JPS63293838A - 実装体 - Google Patents
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- JPS63293838A JPS63293838A JP62129315A JP12931587A JPS63293838A JP S63293838 A JPS63293838 A JP S63293838A JP 62129315 A JP62129315 A JP 62129315A JP 12931587 A JP12931587 A JP 12931587A JP S63293838 A JPS63293838 A JP S63293838A
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
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- H01L2224/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
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- H01L2924/351—Thermal stress
- H01L2924/3511—Warping
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は半導体素子の実装体に関するものであるO
従来の技術
半導体素子を高密度に実装する方法として、フェイスダ
ウン方式が実用化されている0この方法は、半導体素子
の電極上に半田バンプを形成し、この半田バンプと相対
する位置に半田処置された電極配線を有する回路基板と
を重ね合わせ、半導体素子上の半田バンプと回路基板の
電極配線とを半田づけ固定するものである。
ウン方式が実用化されている0この方法は、半導体素子
の電極上に半田バンプを形成し、この半田バンプと相対
する位置に半田処置された電極配線を有する回路基板と
を重ね合わせ、半導体素子上の半田バンプと回路基板の
電極配線とを半田づけ固定するものである。
この方法においては、接合部が固定されているため、熱
や機械的ストレスが半導体素子もしくは回路基板に作用
した際、前記接合部が破断する不良が発生するばかりか
、電極間の接合部を半田づけ固定するために、半導体素
子の電極もしくは回路基板の電極配線のピッチを小さく
できず、今後益々、多ピンで微小ピッチ化していく実装
カミにとってはひとつの課題であった。
や機械的ストレスが半導体素子もしくは回路基板に作用
した際、前記接合部が破断する不良が発生するばかりか
、電極間の接合部を半田づけ固定するために、半導体素
子の電極もしくは回路基板の電極配線のピッチを小さく
できず、今後益々、多ピンで微小ピッチ化していく実装
カミにとってはひとつの課題であった。
これを解決する実装体として、第3図以降に示す方法が
提案されている。
提案されている。
半導体素子1の周縁に6〜20μmのムU突起を有つ電
極1oが形成される(第3図)0前記半導体素子1の電
極1oと相対する位置に配線電極4を有する回路基板a
上の前記配線基板4上に光硬化性絶縁樹脂8を塗布し、
前記半導体素子1の電極10と回路基板3の配線電極4
とを位置合せし、加圧治具7で加圧しながら、紫外光9
を照射し、前記樹脂8を硬化せしめ、硬化が終れは、加
圧治具7を取去る@この様にして、実装体が完成するわ
けであるが、この方法は、樹脂の硬化収縮時の圧縮応力
によって、半導体素子の電極と回路基板の配線電極とを
圧接するメカニズムによって電気的接合と、半導体素子
と回路基板とを機械的IC保持するものである(第4図
)0 光硬化性絶縁樹脂はアクリル系、エホキシ系を用い、加
圧力は電極当り6〜10C1程度で、紫外光は1oom
W/(iで5〜20秒程度を照射するものである。また
、回路基板がガラスの如く透明であれは、回路基板側よ
シ紫外光を照射するが、セラミックや樹脂の如く不透明
であれは、半導体素子側より樹脂の露出領域のみを照射
、 +lSI!化させ影になって照射されなかった領域
は、常温で経時的に硬化させるものである〇 この様な方式においては、電極間に絶縁樹脂を介在させ
ているため、数μmピッチの電極の接続が実施でき、か
つ電極の接続部が機械的に固定されず、樹脂の応力を利
用し、電極同志を圧接した構成であるために、半導体素
子や配線基板の熱膨張等によるストレスに対して強いも
のである〇発明が解決しようとする問題点 ところが、この方法においては次の様な課題があった。
極1oが形成される(第3図)0前記半導体素子1の電
極1oと相対する位置に配線電極4を有する回路基板a
上の前記配線基板4上に光硬化性絶縁樹脂8を塗布し、
前記半導体素子1の電極10と回路基板3の配線電極4
とを位置合せし、加圧治具7で加圧しながら、紫外光9
を照射し、前記樹脂8を硬化せしめ、硬化が終れは、加
圧治具7を取去る@この様にして、実装体が完成するわ
けであるが、この方法は、樹脂の硬化収縮時の圧縮応力
によって、半導体素子の電極と回路基板の配線電極とを
圧接するメカニズムによって電気的接合と、半導体素子
と回路基板とを機械的IC保持するものである(第4図
)0 光硬化性絶縁樹脂はアクリル系、エホキシ系を用い、加
圧力は電極当り6〜10C1程度で、紫外光は1oom
W/(iで5〜20秒程度を照射するものである。また
、回路基板がガラスの如く透明であれは、回路基板側よ
シ紫外光を照射するが、セラミックや樹脂の如く不透明
であれは、半導体素子側より樹脂の露出領域のみを照射
、 +lSI!化させ影になって照射されなかった領域
は、常温で経時的に硬化させるものである〇 この様な方式においては、電極間に絶縁樹脂を介在させ
ているため、数μmピッチの電極の接続が実施でき、か
つ電極の接続部が機械的に固定されず、樹脂の応力を利
用し、電極同志を圧接した構成であるために、半導体素
子や配線基板の熱膨張等によるストレスに対して強いも
のである〇発明が解決しようとする問題点 ところが、この方法においては次の様な課題があった。
この方法は半導体素子と回路基板との間に介在させた樹
脂を硬化させる時に5お互いを加圧して、互いの電極同
志の表面を押しつけ、平面度を出す必要がある。この時
の加圧によって、第6図の妬く半導体素子1は凹状にそ
ってしまう◎これは半導体素子もしくは配線基板側に設
けた電極10を支点として、電WA10の存在しない中
央部に加圧力が集中するためである。第6図の如く、加
圧時に半導体素子もしくは配線基板がそってしまうと、
電極同志の接合が不完全となり電気的接合不良を発生さ
せるはかシか、信頼性のレベルも低下さすものであった
〇 本発明は、加圧時に半導体素子もしくは回路基板のそシ
を積極的に防止し、信頼性の高い接合を得んとするもの
である。
脂を硬化させる時に5お互いを加圧して、互いの電極同
志の表面を押しつけ、平面度を出す必要がある。この時
の加圧によって、第6図の妬く半導体素子1は凹状にそ
ってしまう◎これは半導体素子もしくは配線基板側に設
けた電極10を支点として、電WA10の存在しない中
央部に加圧力が集中するためである。第6図の如く、加
圧時に半導体素子もしくは配線基板がそってしまうと、
電極同志の接合が不完全となり電気的接合不良を発生さ
せるはかシか、信頼性のレベルも低下さすものであった
〇 本発明は、加圧時に半導体素子もしくは回路基板のそシ
を積極的に防止し、信頼性の高い接合を得んとするもの
である。
問題点を解決するための手段
本発明は、回路基板の配線電極で、半導体素子と接する
領域に孔もしくは切欠きを設けたものでめる0 作用 樹脂の硬化時に加わる圧力によって、半導体素子もしく
は回路amの中央に応力が集中しても、回路2!I!:
仮の電極の段部によって半導体素子の動きが固定され、
回路基板および半導体素子の変形を生じない0 実施例 本発明の回路基板の配#11電極で半導体素子の電極と
接する領域の平面図全第1図に示した0第1図aでは配
#電極21の先端において左右に切欠き40が形成さ扛
、第1図す、cでは配線電極の中央に孔60が角または
丸形状で形成されている。
領域に孔もしくは切欠きを設けたものでめる0 作用 樹脂の硬化時に加わる圧力によって、半導体素子もしく
は回路amの中央に応力が集中しても、回路2!I!:
仮の電極の段部によって半導体素子の動きが固定され、
回路基板および半導体素子の変形を生じない0 実施例 本発明の回路基板の配#11電極で半導体素子の電極と
接する領域の平面図全第1図に示した0第1図aでは配
#電極21の先端において左右に切欠き40が形成さ扛
、第1図す、cでは配線電極の中央に孔60が角または
丸形状で形成されている。
また第1図dではS字形に切欠き4oが形成され第1図
eの場合は配線電極21の先端に切欠き40と中央部領
域に孔60が形成されている0前記切欠きまたは孔が形
成されている領域に半導体素子の電極2oが接する様に
構成される0第2図で構成を説明する。先ず半導体素子
1もしくは回路基板3の配線電極21上に光硬化性絶縁
樹脂8を塗布し、半導体素子1のt極2oと回路基板3
の配線電極21とを位置合せし、加圧治具22で加圧し
ながら紫外光を照射せしめ、前記樹脂8を硬化させる0
那圧時に半導体素子1の電極20は回路基板3の配線電
極21の孔もしくは切欠き都にめり込んで第2図の実装
体が得られる。
eの場合は配線電極21の先端に切欠き40と中央部領
域に孔60が形成されている0前記切欠きまたは孔が形
成されている領域に半導体素子の電極2oが接する様に
構成される0第2図で構成を説明する。先ず半導体素子
1もしくは回路基板3の配線電極21上に光硬化性絶縁
樹脂8を塗布し、半導体素子1のt極2oと回路基板3
の配線電極21とを位置合せし、加圧治具22で加圧し
ながら紫外光を照射せしめ、前記樹脂8を硬化させる0
那圧時に半導体素子1の電極20は回路基板3の配線電
極21の孔もしくは切欠き都にめり込んで第2図の実装
体が得られる。
第2図の実施例に用いた半導体素子1の電極はムu、C
uの金禍突匙で高さ2〜15μmであった。
uの金禍突匙で高さ2〜15μmであった。
また回路基板はガラス板もしくは不透明なセラミック板
、樹脂板を用い配線電極はムu 、Cu 、 ITO等
を用いる事ができる0回路基板が透明な場合、前記光硬
化性樹脂は全て紫外光で硬化する型を用い、回路基板側
から2oomW/7で約6〜20秒間照射しだ〇一方、
回路基板が不透明な場合は樹脂8は光硬化+常温硬化型
のものを用い、半導体素子の裏面側から紫外it熱照射
、仮硬化させ常温で全体を完全に硬化させるものである
0発明の効果 以上のように本発明によれば、次のような効果を得るこ
とができる。
、樹脂板を用い配線電極はムu 、Cu 、 ITO等
を用いる事ができる0回路基板が透明な場合、前記光硬
化性樹脂は全て紫外光で硬化する型を用い、回路基板側
から2oomW/7で約6〜20秒間照射しだ〇一方、
回路基板が不透明な場合は樹脂8は光硬化+常温硬化型
のものを用い、半導体素子の裏面側から紫外it熱照射
、仮硬化させ常温で全体を完全に硬化させるものである
0発明の効果 以上のように本発明によれば、次のような効果を得るこ
とができる。
■ 本発明の構成であれば、たとえば第2図に示される
様に、加圧治具によって半導体素子1が加圧され、たわ
み力Δ &/が発生し、これによって半導体素子1が四
部状に変形しようとしても、半導体素子1の電極20が
前記回路基板の電極21に形成した孔6oや切欠き4o
による段部21′に喰い込んでいるために、半導体素子
1の変形が生じない。
様に、加圧治具によって半導体素子1が加圧され、たわ
み力Δ &/が発生し、これによって半導体素子1が四
部状に変形しようとしても、半導体素子1の電極20が
前記回路基板の電極21に形成した孔6oや切欠き4o
による段部21′に喰い込んでいるために、半導体素子
1の変形が生じない。
これによジ高い接合率と高い信頼性を得る事ができる0
この事は回路基板が変形する場合も同一の効果ft奏す
るものである。
この事は回路基板が変形する場合も同一の効果ft奏す
るものである。
■ また、さらに第2図の実施例を用いて説明すると、
樹脂の熱膨張によって、半導体素子が押し上けられても
、回路基板の電極に形成した孔や切欠きの段部の側面2
1′が半導体素子の電極2oと接するため、信頼性が高
い。例えば、半導体素子の電極20の高さが6〜10μ
mで樹脂の熱膨張率がI X 10”” /℃であって
も、その膨張型はSOO〜10o〇八である。回路基板
の配?fM電極の厚さft2000人〜1μm程度にす
れば、充分に段部の側面21′と接する事になる。
樹脂の熱膨張によって、半導体素子が押し上けられても
、回路基板の電極に形成した孔や切欠きの段部の側面2
1′が半導体素子の電極2oと接するため、信頼性が高
い。例えば、半導体素子の電極20の高さが6〜10μ
mで樹脂の熱膨張率がI X 10”” /℃であって
も、その膨張型はSOO〜10o〇八である。回路基板
の配?fM電極の厚さft2000人〜1μm程度にす
れば、充分に段部の側面21′と接する事になる。
■ 半導体素子や回路基板が加圧、硬化時に変形しない
ので、変形により、これらの特性を損う事がない。
ので、変形により、これらの特性を損う事がない。
第1図は本発明の実施例における実装体の回路基板の電
極部のパターンを示す平面図、第2図は不発明の実施例
の実装体の断面図、第3図は従来の実装体に用いる半導
体素子の平面図、第4図は従来の実装体の製造過程を示
す断面図、第6図は従来の実装体の問題点を説明するだ
めの断面図である。 1・・・・・・半導体素子、3・・・・・回路基板、8
・・・・・・樹脂、2o・・・・・・電極、21・・・
・・・配線電極、4o・・・・・・切欠き、6o・・・
・・・孔。
極部のパターンを示す平面図、第2図は不発明の実施例
の実装体の断面図、第3図は従来の実装体に用いる半導
体素子の平面図、第4図は従来の実装体の製造過程を示
す断面図、第6図は従来の実装体の問題点を説明するだ
めの断面図である。 1・・・・・・半導体素子、3・・・・・回路基板、8
・・・・・・樹脂、2o・・・・・・電極、21・・・
・・・配線電極、4o・・・・・・切欠き、6o・・・
・・・孔。
Claims (1)
- 第1の電極を有する半導体素子と第2の電極を有する回
路基板との間に樹脂を介在させ、加圧、硬化させるとと
もに、前記半導体素子の第1の電極と接する領域の回路
基板の第2の電極に孔もしくは切欠き部を設けてなる実
装体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62129315A JPS63293838A (ja) | 1987-05-26 | 1987-05-26 | 実装体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62129315A JPS63293838A (ja) | 1987-05-26 | 1987-05-26 | 実装体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63293838A true JPS63293838A (ja) | 1988-11-30 |
Family
ID=15006534
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62129315A Pending JPS63293838A (ja) | 1987-05-26 | 1987-05-26 | 実装体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63293838A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008171932A (ja) * | 2007-01-10 | 2008-07-24 | Kyocera Chemical Corp | 電子部品の実装方法および電子部品モジュールの製造方法 |
-
1987
- 1987-05-26 JP JP62129315A patent/JPS63293838A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008171932A (ja) * | 2007-01-10 | 2008-07-24 | Kyocera Chemical Corp | 電子部品の実装方法および電子部品モジュールの製造方法 |
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