JPS6344759A - 光電変換装置 - Google Patents

光電変換装置

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JPS6344759A
JPS6344759A JP61187841A JP18784186A JPS6344759A JP S6344759 A JPS6344759 A JP S6344759A JP 61187841 A JP61187841 A JP 61187841A JP 18784186 A JP18784186 A JP 18784186A JP S6344759 A JPS6344759 A JP S6344759A
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JP
Japan
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photoelectric conversion
insulating layer
conversion device
electrodes
maintain
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Pending
Application number
JP61187841A
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English (en)
Inventor
Toshihiro Saiga
敏宏 雑賀
Katsunori Hatanaka
勝則 畑中
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14665Imagers using a photoconductor layer

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は光電変換装置に関し、特にファクシミリ、イメ
ージリーダ、ディジタル複写機および電子黒板等の画像
の読取りに用いられる光電変換装置に関する。
[従来の技術] 近年、ファクシミリ、イメージリーダ等の小型、高性能
化のために、光電変換装置として、等倍光学系をもつ長
尺ラインセンサーの開発が行われている。従来、この種
のラインセンサーは一列のアレイ状に配置された各光電
変換素子に対して、それぞれスイッチ素子等で構成され
た信号処理用のIC(集積回路)を接続して構成してい
る。
しかしながら、その光電変換素子の個数はファクシミリ
G3規格に準すると層サイズで1728個も必要となり
、多数、の信号処理用のICが必要となる。このため、
実装工数も増え、製造コスト、並びに信顆性で満足なも
のは得られていない。一方、信号処理用のICの個数を
減らし、かつ実装工数を減らす構成としては従来からマ
トリクス配線による構成が採用されている。
第4図にマトリクス配線された光電変換装置のブロック
図を示す。第4図において、1は光電変換素子部、2は
走査部、3は信号処理部、4はマトリクス配線部である
。また第5図に従来のマトリクス配線部の平面図を、第
6図(a) 、 (b) に第5図のA−A’ および
B−B’ 断面図をそれぞれ模式的に示す。
第6図において601は基板、δ02〜605は個別電
極、606は絶縁層、607〜δ09は共通線、610
は個別電極と共通線とのオーミックコンタクトをとるた
めのスルーホールである。
このようにマトリクス配線された光電変換装置では、信
号処理部3の信号処理回路の数がマトリクスの出力線数
だけでよいので、信号処理部を小型化でき、光電変換装
置の低コスト化が可能となるという利点を有する。
[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、このような従来のマトリクス配線の光電
変換装置においては、以下に示すような問題点があった
光電変換素子の微弱な出力をマトリクス配線を経由して
読出すので、光電変換素子の出力個別電極とマトリクス
の共通線との絶縁交差部において形成される浮遊容量を
十分に小さくしないと、各出力信号間でクロストークが
生じる。このことは、層間絶縁材料の遷択およびマトリ
クスの寸法設計に対し、厳しい制約事項となる。
また、マトリクス共通線は長尺方向に配線されているの
で、たとえばA4サイズ幅のラインセンサーでは210
 m+nの長さになる。このため、各共通線間の線間容
量を十分に小さくしないと、各出力信号間でクロストー
クが生じる。このことは、マトリクス部の大型化につな
がる。
さらに、光電変換素子の出力個別電極のピッチは、たと
えば8本/■の解像度をもっ光電変換装置では125 
μmと狭くなる。このためこの個別電極間の線間容量も
十分に小さくしないと出力信号間でクロストークが生じ
る。
したがって、本発明の目的は上述の従来の欠点を除去し
、光電変換装置において各出力信号間のクロストークが
生じない小型のマトリクス配線を具備した光電変換装置
を提供することにある。
[問題点を解決するための手段] 本発明は一次元状に配列された複数個の光電変換素子と
、各々、複数個の光電変換素子の各出力個別電極の少な
くとも2つを共通に接続する複数の共通線と、出力個別
電極と共通線との交差部に電位を一定に保つように設け
られた導電体層と、個別電極間および共通線間に電位を
一定に保つように設けられた配線とを具える。
[作 用] 本発明によれば、光電変換素子の出力個別電極と共通線
との交差部に電位を一定に保つことのできる導電体層を
設けることによって個別電極と共通線の絶縁交差部で形
成される浮遊容量をなくし、さらに個別電極間および共
通線間に電位を一定に保つことのできる配線を設けるこ
とによって各電極間および各線間に容量が生じないよう
にする。
[実施例] 以下に図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
第1図は本発明一実施例のマトリクス配線部の平面図を
、第2図(a) 、 (b)に第1図のA−A ’ お
よびB−8’断面図をそれぞれ模式的に示す。光電変換
素子部、走査部および信号処理部は第4図と同様である
ので図示省略する。
第2図において、201は基板、202〜205は基板
201上に設けた留別電極、206は個別電極202〜
205を被う第1の絶縁層、211は第1の絶縁層20
6上に設けられ、電位を一定に保つことができるような
電源等(図示せず)に接続した導電体層、207は導電
体層211上に設けられた第2の絶縁層、208〜21
0は第2の絶縁層207上に設けられた共通線、212
は個別電極と共通線とのオーミックコンタクトをとるた
めのスルーホール、213〜215は個別電極間に設け
られた線間配線、216〜218は共通線間に設けられ
た線間配線である。
これら線間配線213〜215 、215〜218は電
位を一定に保つことができるような電源等に接続する。
第3図はかかる本発明実施例におけるマトリクス配線部
の製造法の一例を示す。
まず第3図(a) に示すように、絶縁基板201の上
に、例えばアルミニウム(八1)の個別電極202〜2
05および線間配線213〜215を形成する。
次に第3図(b) に示すように、例えば5in2゜S
iN:H等の無機物またはポリイミド等の有機樹脂から
なる第1の絶縁層206を形成する。
次に第3図 (C)に示すように、例えばlの導電体層
211を形成しくオーミックコンタクト部分を除く)、
さらにその上に同図(d) に示すように、例えば5t
(h、 SiN:H、またはポリイミド等からなる第2
の絶縁層207を形成する。次に第3図(e)に示すよ
うに、第1の絶縁層206と第2の絶縁層207とにお
けるオーミックコンタクト部に該当する部分をエツチン
グ除去し、スルーホール212を形成する。
最後に第3図(f) に示すように、第2の絶縁層20
7上に例えばAl1の共通線208および同図には示さ
れていないが線間配線216〜218を形成し、これに
よりスルーホール212を介して個別電極と共通線との
オーミックコンタクトをとり、目的をマトリクス接続を
得る。
なお、第1および第2の絶縁層として、例えば5i02
/ SiN:tlといった積層構成や無機物/有機樹脂
といった積層構成を用いることもできる。
以上のように、個別電極と共通線との絶縁交差部に電位
を一定に保てる導電体層を設けることによって、個別電
極と共通線との間に浮遊容量が形成されず、さらに個別
電極間および共通線間に電位を一定に保てる配線をそれ
ぞれ設けることによって、個別電極間および共通線間に
は線間容量が形成されず、従って各線間が容量的に結合
されることがなくなる。そのため各出力信号の間にクロ
ストークが生じることを防ぐことができる。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば出力信号間にクロ
ストークが生じない、小型のマトリクス配線部分をもつ
光電変換装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例におけるマトリクス配線部の
平面図、 第2図(a) 、 (b)は第1図A−A’ 、B−B
’切断線に沿う断面図、 第3図(a)〜(f)は本発明にかかるマトリクス配線
部の製法の一例を示す工程図、 第4図はマトリクス配線された光電変換装置のブロック
図、 第5図は従来のマトリクス配線部の平面図、第6図(a
) 、 (b)は第5図であるA−A’ 、B−8’切
断線に沿う断面図である。 1・・・光電変換素子部、 2・・・走査部、 3・・・信号処理部、 4・・・マトリクス配線部、 202〜205・・・個別電極、 206・・・第1の絶縁層、 207・・・第2の絶縁層、 208〜210・・・共通線、 211・・・導電体層、 212・・・スルーホール、 213〜218・・・線間配線。 く( 区 昧 へ            因 沫         昧 ■) 報 区         区 Cc 昧         味

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一次元状に配列された複数個の光電変換素子と、 各々、該複数個の光電変換素子の各出力個別電極の少な
    くとも2つを共通に接続する複数の共通線と、 前記出力個別電極と前記共通線との交差部に電位を一定
    に保つように設けられた導電体層と、前記個別電極間お
    よび共通線間に電位を一定に保つように設けられた配線
    とを具えたことを特徴とする光電変換装置。
JP61187841A 1986-08-12 1986-08-12 光電変換装置 Pending JPS6344759A (ja)

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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0225156U (ja) * 1988-08-05 1990-02-19
JPH0261052U (ja) * 1988-10-28 1990-05-07
JPH02219268A (ja) * 1989-02-21 1990-08-31 Canon Inc 半導体装置及びそれを用いた光電変換装置
JPH02231762A (ja) * 1989-03-06 1990-09-13 Konica Corp イメージセンサ
US5136358A (en) * 1990-06-06 1992-08-04 Fuji Xerox Co., Ltd. Multi-layered wiring structure
US5382975A (en) * 1991-08-30 1995-01-17 Fuji Xerox Co., Ltd. Image reading apparatus
JP2013089869A (ja) * 2011-10-20 2013-05-13 Canon Inc 検出装置及び検出システム
JP2017126758A (ja) * 2017-02-09 2017-07-20 キヤノン株式会社 検出装置及び検出システム

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5306648A (en) * 1986-01-24 1994-04-26 Canon Kabushiki Kaisha Method of making photoelectric conversion device
GB2228367B (en) * 1989-02-21 1993-04-07 Canon Kk Semiconductor device having matrix wiring section,and semiconductor device using the same and having photoelectric conversion function
US5360744A (en) * 1990-01-11 1994-11-01 Fuji Xerox Co., Ltd. Method of manufacturing image sensor
US5182625A (en) * 1990-04-26 1993-01-26 Fuji Xerox Co., Ltd. Image sensor and method of manufacturing the same
US5888908A (en) * 1992-04-30 1999-03-30 Stmicroelectronics, Inc. Method for reducing reflectivity of a metal layer
JP3390875B2 (ja) * 1992-11-12 2003-03-31 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 半導体装置
JPH07335721A (ja) * 1994-06-13 1995-12-22 Mitsubishi Electric Corp アライメントマークを有する半導体装置
US5665644A (en) * 1995-11-03 1997-09-09 Micron Technology, Inc. Semiconductor processing method of forming electrically conductive interconnect lines and integrated circuitry
US6091150A (en) * 1996-09-03 2000-07-18 Micron Technology, Inc. Integrated circuitry comprising electrically insulative material over interconnect line tops, sidewalls and bottoms

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3811076A (en) * 1973-01-02 1974-05-14 Ibm Field effect transistor integrated circuit and memory
US3841926A (en) * 1973-01-02 1974-10-15 Ibm Integrated circuit fabrication process
US3898685A (en) * 1973-04-03 1975-08-05 Gen Electric Charge coupled imaging device with separate sensing and shift-out arrays
US3932775A (en) * 1974-07-25 1976-01-13 Rca Corporation Interlaced readout of charge stored in a charge coupled image sensing array
US4035829A (en) * 1975-01-13 1977-07-12 Rca Corporation Semiconductor device and method of electrically isolating circuit components thereon
US4675549A (en) * 1978-02-06 1987-06-23 Fairchild Camera And Instrument Corporation Black and white reference and end-of-scan indicator for charge coupled devices
US4480009A (en) * 1980-12-15 1984-10-30 M&T Chemicals Inc. Siloxane-containing polymers
JPS5884455A (ja) * 1981-11-13 1983-05-20 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置
JPS5994849A (ja) * 1982-11-24 1984-05-31 Nec Corp 半導体集積回路装置
US4650984A (en) * 1984-01-12 1987-03-17 Canon Kabushiki Kaisha Photosensor array for treating image information
JPS60178663A (ja) * 1984-02-24 1985-09-12 Mitsubishi Electric Corp 大形イメ−ジセンサ
JPS6132571A (ja) * 1984-07-25 1986-02-15 Fuji Xerox Co Ltd 光電変換装置
JPH07118761B2 (ja) * 1985-09-20 1995-12-18 富士ゼロックス株式会社 原稿読み取り装置
DE3751242T2 (de) * 1986-01-24 1995-09-14 Canon Kk Photoelektrischer Wandler.
JP2584774B2 (ja) * 1987-06-12 1997-02-26 キヤノン株式会社 密着型光電変換装置

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0225156U (ja) * 1988-08-05 1990-02-19
JPH0261052U (ja) * 1988-10-28 1990-05-07
JPH02219268A (ja) * 1989-02-21 1990-08-31 Canon Inc 半導体装置及びそれを用いた光電変換装置
JPH02231762A (ja) * 1989-03-06 1990-09-13 Konica Corp イメージセンサ
US5136358A (en) * 1990-06-06 1992-08-04 Fuji Xerox Co., Ltd. Multi-layered wiring structure
US5382975A (en) * 1991-08-30 1995-01-17 Fuji Xerox Co., Ltd. Image reading apparatus
JP2013089869A (ja) * 2011-10-20 2013-05-13 Canon Inc 検出装置及び検出システム
US9190437B2 (en) 2011-10-20 2015-11-17 Canon Kabushiki Kaisha Semiconductor detection apparatus capable of switching capacitance among different levels, and detection system including the apparatus
JP2017126758A (ja) * 2017-02-09 2017-07-20 キヤノン株式会社 検出装置及び検出システム

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Publication number Publication date
EP0256850B1 (en) 1997-06-04
US5027176A (en) 1991-06-25
DE3752072T2 (de) 1997-10-16
EP0256850A2 (en) 1988-02-24
EP0256850A3 (en) 1988-08-10
DE3752072D1 (de) 1997-07-10

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