JPS62171372A - 光電変換装置 - Google Patents
光電変換装置Info
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- JPS62171372A JPS62171372A JP61011987A JP1198786A JPS62171372A JP S62171372 A JPS62171372 A JP S62171372A JP 61011987 A JP61011987 A JP 61011987A JP 1198786 A JP1198786 A JP 1198786A JP S62171372 A JPS62171372 A JP S62171372A
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- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 14
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 4
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- 239000010410 layer Substances 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
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- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(以下余白)
3、発明の7+Y細な説明
[産業上の利用分野]
本発明は光電変換装置に関し、特にファクシミリ、イメ
ージリーグ、ディジタル複写機および電子黒板等の画像
の読み取りに用いられる長尺ラインセンサーに関する。
ージリーグ、ディジタル複写機および電子黒板等の画像
の読み取りに用いられる長尺ラインセンサーに関する。
[従来の技術]
近年、ファクシミリ、イメージリーダ等の小型、高性能
化のために、等倍光学系をもつ長尺ラインセンサーの開
発が行われている。従来、この種のラインセンサーは一
列のアレイ状に配置された各センサー素子に対して、そ
れぞれスイッチ素子等で構成された信号処理用のrc(
集積回路)を接続して構成している。しかしながら、そ
のセンサー素子の個数はファクシミリ G)規格に準す
るとA4サイズて1728個も必要となり、多数の信号
処理用のICが必要となる。このため、実装工数も増え
、製造コスト、並びに信頼性で満足なものは得られてい
ない。一方、信号処理用のICの個数を減らし、かつ実
装置数を減らす構成としては従来からマトリックス接続
による構成か採用されている。
化のために、等倍光学系をもつ長尺ラインセンサーの開
発が行われている。従来、この種のラインセンサーは一
列のアレイ状に配置された各センサー素子に対して、そ
れぞれスイッチ素子等で構成された信号処理用のrc(
集積回路)を接続して構成している。しかしながら、そ
のセンサー素子の個数はファクシミリ G)規格に準す
るとA4サイズて1728個も必要となり、多数の信号
処理用のICが必要となる。このため、実装工数も増え
、製造コスト、並びに信頼性で満足なものは得られてい
ない。一方、信号処理用のICの個数を減らし、かつ実
装置数を減らす構成としては従来からマトリックス接続
による構成か採用されている。
第5図に従来のマトリックス接続の回路構成例を示す。
本図において、lは複数M個づつにブロック分けされて
いるセンサー(センサ素子)S、1〜S■〜鍮の各ブロ
ックの共通電極b1〜b、に電圧を印加するためのドラ
イバ一部である。2はその各センサーの出力をマトリッ
クス接続するためのマトリックス部である。3はマトリ
ックス接続によりM木にまとめられた共通線81〜By
からセンサー出力信号を読出し、処理する信号処理部で
ある。
いるセンサー(センサ素子)S、1〜S■〜鍮の各ブロ
ックの共通電極b1〜b、に電圧を印加するためのドラ
イバ一部である。2はその各センサーの出力をマトリッ
クス接続するためのマトリックス部である。3はマトリ
ックス接続によりM木にまとめられた共通線81〜By
からセンサー出力信号を読出し、処理する信号処理部で
ある。
この構成における動作を説明すると、ドライバ一部1が
センサーブロック電極b1〜bNを順次選択し、選択し
た電極に電圧を印加する。
センサーブロック電極b1〜bNを順次選択し、選択し
た電極に電圧を印加する。
次に、選択された各ブロックのセンサーの光電流をドラ
イバ一部1の出力タイミングと同期をとり、信号処理部
3により増幅して外部に出力する。
イバ一部1の出力タイミングと同期をとり、信号処理部
3により増幅して外部に出力する。
このようなマトリックス構成では信号処理部3の信−号
処理回路の数かマトリックス2の出力線数(a、〜ay
)の数たけでよいので、信号処理部3を小型化できると
いう利点を有する。
処理回路の数かマトリックス2の出力線数(a、〜ay
)の数たけでよいので、信号処理部3を小型化できると
いう利点を有する。
[発明か解決しようとする問題点コ
しかしながら、このような従来のマトリックス構成には
以下のような問題点があった。
以下のような問題点があった。
■ 微弱なセンサー電流をマトリックス接続を経由し
て読出すので、センサー側電極とマトリックス出力側(
共通)電極との絶縁交差部とで形成される浮遊容量を十
分に小さくしないと、各センサーの出力間で信号クロス
トークが生じる。このことは、層間絶縁材料の選択及び
マトリックスの寸法設計に対し、厳しい制約事項となる
。
て読出すので、センサー側電極とマトリックス出力側(
共通)電極との絶縁交差部とで形成される浮遊容量を十
分に小さくしないと、各センサーの出力間で信号クロス
トークが生じる。このことは、層間絶縁材料の選択及び
マトリックスの寸法設計に対し、厳しい制約事項となる
。
また、コストダウンや信頼性の向上等から、センサ一部
とマトリックス部は同一基板に形成されることが望まし
い。しかし、光導電材料は一般的に低温プロセスで形成
されるので、特性の良好な層間絶縁膜を形成できる温度
(高温)を要するプロセスを混在して作製することは困
難である。また両者のプロセスを高温プロセス、低温プ
ロセスの順に分離して作製したとしても、コスト的には
高いものになってしまう。
とマトリックス部は同一基板に形成されることが望まし
い。しかし、光導電材料は一般的に低温プロセスで形成
されるので、特性の良好な層間絶縁膜を形成できる温度
(高温)を要するプロセスを混在して作製することは困
難である。また両者のプロセスを高温プロセス、低温プ
ロセスの順に分離して作製したとしても、コスト的には
高いものになってしまう。
■ マトリックス部の各絶縁交差部の1ケ所でもピン
ホール等によるリーク抵抗をもつと、すべてのブロック
のセンサーに影響する信号出力不良となる。このことは
、マトリックス歩留りを著しく低下させることとなる。
ホール等によるリーク抵抗をもつと、すべてのブロック
のセンサーに影響する信号出力不良となる。このことは
、マトリックス歩留りを著しく低下させることとなる。
■ マトリックス共通電極a1〜ayは長尺方向に配
線されているので、たとえばA4サイズ幅のラインセン
サーでは210mmの長さになる。このため、各出力線
間のリーク抵抗、線間容量を十分に小さくする必要があ
る。リーク抵抗および線間容量は隣接配線パターン間の
距離と関係しており、マトリックス部の大きさをあまり
小さくてきない。
線されているので、たとえばA4サイズ幅のラインセン
サーでは210mmの長さになる。このため、各出力線
間のリーク抵抗、線間容量を十分に小さくする必要があ
る。リーク抵抗および線間容量は隣接配線パターン間の
距離と関係しており、マトリックス部の大きさをあまり
小さくてきない。
本発明の目的は上述の従来の欠点を除去し、センサ一部
の形成温度とほぼ同等な低温のプロセスで小型のマトリ
ックス部をセンサ一部と同一基板上に形成でき、歩留り
の良い低コストの光電変換装置を提供することにある。
の形成温度とほぼ同等な低温のプロセスで小型のマトリ
ックス部をセンサ一部と同一基板上に形成でき、歩留り
の良い低コストの光電変換装置を提供することにある。
[問題点を解決するための手段]
かかる目的を達成するため、本発明は一次元のアレー状
に配列されたN×M個の光電変換素子がN個の電圧印加
電極とM個の信号読出し電極とにマトリックス接続され
た光電変換装置において、マトリックス接続の配線交差
部が電圧印加電極側に設けられ、かつ配線交差部の絶縁
が光導電層と高抵抗層の積層構成で形成されていること
を特徴とする。
に配列されたN×M個の光電変換素子がN個の電圧印加
電極とM個の信号読出し電極とにマトリックス接続され
た光電変換装置において、マトリックス接続の配線交差
部が電圧印加電極側に設けられ、かつ配線交差部の絶縁
が光導電層と高抵抗層の積層構成で形成されていること
を特徴とする。
[実施例]
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
。
。
第1図〜第3図は本発明の一実施例を示す。
第1図は本発明の実施例の回路構成図を示す。
ここで11はマトリックス部(マトリックス接続部)1
2の共A電極a1〜aHに順に電圧を印加するためのド
ライバ一部である。マトリックス部12はドライバ一部
11によトl印加された′電圧を各ブロックの対応する
センサーにそれぞれ通電する。
2の共A電極a1〜aHに順に電圧を印加するためのド
ライバ一部である。マトリックス部12はドライバ一部
11によトl印加された′電圧を各ブロックの対応する
センサーにそれぞれ通電する。
13は各センサーブロックの共通電極す、 −bMから
出力される信号を増幅し、信号処理する信号処理部であ
る。
出力される信号を増幅し、信号処理する信号処理部であ
る。
次に、動作を説明すると、ドライバ部11によりマトリ
ックス部12の共通電極a1〜a工〜aNが1本づつ選
択され、a工が選択された場合には、Si工 〜sM□
のM個のセンサに駆動電圧が印加される。各ブロック内
のセンサー出力は各ブロック毎に共通電極b1〜bMか
ら駆動電圧に同期して順次読出される。このときの読出
しタイミングを第4図に示す。
ックス部12の共通電極a1〜a工〜aNが1本づつ選
択され、a工が選択された場合には、Si工 〜sM□
のM個のセンサに駆動電圧が印加される。各ブロック内
のセンサー出力は各ブロック毎に共通電極b1〜bMか
ら駆動電圧に同期して順次読出される。このときの読出
しタイミングを第4図に示す。
第2図は第1図のマトリックス部12の実施形態の一部
の構成を示す。また、第3図は第2図のA−B切断線に
沿う断面を示す、ここで、4はセンサー受光部、5はセ
ンサーブロック共通電極である。6はマトリックス部1
2の個別電極、7はマトリックス部12の共通電極であ
り、8はマトリックス部12の個別電極6と共通電極7
とを接続するためのスルーホールである。
の構成を示す。また、第3図は第2図のA−B切断線に
沿う断面を示す、ここで、4はセンサー受光部、5はセ
ンサーブロック共通電極である。6はマトリックス部1
2の個別電極、7はマトリックス部12の共通電極であ
り、8はマトリックス部12の個別電極6と共通電極7
とを接続するためのスルーホールである。
また、第3図の9は高抵抗層、IOは光導′重層、21
は光導電層10とセンサーブロック共通電極5または個
別電極6とオーミック接続するための接合層、および2
2は基板である。
は光導電層10とセンサーブロック共通電極5または個
別電極6とオーミック接続するための接合層、および2
2は基板である。
本実施例ではセンサー素子(センサー受光部)4として
同一平面上に対向電極5.6を有する光導電型(オーミ
ック型)センサーを用いているが、これに限らずサンド
イッチ型、 p−4−η型、ショットキー型等が適用さ
れ得る。
同一平面上に対向電極5.6を有する光導電型(オーミ
ック型)センサーを用いているが、これに限らずサンド
イッチ型、 p−4−η型、ショットキー型等が適用さ
れ得る。
また、本実施例において、光導電材料(光導電層)10
としては、グロー放電法によるアモルファス水素化シリ
コン(a−5i:旧が用いられる。
としては、グロー放電法によるアモルファス水素化シリ
コン(a−5i:旧が用いられる。
しかし、光導電材料としてはこれ以外にもCdS 。
CdSe、a−Ge:H,Zn5e、等も用いることが
できる。
できる。
さらに、基板22上に積層した高抵抗層9の材料として
は、グロー放電法による窒化シリコン膜(S iN :
旧、またはスパッタによる5i02 、高出力成膜によ
る高抵抗a−5i : H等が用いられる。基板22の
材料としてはガラス、例えば7059ガラス、または石
英ガラス等が用いられる。センサー受光面かセンサー形
成面の場合には不透明な基板材料、例えばセラミック等
も用いることができる。
は、グロー放電法による窒化シリコン膜(S iN :
旧、またはスパッタによる5i02 、高出力成膜によ
る高抵抗a−5i : H等が用いられる。基板22の
材料としてはガラス、例えば7059ガラス、または石
英ガラス等が用いられる。センサー受光面かセンサー形
成面の場合には不透明な基板材料、例えばセラミック等
も用いることができる。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば、マトリックス接
続部をドライブ電極側に配置したので、以下の効果が得
られる。
続部をドライブ電極側に配置したので、以下の効果が得
られる。
■ マトリックス部12の共通電極a1〜aNはドライ
バ一部11により低いインピーダンスで駆動される。こ
のため、共通電極a□〜aNの線間容量、リーク抵抗、
並びにマトリックス部12の絶縁交差部の浮遊容量、リ
ーク抵抗による信号のクロストーク、および品位低下等
は全く生じない。
バ一部11により低いインピーダンスで駆動される。こ
のため、共通電極a□〜aNの線間容量、リーク抵抗、
並びにマトリックス部12の絶縁交差部の浮遊容量、リ
ーク抵抗による信号のクロストーク、および品位低下等
は全く生じない。
■ マトリックス部12の層間絶縁I模として要求され
る絶縁性が緩和されるので、光導電膜と同程度の抵抗率
と、ドライブ電圧に耐えつる耐圧を有していれば良い。
る絶縁性が緩和されるので、光導電膜と同程度の抵抗率
と、ドライブ電圧に耐えつる耐圧を有していれば良い。
このため、低温プロセスに限定しても実現でき、材料選
択の自由度が大きい。さらに、センサ一部と同一の成膜
プロセスをマトリックス部12に用いることにより、低
コストで歩留りの良い長尺ラインセンサーを光電変換装
置として提供できる。
択の自由度が大きい。さらに、センサ一部と同一の成膜
プロセスをマトリックス部12に用いることにより、低
コストで歩留りの良い長尺ラインセンサーを光電変換装
置として提供できる。
第1図は本発明実施例の光電変換装置の回路構成図、
第2図は第1図の光電変換装置の構成を示す平面図、
第3図は第2図の八−8切断線に沿う断面図、第4図は
第1図の装置の動作を示すタイミングチャート、 第5図はマトリックス構成の従来の光電変換装置の回路
構成図である。 4・・・センサー素子(センサー受光部)、5・・・セ
ンサーブロック共通電極、 6・・・マトリックス個別電極、 7・・・マトリックス共通電極、 8・・・コンタクトホール(スルーホール)、9・・・
高抵抗層、 lO・・・光導電層、 11・・・ドライバ一部、 12・・・マトリックス絶縁部、 13・・・信号処理部、 21・・・オーミック接合層、 22・・・基板。 第1図 ゛契施イ列の断面図 第3図
第1図の装置の動作を示すタイミングチャート、 第5図はマトリックス構成の従来の光電変換装置の回路
構成図である。 4・・・センサー素子(センサー受光部)、5・・・セ
ンサーブロック共通電極、 6・・・マトリックス個別電極、 7・・・マトリックス共通電極、 8・・・コンタクトホール(スルーホール)、9・・・
高抵抗層、 lO・・・光導電層、 11・・・ドライバ一部、 12・・・マトリックス絶縁部、 13・・・信号処理部、 21・・・オーミック接合層、 22・・・基板。 第1図 ゛契施イ列の断面図 第3図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一次元のアレー状に配列されたN×M個の光電変換素子
がN個の電圧印加電極とM個の信号読出し電極とにマト
リックス接続された光電変換装置において、 前記マトリックス接続の配線交差部が前記電圧印加電極
側に設けられ、 かつ前記配線交差部の絶縁が光導電層と高抵抗層の積層
構成で形成されていることを特徴とする光電変換装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61011987A JPS62171372A (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | 光電変換装置 |
US07/005,767 US4788445A (en) | 1986-01-24 | 1987-01-21 | Long array photoelectric converting apparatus with insulated matrix wiring |
US07/396,760 US4916326A (en) | 1986-01-24 | 1989-08-22 | Long array photoelectric converting apparatus with reduced crosstalk |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61011987A JPS62171372A (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | 光電変換装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62171372A true JPS62171372A (ja) | 1987-07-28 |
JPH0531986B2 JPH0531986B2 (ja) | 1993-05-13 |
Family
ID=11792938
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61011987A Granted JPS62171372A (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | 光電変換装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62171372A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH022676A (ja) * | 1988-06-17 | 1990-01-08 | Konica Corp | イメージセンサ |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58111954U (ja) * | 1982-01-22 | 1983-07-30 | 沖電気工業株式会社 | ラインセンサ |
JPS5944169A (ja) * | 1982-09-07 | 1984-03-12 | Toshiba Corp | 固体読取装置 |
JPS59168769A (ja) * | 1983-03-15 | 1984-09-22 | Mitsubishi Electric Corp | 光電変換装置 |
-
1986
- 1986-01-24 JP JP61011987A patent/JPS62171372A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58111954U (ja) * | 1982-01-22 | 1983-07-30 | 沖電気工業株式会社 | ラインセンサ |
JPS5944169A (ja) * | 1982-09-07 | 1984-03-12 | Toshiba Corp | 固体読取装置 |
JPS59168769A (ja) * | 1983-03-15 | 1984-09-22 | Mitsubishi Electric Corp | 光電変換装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH022676A (ja) * | 1988-06-17 | 1990-01-08 | Konica Corp | イメージセンサ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0531986B2 (ja) | 1993-05-13 |
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