JPH0531986B2 - - Google Patents
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- JPH0531986B2 JPH0531986B2 JP61011987A JP1198786A JPH0531986B2 JP H0531986 B2 JPH0531986 B2 JP H0531986B2 JP 61011987 A JP61011987 A JP 61011987A JP 1198786 A JP1198786 A JP 1198786A JP H0531986 B2 JPH0531986 B2 JP H0531986B2
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は光電変換装置に関し、特にフアクシミ
リ、イメージリーダ、デイジタル複写機および電
子黒板等の画像の読み取りに用いられる長尺ライ
ンセンサーに関する。
リ、イメージリーダ、デイジタル複写機および電
子黒板等の画像の読み取りに用いられる長尺ライ
ンセンサーに関する。
[従来の技術]
近年、フアクシミリ、イメージリーダ等の小
型,高性能化のために、等倍光学系をもつて長尺
ラインセンサーの開発が行われている。従来、こ
の種のラインセンサーは一列のアレイ状に配置さ
れた各センサー素子に対して、それぞれスイツチ
素子等で構成された信号処理用のIC(集積回路)
を接続して構成している。しかしながら、そのセ
ンサー素子の個数はフアクシミリG≫規格に準ず
るとA4サイズで1728個も必要となり、多数の信
号処理用のICが必要となる。このため。実装工
数も増え、製造コスト、並びに信頼性で満足なも
のは得られていない。一方、信号処理用のICの
個数を減らし、かつ実装工数を減らす構成として
は従来からマトリツクス接続による構成が採用さ
れている。
型,高性能化のために、等倍光学系をもつて長尺
ラインセンサーの開発が行われている。従来、こ
の種のラインセンサーは一列のアレイ状に配置さ
れた各センサー素子に対して、それぞれスイツチ
素子等で構成された信号処理用のIC(集積回路)
を接続して構成している。しかしながら、そのセ
ンサー素子の個数はフアクシミリG≫規格に準ず
るとA4サイズで1728個も必要となり、多数の信
号処理用のICが必要となる。このため。実装工
数も増え、製造コスト、並びに信頼性で満足なも
のは得られていない。一方、信号処理用のICの
個数を減らし、かつ実装工数を減らす構成として
は従来からマトリツクス接続による構成が採用さ
れている。
第5図に従来のマトリツクス接続の回路構成例
を示す。本図において、1は複数M個づつにブロ
ツク分けされているセンサー(センサ素子)SI1
〜SIM〜SNMの各ブロツクの共通電極b1〜bNに電圧
を印加するためのドライバー部である。2はその
各センサーの出力をマトリツクス接続するための
マトリツクス部である。3はマトリツクス接続に
よりM本にまとめられた共通線a1〜aMからセンサ
ー出力信号を読出し、処理する信号処理部であ
る。
を示す。本図において、1は複数M個づつにブロ
ツク分けされているセンサー(センサ素子)SI1
〜SIM〜SNMの各ブロツクの共通電極b1〜bNに電圧
を印加するためのドライバー部である。2はその
各センサーの出力をマトリツクス接続するための
マトリツクス部である。3はマトリツクス接続に
よりM本にまとめられた共通線a1〜aMからセンサ
ー出力信号を読出し、処理する信号処理部であ
る。
この構成における動作を説明すると、ドライバ
ー部1がセンサーブロツク電極b1〜bNを順次選択
し、選択した電極に電圧を印加する。
ー部1がセンサーブロツク電極b1〜bNを順次選択
し、選択した電極に電圧を印加する。
次に、選択された各ブロツクのセンサーの光電
流をドライバー部1の出力タイミングと同期をと
り、信号処理部3により増幅して外部に出力す
る。
流をドライバー部1の出力タイミングと同期をと
り、信号処理部3により増幅して外部に出力す
る。
このようなマトリツクス構成では信号処理部3
の信号処理回路の数がマトリツクス2の出力線数
(a1〜aM)の数だけでよいので、信号処理部3を
小型化できるという利点を有する。
の信号処理回路の数がマトリツクス2の出力線数
(a1〜aM)の数だけでよいので、信号処理部3を
小型化できるという利点を有する。
[考案が解決しようとする問題点]
しかしながら、このような従来のマトリツクス
構成には以下のような問題点があつた。
構成には以下のような問題点があつた。
微弱なセンサー電流をマトリツクス接続を経
由して読出すので、センサー側電極とマトリツ
クス出力側(共通)電極との絶縁交差部とで形
成される浮遊容量を十分に小さくしないと、各
センサーの出力間で信号クロストークが生じ
る。このことは、層間絶縁材料の選択及びマト
リツクスの寸法設計に対し、厳しい制約事項と
なる。
由して読出すので、センサー側電極とマトリツ
クス出力側(共通)電極との絶縁交差部とで形
成される浮遊容量を十分に小さくしないと、各
センサーの出力間で信号クロストークが生じ
る。このことは、層間絶縁材料の選択及びマト
リツクスの寸法設計に対し、厳しい制約事項と
なる。
また、コストダウンや信頼性の向上等から、
センサー部とマトリツクス部は同一基板に形成
されることが望ましい。しかし、光導電材料は
一般的に低温プロセスで形成されるので、特性
の良好な層間絶縁膜を形成できる温度(高温)
を有するプロセスを混在して作製することは困
難である。また両者のプロセスを高温プロセ
ス,低温プロセスの順に分離して作製したとし
ても、コスト的には高いものになつてしまう。
センサー部とマトリツクス部は同一基板に形成
されることが望ましい。しかし、光導電材料は
一般的に低温プロセスで形成されるので、特性
の良好な層間絶縁膜を形成できる温度(高温)
を有するプロセスを混在して作製することは困
難である。また両者のプロセスを高温プロセ
ス,低温プロセスの順に分離して作製したとし
ても、コスト的には高いものになつてしまう。
マトリツクス部の各絶縁交差部の1ケ所でも
ピンホール等によるリーク抵抗をもつと、すべ
てのブロツクのセンサーに影響する信号出力不
良となる。このことは、マトリツクス歩留りを
著しく低下させることとなる。
ピンホール等によるリーク抵抗をもつと、すべ
てのブロツクのセンサーに影響する信号出力不
良となる。このことは、マトリツクス歩留りを
著しく低下させることとなる。
マトリツクス共通電極a1〜aMは長尺方向に配
線されているので、たとえばA4サイズ幅のラ
インセンサーでは210mmの長さになる。このた
め、各出力線間のリーク抵抗,線間容量を十分
に小さくする必要がある。リーク抵抗および線
間容量は隣接配線パターン間の距離と関係して
おり、マトリツクス部の大きさをあまり小さく
できない。
線されているので、たとえばA4サイズ幅のラ
インセンサーでは210mmの長さになる。このた
め、各出力線間のリーク抵抗,線間容量を十分
に小さくする必要がある。リーク抵抗および線
間容量は隣接配線パターン間の距離と関係して
おり、マトリツクス部の大きさをあまり小さく
できない。
本発明の目的は上述の従来の欠点を除去し、セ
ンサー部の形成温度とほぼ同等な低温のプロセス
で小型のマトリツクス部をセンサー部と同一基板
上に形成でき、歩留りの良い低コストの光電変換
装置を提供することにある。
ンサー部の形成温度とほぼ同等な低温のプロセス
で小型のマトリツクス部をセンサー部と同一基板
上に形成でき、歩留りの良い低コストの光電変換
装置を提供することにある。
[問題点を解決するための手段]
上記目的を達成するため、本発明は、光導電材
料からなる層を有する光電変換素子のN個からな
るブロツクがM個一次元アレー上に配されたセン
サアレイと、前記光電変換素子を駆動するための
電圧を供給する駆動手段と前記センサアレイとを
接続する第1の配線群と、前記光電変換素子から
読出された信号を処理する信号処理手段と前記セ
ンサアレイとを接続する第2の配線群と、を共通
基板上に具備する光電変換装置において、前記第
1及び第2の配線群のうち、前記第1の配線群の
みが前記基板上で互いに交差する交差部を有して
おり、前記交差部の下層配線と上層配線との間に
は前記光導電材料で構成された層と該層よりも高
抵抗の層とが積層された絶縁部が設けられている
ことを特徴とする。
料からなる層を有する光電変換素子のN個からな
るブロツクがM個一次元アレー上に配されたセン
サアレイと、前記光電変換素子を駆動するための
電圧を供給する駆動手段と前記センサアレイとを
接続する第1の配線群と、前記光電変換素子から
読出された信号を処理する信号処理手段と前記セ
ンサアレイとを接続する第2の配線群と、を共通
基板上に具備する光電変換装置において、前記第
1及び第2の配線群のうち、前記第1の配線群の
みが前記基板上で互いに交差する交差部を有して
おり、前記交差部の下層配線と上層配線との間に
は前記光導電材料で構成された層と該層よりも高
抵抗の層とが積層された絶縁部が設けられている
ことを特徴とする。
[実施例]
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に
説明する。
説明する。
第1図〜第3図は本発明の一実施例を示す。
第1図は本発明の実施例の回路構成図を示す。
ここで11はマトリツクス部(マトリツクス接続
部)12の共通電極a1〜aNに順に電圧を印加する
ためのドライバー部である。マトリツクス部12
はドライバー部11により印加された電圧を各ブ
ロツクの対応するセンサーにそれぞれ通電する。
13は各センサーブロツクの共通電極b1〜bMから
出力される信号を増幅し、信号処理する信号処理
部である。
ここで11はマトリツクス部(マトリツクス接続
部)12の共通電極a1〜aNに順に電圧を印加する
ためのドライバー部である。マトリツクス部12
はドライバー部11により印加された電圧を各ブ
ロツクの対応するセンサーにそれぞれ通電する。
13は各センサーブロツクの共通電極b1〜bMから
出力される信号を増幅し、信号処理する信号処理
部である。
次に、動作を説明すると、ドライバ部11によ
りマトリツクス部12の共通電極a1〜aI〜aNが1
本づつ選択され、aIが選択された場合には、S1I
〜SMIのM個のセンサに駆動電圧が印加される。
各ブロツク内のセンサー出力は各ブロツク毎に共
通電極b1〜bMから駆動電圧に同期して順次読出さ
れる。このときの読出しタイミングを第4図に示
す。
りマトリツクス部12の共通電極a1〜aI〜aNが1
本づつ選択され、aIが選択された場合には、S1I
〜SMIのM個のセンサに駆動電圧が印加される。
各ブロツク内のセンサー出力は各ブロツク毎に共
通電極b1〜bMから駆動電圧に同期して順次読出さ
れる。このときの読出しタイミングを第4図に示
す。
第2図は第1図のマトリツクス部12の実施形
態の一部の構成を示す。また、第3図は第2図の
A−B切断線に沿う断面を示す。ここで、4はセ
ンサー受光部、5はセンサーブロツク共通電極で
ある。6はマトリツクス部12の個別電極、7は
マトリツクス部12の共通電極であり、8はマト
リツクス部12の個別電極6と共通電極7とを接
続するためのスルーホールである。
態の一部の構成を示す。また、第3図は第2図の
A−B切断線に沿う断面を示す。ここで、4はセ
ンサー受光部、5はセンサーブロツク共通電極で
ある。6はマトリツクス部12の個別電極、7は
マトリツクス部12の共通電極であり、8はマト
リツクス部12の個別電極6と共通電極7とを接
続するためのスルーホールである。
また、第3図は9は高抵抗層、10は光導電
層、21は光導電層10とセンサーブロツク共通
電極5または個別電極6とオーミツク接続するた
めの接合層、および22は基板である。
層、21は光導電層10とセンサーブロツク共通
電極5または個別電極6とオーミツク接続するた
めの接合層、および22は基板である。
本実施例ではセンサー素子(センサー受光部)
4として同一平面上に対向電極5,6を有する光
導電型(オーミツク型)センサーを用いている
が、これに限らずサンドイツチ型,p−i−η
型,シヨツトキー型等が適用され得る。
4として同一平面上に対向電極5,6を有する光
導電型(オーミツク型)センサーを用いている
が、これに限らずサンドイツチ型,p−i−η
型,シヨツトキー型等が適用され得る。
また、本実施例において、光導電材料(光導電
層)10としては、グロー放電法によるアモルフ
アス水素化シリコン(a−Si:H)が用いられ
る。しかし、光導電材料としてはこれ以外にも
CdS,CdSe,a−Ge:H,ZnSe,等も用いるこ
とができる。
層)10としては、グロー放電法によるアモルフ
アス水素化シリコン(a−Si:H)が用いられ
る。しかし、光導電材料としてはこれ以外にも
CdS,CdSe,a−Ge:H,ZnSe,等も用いるこ
とができる。
さらに、基板22上に積層した高抵抗層9の材
料としては、グロー放電法による窒化シリコン膜
(SiN:H)、またはスパツタによるSiO2、高出力
成膜による高抵抗a−Si:H等が用いられる。基
板22の材料としてはガラス、例えば7059ガラ
ス、または石英ガラス等が用いられる。センサー
受光面がセンサー形成面の場合には不透明な基板
材料、例えばセラミツク等も用いることができ
る。
料としては、グロー放電法による窒化シリコン膜
(SiN:H)、またはスパツタによるSiO2、高出力
成膜による高抵抗a−Si:H等が用いられる。基
板22の材料としてはガラス、例えば7059ガラ
ス、または石英ガラス等が用いられる。センサー
受光面がセンサー形成面の場合には不透明な基板
材料、例えばセラミツク等も用いることができ
る。
以上説明したように、本発明実施例によれば、
マトリツクス接続部をドライブ電極側に配置した
ので、以下の効果が得られる。
マトリツクス接続部をドライブ電極側に配置した
ので、以下の効果が得られる。
マトリツクス部12の共通電極a1〜aNはドラ
イバー部11により低いインピーダンスで駆動
される。このため、共通電極a1〜aNの線間容
量、リーク抵抗、並びにマトリツクス部12の
絶縁交差部の浮遊容量、リーク抵抗による信号
のクロストーク、および品位低下等は全く生じ
ない。
イバー部11により低いインピーダンスで駆動
される。このため、共通電極a1〜aNの線間容
量、リーク抵抗、並びにマトリツクス部12の
絶縁交差部の浮遊容量、リーク抵抗による信号
のクロストーク、および品位低下等は全く生じ
ない。
マトリツクス部12の層間絶縁膜として要求
される絶縁性が緩和されるので、光導電膜と同
程度の抵抗率と、ドライブ電圧に耐えうる耐圧
を有していれば良い。このため、低温プロセス
に限定しても実現でき、材料選択の自由度が大
きい。さらに、センサー部と同一の成膜プロセ
スをマトリツクス部12に用いることにより、
低コストで歩留りの良い長尺ラインセンサーを
光電変換装置として提供できる。
される絶縁性が緩和されるので、光導電膜と同
程度の抵抗率と、ドライブ電圧に耐えうる耐圧
を有していれば良い。このため、低温プロセス
に限定しても実現でき、材料選択の自由度が大
きい。さらに、センサー部と同一の成膜プロセ
スをマトリツクス部12に用いることにより、
低コストで歩留りの良い長尺ラインセンサーを
光電変換装置として提供できる。
[発明の効果]
以上述べたように、本発明によれば、第1の配
線群は基板上で互いに交差させるが第2の配線群
は基板上で互いに交差しないように第1及び第2
の配線群をマトリクス接続したので、信号を読み
出す第2の配線側が互いにリークを起こす確率を
低減し、配線間容量を小さくしてクロストークを
抑えるとともに、交差部の下層配線と上層配線と
の間には光導電材料で構成された層と該層よりも
高抵抗の層とが積層された絶縁部が設けられるよ
うにしたので、絶縁部を貫くピンホールの形成を
抑え、形成される段差を小さくし、駆動電圧を印
加する第1の配線側での相互のリーク又は配線の
断線の確率をより低くして、装置の信頼性を向上
できる。
線群は基板上で互いに交差させるが第2の配線群
は基板上で互いに交差しないように第1及び第2
の配線群をマトリクス接続したので、信号を読み
出す第2の配線側が互いにリークを起こす確率を
低減し、配線間容量を小さくしてクロストークを
抑えるとともに、交差部の下層配線と上層配線と
の間には光導電材料で構成された層と該層よりも
高抵抗の層とが積層された絶縁部が設けられるよ
うにしたので、絶縁部を貫くピンホールの形成を
抑え、形成される段差を小さくし、駆動電圧を印
加する第1の配線側での相互のリーク又は配線の
断線の確率をより低くして、装置の信頼性を向上
できる。
第1図は本発明実施例の光電変換装置の回路構
成図、第2図は第1図の光電変換装置の構成を示
す平面図、第3図は第2図のA−B切断線に沿う
断面図、第4図は第1図の装置の動作を示すタイ
ミングチヤート、第5図はマトリツクス構成の従
来の光電変換装置の回路構成図である。 4……センサー素子(センサー受光部)、5…
…センサーブロツク共通電極、6……マトリツク
ス個別電極、7……マトリツクス共通電極、8…
…コンタクトホール(スルーホール)、9……高
抵抗層、10……光導電層、11……ドライバー
部、12……マトリツクス絶縁部、13……信号
処理部、21……オーミツク接合層、22……基
板。
成図、第2図は第1図の光電変換装置の構成を示
す平面図、第3図は第2図のA−B切断線に沿う
断面図、第4図は第1図の装置の動作を示すタイ
ミングチヤート、第5図はマトリツクス構成の従
来の光電変換装置の回路構成図である。 4……センサー素子(センサー受光部)、5…
…センサーブロツク共通電極、6……マトリツク
ス個別電極、7……マトリツクス共通電極、8…
…コンタクトホール(スルーホール)、9……高
抵抗層、10……光導電層、11……ドライバー
部、12……マトリツクス絶縁部、13……信号
処理部、21……オーミツク接合層、22……基
板。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 光導電材料からなる層を有する光電変換素子
のN個からなるブロツクがM個一次元アレー状に
配されたセンサアレイと、前記光電変換素子を駆
動するための電圧を供給する駆動手段と前記セン
サアレイとを接続する第1の配線群と、前記光電
変換素子から読出された信号を処理する信号処理
手段と前記センサアレイとを接続する第2の配線
群と、を共通基板状に具備する光電変換装置にお
いて、 前記第1及び第2の配線群のうち、前記第1の
配線群のみが前記基板上で互いに交差する交差部
を有しており、 前記交差部の下層配線と上層配線との間には前
記光導電材料で構成された層と該層よりも高抵抗
の層とが積層された絶縁部が設けられていること
を特徴とする光電変換装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61011987A JPS62171372A (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | 光電変換装置 |
US07/005,767 US4788445A (en) | 1986-01-24 | 1987-01-21 | Long array photoelectric converting apparatus with insulated matrix wiring |
US07/396,760 US4916326A (en) | 1986-01-24 | 1989-08-22 | Long array photoelectric converting apparatus with reduced crosstalk |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61011987A JPS62171372A (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | 光電変換装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62171372A JPS62171372A (ja) | 1987-07-28 |
JPH0531986B2 true JPH0531986B2 (ja) | 1993-05-13 |
Family
ID=11792938
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61011987A Granted JPS62171372A (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | 光電変換装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62171372A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH022676A (ja) * | 1988-06-17 | 1990-01-08 | Konica Corp | イメージセンサ |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5944169A (ja) * | 1982-09-07 | 1984-03-12 | Toshiba Corp | 固体読取装置 |
JPS59168769A (ja) * | 1983-03-15 | 1984-09-22 | Mitsubishi Electric Corp | 光電変換装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58111954U (ja) * | 1982-01-22 | 1983-07-30 | 沖電気工業株式会社 | ラインセンサ |
-
1986
- 1986-01-24 JP JP61011987A patent/JPS62171372A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5944169A (ja) * | 1982-09-07 | 1984-03-12 | Toshiba Corp | 固体読取装置 |
JPS59168769A (ja) * | 1983-03-15 | 1984-09-22 | Mitsubishi Electric Corp | 光電変換装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62171372A (ja) | 1987-07-28 |
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