５〜５０重量％、好ましくは８５〜７０重量％
のフリーラジカル重合開始剤から成る。

本発明の放射線硬化性組成物に有用な光開始剤塩はそれ
自身一般に電磁スペク１〜ルの紫外部、すなわち約２０
０〜４００　ｎｍ、に感光性である。スペクトル増感剤
、すなわち、光開始剤塩の感度をスペクトルの可視部（
約７００１ｍまで）に拡張する化合物、を含むことは本
発明の範囲内である。

使用できるスペクトル増感剤は当技術界において公知で
あり、そして多環式化合物、例えばポリアリーレン、ボ
リアリールポリエン、２，５−ジフェニル−イソベンゾ
フラン、２，５−ジアリールシクロペンタジェン、ジア
リールフラン、ジアリールチオフラン、ジアリールビロ
ール、ボリアリールフェニレン、クマリンおよびボリア
リール−２−ピラゾリンなどを含む。

好ましいスペクトル増感剤の例は、９．１０−ジェトキ
シアントラセン、ペリーレジ、２−イソプロピルチオキ
サントン、フェノチアジン、１゜１．４．４−テトラフ
ェニル−１，３−ブタジェン、１，３−ジフェニル−２
−ピラゾリン、１゜３−ジフェニルイソベンゾフラン、
７−ジステルアミン〜４−トリフルオロメチルクマリン
、５ｅｔｏｆｌａｖｉｎ　Ｔ　（Ｃ，１，Ｎ（１４９０
０５）　、ＡｃｒｉｄｉｎｅＲｅｄ　　（Ｃ，１，Ｎｏ
、４５０００＞　、およびＡｃｒｉｄｉｎｅＯｒａｎａ
ｅ　（Ｃ，１，Ｎｏ、　４６０５５　）である。その他
の使用できるスペクトル増感剤は米国特許用３，７２９
．３１３号、第４．０２６．７０５号および第４．３０
７．’１１７号に記載されている（これらは引用により
ここに組み込まれる）。スペクトル増感剤が使用される
場合には、重合光開始剤のψ開部当り約０．００１〜０
．２部のスペクトル増感剤が使用される。

本発明の組成物に任意に使用できる熱活性化カチオン重
合開始剤は一般にルイス酸またはプレー、ンステツド酸
（例えば、フッ化水素酸、ニフツ化ホウ素、五フッ化ア
ンチモン、ヘクザフルオロアンチモン酸など）とアミン
との塩または錯体である。もしあるルイス酸またはブレ
ーンステッド酸が単独でカチオン重合性物質のカチオン
重合開始剤として使用されたならば、その樹脂組成物の
可使時間は全く短か過ぎて被覆研摩剤の製造に役立たな
いであろう。あるアミン、特に脂肪族アミン（例えば、
■ヂレンジアミンまたはモルホリン）をルイス酸に添加
することにより、そのルイス酸とアミンの塩または錯体
が形成され、ルイス酸が改質されるのでその塩または錯
体を含有する樹脂組成物の可使時間が延長されることに
なる。その樹脂組成物に熱を加えると、改質されたルイ
ス酸が熱により活性化されて、樹脂組成物の重合が開始
される。本発明の樹脂系に使用できる改質されたまたは
潜伏性ルイス酸開始剤の例は万フッ化リンのアミン錯体
、米国特許Ｍ３，５６５，８６１号に記載されたような
五フッ化アンヂモンと第１級脂肪族アミンの錯体、米国
特許用３，８７９゜３１２号に記載のヒドロキシルアン
モニウムヘキサフルオロアンチモネート、および英国特
許明細書箱９６３．０５８号に記載のホウ化フッ化水素
酸のアミン塩などである。

本発明の樹脂組成物に用いられる好ましい熱活性化カチ
オン開始剤は米国特許用４，５０３，２１１号に記載の
改質ブレーンステッド酸硬化剤である。この開始剤は買
換されたガッツ化アンヂモン酸とアニリンまたは立体障
害芳香族アミン（例えば、２−メチルアニリンと２−イ
ソノロピルアニリン）から形成される液体の塩を含む。

その置換された五フッ化アンチモン酸は式＋（ＳｂＦ５
Ｘを有し、前式中Ｘはハロゲン、とドロ４ニジ、あるい
は脂肪族または芳香族のアルコール、好ましくはジエチ
レングリコール、を表わす。

本発明の樹脂組成物は充填剤、潤滑剤、および少量のそ
の他の添加物、例えば界面活性剤、含量、および沈殿防
１［剤、を含有することができる。これらの材料の量は
所望の特性を与えるように選択される。

充填剤は樹脂組成物の特徴に反する効果を与えないかぎ
りすべての充填剤材料から選択されることができる。好
ましい充填剤の例は炭酸カルシウム、酸化カルシウム、
硫酸アルミニウム、アルミナ三水化物、硫酸バリウム、
氷晶石、マグネシア、カオリン、石英、ホウフッ化カリ
ウム、長石、および硫黄などである。充填剤は、硬化し
た樹脂組成物の良好な柔軟性と靭性を維持するかぎり、
重合性組成物の１００部につき約２５０部まで、好まし
くは約３０〜約１５０部、の聞で使用されることができ
る。

本発明の実施において有用な放射線硬化性組成物は硬化
性部分と光開始剤部分を混合することにより調整される
ことができる。もし硬化性部分が１種より多くの化合物
を含むならば、これらの化合物をいかなる順序に混合物
に添加してもよい。

組成物中で、それぞれ１００ｇの全量成物につぎ少なく
とも０．２当聞のエチレン不飽和基（好ましくは、アク
リル基）がエチレン不飽和化合物または二反応性化合物
中に存在し、そして少なくとも０．０５当量の１．２−
エポキシド基が１，２−■ボキシド基含有化合物または
二反応性化合物中に存在することが好ましい。

基材は、前述のように、紙、布、パルカンフアイバー、
フィルム、またはこの用途に公知のその使いかなる基旧
材料であってよい。放射線硬化性組成物は基材材利く例
えば、布、紙、またはプラスチックシート材料）を処理
して、それに対して含浸させあるいは裏塗または表塗り
を与え、研摩材粒子が最初に定着されるメーク塗層を与
え、あるいは研摩材粒子を基材材料に強固に保持するた
めのサイズ塗層または強化塗層を与えるために使用され
ることができる。研摩材粒子は被覆研摩拐の製造に使用
される鉱物のすべての従来慣用の等級のものであってよ
い。それに含まれるものは天然または合成材料であって
、例えば、ひうち石、ざくろ石、酸化アルミニウム、ア
ルミナ−ジルコニア、ダイアモンドおよび炭化ケイ素、
それから改質アルミニウム（ＨｉｎｎｅＳＯｔａ　Ｍｉ
ｎｉｎｇ　ａｎｄＭａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ　ｃｏｍ
ｐａｎｙよりＣｕｂｉｔｒｏｎとして発売されている）
のようなセラミック鉱物、およびそれらの泄合物である
。研摩材層はさらに非研摩材の希釈用粒子を含むことが
ある。シート上の研摩材粒子の頻度もまた従来通りにな
る。研摩材粒子は、特定の被覆研摩材製品の要求に応じ
て、配向されることもあるし、あるいは配向なしに基材
上に塗布されることもある。

本発明の他の１つの態様において、研摩材粒子はここに
述べられる放射線硬化性樹脂組成物の単御粘合剤塗層に
より基材に接着されることができる。この態様において
は、研摩材粒子はグレード２２ＯＤ下であることが好ま
れる。

本発明による被覆研摩材用の放射線硬化性組成物は速や
かに、すなわち５分間以内に、硬化する。

従って、長時間の加熱およびそれに続く塗布の前の停滞
時間が避けられる。にかわおよびフェノール樹脂組成物
と異なり、本発明の樹脂組成物は湿気に比較的ＷｅｌＰ
されない。ワニスと違って、本発明の樹脂組成物は僅か
の溶媒または溶媒なしで塗４布することができる。この
特徴は組成物がメーク塗層を作るために特に役立つ。そ
れは速硬化のため、研摩材の配向がメーク塗層が硬化す
るとぎ変化しないことを確実にするからである。

本発明の被覆研摩材製品はまたこの技術界において公知
であるような改質を含み得る。例えば、感圧接着剤のよ
うな裏面塗層もまた基材に施されることもあり、またい
ろいろなスーパーサイズ剤が研摩材表面に塗布されるこ
ともある。例えば、ステアリン酸亜鉛を、摩耗荷重を避
けるために使用することができる。

次の非限定的実施例は本発明をさらに説明する。

特に指示されなければ、すべての部および百分率は重量
によるものである。次の実施例において、次の化合物の
商標および供給者は次の通りであった。

＝　５３− 実施例１ この例は本発明の電磁放射線硬化性樹脂組成物を使用す
る被覆研摩材の製造を説明する。

パルカンフアイバーの基材（３０ミル）をはけ塗りによ
り、（の１モルの１．４−７タンジオールのグリシジル
エーテルと１モルのアクリル酸との反応生成物（以下″
二反応性第１号″と呼ぶ）の１００ｉ４ｆｉ部、（ハ）
１．３部のジフェニルヨードニウムへキサフルオロホス
フェート、および０．１３部の９，１０−ジエトキシア
ントラレン、からなる組成物で下塗りした。塗布量は１
．２ｇ／ＴｒＬ２　（０，２９グレン／２４平方インチ
）であった。下塗りした基材をＲＰＣプロセッサー、モ
デル＃ＱＣ１２０２ＡＮＩＲ（ＰＰＧ、Ｉｎｃ、製）内
で３０ｃｍ／Ｓｅｃ　　（６０ｆｔ／ｍｉｎ　）の速度
で、４０ワット／ｃｍ（１００ワツト／インチ）で作動
する２個の標準中圧水銀灯により空気中で硬化させた。

それらの灯は基材より約９．５ｃｍの距離に配置されて
いた。

硬化した下塗りを付けた基材に次に組成物Ｕ■＝１をは
け塗りした。この組成物は次の成分から成るものである
。

ペンタエリスリトール トリアクリレート　　　　　　　　　　５５部１モルの
ビスフェノールＡの ジグリシジルエーテルと１モルの アクリル酸との反応生成物 （以下″二反応性第２号″と呼ぶ）４０部ブチルグリシ
ジルエーテル （反応希釈剤として）　　　　　　　　５部石英充填剤
　　　　　　　　　　　　　１００部トリフェニルスル
ホニウム ヘキザフルオロホスフエートの γ−ブチロラクトン中６０％溶液　　０．４６部２．２
−ジメトキシ−１，２− ジフェニル−１−エタノン　　　　　１．５０部塗布ｆ
ｆｉは２８０ｇ／ｍ２　（６７グ１．／ン／２４平方イ
ンチ）であった。

この゛メーク”塗層を施した下塗りした基材に次にグレ
ード５０のＡｊ！２０３鉱物を７３９９／ＴｒＬ２　（
１８０グレン／２４平方インヂ）で落下被覆してから、
その“メーク″塗層を１２０ワツト／　ｃｍに２個の灯
を有するＲＰＣプロセサー内を３０ｃｍ／ＳｅＣの速度
で４回通して空気中で効果させた。前記鉱物と硬化した
゛メーク″塗層の上に組成物ｔＪＶ−２をはけ塗りした
。この組成物は次の成分から成る。

ペンタエリスリトール トリアクリレート　　　　　　　　　　４０部二段応性
第２号　　　　　　　　　　　３０部ＧＡＦ製Ｎ−ビニ
ルー２− ピロリドン（以下Ｎ　Ｖ　Ｐ　）　　　　　　３０部石
英充填剤　　　　　　　　　　　　　１００部トリフェ
ニルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェートの γ−ブチロラクトン中６０％溶液　　０．４６部２．２
−ジメトキシ−１，２− ジフェニル−１−エタノン　　　　　１．５０部塗布量
は２９３ｇ／ＴｒＬ２であった。このサイズした構造を
赤外線ヒーターにより１００℃に加熱してから、１２０
ワツト／　ｃｍに２個の灯を有するＲＰＣプロセサー内
を３０　ｃｍ　／　ｓｅｃの速度で６回通して空気中で
硬化させた。その硬化した製品を切断して２３　ｃｍ直
径の研摩材円板を作り、その性能を次の手順により測定
した。円板を滑り動作試験機内に取り付けた。被削材は
１０１８スチールで、研削界面における負荷圧は０．７
０に９部ｃｍ２であった。初期、終期および全量の切削
量について平均重量（ダラム単位）を第１表に示す。

比較例Ａ この例は研摩シート材を作る従来の方法を説明するもの
である。

パルカンフアイバーの基材に慣用のフェノール−ホルム
アルデヒドレゾール樹脂のメーク塗層を塗布ｆｔ２８０
ｇ／ｍ２で塗布した。そのフェノール樹脂メーク塗層に
次にグレード５０Ａｊ！２　ｏ３鉱物を７４０ｇ／Ｔｒ
Ｌ２で落下被覆した。次にそのメーク塗層をオーブン内
で８８℃に４時間加熱することにより部分的に硬化させ
た。との構造に次に、メーク塗層に用いられた同じフェ
ノールホルムアルデヒドレゾール樹脂で２２０’Ｊ／Ｔ
ｒＬ２の塗布量にサイズ塗層を施した。その研摩材被覆
構造を次にオーブン内で８８℃に１２時間加熱すること
により熱硬化させた。硬化した従来通りの研摩シート材
を２３　ｃｍの研摩材円板に切断し、その研摩性能を実
施例１に述べた手順に従って測定した。

初期、終期、および全量の切削量について平均重け（ダ
ラム単位）を第１表に示す。

実施例２ 実施例１の手順が繰り返されたが、ただサイズ塗層とし
て組成物ｔＪＶ−３が組成物ＵＶ−２の代りに使用され
た。

組成物ＵＶ−３は次の成分から成る。

ペンタエリスリトールトリアクリレート　１０部Ｃｃｌ
ａｎｅｓｅ　５ｐｅｃｉａｌｉｔｙ　Ｒｅ５ｉｎｓより
入手の実験用ジアクリル化エポキシ樹脂　　　５０部Ｎ
　Ｖ　Ｐ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４
０部炭酸カルシウム　　　　　　　　　　　　１５０部
２．２−ジメトキシ−１，２− ジフェニル−１−エタノン　　　　　　　３部硬化した
製品を２３１Ｊ直径の研摩材円板に切断し、その性能を
実施例１に述べた手順に従って測定した。初期、ｌ／ｓ
期、および全量の切削量について平均重量をダラム単位
で第１表に示す。

実施例３ この例は従来慣用のメーク塗層と本発明の放射線硬化性
サイズ塗層の研摩材シートの製造における使用を説明す
る。

パルカンフアイバーの基材のフェノールＩＩＩを塗布し
、鉱物で落下被覆し、それから比較例へに述べたように
して硬化させた。次のその構造に組成物ＵＶ−２により
サイズ塗層を施してから、実施例１に述べたようにして
硬化させた。硬化した構造を切断して２３　ａｔｒ直径
の研摩板円板となし、その性能を実施例１に述べた手順
に従って測定した。初期、終期および全量の切削量につ
き平均重量をダラム単位で第１表に示す。

実施例４ この例は研摩材シートの製造における本発明の放射線硬
化性メーク塗層と、サイズ塗層のため従来のフェノール
樹脂の使用を説明するものである。

実施例１の手順を、サイズ塗層組成物ＵＶ−２の代りに
比較例へに述べたフェノールサイズ塗層を用いて繰り返
した。塗布重量は２３０ｇ／ｍ２であった。硬化した構
造を切断して２３　ｃｍの研摩材円板となし、その性能
を実施例１に述べた手順に従って測定した。初期、終期
および全量の切削量につき平均重量を第１表に示す。

第１表 １　　　（ＪＶＩ　　　ＬＩＶ−２２４，１２，３１０
９２ＵＶ−Ｉ　　　ＵＶ−３２２，８１，４１１０３フ
ェノール樹脂　　　ＵＶ−２２２，９３，６１４３４、
ＵＶ−１フェノール樹脂　　２６．７　３．１　　１３
５＊１６時間８８℃で硬化させられた比較例第１表より
、電磁放射線硬化塗層が研摩材円板の製造に使用される
場合には、研摩材の性能は従来の方法で製造された研摩
材円板のそれとほぼ同等であることが判る。しかし、そ
の製造は、従来の研摩材円板の製造に用いられる樹脂組
成物の硬化のために要する長い加熱期間なしに、達成さ
れる。

災ｍ二旦 これらの例は本発明の電磁放射線硬化性組成物中にいろ
いろな稀釈用モノマーの使用を説明するものである。

実施例１の手順を、パルカンフアイバーの代りに基月と
して４／１の組織と２７０ｇ／ＴｒＬ２の重量を有する
スパンポリエステル布を使用して繰り返した。ポリエス
テル布に、８５部のアクリル化エポキシ樹脂（Ｃｅ１ａ
ｎｅｒｅ製”Ｃｅ１ｒａｄ　　３５００”）、５部のＮ
ＶＰ、１０部のペンタエリスリトールトリアクリレート
、および１．５部の２．２−ジメトキシ−１，２−ジフ
ェニル−１−エタノンから成る組成物を含浸させた。塗
布量は１４６　ｇ／ｍ２であった。

含浸させた布を、１２０ワツト／　ｃｍに４個の標準中
圧水銀灯を有するＲＰＣプロセサー内を３０ｃｍ／ｓｅ
ｃの速度で４回通して空気中で硬化させた。

それらの灯は基材より約９．５ｃＩｎの距離に配置され
ていた。硬化した含浸布を、７５部の″“ＣＱＩｒａｄ
３５００”樹脂、１５部のＮＶＰ、１０部のペンタエリ
スリトールトリアクリレート、１００部の炭酸カルシウ
ム、および１．０部のフリーラジカル開始剤（”　Ｉｒ
ｇａｃｕｒｅ　　６５１”）から成る組成物でバックサ
イズ塗りした。その塗布量は６３ｇ／ｌｌｌ１１２であ
った。バックサイズ塗層を含浸剤と同じ条件で硬化させ
たが、ただ空気の代りに窒素雰囲気を用いた。下塗りし
、バックサイズ塗りした基材をナイフ塗りにより組成物
ＵＶ−１で１５１ｇ／ＴＩＬ２の塗布量に被覆し、さら
にグレード８０へ１２０３鉱物を３７７ｇ／ｍ　　に静
電塗布してから、１２０ワツト／　ｃｍで作動するＦｕ
ｓｉｏｎＭｏｄｅｌ　Ｆ　４５０ランプの下を７．５ｍ
／ｓｅｃの速度で４回通過させることにより空気中で硬
化させた。実施例５では、硬化したメーク塗層と鉱物層
を施したシートに組成物ｕｖ−ｉでサイズ塗りした。実
施例６，７および８では、組成物ＵＶ−１のブチルグリ
シジルエーテル希釈剤をそれぞれ同等重量％の希釈剤ス
チレン、クレジルグリシジルエーテル、およびＮＶＰに
代替して、第■表に示される塗布量でサイズ塗りをした
。各組成物中に潜伏性カチオン重合開始剤、略称ＳｂＦ
５・ＤＥΔ・ＤＥＧ、五フッ化アンチモンの２，６−ジ
ニチルアニリンおよびジエチレングリコールとの付加物
、が含まれていた（１．０部）。各塗層はメーク塗層を
硬化するために用いられたものと同じ条件で硬化された
。それぞれの硬化した被覆研摩材構造を副長片に切断し
てからエンドレスベルトに変換して、そのベルトを１０
１８スチール上で１　、０６　ｈｇ／ｃｍ２（１５１ｂ
／１ｎ２）の荷重圧の下にベルト研削試験にかけた。

第■表 ５　　　ブチルグリジル　　　　６１１　　　　　　３
７　　　１９　　４９１エーテル ６　　　スチレン　　　　　　　３１１　　　　　　３
９　　　１９　　４８６７　　　クレジルグリシ　　　
　３５２　　　　　　３９　　　１８　　４７３ジルエ
ーテル ８　　　ＮＶＰ　　　　　　　　２８９　　　　　３８
　　１９　４９０実施例５−８は、有効な切削性能がエ
チレン不飽和モノマー、スチレン（実施例６）およびＮ
ＶＰ　（実施例８）により得られるばかりでなく、エポ
キシモノマー、ブチルグリシジルエーテル（実施例５）
およびクレジルグシジルエーテル（実施例７）によって
もまた冑られたことを示す。

１匙Ｕ豆ニユ刀 これらの実施例は、放射線硬化性組成物ＵＶ−４とＵＶ
−５を用いて調製された研摩材の切削性能を比較するも
のである。組成物ＵＶ−４はエポキシ基とアクリル基の
両者とも別々の分子に含んでおり、また組成物ｔＪＶ−
５はエポキシ基とアクリル基を同一の分子に含んでいた
。

組成物ＵＶ−４は次の成分を含有していた。

ペンタエリスリトール　　　　　　　　５５部トリフク
リレート ビスフェノールＡの　　　　　　　　２０部ジグリシジ
ルエーテル ビスフェノールＡの　　　　　　　　２０部ジグリシジ
ルエーテルの ジアクリレート ブチルグリシジルエーテル　　　　　５部２．２−ジメ
トキシ−１，２−１，５部ジフェニル−１−エタノン ジフェニルヨードニウム　　　　　　　０．５８部へ二
１サフルオロホスフエート ２−イソプロピルチオサントン　　　０．０５８部石英
充填剤　　　　　　　　　　　　１００部組成物ＵＶ−
５は、２０部のビスフェノールＡのジグリジルエーテル
と２０部のビスフェノールへのジグリシジルエーテルの
ジアクリレートが４０部の″′二反応性第２号″により
代替された以外は、組成物Ｕ■−４と同じ成分を含有し
ていた。

実施例５−８に述べたようにして下塗りおよびバックサ
イズ塗りを施されたポリエステル布の一部分にメーク塗
層として組成物ＵＶ−４（実施例９）をナイフ塗りによ
り１１２９部ｍ２の塗布量で塗り、さらにグレード５０
Ａｊ２２０３を静電気により４５６ｇ／ＴｒＬ２の塗布
量で被覆してから、Ｆｕｓｉｏｎ　Ｍｏｄｅｌ　　Ｆ　
４５０ランプの下を４回通過させることにより空気中で
硬化させた。それらのランプは基材より約７．６ｃｍの
距離に配置されていた。そのメーク塗層と研摩剤層の上
に組成物Ｕ■−４をロールコータ−によ’０３６Ｂ’ｊ
／ＴｒＬ２（１）ｍ布量でサイズ塗層として被覆し、そ
れからメーク塗層の硬化のため用いたものと同じ条件の
下で硬化させた。実施例５−８に述べたようにして下塗
りおよびバックサイズ塗りを施されたポリエステル布の
他の一部分に、ナイフ塗りにより組成物ＵＶ−５（実施
例１０）を塗布量１５９ｇ／７１１２で塗り、さらにグ
レード５０Ａ１２０３を静電気により４５６ｇ／ＴｒＬ
２の塗布量で被覆してから、Ｆｕｓｉｏｎランプの下を
４回通過させることにより空気中で硬化させた。そのメ
ーク塗層と研摩材層の上に組成物ＬＩＶ−５をロールコ
ータ−により３１Ｂ’Ｊ／ＴｒＬ２の塗布量でサイズ塗
層として被覆し、それからメーク塗層の硬化のため用い
たものと同じ条件の下で硬化させた。

それぞれの研摩材を被覆した構造を細長片に切断してか
らエンドレステープに変換して、そのベルトを４１５０
スチール上で１．７６に９部ｃｍ２の荷重圧の下でベル
ト研削試験にかけた。その得られた結果を第■表に示す
。

第　　■　　表 実施例９と１０の結果は、アクリル基とエポキシ基を同
一または別々の分子のいずれかに有するメーク塗層およ
びサイズ塗層を用いて製造された研摩ベルトによって本
質的に同じ切削性能が得られることを示す。

衷ｍ（引１」− この例は脂肪族二反応性物質を芳香族二反応性物質に加
えて研摩材構造中に使用することを説明するものである
。組成物ＵＶ−６は次の成分を含有する。

エトキシル化ビスフェノールＡ　　　　　２５部ジアク
リレート ペンタオリスリトール　　　　　　　　　１２．５部ト
リアクリレード 二反応性箱２丹″５０部 ゛二反応性第１号”　　　　　　　　　　１２．５部ジ
フェニルヨードニウム　　　　　　　０，８部ヘキサフ
ルＡロオスフエート ９．１０−ジェトキシアントラセン　　０．０８部２．
２−ジメトキシ−１，２− ジフェニル−１−エタノン　　　　　０．９２部Ｃ重量
紙にナイフ塗りにより０．２５ｍｍの厚さに塗ってメー
ク塗層を形成し、静電気によりグレード１８０ＳｉＣを
１２１　ｇ／ＴｒＬ２（７）ｅｌ！布量に被Ｉｔ、、そ
れから１２０ワツト／　ｃｍに設定された２本の標準中
圧水銀灯を有するＲＰＣプロセサーを３０ｃｍ／　Ｓｅ
ｃの速度で４回通過させることにより空気中で放射線硬
化させた。これらのランプは基材より約９．５ｃｍの距
離に配置されていた。次に組成物ＵＶ−６のサイズ塗層
がメーク塗層と研摩材層の上にロールコータ−により５
０ｇ／ＴｒＬ２で塗られ、それからメーク塗層の硬化の
ため用いられたものと同じ条件の下に放射線硬化された
が、ただし硬化は空気の代りに窒素の下で行われた。

硬化した被覆研摩材シートを切断して試料となし、その
試料を評価のため５ｃｈｉｅｆｆｅｒ試験機の中に取り
付けた。これらの試料は同じ研摩材グレードの市販の被
覆研摩材試料（Ｈｉｎｎｃｓｏｔａ　Ｍｉｎｉｎｇａｎ
ｄ　ＭａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎＱ発売の’Ｔｒｉ　−Ｈ
−１ｔｅＷｅｔｏｒ　Ｄｒｙ　Ｐａｐｅｒ　”　）に比
較された。被削材は”Ｐｌｅ×１ｇ１ａｓ　”アクリレ
ートから作られたものであつだ。その結果を第■表に示
す。

＝　７０− 第　　■　　表 対　　照　　　　　　　　　　　　　　　２．０９１１
　　　　　１．９９ ■虹辷二 第７表に示されるような電磁放射線硬化性組成物が表に
記載された成分を示された量で混合することにより調製
された。

組成物ＬＩＶ−７〜ＵＶ−９をメーク塗層として、また
組成物ＵＶ−１０〜ＵＶ−１４をサイズ塗層として用い
て研摩構造体を調製した。

メーク塗層と鉱物塗層が加工されてから、実施例１１と
同じ方法で硬化された。サイズ塗層を塗布ｌｉｔ　３８
９　／　ｃｍ　２で塗った。ｕｖ−ｉｏ、ｕｖ−１３、
およびＵＶ−１４組成物のサイズ塗層は１２０ワツｈ　
／　ｃｍに設定された２本の標準中圧水銀灯を有するＲ
ＰＣプロセサー＃ＱＣ１２０２ＡＮＩＲにより３０ｃｍ
／ｓｅｃで４回通過させ窒素雰囲気の下で硬化された。

それらのランプは基材より約９．５ｃｍの距離に配置さ
れていた。組成物ＵＶ−１２のサイズ塗層は電子線によ
り１２．５ｃｍ／ｓｅｃ　、　５Ｈｒａｄ、および２３
０　ＫｅＶで硬化された。組成物ｕｖ−ｉ１のサイズ塗
層は熱により１５０℃で５時間に硬化された。

実施例１１と同じ方法で各試料を５ｃｈｉｅｆｆｅｒ試
験機で試験した。その結果を第ＶＩ表に示す。

匿一昌し一人 実施例　刈二久里Ｉ　丈工久里Ｉ　切」狙ＪＬＬＬ１１
２　　　　　　ｔｌＶ−７ｔｌＶ−１２１，９３６１３
ＵＶ−７ｔｌＶ−１０１，８８０ １４ＵＬ−７ＵＶ−１１１，８７４ １５ＵＶ　−８ＵＶ−１０１，６３８ １６ＵＶ−９ｔｌＶ−１３１，６４８ １１ＬＩＶ　−９ＵＶ−１４２，００５実施例１８−２
０ 第Ｖｌ１表に示されるような放割線硬化性組成物を表に
記された成分を示された倒で混合することにより調製し
た。

−７４＝ 第■表 放射線硬化性組成物 （重量部） ＵＶ−１５ＵＶ−１６ＵＶ−１１ ペンタエリスリトールトリアクリレート　　　　　５５
　　　　　６５　　　　　６０トリス（ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレートのトリアクリレートエステル　　
　　　　　　　ｉｏ　　　　　　−−−−エトキシル化
ビスフェノールへジアクリレート　　−３０−脂環式エ
ボキシド＠２５−−−− ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル　　１０
　　　　　−−　　　　　−−レゾルシノールジグリシ
ジルエーテル　　　　　　−−−−３０１，４−ビス（
ヒドロキシメチル） シクロヘキサンジグリシジルエーテル　　　　　−−−
−ｉ。

Ｎ−ビニル−２−ピロリドン　　　　　　　　　　　　
　　　　　５　　　　−石英　　　　　　　　　４３　
　−−　　−−氷晶石　　　　　　　　　−１２２１２
２ジフエニルヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート　　　　　　　　　ｏ、ｅ
ｏ−ｏ、ｅ。

２−イソプロピルチオキサントン　　　　　　　　０．
０６０−０．０６０２．２−ジメトキシ−１，２−ジフ
ェニル−１−エタノン　　　　　　　　　　　　　　　
　　１．５０　　　　２．０　　　　１．５０（ａ）　
　”Ｃｙａｃｕｒｃ　６１００”　、　Ｕｎｉｏｎ　Ｃ
ａｒｂｉｄｅ　Ｃｏｒｐ。

研摩構造体をレイヨン・ジーンズ・クロス（Ｒａｙｏｎ
　ＪｅａｎＳ　Ｃ１ｏｔｈ）を用いて製造した。その布
にフェノールラテックス樹脂を含浸させてから、オーブ
ン内で８８°Ｃに１０時間加熱することににり硬化させ
た。組成物ＵＶ−１５をメーク塗層として、８４ｇ／Ｔ
ｒＬ２の塗布量で基材の上にナイフ塗りし、次に３２６
ｇ／７１１１．２のグレードＰ１２０ＡＡ２０３鋳物を
そのメーク塗層の上に被覆し、それから塗層を１２０ワ
ツト／　ｃｍで作動するＦｕｓｉｏｎ　Ｍｏｄｅｌ　　
Ｆ　４５０ランプの下を７．５ｃｍ／ｓｅｃの速疫で４
回通過させて空気中で硬化させた。

それらのランプは基材より約６．３ｒ、ｍの距離に配置
されていた。組成物ＬＩＶ−１６をサイズ塗層として鋳
物被覆した構造体の第１の部分の上へ２１２’Ｊ／ｍ２
の塗布量でロール塗りしてから、メーク塗層を硬化させ
るために用いられたものと同じ条件下で硬化させた〈実
施例１８）。鋳物被覆した構造体の第２の部分にＵＶ−
１１組成物をロール塗りしてから、実施例１８のサイズ
塗層と同じ条件下に硬化させた〈実施例１つ）。鋳物被
覆し＝　７６− た構造体の第３の部分に氷晶石を充填したフェノール　
ホルムアルデヒド樹脂を１１６ｇ／ｍ、２の塗布量でロ
ール塗りしてから、オーブン内で８８℃で１０時間加熱
することにより硬化させた〈実施例２０）。

比較例日 フェノールホルムアルデヒドレゾール樹脂をフェノール
ラテックス樹脂を含浸したレイヨンジーンズ基布の上に
１００ｇ／ＴｒＬ２の塗布量で塗布した。グレードＰ１
２０　Ａ、１２２０３鋳物をその上に３２６７／ＴｒＬ
２の塗布量で静電塗布した。その樹脂をオーブン内で１
１／２時間８８℃で加熱することにより部分的に硬化さ
せた。氷晶石を充填したフェノールホルムアルデヒド樹
脂のサイズ塗層をメーク塗層および鋳物層の上に加工し
てから、比較例Ａと同じ方法で硬化させた。

それぞれの硬化した被覆研摩材構造を細長片に切断して
からエンドレスベルトに変換し、それを１０１８スチー
ルを用いて研削界面における負荷圧０．７０Ｋｇ／ｃｍ
２でベルト研削試験を受けさせた。各ベルトの性能を第
■表に示す。

第■表 研摩材切削性能（ｇ） 実施例　　メーク塗層　　　サイズ塗層　　　初　　期
　　終　　期　　全　　吊１８　　　　ＵＶ−１５ＵＶ
’−１６３９１８５０５１９ＵＶ−１５ＵＶ１１　　　
３７　　　　１６　　　　４５５２０　　　　ＵＶ−１
５フェノール樹脂　　　３３　　　　１５　　　　４１
５Ｂ＊　　フェノール樹脂　フェノール樹脂　　　２６
　　　　１２　　　　３３０＊比較例であって、電磁放
射線によらず、熱により硬化させた例。

実施例１８−２０は、本発明の電磁放射線硬化性組成物
がメーク塗層として使用される場合には優れた研削性能
を有する研摩材製品がフェノール樹脂含有基材を用いて
製造され得ることを示す。

サイズ塗層はエポキシ基とアクリル基を含有する放射線
硬化組成物であってもよいし、あるいはフェノール樹脂
であってもよく、そしてその研摩材構造はそれでもなお
高品質の切削性能を示すであろう。

災７１１λユニニ亀ユ 布基材を有する研摩材シートを次のようにして調製した
。スパンポリエステル布〈実施例５−８に記載のものと
同じ）を第■表に示ザ組成を有する放射線硬化性組成物
ＩＪＶ−１８で含浸させてから、第１のランプを８０ワ
ツト／　ｃｍにそして第２のランプを４０ワツト／　ｃ
ｍに設定したＲＰＣプロセサー＃ＱＣ１２０２ＡＮＩＲ
を用いて２０ｃｍ／　Ｓｅｃの速度で空気中に硬化させ
た。ランプは基材より約９．５ｃｍの距離に配置されて
いた。その含浸した布を次にｕｖ−ｉｓでプレサイズ塗
層を加工してから、硬化させ、それから布の裏側を硬化
させたが、その硬化は含浸剤を硬化させるために用いら
れたものと同じ条件下に行われた。硬化した含浸布基材
は■″の標識をつけられた。同様な方法で、スパンポリ
エステル布をＵＶ−１９で含浸させ、プレサイズおよび
バックサイズ加工した。ｕｖ−ｉ９の組成も第■表に示
されている。

各硬化工程は基材１１　ＩＩ　ＩＩのため用いられた２
０ｃｍ／　ｓｅｃの代りに１５ｃｍ／ｓｅｃの速度で行
われた。

かくして得られた含浸布基材は“Ｉ　”の標識をっ【づ
られた。

第■表 放射線硬化性組成物 （重量部） 成　　　分　　　　　　　　　　　　　　　　　ＵＶ−
１８ＵＶ−１９ビスフエノールＡのジグリシジルエーテ
ル　　　　　　５〇−″“二反応性第２号″７５ エトキシル化ビスフェノールＡジアクリレート　　　　
２５−Ｎ−ビニル−２−ピロリドン　　　　　　　　　
　　　　１５１５ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト　　　　　　　１０１０ジフエニルヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート　　　　　　　　　　　　
１．２５　　　　　−トリノエニルフェニルホスホニウ
ム ヘキサフルオロホスフエートの γ−ブチロラクトン中６０％溶液　　　　　　　　　　
　　　　　　　　１．２５２−イソプロピルチオキサン
トン　　　　　　　　　　０．１２５　　　　　−第Ｘ
表に示されるような組成物ＵＶ−２０〜ｔＪＶ−２７が
表に記載の成分を示された量に混合することにより調製
された。

放射線硬化性組成物ＵＶ−２０を次にメーク塗層として
、実施例２１−２４に使用するために処理された布基材
■の上へ塗布量２００ｇ／ＴｒＬ２でナイフ塗りした。

グレード４０炭化ケイ素鉱物を４９５ｇ／ＴｒＬ２の塗
布量に静電塗布した。次にそのメーク塗層を７．５ｃ／
ｓｅｃの速度でＦｕｓｉｏｎＭｏｄｅｌ　Ｆ　４５０の
ランプの中を空気中で４回通過させることによ硬化させ
た。ランプは１２０ワツト／　ｃｍに設定されていた。

またランプは基材より約６．３ｃｍの距離に配置されて
いた。組成物ＵＶ−２２、ＵＶ−２３、ＬＪＶ−２４、
ＵＶ−２５、およびＵＶ−２７を次に硬化した構造体の
部分に４５０ｇ／ｍ２の塗布量でロール塗りした。組成
物ＵＶ−２２〜ＵＶ−２５から形成されたサイズ塗層は
メーク塗層に用いられたものと同じ条件下に硬化された
。組成物ＵＶ−２７から形成されたサイズ塗層は３７℃
で１０分間および６０℃で２０分間熱硬化された。実施
例２５−２７の試料は実施例２１−２４と同じ方法で、
処理された布基材工と第ＸＩ表に示された組成物を用い
て調製された。

比較例Ｃ 従来慣用の炭酸カルシウムを充填したフェノールホルム
アルデヒドレゾール樹脂をフェノール樹脂ラテックスで
処理したポリエステル布基材■の上にナイフ塗りしてメ
ーク塗層を作った。グレード４０炭化ケイ素鉱物をその
メーク塗層の上に４９５ｇ／ＴｒＬ２の量に静電塗布し
た。その樹脂をオーブン内で１１／２時間８８℃で加熱
することにより部分的に硬化させた。炭酸カルシウムを
充填したフェノールホルムアルデヒド樹脂のサイズ塗層
をメーク塗層と鉱物層の上に塗ってから、比較例Ａにお
けると同じ方法で硬化させた。

実施例２１−２７と比較例Ｃからの各硬化被覆研摩材シ
ートを細長片に切断してからエンドレスベルトに変換し
、それらのベルトを次に研削界面における負荷圧０．７
０に９／ｃｍでプレスポードを用いるベルト研削試験を
受すさせた。研削試験の結果を第Ｍ表に示す。

−８６一 実施例２１−２７は、本発明の組成物がメーク塗層とし
て使用されかつ硬化が電磁放射線により行われる場合に
は優れた研削性能を有する研摩材製品が布基材の上に製
造され得ることを示す。本発明に従って製造された研摩
材シートの切削能力は、８８℃で１３１／２時間加熱す
ることにより硬化された、従来の方法で製造された研摩
材シートの切削能力に優に匹敵するものである。

本発明のいろいろな修正と変更が本発明の範囲と精神を
逸脱することなく行い得ることは当業者にとって明らか
であろう。また本発明はここに述べられた説明のため示
される態様に不当に制限されるものでないことは理解さ
れねばならない。

【図面の簡単な説明】

第１図は布基材上の被覆研摩材を断面図にして例示して
いる。 第２図は紙基材上の被覆研摩材を断面図にして例示して
いる。 １０・・・被覆研摩材　　　　１２・・・布基材１４・
・・バックサイズ塗層　１６・・・プレサイズ塗層１８
・・・メーク塗層　　　　２０・・・研摩材粒子２２・
・・サイズ塗層　　　　３ｏ・・・被覆研摩材３２・・
・紙基材 ３４・・・バックサイズ塗層　３６・・・プレサイズ塗
層３８・・・メーク塗層　　　　４０・・・研摩材粒子
４２・・・サイズ塗層

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）基材、メーク塗層、研摩材粒子の層およびサイズ
   塗層から成る被覆研摩材製品であって、そのメーク塗層
   とサイズ塗層のうちの少なくとも１つが電磁輻射線によ
   り硬化される、エチレン不飽和基と１，２−エポキシド
   基を含む組成物、およびその組成物を硬化させるために
   十分な量の光開始剤部分から形成され、前記光開始剤部
   分が、（ｉ）オニウム陽イオンと金属またはメタロイド
   のハロゲン含有陰イオンを有する塩、および（ｉｉ）（
   ａ）有機金属錯陽イオンと金属またはメタロイドのハロ
   ゲン含有錯陰イオンを有する少なくとも１種の塩と、 （ｂ）少なくとも１種のフリーラジカル重合開始剤 の混合物、 から成る群より選択される少なくとも１種の重合光開始
   剤を含む事を特徴とする前記の被覆研摩材製品。 （２）エチレン不飽和基が脂肪族のヒドロキシ基を含む
   化合物と不飽和カルボン酸のエステルにより与えられる
   、特許請求の範囲第１項に記載の製品。 （３）エチレン不飽和基がアクリル酸またはメタクリル
   酸のエステルにより与えられる、特許請求の範囲第２項
   に記載の製品。 （４）エチレン不飽和基が、エチレングリコールジアク
   リレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、
   ペンタエリスリトールトリアクリレート、ビスフェノー
   ルＡのジアクリレート、ビスフェノールＡのエトキシル
   化ジアクリレート、脂肪族ウレタンアクリレート、およ
   びＮ−ビニル−２−ピロリドンから成る群より選択され
   る化合物により与えられる、特許請求の範囲第１項に記
   載の製品。 （５）１，２−エポキシド基が、 ３，４−エポキシシクロヘキシルメチル３，４−エポキ
   シシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ
   −２−メチルシクロヘキシルメチル ３，４−エポキシ−２−メチルシクロヘキサンカルボキ
   シレート、 ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメ
   チル）アジペート、 ２，２−ビス［　４−（２，３−エポキシプロポキシ）
   フェニル］プロパン、 ブチルグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコール シグリシジルエーテル、およびレゾルシノールジグリシ
   ジルエーテル から成る群より選択される化合物により与えられる、特
   許請求の範囲第１項に記載の製品。 （６）エチレン不飽和基および１，２−エポキシド基が
   、少なくとも２つの１，２−エポキシド基を有する化合
   物と活性水素を含有するエチレン不飽和化合物の化学量
   論上不足量との反応生成物である二反応性化合物により
   与えられる、特許請求の範囲第１項に記載の製品。 （７）前記二反応性化合物が、０．４〜０．６当量のア
   クリル酸と、 ビスフェノールＡのジグリジルエーテル、１，４−ブタ
   ンジオールのジグリシジルエーテル、フェノール−ホル
   ムアルデヒドノボラツクのポリグリシジルエーテル、 クレゾール−ホルムアルデヒドノボラツクのポリグリシ
   ジルエーテル、 ジグリジルテレフタレート、 ３，４−エポキシシクロヘキシルメチル３，４−エポキ
   シシクロヘキサン−カルボキシレート、および ビス（３，４−エポキシ−メチルシクロヘキシル）メチ
   ルアジペート から成る群より選択される１員の１モルとの反応生成物
   である、特許請求の範囲第６項に記載の製品。 （８）さらに潜伏性熱活性化重合開始剤を含有する、特
   許請求の範囲第１項に記載の製品。 （９）前記組成物が、組成物の１００ｇにつき少なくと
   も約０．２当量のエチレン不飽和基および少なくとも約
   ０．０５当量の１．２−エポキシド基を含む、特許請求
   の範囲第１項に記載の製品。 （１０）光開始剤の全量が前記放射線硬化性組成物の約
   ０．０５〜約１０重量部の範囲にある、特許請求の範囲
   第１項に記載の被覆研摩材製品。 （１１）前記メーク塗層と前記サイズ塗層のうち少なく
   とも１つはフェノール樹脂から形成される、特許請求の
   範囲第１項に記載の被覆研摩材製品。 （１２）基材、メーク塗層、研摩材粒子の層およびサイ
   ズ塗層から成る被覆研摩材製品であって、そのメーク塗
   層とサイズ塗層のうちの少なくとも１つが電磁輻射線に
   より硬化される組成物から形成されており、前記組成物
   が （ｉ）次の（Ａ）〜（Ｅ）から成る群より選択される硬
   化性部分： （Ａ）少なくとも１つのエチレン不飽和基と少なくとも
   １つの１，２−エポキシド基を含有する少なくとも１種
   の二反応性化合物、 （Ｂ）少なくとも１種のエチレン不飽和化合物および少
   なくとも１つの１，２−エポキシド基を含有する少なく
   とも１種の化合物、 （Ｃ）少なくとも１つのエチレン不飽和基と少なくとも
   １つの１，２−エポキシド基を含有する少なくとも１種
   の二反応性化合物、および少なくとも１種のエチレン不
   飽和化合物、 （Ｄ）少なくとも１つのエチレン不飽和基と少なくとも
   １つの１，２−エポキシド基を含有する少なくとも１種
   の二反応性化合物、および少なくとも１つの１，２−エ
   ポキシド基を含有する少なくとも１種の化合物、および （Ｅ）少なくとも１つのエチレン不飽和基と少なくとも
   １つの１，２−エポキシド基を含有する少なくとも１種
   の二反応性化合物、少なくとも１種のエチレン不飽和化
   合物、および少なくとも１つの１，２−エポキシド基を
   含有する少なくとも１種の化合物、および （ｉｉ）次の（ａ）および（ｂ）から成る群より選択さ
   れる少なくとも１種の重合光開始剤を含み、前記組成物
   を硬化させるために十分な量の、光開始剤部分： （ａ）オニウム陽イオンと金属またはメタロイドのハロ
   ゲン含有錯陰イオンを有する塩、および（ｂ）（ａ’）
   金属またはメタロイドの有機金属錯陰イオンを有する少
   なくとも１種の塩と、（ｂ’）少なくとも１種のフリー
   ラジカル重合開始剤との混合物、 を含む事を特徴とする前記の被覆研摩材製品。 （１３）基材、メーク塗装、研摩材粒子の層およびサイ
   ズ塗層から成る被覆研摩材製品であって、前記基材が含
   浸剤塗層、プレサイズ塗層、またはバックサイズ塗層の
   うち少なくとも１つを有し、前記含浸剤塗層、前記プレ
   サイズ塗層、または前記バックサイズ塗層のうち少なく
   とも１つが電磁輻射線により硬化される、エチレン不飽
   和基と１，２−エポキシド基を含む組成物、およびその
   組成物を硬化させるために十分な量の光開始剤部分から
   形成され、前記光開始剤部分が、 （ｉ）オニウム陽イオンと金属またはメタロイドのハロ
   ゲン含有陰イオンを有する塩、および（ｉｉ）（ａ）有
   機金属錯陽イオンと金属またはメタロイドのハロゲン含
   有錯陰イオンを有する少なくとも１種の塩と、 （ｂ）少なくとも１種のフリーラジカル重 合開始剤 の混合物、 から成る群より選択される少なくとも１種の重合光開始
   剤を含む事を特徴とする前記の被覆研摩材製品。 （１４）基材、メーク塗層、研摩材粒子の層およびサイ
   ズ塗層から成る被覆研摩材製品であって、前記基材が含
   浸剤塗層、プレサイズ塗層、またはバックサイズ塗層の
   うち少なくとも１つを有し、前記含浸剤塗層、前記プレ
   サイズ塗層、または前記バックサイズ塗層のうち少なく
   とも１つが電磁輻射線により硬化される組成物から形成
   され、前記組成物が （ｉ）次の（Ａ）〜（Ｅ）から成る群より選択される硬
   化性部分： （Ａ）少なくとも１つのエチレン不飽和基と少なくとも
   １つの１，２−エポキシド基を含有する少なくとも１種
   の二反応性化合物、 （Ｂ）少なくとも１種のエチレン不飽和化合物および少
   なくとも１つの１，２−エポキシド基を含有する少なく
   とも１種の化合物、 （Ｃ）少なくとも１つのエチレン不飽和基と少なくとも
   １つのエポキシド基を含有する少なくとも１種の二反応
   性化合物、および少なくとも１種のエチレン不飽和化合
   物、 （Ｄ）少なくとも１つのエチレン不飽和基と少なくとも
   １つの１，２−エポキシド基を含有する少なくとも１種
   の二反応性化合物、および少なくとも１つの１，２−エ
   ポキシド基を含有する少なくとも１種の化合物、および （Ｅ）少なくとも１つのエチレン不飽和基と少なくとも
   １つの１，２−エポキシド基を含有する少なくとも１種
   の二反応性化合物、少なくとも１種のエチレン不飽和化
   合物、および少なくとも１つの１，２−エポキシド基を
   含有する少なくとも１種の化合物、および （ｉｉ）次の（ａ）および（ｂ）から成る群より選択さ
   れる少なくとも１種の重合光開始剤を含み、組成物を硬
   化させるために十分な量の、光開始剤部分：（ａ）オニ
   ウム陽イオンと金属またはメタロイドのハロゲン含有錯
   陰イオンを有する塩、および（ｂ）（ａ’）金属または
   メタロイドの有機金属錯陰イオンを有する少なくとも１
   種の塩と、（ｂ’）少なくとも１種のフリーラジカル重
   合開始剤との混合物、 を含む事を特徴とする前記の被覆研摩材製品。 （１５）光開始剤の全量が前記放射線硬化性組成物の約
   ０．０５〜約１０重量部の範囲にある、特許請求の範囲
   第１３項に記載の被覆研摩材製品。 （１６）前記メーク塗層と前記サイズ塗層のうち少なく
   とも１つはフェノール樹脂から形成される、特許請求の
   範囲第１３項に記載の被覆研摩材製品。 （１１）基材の少なくとも１つの主表面上に支持されか
   つ樹脂結合材により接着結合されている研摩材粒子を含
   む被覆研摩材製品であって、前記樹脂結合材が電磁輻射
   線により硬化される、エチレン不飽和基と１，２−エポ
   キシド基を含む組成物、およびその組成物を硬化させる
   ために十分な量の光開始剤部分から形成され、前記光開
   始剤部分が、（ｉ）オニウム陽イオンと金属またはメタ
   ロイドのハロゲン含有陰イオンを有する塩、および（ｉ
   ｉ）（ａ）有機金属錯陽イオンと金属またはメタロイド
   のハロゲン含有錯陰イオンを有する少なくとも１種の塩
   と、 （ｂ）少なくとも１種のフリーラジカル重 合開始剤 の混合物、 から成る群より選択される少なくとも１種の重合光開始
   剤を含む事を特徴とする前記の被覆研摩材製品。 （１８）（１）基材を供給し、 （２）前記基材上にメーク塗層を塗り、 （３）前記メーク塗層の上に研摩材粒子の層を適用し、 （４）前記研摩材粒子の層の上にサイズ塗層を塗り、 （５）前記メーク塗層または前記サイズ塗層のうち少な
   くとも１つを電磁輻射線により硬化させる、 諸工程から成る事を特徴とする特許請求の範囲第１項に
   記載の被覆研摩材製品の製造方法。 （１９）（１）含浸剤塗層、プレサイズ塗装、またはバ
   ックサイズ塗層のうち少なくとも１つを有する基材を供
   給し、 （２）前記含浸剤塗層、プレサイズ塗層、またはバック
   サイズ塗層のうち少なくとも１つを電磁輻射線により硬
   化させ、 （３）前記基材の上にメーク塗層を塗り、 （４）前記メーク塗層の上に研摩材粒子の層を適用し、 （５）前記研摩材粒子の層の上にサイズ塗層を塗り、 （６）前記メーク塗層および前記サイズ塗層を硬化させ
   る、 諸工程から成る事を特徴とする特許請求の範囲第１３項
   に記載の被覆研摩材製品の製造方法。