JPH04133350A - イメージセンサ - Google Patents
イメージセンサInfo
- Publication number
- JPH04133350A JPH04133350A JP2254620A JP25462090A JPH04133350A JP H04133350 A JPH04133350 A JP H04133350A JP 2254620 A JP2254620 A JP 2254620A JP 25462090 A JP25462090 A JP 25462090A JP H04133350 A JPH04133350 A JP H04133350A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photodiode
- film transistor
- electrode
- thin film
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 11
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Landscapes
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Facsimile Heads (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ファクシミリ、イメージスキャナ等に用いら
れるイメージセンサに関する。
れるイメージセンサに関する。
イメージセンサには、駆動用IC回路の数を減少するた
めに、主走査方向に並設した多数のフォトダイオードを
複数のブロックに分割してフォトダイオード・アレイを
形成し、各フォトダイオードに発生した原稿画像の信号
電荷を、スイッチング素子である薄膜トランジスタ(T
P T)を駆動し、各ブロック単位毎に時系列的に順
次読み出す形式のイメージセンサが知られている。
めに、主走査方向に並設した多数のフォトダイオードを
複数のブロックに分割してフォトダイオード・アレイを
形成し、各フォトダイオードに発生した原稿画像の信号
電荷を、スイッチング素子である薄膜トランジスタ(T
P T)を駆動し、各ブロック単位毎に時系列的に順
次読み出す形式のイメージセンサが知られている。
この形式のイメージセンサについて以下に説明すると、
第3図に示すように、図示しないガラス基板の主走査方
向に多数のフォトダイオード31・・が並設され、これ
らフォトダイオード31・・を各ブロック31−1.3
1−2・・31−Nに分割してフォトダイオード・アレ
イが形成されている。フォトダイオード・アレイの各ブ
ロック単位毎に画像信号読み出し用の薄膜トランジスタ
よりなるTPT駆動回路32・・が同様に主走査方向に
並設されている。さらに、TPT駆動回路32・・によ
り読み出した画像信号を、読み取り用IC回路Oこ転送
するマトリ、クス回路51・・が同様に各TPT駆動回
路32・・毎に設けられている。・一方、TPT駆動回
路32・・の各薄膜トランジスタを駆動するCr(クロ
ーム)ゲートライン34・・は、TPT駆動回路32・
・から、ガラス基板の副走査方向に引き出されている。
第3図に示すように、図示しないガラス基板の主走査方
向に多数のフォトダイオード31・・が並設され、これ
らフォトダイオード31・・を各ブロック31−1.3
1−2・・31−Nに分割してフォトダイオード・アレ
イが形成されている。フォトダイオード・アレイの各ブ
ロック単位毎に画像信号読み出し用の薄膜トランジスタ
よりなるTPT駆動回路32・・が同様に主走査方向に
並設されている。さらに、TPT駆動回路32・・によ
り読み出した画像信号を、読み取り用IC回路Oこ転送
するマトリ、クス回路51・・が同様に各TPT駆動回
路32・・毎に設けられている。・一方、TPT駆動回
路32・・の各薄膜トランジスタを駆動するCr(クロ
ーム)ゲートライン34・・は、TPT駆動回路32・
・から、ガラス基板の副走査方向に引き出されている。
さらに、コンタクト・ホール52・・を介し、Crゲー
トライン34・・の上部の図示しない眉間絶縁層を介し
て接続されたAI(アルミニューム)ゲートライン53
・・が、コンタクト・ホール52・・からガラス基板の
主走査方向に引き廻して配設されている。
トライン34・・の上部の図示しない眉間絶縁層を介し
て接続されたAI(アルミニューム)ゲートライン53
・・が、コンタクト・ホール52・・からガラス基板の
主走査方向に引き廻して配設されている。
次に、第3図に示したフォトダイオード・アレイの単一
のフォトダイオードと、TPT駆動回路内の単一の薄膜
トランジスタとの接続関係を第4図により説明する。
のフォトダイオードと、TPT駆動回路内の単一の薄膜
トランジスタとの接続関係を第4図により説明する。
まず、フォトダイオードの構成について説明すると、ガ
ラス基板33の上面に窒化シリコン膜よりなる絶縁層3
5を着膜し、この層35上に水素化アモルファスシリコ
ン(a−3i : H) ヨ’)なる半導体活性層36
を着膜し、さらに、この層36の上にn十水素化アモル
ファスシリコンよりなるオーミック・コンタクト層37
がtr膜され、さらに、この層37の上にCr2よりな
る個別電極38が着膜されている。この個別電極38の
上面に、アモルファスンリコン(a−3i)よりなる光
導電体層41と、ITOよりなる透明なR電体層42と
を積層し、フォトダイオード31が形成されている。
ラス基板33の上面に窒化シリコン膜よりなる絶縁層3
5を着膜し、この層35上に水素化アモルファスシリコ
ン(a−3i : H) ヨ’)なる半導体活性層36
を着膜し、さらに、この層36の上にn十水素化アモル
ファスシリコンよりなるオーミック・コンタクト層37
がtr膜され、さらに、この層37の上にCr2よりな
る個別電極38が着膜されている。この個別電極38の
上面に、アモルファスンリコン(a−3i)よりなる光
導電体層41と、ITOよりなる透明なR電体層42と
を積層し、フォトダイオード31が形成されている。
次に、薄膜トランジスタの構成に7いて説明すると、フ
ォトダイオード31に対し接続用の間隙を介在させたガ
ラス基板33上の位置に、Crlよりなるゲートライン
34のパターンが設けられ、このゲートライン34を覆
う窒化シリコン膜よりなる絶縁層35が着膜され、この
上に水素化アモルファスノリコン(a−3i:H)より
なる半導体層36が着膜され、この半導体層36の中央
部上面にトップ絶縁層43が設けられている。そして、
このトップ絶縁1143の一部と半導体層36とを覆う
n十水素化アモルファスシリコンよりなるオーミンク・
コンタクト層37が着膜されている。さらに、この層3
7上面にCr2よりなるドレイン電極39と、ソース電
極40とが設けられている。
ォトダイオード31に対し接続用の間隙を介在させたガ
ラス基板33上の位置に、Crlよりなるゲートライン
34のパターンが設けられ、このゲートライン34を覆
う窒化シリコン膜よりなる絶縁層35が着膜され、この
上に水素化アモルファスノリコン(a−3i:H)より
なる半導体層36が着膜され、この半導体層36の中央
部上面にトップ絶縁層43が設けられている。そして、
このトップ絶縁1143の一部と半導体層36とを覆う
n十水素化アモルファスシリコンよりなるオーミンク・
コンタクト層37が着膜されている。さらに、この層3
7上面にCr2よりなるドレイン電極39と、ソース電
極40とが設けられている。
そして、フォトダイオード31と、薄膜トランジスタ3
2の上面と、フォトダイオード31及び薄膜トランジス
タ32の間と、ソース電極40側とに透明なポリイミド
よりなる絶縁層44が積層され、フォトダイオード31
の個別電極38と、薄膜トランジスタ32のドレイン電
極39との間に、コンタクト・ホール46.47を介し
て引き廻し用のAI(アルミニューム)電極45が接続
され、さらに、フォトダイオード32のソース電極40
にコンタクト・ホール49を介してAl11極4Bが接
続されている。
2の上面と、フォトダイオード31及び薄膜トランジス
タ32の間と、ソース電極40側とに透明なポリイミド
よりなる絶縁層44が積層され、フォトダイオード31
の個別電極38と、薄膜トランジスタ32のドレイン電
極39との間に、コンタクト・ホール46.47を介し
て引き廻し用のAI(アルミニューム)電極45が接続
され、さらに、フォトダイオード32のソース電極40
にコンタクト・ホール49を介してAl11極4Bが接
続されている。
この装置の読み取り作用を説明すると、駆動回路からA
Iゲートライン53・・に順次駆動パルスを時系列的に
加えると、コンタクト・ホール52・・を介して順次C
rゲートライン34・・に入力され、薄膜トランジスタ
32のソース電極40とドレイン電極39がオンされる
と、フォトダイオード31の画像信号の電荷は個別電極
38、A111i8i45、ドレイン電極39、ソース
電極40及びAI電極48を介してマトリックス回路5
1・・に転送され、さらに読み取り用IC回路に出力さ
れる。
Iゲートライン53・・に順次駆動パルスを時系列的に
加えると、コンタクト・ホール52・・を介して順次C
rゲートライン34・・に入力され、薄膜トランジスタ
32のソース電極40とドレイン電極39がオンされる
と、フォトダイオード31の画像信号の電荷は個別電極
38、A111i8i45、ドレイン電極39、ソース
電極40及びAI電極48を介してマトリックス回路5
1・・に転送され、さらに読み取り用IC回路に出力さ
れる。
上記したようにフォトダイオード31と薄膜トランジス
タ32とは別個に形成してAI電極で接続する関係上、
両者の間にスペースを介在させる必要がある他、2個の
コンタクト・ホール46.47を介してA l @極4
5を設ける必要があるため、大きなスペースが必要とな
り、イメージセンサの小型化が阻害されるという問題が
ある。
タ32とは別個に形成してAI電極で接続する関係上、
両者の間にスペースを介在させる必要がある他、2個の
コンタクト・ホール46.47を介してA l @極4
5を設ける必要があるため、大きなスペースが必要とな
り、イメージセンサの小型化が阻害されるという問題が
ある。
本発明は、上記した課題に鑑みてなされたもので、その
目的とするところは、フォトダイオードとスイッチング
用薄膜トランジスタとの一体化を図り、もって、イメー
ジセンサの小型化を図る他、組立て部品点数ならびに工
程数を低減し、低コストのイメージセンサを提供するに
ある。
目的とするところは、フォトダイオードとスイッチング
用薄膜トランジスタとの一体化を図り、もって、イメー
ジセンサの小型化を図る他、組立て部品点数ならびに工
程数を低減し、低コストのイメージセンサを提供するに
ある。
本発明は、上記した課題を解消するために、複数のフォ
トダイオードを1ブロックとし、該ブロックを複数有す
るフォトダイオード・アレイと、前記複数のフォトダイ
オードで発生した信号電荷を各ブロック毎に転送する複
数のスイッチング用薄膜トランジスタと、前記スイッチ
ング用薄膜トランジスタを駆動して前記信号電荷を画像
信号として出力する読み取り用IC回路とを備えるイメ
ージセンサにおいて、前記スイッチング用薄膜トランジ
スタのソース電極上もしくはドレイン電極上に光導電体
層及び透明導電体層の順に積層したフォトダイオードを
設け、前記スイッチング用薄膜トランジスタ及びフォト
ダイオードを一体化するように構成した点にある。
トダイオードを1ブロックとし、該ブロックを複数有す
るフォトダイオード・アレイと、前記複数のフォトダイ
オードで発生した信号電荷を各ブロック毎に転送する複
数のスイッチング用薄膜トランジスタと、前記スイッチ
ング用薄膜トランジスタを駆動して前記信号電荷を画像
信号として出力する読み取り用IC回路とを備えるイメ
ージセンサにおいて、前記スイッチング用薄膜トランジ
スタのソース電極上もしくはドレイン電極上に光導電体
層及び透明導電体層の順に積層したフォトダイオードを
設け、前記スイッチング用薄膜トランジスタ及びフォト
ダイオードを一体化するように構成した点にある。
Tii膜トランジスタが駆動されると、フォトダイオー
ドにより検出された画像信号の電荷は薄膜トランジスタ
を介して直ちに転送される。
ドにより検出された画像信号の電荷は薄膜トランジスタ
を介して直ちに転送される。
〔実施例]
以下に本発明の詳細を、添付した図面を参照して説明す
る。
る。
第1図は本発明のイメージセンサの実施例の断面を、第
2図は第1図を矢印の方向から見た平面を示すものであ
る。
2図は第1図を矢印の方向から見た平面を示すものであ
る。
図中符号4はイメージセンサのガラス基板3の上面に設
けたCrlよりなるゲートラインを示し、このゲートラ
イン4を覆うようにして窒化シリコン膜よりなる絶縁層
5が設けられている。この絶縁層5の上面には水素化ア
モルファスシリコン(a−3i : H)よりなる半導
体活性層6が積層され、この活性層6の上面に、ゲート
電極4の真上に位置するようにしたトップ絶縁層15が
設けられている。さらに、その上面の一部を除いた絶縁
層15及び半導体活性層6を覆うn十水素化アモルファ
スシリコンよりなるオーミック・コンタクト層7が設け
られ、この層7の上に、Cr2よりなるドレイン電極8
とソース電極9とが間隙を介して設けられ、これにより
、スイッチング用薄膜トランジスタ2が形成される。そ
して、1Mトランジスタ2のドレイン電極8、換言する
と、フォトダイオード1の個別電極として機能する電極
の上面に、アモルファスシリコン(a−3i)よりなる
光導電体層10が設けられ、この上にITOよりなる透
明な導電体層11を設けて、フォトダイオード1が形成
される。
けたCrlよりなるゲートラインを示し、このゲートラ
イン4を覆うようにして窒化シリコン膜よりなる絶縁層
5が設けられている。この絶縁層5の上面には水素化ア
モルファスシリコン(a−3i : H)よりなる半導
体活性層6が積層され、この活性層6の上面に、ゲート
電極4の真上に位置するようにしたトップ絶縁層15が
設けられている。さらに、その上面の一部を除いた絶縁
層15及び半導体活性層6を覆うn十水素化アモルファ
スシリコンよりなるオーミック・コンタクト層7が設け
られ、この層7の上に、Cr2よりなるドレイン電極8
とソース電極9とが間隙を介して設けられ、これにより
、スイッチング用薄膜トランジスタ2が形成される。そ
して、1Mトランジスタ2のドレイン電極8、換言する
と、フォトダイオード1の個別電極として機能する電極
の上面に、アモルファスシリコン(a−3i)よりなる
光導電体層10が設けられ、この上にITOよりなる透
明な導電体層11を設けて、フォトダイオード1が形成
される。
そして、ドレイン電極8側から透明導電体層11及びソ
ース電極9にかけ、そして、ソース電極9側に透明なポ
リイミドよりなる絶縁層12.12が設けられる。また
、ソース電極9の上面に、コンタクト・ホール14を介
してマトリックス回路に至るA1電極13が設けられて
いる。
ース電極9にかけ、そして、ソース電極9側に透明なポ
リイミドよりなる絶縁層12.12が設けられる。また
、ソース電極9の上面に、コンタクト・ホール14を介
してマトリックス回路に至るA1電極13が設けられて
いる。
このようにして、単一の薄膜トランジスタ2毎に、その
ドレイン電極8上にフォトダイオード1を設けることに
より、フォトダイオードと一体化された一連のスイッチ
ング用fillj)ランジスタが形成されることになる
。
ドレイン電極8上にフォトダイオード1を設けることに
より、フォトダイオードと一体化された一連のスイッチ
ング用fillj)ランジスタが形成されることになる
。
このように構成された薄膜トランジスタの作用を説明す
ると、いま、フォトダイオード1に図示しない原稿画像
からの反射光が入光されると、ポリイミド12、及び透
明な導電体層11を介してフォトダイオード1に入光さ
れ、これにより、フォトダイオードlに信号電荷が蓄積
される。次に、ゲートライン4に図示しないゲートパル
ス発生回路からのパルスを入力すると、薄膜トランジス
タ2のドレイン電極8とソース電極9とがオンし、これ
により、フォトダイオードlの信号電荷はドレイン電極
8を介してソース電極9に転送され、さらに、A I
ii極13を介して図示しないマトリックス回路に転送
される。
ると、いま、フォトダイオード1に図示しない原稿画像
からの反射光が入光されると、ポリイミド12、及び透
明な導電体層11を介してフォトダイオード1に入光さ
れ、これにより、フォトダイオードlに信号電荷が蓄積
される。次に、ゲートライン4に図示しないゲートパル
ス発生回路からのパルスを入力すると、薄膜トランジス
タ2のドレイン電極8とソース電極9とがオンし、これ
により、フォトダイオードlの信号電荷はドレイン電極
8を介してソース電極9に転送され、さらに、A I
ii極13を介して図示しないマトリックス回路に転送
される。
なお、本実施例では、ドレイン電極上にフォトダイオー
ドを設ける例について説明したが、ソース電極にフォト
ダイオードを設けるとともに、ドレイン電極に引き出し
用Alx極を設けるように構成し得ることは言う迄もな
い。
ドを設ける例について説明したが、ソース電極にフォト
ダイオードを設けるとともに、ドレイン電極に引き出し
用Alx極を設けるように構成し得ることは言う迄もな
い。
以上述べたように本発明によれば、複数のフォトダイオ
ードを1ブロックとし、該ブロックを複数有するフォト
ダイオード・アレイと、前記複数のフォトダイオードで
発生した信号電荷を各ブロック毎に転送する複数のスイ
ッチング用薄膜トランジスタと、スイッチング用薄膜ト
ランジスタを駆動して前記信号電荷を画像信号として読
み出す読み取り用IC回路とを備えるイメージセンサに
おいて、前記スイッチング用薄膜トランジスタのソース
電極上もしくはドレイン電極上に光導電体層及び透明導
電体層の順に積層したフォトダイオードを設け、前記ス
イッチング用薄膜トランジスタ及びフォトダイオードを
一体化する構成を採ることにより、フォトダイオードと
スイッチング用薄膜トランジスタとの間に介在させるス
ペース、ならびに、フォトダイオード及び薄膜トランジ
スタを接続するAlt極配設用のスペースを設ける必要
がな(なり、このため、イメージセンサの小型化をはか
ることが可能になり、さらに、フォトダイオードとスイ
ッチング用薄膜トランジスタとを接続する引き廻し用の
AI電極が不要となるため、A11i極を設ける工程、
ならびに、これにコンタクト・ホールを設ける工程を滅
しることが出来、従って、小型化により低コストのイメ
ージセンサを提供することが可能となる。
ードを1ブロックとし、該ブロックを複数有するフォト
ダイオード・アレイと、前記複数のフォトダイオードで
発生した信号電荷を各ブロック毎に転送する複数のスイ
ッチング用薄膜トランジスタと、スイッチング用薄膜ト
ランジスタを駆動して前記信号電荷を画像信号として読
み出す読み取り用IC回路とを備えるイメージセンサに
おいて、前記スイッチング用薄膜トランジスタのソース
電極上もしくはドレイン電極上に光導電体層及び透明導
電体層の順に積層したフォトダイオードを設け、前記ス
イッチング用薄膜トランジスタ及びフォトダイオードを
一体化する構成を採ることにより、フォトダイオードと
スイッチング用薄膜トランジスタとの間に介在させるス
ペース、ならびに、フォトダイオード及び薄膜トランジ
スタを接続するAlt極配設用のスペースを設ける必要
がな(なり、このため、イメージセンサの小型化をはか
ることが可能になり、さらに、フォトダイオードとスイ
ッチング用薄膜トランジスタとを接続する引き廻し用の
AI電極が不要となるため、A11i極を設ける工程、
ならびに、これにコンタクト・ホールを設ける工程を滅
しることが出来、従って、小型化により低コストのイメ
ージセンサを提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のイメージセンサの一実施例の断面図、
第2図は第1図の矢印上方からみた平面図、第3図は従
来のイメージセンサの平面図、第4図は従来のフォトダ
イオードと薄膜トランジスタとの接続関係を示す断面図
である。 1・・フォトダイオード、2・・薄膜トランジスタ、3
・・ガラス基板、4・・ゲートライン、5・・絶縁層、
6・・半導体活性層、7・・オーミック・コンタクト層
、8・・ドレイン電極、9・・ソース電極、10・・光
導電体層、11・・透明導電体層、12・・ポリイミド
、13・−AI電極、14・・コンタクト・ホール、出
願 人 富士ゼロックス株式会社代理人 弁理士
何部 能書(外7名)第1図 ↓ 第4図 第2図 13 ′:j
第2図は第1図の矢印上方からみた平面図、第3図は従
来のイメージセンサの平面図、第4図は従来のフォトダ
イオードと薄膜トランジスタとの接続関係を示す断面図
である。 1・・フォトダイオード、2・・薄膜トランジスタ、3
・・ガラス基板、4・・ゲートライン、5・・絶縁層、
6・・半導体活性層、7・・オーミック・コンタクト層
、8・・ドレイン電極、9・・ソース電極、10・・光
導電体層、11・・透明導電体層、12・・ポリイミド
、13・−AI電極、14・・コンタクト・ホール、出
願 人 富士ゼロックス株式会社代理人 弁理士
何部 能書(外7名)第1図 ↓ 第4図 第2図 13 ′:j
Claims (1)
- (1)複数のフォトダイオードを1ブロックとし、該ブ
ロックを複数有するフォトダイオード・アレイと、前記
複数のフォトダイオードで発生した信号電荷を各ブロッ
ク毎に転送する複数のスイッチング用薄膜トランジスタ
と、前記スイッチング用薄膜トランジスタを駆動して前
記信号電荷を画像信号として読み出す読み取り用IC回
路とを備えるイメージセンサにおいて、前記スイッチン
グ用薄膜トランジスタのソース電極上もしくはドレイン
電極上に光導電体層及び透明導電体層の順に積層したフ
ォトダイオードを配設し、前記スイッチング用薄膜トラ
ンジスタ及びフォトダイオードを一体化したことを特徴
とするイメージセンサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2254620A JPH04133350A (ja) | 1990-09-25 | 1990-09-25 | イメージセンサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2254620A JPH04133350A (ja) | 1990-09-25 | 1990-09-25 | イメージセンサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04133350A true JPH04133350A (ja) | 1992-05-07 |
Family
ID=17267565
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2254620A Pending JPH04133350A (ja) | 1990-09-25 | 1990-09-25 | イメージセンサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04133350A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006287219A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | General Electric Co <Ge> | イメージング・システム用薄膜トランジスタ及びその製造方法 |
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1990
- 1990-09-25 JP JP2254620A patent/JPH04133350A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2006287219A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | General Electric Co <Ge> | イメージング・システム用薄膜トランジスタ及びその製造方法 |
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