JPS63233932A - 光学活性ナフタレン誘導体 - Google Patents

光学活性ナフタレン誘導体

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JPS63233932A
JPS63233932A JP31414886A JP31414886A JPS63233932A JP S63233932 A JPS63233932 A JP S63233932A JP 31414886 A JP31414886 A JP 31414886A JP 31414886 A JP31414886 A JP 31414886A JP S63233932 A JPS63233932 A JP S63233932A
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chemical
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Masakatsu Nakatsuka
正勝 中塚
Isao Nishizawa
西沢 功
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野〕 本発明はナフタレン骨格を・含む新規な光学活性化合物
および該化合物を含有してなる液晶組成物に関するもの
である。
(従来の技術) 現在、液晶表示素子はその低電圧動作、低消費電力性、
薄形表示が可能なこと、また受光型で目が疲れないこと
などのすぐれた特徴を有しており、各種表示素子として
広範囲に用いられている。
なかでも、ネマティック液晶を用いたTN(Twist
ed Nematic )型表示方式が広く利用されて
いる。しかしこの表示方式は応答速度が遅いという欠点
がある。
最近の産業技術の進展は、液晶表示素子にb高速応答性
を強く要求し、このような要求に対しては、液晶材料の
改良による種々の試みがなされている。既に上記要望に
応えるものとして、強誘電性液晶の光スイツチング現象
を利用した表示デバイスが提案されている(アプライド
・フィジックス・レター(^pp、、 Phys、 L
(!tt、、36.899(1980))。
強誘電性液晶は液晶相としてはカイラルスメクチック(
SC” )相が実用上望ましいものであり、カイラルス
メクチックC相を示す液晶化合物はこれまでにもいくつ
か検討されており、その内で代表的なものとして第1表
に示すものがある。
〔発明が解決しようとする問題点ン 従来の第1表の化合物は光により短時間の間に異性化を
起こしたり、また水分により加水分解を起こし液晶相を
示さなくなるという不安定要素を持つなど表示素子等の
各種光学素子として実用上好ましい特性を十分に満足し
ているとは言い難い。
本発明は、液晶組成物、特に強誘電性液晶組成物として
好適な光および化学的安定性にすぐれた新規強誘電性液
晶物質もしくは液晶組成物の槙成成分として有用な化合
物を提供するものである。
また本発明は高速応答性を有する液晶素子に適した液晶
組成物を同時に提供するものである。
〔問題点を解決するための手段〕
前記の問題点を解決するために本発明者らは多くの光学
活性基を含む液晶性化合物を合成、検討した結果、本発
明に到達°した。
すなわち、本発明は一般式(I)で表わされる。
一般式(I) 〔式中、Xは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素
原子2個までのアルキル基またはメトキシ基であり、A
およびBは少なくとも一方は不斉炭素原子を含む独立し
てそれぞれ基 であり、ここでC環、D環はそれぞれ独立して、1.4
−7エニレン、2.6−ナフタレン、ピリミジン−2,
5−ジイル、トランス−1,4−シクロヘキシレン、ト
ランス−1,3−ジオキサン−2,5−ジイル、トラン
ス−1,3−オキサチアン−2,5−ジイル、トランス
−1,3−ジチアン−2,5−ジイルまたは1.3.2
−ジオキサボリナン−2,5−ジイル基であり、これら
の基はXにより単置換あるいは多置換されていてもよく
、mおよびnは0.1または2の整数であり、zl、Z
2、Z およびz4はそれぞれ単結合、−N−CH−1
−CH=CH−1−C=C−1−N−N−1または−N
(0)=N−の群から選んだ1種または2種以上の結合
基であり、Yは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ま
たは炭素数1〜20個を有する直鎖状または分岐鎖状の
アルキル基あるいはアルケニルアルキル基(これらのア
ルキル基中の1個のCH2基または隣接していo   
     O でいてもよく、また1個の水素原子はハロゲン原子、シ
アノ基あるいはアルコキシル基に置き換えられていても
よい)〕で示される光学活性ナフタレン誘導体および該
化合物を少なくとも一種含有する液晶組成物である。
一般式(I)の化合物の多くは強誘電性液晶相として重
要なカイラルスメクチックC相を単独で示す。
また一般式(I)の化合物の中にはスメクチックA相お
よび(または)カイラルネマチック(コレステリック)
相のみを示しカイラルスメクチックC相を示さないもの
、あるいは単独では液晶相を示されないものも存在する
が、これらは複数の(I)式で表わされる化合物の配合
、あるいは他のカイラルスメクチック液晶化合物、さら
には他のスメクチック液晶化合物等との配合等により、
強誘電性を示す液晶組成物として用いることができる。
一般式(I)においてAおよびBのナフタレン環に置換
する位置についてはAおよびBが1位と4位、1位と5
位または2位と6位に置換しているのが好ましく、2位
と6位に置換しているのがより好ましい。
またXは水素原子、ハロゲン原子、メチル基またはシア
ノ基が好ましい。
一般式(1)においてΔおよびB中の71、−CH2−
1−CH=N−1−N=CH−1−CH=CH−1−C
ミC−1−N=N−1または−N (0)=N−の中か
ら1種又は2種以上を任意に選択できるが光化学的ある
いは化学的安定性を考慮すると、単結合、−C−1−0
−または−CH2−が好ましく、さらに−71−72−
基あるのがより好ましい。
C環、D環は1,4−フェニレン、2,6−ナフチレン
、ピリミジン−2,5−ジイル、トランス−1,4−シ
クロヘキシレン、トランス−1゜3−ジオキサン−2,
5−ジイル、トランス−1゜3−オキサチン−2,5−
ジイル、トランス−1゜3−ジチアン−2,5−ジイル
または1.3.2−ジオキサボリナン−2,5−ジイル
基あるいはぞれらのHがXで単!!換または多置換され
た基より任意に選択することができるが、好ましくは1
゜4−フェニレン、2.6−ナフチレン、ピリミジン−
2,5−ジイル、トランス−1,4−シクロヘキシレン
または1.3.2−ジオキサボリナン基あるいはそれら
のXにより置換された基であり、さらに好ましくは1.
4−フェニレン、2.6−ナフチレンまたはトランス−
1,4−シクロヘキシレン基あるいはそれらのXにより
置換された基である。
またAおよびB中のmおよびnは0.1または2の整数
であるが、より好ましくはm+n≦2を満たす。
一般式(I)で示される化合物の中で特に好ましい化合
物を一般式で示すと次の通りである。
・・・・・・・・・ (4−0) このタイプの具体的一般式としては O ・・・・・・・・・ (4−10) ・・・・・・・・・ (4−11) ・・・・・・・・・ (4−12) ・・・・・・・・・ (4−13) ・・・・・・・・・ (4−14) ・・・・・・・・・ (4−16) ・・・・・・・・・ (4−17) ・・・・・・・・・ (4−18) ・・・・・・・・・ (4−19) ・・・・・・・・・ (4−23> ・・・・・・・・・ (4−24) ・・・・・・・・・ (4−25) ・・・・・・・・・ (4−26) このタイプの具体的一般式としては このタイプの具体的一般式としては 0          ・・・・・・・・・(8−1)
このタイプの具体的一般式としては ・・・・・・・・・(10−1) ・・・・・・・・・ (1G−2) 0     0         ・・・・・・・・・
 (1G−5)0       0        ・
・・・・・・・・ (1G−6)0     0   
      ・・・・・・・・・ (1G−7)o  
     O・・・・・・・・・ (io−a)このタ
イプの具体的一般式としては (但し、R1およびR2は少なくとも一方は光学活性基
を含む、独立してそれぞれ基−R1−OR1は水素原子
、ハロゲン原子、シアノ基又゛は炭素数1〜20個を有
する直鎖状または分岐鎖状のアルキル基、アルコキシア
ルキル基、ハロゲノアルキル基、シアノアルキル基、ア
ルケニルアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基
を示し、Xl−・×6は水素原子、ハロゲン原子、メチ
ル基またはシアノ基であり、Zは単結合、−C−O−1
を示す。) 一般式(I)の化合物には少なくとも1tl以−りの不
斉炭素原子が存在するが、それはAおよび(または)B
中のYの中に存在するのが好ましい。
Yは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基または炭素数1
〜20個を有する直鎖状あるいは分岐鎖状のアルキル基
またはアルケニルアルキル基であり、さらにこれらのア
ルキル基中の1個のCH2基または隣接してない2個の
CH2基は一〇−1き換えられていてもよく、また1個
の水素原子はハロゲン原子、シアノ基あるいはアルコキ
シル基に置き換えられていもよく、より好ましくはYは
水素原子、ハロゲン原子、シアノ基または炭素数1〜2
0個を有する直鎖状あるいは分枝鎖状のアルキル基また
はアルケニルアルキル基(これらのアルキル基中の1個
のCH2基または隣接していない2個のCH2基は−O
−または−C−0−に、また1個の水素原子はハロゲン
原子、シアノ基あるいはアルコキシル基に置き換えられ
ていてもよい。)である。
不斉炭素源としては、すべての光学活性物質が有用であ
るが、特に光学活性アルコール類および光学活性カルボ
ン酸類が出発原料として有用である。
光学活性アルコール類としては例えば、光学活性2−メ
チルブタノール、光学活性3−メチル−ペンタノール、
光学活性4−メチル−ヘキサノール、光学活性5−メチ
ル−ヘプタツール、光学活性6−メチル−オクタツール
、光学活性シトロネロール、光学活性3,7−シメチル
オクタノール、光学活性2−ブタノール、光学活性2−
ペンタノール、光学活性2−ヘキサノール、光学活性2
ヘプタツール、光学活性2−オクタツール、光学活性2
−ノナノール、光学活性2−デカノール、光学活性2−
ウンデカノール、光学活性2−ドデカノール、光学活性
2−メチル−ペンタノール、光学活性2−メチル−へキ
サノール、光学活性2−アルキルオキシプロパンール、
光学活性3−アルキルオキシブタノール、光学活性3−
アルキルオキジペンタノール、光学活性乳酸エステル、
光学活性3−ヒドロキシ−2−メチル−プロパン酸エス
テル、光学活性3−ヒドロキシブタン酸]ニスチル、光
学活性3−ヒドロキシペンタン酸エステル、光学活性2
−ハロゲノ−プロパノール、光学活性2−へロゲノーブ
タノール、光学活性2−ハロゲノ−ペンタノール、光学
活性2−ハロゲノ−ヘキサノール、光学活性2−ハロゲ
ノ−ヘプタツール、光学活性2−ハロゲノ−オクタツー
ル、光学活性2−ハロゲノ−ノナノール、光学活性2−
へ〇ゲノーデカノール、光学活性2−ハロゲノ−ウンデ
カノール、光学活性2−ハロゲノードデカノール光学活
性−シアノ−アルキルカルビノールが有用である。
光学活性カルボン酸としては例えば光学活性2−メチル
−ブタン酸、光学活性3−メチル−ペンタン酸、光学活
性4−メチル−ヘキサン酸、光学活性2−メチル−ペン
タン酸、光学活性3.7−シメチルーオクタン酸、光学
活性3−メチル−2−へ〇ゲノーベンタン酸、光学活性
4−メチル−2−ハロゲノ゛−ブタン酸、光学活性2−
アルキルオキシ−プロパン醸、光学活性3−アルキルオ
キシ−ブタン酸、光学活性3−フルキルオキシ−ペンタ
ン酸が有用である。
本発明によって提供される液晶組成物は一般式(I)で
表わされる本発明の化合物2種以上を組み合わせて構成
す・ることができるが、次の一般式(n)で表わされる
化合物と任意に°組み合わせても構成することもできる
本発明の一般式(I)で表わされる化合物でカイラルス
メクチックC相を申独で示す化合物の構成成分としての
割合は5重石%以上が好ましい。
10重邑%存在すれば、公知の液晶化合物の応答速度を
非常に速める。SC*相を表わさない構成成分の割合と
しては50重凹%未満が好ましい。
R−X1舎、X2 ()、x3−R′< n >(式中
、EおよびF環はそれぞれ独立して基は水素原子、ハロ
ゲン原子、シアノ基またはメチル基)であり、aおよび
bはそれぞれOllまたは2の整数でありx S×2お
よびX3tよ単結合、一〇CH2−または−CH20H
2−であり、RおよびR′は水素原子、ハロゲン原子、
シアノ基あるいは1〜20個の炭素原子よりなるアルキ
ル基、アルコキシル基、光学活性アルキル基、光学活性
アルコキシル基、光学活性アルコキシアルキル基、光学
活性アルケニルアルキル基または光学活性ハロゲノアル
キル基である。) 一般式(I)の化合物は文献(たとえば、ホーペン・ヴ
エイルによるメトーデン・デル・オルガニツシェン・ヘ
ミ−のような標準的学術書)に記載されている各単位操
作それ自体既知である方法に準じ組合せて製造できる。
この点に関しては本明細塵に詳細には記載されていない
それ自体既知の変形方法もまた用いることができる。
式(I)中のAまたは(および)Bの−21−の場合、
原料物質として好ましくは式(III)、(rV)の化
合物 そして式(V)〜(■)の化合物である。
Yは前記に同じ) すなわち式(1)の化合物と式(Vl)あるいは(■)
の化合物または式(IV)の化合物と式(V)あるいは
式(■)の化合物とを通常用いられるエステル化の方法
により一般式(I)の化合物を製造できる。たとえばカ
ルボン酸化合物式(IV)、(Vl)および(■)の化
合物はカルボン酸へDライド(特にり0ライド、ブロマ
イド)あるいはカルボン酸無水物等の反応性誘導体とし
た後に式(III)、(V)あるいは(■)の化合物と
反応させる方法である。
Aまたは(および)Bの−71−72−が−CH20−
または(および)−00H2−の場合、原料物質として
好ましくは式(I([)、(V)、(■)の化合物およ
び式(IX)、(X)、(XI)の化合物である。
エーテル化の反応は通常用いられる方法、たとえば塩基
(水酸化ナトリ′ウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム等)存在下、ヒドロキシ化合物を
ハロゲン化物等の反応性アルキル誘導体と反応させて製
造できる。
第7表に本発明の化合物の代表的化合物を列挙する。
〔実施例〕
以下・実施例により本発明を具体的に説明するが、勿論
、本発明の主旨と適用範囲はこれらの実施例によって限
定されるものではない。
表中、Cは結晶相、SC*はカイラルスメクチックC相
、SAはスメクチックA相、chはコレステリック(カ
イラルネマティック)相、Iは等方性液体、そしてSX
は素性不明のスメクチック相を表わし、各相の・印とそ
の右側の数字がその相から右側の相への転移温度を示し
、−印はその相を示さないことを意味する。なお、()
内の値はモノトロピック相転移温度である。また*は不
斉炭素原子を表わす。
実施例1 (R)−6−ベンジルオキシナフタレン−2−カルボン
酸1′ 〜メチルーヘプチルエステルの製造 6−ベンジルオキシナフタレン−2−カルボン酸659
を500mのベンゼン中、5(lのシュウ酸塩化物と4
時間加熱還流した後過剰のシュウ1’!!塩化物とベン
ゼンを減圧上留去し、酸塩化物を得た。この酸塩jヒ物
を100威のベンゼンに溶解し、この溶液に(R)−2
−オクタツール30gをピリジン30−に溶解した溶液
を加え、室温で8時間放置した。析出したピリジン塩酸
塩を濾別した後有機層を2N−塩酸、2N−水酸化ナト
リウム水溶液で洗い、さらに中性になるまで水洗した。
有機層を分離し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させベン
ゼンを減圧上留去した後、残渣をエタノールより再結晶
し、目的とする(R)−6−ベンジルオキシナフタレン
−2−カルボン酸1′ −メチル−ヘプチルエステル8
0gを(qだ。
この化合物の相転移湿度は第2表p示した。
またこの化合物の元素分析値は次のとおり理論値とよく
一致した。
理論値(C26H3oO3として)  分析値C79,
96%         79.89%1−1    
7.74%           7.70%実施例2 実施例1において(R)−2−オクタツールの代りに種
々の光学活性アルコールを使用し、同様の反応を行なう
ことにより種々の光学活性−6−ベンジノレオキシナフ
タレン−2−カルボン酸アルキルエステルを製造した。
そのうち代表的な化合物の相転移温度を第2表に示した
実施例3 (R)−6−(4’  −デシルオキシフエニル力ルポ
ニルオキシ)−2−ナフタレンカルボン酎1″−メチル
−ヘプチルエステルの製造m  実施例1で製造した(
R)−6−ベンジルオキシナフタレン−2−カルボン酸
1′ −メチル−ヘプチルエステル3(lを200ad
!のエタノールに溶解し、5%−パラジウム/戻素4g
の存在下常圧、40℃で水素化した。パラジウム/炭素
を濾別後??l媒を減圧上留去し、融点67〜68℃の
脱ベンジル化生成物23gを得た。
(ii)  (i)で得た生成物(R)−6−ヒトロキ
シナフタレンー2−カルボン酸1′ −メチル−へブチ
ルニスデル4.0g、4−デシルオキシ安息香酸3.7
g、N、N’  −ジシクロへキシルカルポジイミド2
.6g及び10IRgの4−ピロリジノピリジンを50
ai!のクロロホルムに溶解し、8時間室温に放置した
。副生じたN、N’  〜ジシクロヘキシル尿素を櫨別
後有llI層を2N−塩酸、2N−水酸化ナトリウム水
溶液で洗浄しさらに水洗した。有機層を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を留去し粗生成物を得た。このも
のをベンゼンを溶出液としシリカゲルカラムクロマトを
用い精製した。さらにエタノールより再結晶し無色針状
の結晶として目的とする(R)−6−(4’  −デシ
ルオキシフェニルカルボニルオキシ)−2−ナフタレン
カルボン酸1″−メブール−へプヂルエステル5.09
を得た。収率67%。この化合物の相転移温度は第2表
に示した。またこの化合物の元素分析値は次のとおり理
論値とよく一致している。
理論値(CHOとして)  分析値 C77,11%     77.25%H8,63% 
     8.59% 実施例4 実施例3の(i)に示した方法に準じて製造した種々の
光学活性−6−ヒトOキシナフタレンー2−カルボン酸
アルキルエステル類と種々のカルボン酸類とを実施例3
の(ii)記載の方法に準じて反応させ種々のエステル
化合物をwJ造した。その代表例化合物の相転移温度を
第2表に示した。
実施例5 (S)−6−(2’  −メチル−ブチルオキシ)−2
−ナフチル−4″−デシルオキシ安Q香酸エステルの製
造 4−デシルオキシ安息香酸1.Og、(S)−6−(2
’−メチル−ブチルオキシ)−2−ナフトール750a
y、N、N’  −ジシクロへキシルカルボジイミド(
以下DCCと略記する>700IIFIおよび4−ピロ
リジノピリジン20ayを50a+t’の塩化メチレン
に入れ室温で4時間放置した。副生したN、N’  −
ジシクロへキシルウレアを濾別した後、有機層を5%塩
酸、5%水酸化ナトリウム水溶液、水の順で洗浄し、無
水硫酸マグネシウムを用いて乾燥させた。塩化メチレン
を留去した後、残渣をベンゼンを溶出液とし、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーを用い精製した。さらに得
られた結晶をエタノールより2回再結晶を行い750M
9無色針状晶の結晶として、目的とする6−((s)−
2’−メチルブチルオキシ)−2−ノ°フチルー4″−
デシルオキシ安息香酸エステルを得た。収率47%であ
った。このものの相転移温度は第2表に示した。元素分
析値は次の如くであり理論値とよく一致している。
理論1ia(CHOとして)  分析値C78,33%
     78.41%H8,638,72 実施例6 種々の6−置換−2−ナフトール類と種々のカルボン酸
類を実施例5に示した方法に準じてエステル化し、種々
の光学活性エステル化合物を¥J造した。その代表例化
合物の相転移温度は第2表に示した。
実施例7 (316−オクチルオキシナフタレン−2−カルボンW
12′ −メチル−ブチルエステルの製造6−オクチル
オキシナフタレン−2−カルボン酸2gと5IIdlの
塩化チオニルを50−のトルエン中、5時間加熱還流し
た。トルエンおよび過剰の塩化チオニルを減圧上留去し
た後、残漬を20dのトルエンに溶解し1gの(s12
−メチル−ブタノールを含む10−のピリジン溶液に加
え、10時間室温で撹拌した。反応混合物を20%塩酸
、10%水酸化ブトリウム水溶液および水の順で洗浄し
た。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、トルエン
を留去し残漬のオイルをシリカゲルカラムクロマトによ
り精製した。精製したオイルをn−ヘキサン5Idに溶
かし一20℃で冷却後、無色板状晶の結晶として(s)
−6−オクチルオキシナフタレン−2−カルボン酸2′
 −メチル−ブチルエステル1.29を得た。収率49
%。
この化合物の相転移温度は第3表に示した。またこの化
合物の元素分析値は次のとおり理論値とよく一致してい
る。
理論値(CHOとして)  分析値 C77,80%    77.85% H9,25%     9.19% 実施例8 実施例7に記載した方法に準じて6−fi換−ナフタレ
ン−2カルボン酸と種々の光学活性アルコール類とを反
応させ種々の光学活性エステルを製造した。そのうち代
表的化合物についてはその相転移温度を第3表に示した
実施例9 (S)−4−メチルカプロン酸−2’  −(6’−デ
シルオキシ)ナフチルエステルの製造6−デシルオキシ
−2−ナフトール6001!J。
(s)−4−メチルカプロン酸260#19、DCC4
20II9および4−ピロリジノピリジン10IyJを
15−の塩化メチレンに入れ室温で2時間放置した。W
jj生したN、N’  −ジシクロへキシルウレアを濾
別した後、有機層を、5%塩酸、5%水酸化ナトリウム
水溶液、水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムを用い
乾燥させた。1化メチレンを留去した後残漬をベンゼン
を溶出液としシリカゲルカラムクロマトを用いて精製し
、600qの(S)−4−メチルカプロン酸−2’  
−(6’  −デシルオキシ)ナフチルエステルを得た
。収率73%、このものの相転移温度を第3表に示した
このものの元素分析値は次のとおり理論値とよく一致し
ている。
理論値(CHOとして)  分析値 0   78.59%    78.40%8    
9.77%     9.80%実施例10 実施例9に記載した方法あるいは既知の他のエステル化
の方法に準じて6−置換−2−プフトールと光学活性カ
ルボン酸類とを反応させ種々の光学活性エステルを製造
した。そのうちいくつかの化合物についてはその相転移
温度を第3表に示した。
実施例11 (S)−4’  −(2” −メチループデルオキシ)
フェニル−6−オクチルオキシナフタレン−2−カルボ
ン酸エステルの%i造 6−オクチルオキシナフタレン−2−カルボン酸1.8
g、(S)−4−(2’  −メチループデルオキシ)
フェノール1.19、N、N’  −ジシクロヘキシル
カルボジイミド1.29および4−ビOリジノビリジン
50119を501dの塩化メチレンに溶かし、室温で
15時間放着した。副生したN、N’  −ジシクロヘ
キシル尿素を濾別した後、有機層を5%塩酸、5%水酸
化ナトリウム水溶液、水の順で洗浄し無水V!!tI!
マグネシウムを用い乾燥させた。塩化メチレンを留去し
た後、残漬をベンゼンを溶出液とし、シリカゲル、カラ
ムクロマドグラフイーを用い精製した。さらに得られた
結晶をエタノールより2回再結晶し1.5gの無色針状
晶の結晶として目的とする(s)−4’  −(2″−
メチル−ブチルオキシ)フェニル−6−オクチルオキシ
ナフタレン−2−カルボン酸エステルを得た。収率59
%。
この化合物の相転移温度は第4表に示した。またこの化
合物の元素分析値は次のとおり理論値とよ(一致した。
理論値COHOとして)  分析値 C77,89%    77.95% 8    8.28%     8.20%実施例12 実施例11に記載した方法に準じて、6−22換−ナフ
タレン−2−カルボン酸と4−置換フェノールとをエス
テル化し種々の光学活性エステル化合物を製造した。
そのうち代表的化合物の相転移温度を第4表に示した。
実施例13 (S)−3−り0ルー4−(6’  −テトラデシルオ
キシ−2′ −ナフトイルオキシ)安息香酸4”−(2
”’−メチループデルオキシ)フェニルエステルの製造 (i)   (s)−3−クロル−4−ヒドロキシ安息
香酸−4’−(2” −メチル−ブチルオキシ)フェニ
ルエステルの製造 (S)−4−(2’  −メチル−ブチルオキシ)フェ
ノールと4−ヒドロキシ−3−クロル−安息香酸より文
献(ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(
J、Org、 chea+、40.2998(1975
))記載の方法により1!J造した。融点165.2〜
166.8℃。
(ii)  (i)で得た3−クロル−4−とドロキシ
安息香酸−4’−(2“−メチル−ブチルオキシ)フェ
ニルエステル500!F16−テトラデシルオキシナフ
タレンー2−カルボン111500mg、N。
N′ −ジシクロへキシルカルボジイミド300ayと
4−ピロリジノピリジン20qを30adの塩化メチレ
ンに溶解し室温で20時間放冒した。副生したN、N’
  −ジシクロヘキシル尿素を濾別後、有機層を5%塩
酸、5%水酸化ナトリウム水溶液、水の順で洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムを用い乾燥させた。
塩化メチレンを留去し、た後、残渣をベンゼンを溶出液
としシリカゲルカラムクロマトを用い精製しさらに得ら
れた結晶をエタノール−酢酸エチルより再結晶し600
■の無色針状、4精晶として目的とする(S)−3−ク
ロル−4−(6’  −テトラデシルオキシ−21−ナ
フトイルオキシ)安息番m4“−(2”−メヂループチ
ルオキシ)フェニルエステルを得た。収率60%。相転
移温度は第5表に示した。またこの化合物の元素分析値
は次のとおり理論値とよく一致した。
0   68.19%    68.25%8    
9.19%     9.18%CI    6.10
%     6.05%実施例14 実施例13の(ii)において6−テトラデシルオキシ
ナフタレンー2−カルボン酸の代りに種々の6−アルキ
ルオキシナフタレン−2−カルボン酸を使用し同様の反
応を行ない、種々の(s)−3−クロル−4−(6’ 
 −アルキルオキシ−2′ −ナフトイルオキシ)安息
香酸4″−(2″’−メチル−ブチルオキシ)フェニル
エステルを’FJ 3ffiした。
そのうち代表的化合物の相転移温度は第5表に示した。
実施例15 (s)−4−(6’  −オクチルオキシ−2′ −ナ
フトイルオキシ)安息香酸2“−メチル−ブチルエステ
ルのwJ造 (s)−4−ヒドロキシ安息香酸2′ −メチル−ブチ
ルエステル7001115.6−オクチルオキシナフタ
レン−2−カルボンWt1.(1、N、N’−ジシクロ
へキシルカルボジイミド700ηおよび4−ピロリジノ
ピリジン20qを30ai!の塩化メチレンに溶かし室
温で10時間放置した。01生したN、N’  −ジシ
クロヘキシル尿素を濾別後、有機層を5%塩酸、5%水
酸化ナトリウム水溶液、水の順で洗浄した後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥させた。塩化メチレンを留去した後
、残渣をベンゼンを溶出液としシリカゲルカラムクロマ
トにより精製し、得られた結晶をエタノールより再結晶
し無色針状結晶として目的とする(s)−4−(6′ 
−オクチルオキシ−2′ −ナフトイルオキシ)安息香
1121−メチル−ブチルエステルを1.1g得た。収
率67%。
この化合物の相転移温度は第6表に示した。
またこの化合物の元素分析値は次のとおり理論値とよく
一致した。
理論値(CHOとして)  分析値 C75,89%    75.75% 8    7.81%     7.79%実施例16 種々の光学活性−4−ヒドロキシ安息香酸アルキルエス
テルと種々の6−置換−ナフタレン−2=カルボン酸を
用いて、実施例15に記載した製造法に準じて種々の光
学活性エステル化合物を製造した。
そのうち代表的化合物についてはその相転移温度を第6
表に示した。
実施例17 本発明の液晶化合物 り を4部 り を4部 から構成された液晶組成物は47℃までS09相を示し
47〜95℃まではSA相、それ以上の温度では等方性
液体となり、室温付近での表示素子として適している。
この混合物を電極面にシリカの斜方蒸着を施した電極間
隔が5μmのセルに注入した。この液晶セルを直交ニコ
ル状態に配置した2枚の偏光子の間にはさみ、10■の
低周波数(111z)の交流を印加したところ、明瞭な
スイッチング現象が観察され、コントラストも非常に良
く、さらには応答1も非常に速い(80μsec )液
晶表示素子がうれた。なお自発分極のviPsは42n
C/ciであった。
′に′1例18 11の液晶化合物 を2部 C1oH。
を2部 C1o)−1゜ り を2部 から構成された液晶組成物は40℃までSC8相を示し
40〜67℃まではSA相、それ以上の温度では等方性
液体となり、室温付近での表示素子として適している。
この混合物を電極面にシリカの斜方蒸着を施した電極間
隔が5μmのセルに注入した。この液晶セルを直交ニコ
ル状態に配置した2枚の偏光子の間にはさみ、10Vの
低周波数(1Hz)の交流を印加したところ、明瞭なス
イッチング現象が観察され、コントラストも非常に良く
、さらには応答速度も非常に速い(100μsec )
液晶表示素子が得られた。なお自発分極の値psは38
nC/cdであった。
実施例19 公知の液晶性化合物 度は1m5ecである。) 本発明の化合物 添加した液晶組成物は の相転移温度を示した。
またこのものを実施例17で示したセルに注入し応答速
度を測定したところ500μsecと非常に速まった。
実施例20 実施例19と同様に、本発明の化合物 本発明の液晶化合物(応答速度1m5ec)添加した液
晶混合物は と室温で動作し、その応答速度も200μsecと実施
例19の混合物と比較しても非常に速くなった。
このように本発明の化合物のうち液晶相をまったく示さ
ない化合物も室温付近で動作し、かつ応答速度のより速
い液晶組成物を得るのに非常に有用な化合物である。
実施例21 実施例3で製造した化合物と第1表中の1の構造で示さ
れる公知の光学活性4−デシルオキシベンジリデン−4
′ −アミノ−2″−メチルブチルシンナメート(DO
BAMBG)をそれぞれサンプル管に入れ、温度60℃
、湿度90%雰囲気中に40時間放冒し、その前後での
SG” −8A転移WAr!1の変化を調べた。
DOBAMBCのSG”−8A転転移度は95℃から7
5℃へと20℃も低下したのに対し、実施例3で製造し
た化合物の転移温度はまったく変化せず、水分に対し非
常に安定であることが判明した。
実施例22 実施例3で製造した化合物と公知の DOBAMBCをそれぞれガラス管に入れ、カーボンア
ークを用い30時間光照射し、その前後でのSG” −
8A転転移度の変化を調べた。
DOBAMBCのSG”−8A転移m*は95℃から7
2℃へと23℃も低下したのに対し、実施例3で製造し
た化合物の転移温度はまったく変化せず、光に対し非常
に安定であることが判明した。
予r7ゑ()7°コp 浄?′7fく (77゛J) 〔発明の効果〕 本発明は光および化学的に安定な一般式(I)で示され
る光学活性なナフタレン誘導体化合物および該化合物を
少な・くとも1種を含有する強誘電性スメクチック液晶
組成物を提供することにより、高速応答可能な表示素子
を構成し得るという優れた効果を有する。
出願人代理人  藤  本  傅  元竿1頁の続き oInt、C1,’       識別記号   庁内
整理手続ネm正書 昭和62年 7 月 3 日

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼…………( I ) 〔式中、Xは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素
    原子2個までのアルキル基またはメトキシ基であり、A
    およびBは少なくとも一方は不斉炭素原子を含む独立し
    てそれぞれ次の一般式で表わされる基であり、 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここでC環、D環はそれぞれ独立して、1,4−フェニ
    レン、2,6−ナフタレン、ピリミジン−2,5−ジイ
    ル、トランス−1,4−シクロヘキシレン、トランス−
    1,3−ジオキサン−2,5−ジイル、トランス−1,
    3−オキサチアン−2,5−ジイル、トランス−1,3
    −ジチアン−2,5−ジイルまたは1,3,2−ジオキ
    サボリナン−2,5−ジイル基であり、これらの基はX
    により単置換あるいは多置換されていてもよく、mおよ
    びnは0、1または2の整数であり、Z_1、Z_2、
    Z_3およびZ_4はそれぞれ単結合、▲数式、化学式
    、表等があります▼、−O−、−CH_2−、−CH=
    N−、 −N=CH−、−CH=CH−、−C≡C−、−N=N
    −、または−N(O)=N−の群から選んだ1種または
    2種以上の結合基であり、Yは水素原子、ハロゲン原子
    、シアノ基、または炭素数1〜20個を有する直鎖状ま
    たは分岐鎖状のアルキル基あるいはアルケニルアルキル
    基(これらのアルキル基中の1個のCH_2基または隣
    接していない2個のCH_2基は−O−、▲数式、化学
    式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼により置換されてい てもよく、また1個の水素原子はハロゲン原子、シアノ
    基あるいはアルコキシル基に置換されていてもよい。以
    下同じ)〕 で示される光学活性ナフタレン誘導体。 2、一般式( I )で示される化合物が、次の一般式(
    2−0) ▲数式、化学式、表等があります▼………(2−0) 〔式中R_1、R_2は▲数式、化学式、表等がありま
    す▼、▲数式、化学式、表等があります▼、 −R、−ORであり、但しRは、R_1、R_2の少な
    くとも一方に不斉炭素原子を含む水素原子、ハロゲン原
    子、シアノ基あるいは炭素1〜20個の直鎖状または分
    岐鎖状のアルキル基、ハロゲノアルキル基、アルコキシ
    アルキル基、シアノアルキル基、アルケニルアルキル基
    、アルコキシカルボニルアルキル基よりなる群より選ん
    だ1種の基であり、Zは単結晶、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、−CH_2O−、 −OCH_2−よりなる群より選んだ結合基である。 X_1〜X_4は水素原子、ハロゲン原子、メチル基ま
    たはシアノ基ある。以下同じ。〕 で示される化合物である特許請求の範囲第1項記載の光
    学活性ナフタレン誘導体。 3、一般式(2−0)で示される化合物が次の一般式(
    2−1)、(2−2)、(2−3)、(2−4)、(2
    −5)、(2−6)、 (2−7)、(2−8)、(2−9)、 (2−10)、(2−11)、(2−12)、(2−1
    3)および(2−14) ▲数式、化学式、表等があります▼……(2−1) ▲数式、化学式、表等があります▼……(2−2) ▲数式、化学式、表等があります▼…(2−3) ▲数式、化学式、表等があります▼…(2−4) ▲数式、化学式、表等があります▼…(2−5) ▲数式、化学式、表等があります▼…(2−6) ▲数式、化学式、表等があります▼…(2−7) ▲数式、化学式、表等があります▼…(2−8) ▲数式、化学式、表等があります▼…(2−9) ▲数式、化学式、表等があります▼…(2−10) ▲数式、化学式、表等があります▼…(2−11) ▲数式、化学式、表等があります▼…(2−12) ▲数式、化学式、表等があります▼…(2−13) ▲数式、化学式、表等があります▼…(2−14) (但し*印は不斉炭素原子を含む事を表わす。以下同じ
    。) よりなる群より選んだ1種の化合物である特許請求の範
    囲第2項に記載の光学活性ナフタレン誘導体。 4、一般式(1)で示される化合物が次の一般式(4−
    0) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−0) (但しX_5、X_6は水素原子、ハロゲン原子、メチ
    ル基またはシアノ基を示す。以下同じ。)で示される化
    合物である特許請求の範囲第1項に記載の光学活性ナフ
    タレン誘導体。 5、一般式(4−0)で示される化合物が一般式(4−
    1)、(4−2)、(4−3)、(4−4)、(4−5
    )(4−6)、(4−7)、(4−8)、(4−9)、
    (4−10)、 (4−11)、(4−12)、(4−13)、(4−1
    4)、(4−15)、(4−16)、(4−17)、4
    −18)、(4−19)、(4−20)、(4−21)
    、(4−22)、(4−23)、(4−24)、(4−
    25)および(4−26) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−1) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−2) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−3) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−4) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−5) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−6) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−7) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−8) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−9) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−10) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−11) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−12) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−13) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−14) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−15) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−16) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−17) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−18) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−19) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−20) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−21) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−22) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−23) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−24) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−25) ▲数式、化学式、表等があります▼………(4−26) よりなる群より選んだ1種の化合物である特許請求の範
    囲第4項に記載の光学活性ナフタレン誘導体。 6、一般式( I )で示される化合物が次の一般式(6
    −0) ▲数式、化学式、表等があります▼………(6−0) で示される化合物である特許請求の範囲第1項に記載の
    光学活性ナフタレン誘導体。 7、一般式(6−0)で示される化合物が次の一般式(
    6−1)、(6−2)、(6−3)、(6−4)、(6
    −5)、(6−6)、 (6−7)、(6−8)、および(6−9)▲数式、化
    学式、表等があります▼………(6−1) ▲数式、化学式、表等があります▼………(6−2) ▲数式、化学式、表等があります▼………(6−3) ▲数式、化学式、表等があります▼………(6−4) ▲数式、化学式、表等があります▼………(6−5) ▲数式、化学式、表等があります▼………(6−6) ▲数式、化学式、表等があります▼………(6−7) ▲数式、化学式、表等があります▼………(6−8) ▲数式、化学式、表等があります▼………(6−9) なる群より選んだ1種の化合物である特許請求の範囲第
    6項に記載の光学活性ナフタレン誘導体。 8、一般式( I )で示される化合物が次の一般式(8
    −0) ▲数式、化学式、表等があります▼………(8−0) (但しHはトランス1,4−シクロヘキシレン基を示す
    。以下同じ。) で示される化合物である特許請求の範囲第1項に記載の
    光学活性ナフタレン誘導体。 9、一般式(8−0)で示される化合物が、次の一般式
    (8−1)、(8−2)、(8−3)、(8−4)、(
    8−5)、(8−6)および(8−7) ▲数式、化学式、表等があります▼………(8−1) ▲数式、化学式、表等があります▼………(8−2) ▲数式、化学式、表等があります▼………(8−3) ▲数式、化学式、表等があります▼………(8−4) ▲数式、化学式、表等があります▼………(8−5) ▲数式、化学式、表等があります▼………(8−6) ▲数式、化学式、表等があります▼………(8−7) で示される特許請求の範囲第8項に記載の光学活性ナフ
    タレン誘導体。 10、一般式( I )でで示される化合物が次の一般式
    (10−0) ▲数式、化学式、表等があります▼………(10−0) で示される化合物である特許請求の範囲第1項に記載の
    光学活性ナフタレン誘導体。 11、一般式(10−0)で示される化合物が次の一般
    式(10−1)、(10−2)、(10−3)、(10
    −4)、(10−5)、(10−6)、(10−7)お
    よび(10−8)▲数式、化学式、表等があります▼…
    ……(10−1) ▲数式、化学式、表等があります▼………(10−2) ▲数式、化学式、表等があります▼………(10−3) ▲数式、化学式、表等があります▼………(10−4) ▲数式、化学式、表等があります▼………(10−5) ▲数式、化学式、表等があります▼………(10−6) ▲数式、化学式、表等があります▼………(10−7) ▲数式、化学式、表等があります▼………(10−8) で示される化合物である特許請求の範囲第10項に記載
    の光学活性ナフタレン誘導体。 12、一般式( I )で示される化合物が、次の一般式
    (12−0) ▲数式、化学式、表等があります▼………(12−0) で示される化合物である特許請求の範囲第12項に記載
    の光学活性ナフタレン誘導体。 13、一般式(12−0)で示される化合物が次の一般
    式(12−1)、(12−2)、(12−3)、(12
    −4)、(12−5)、(12−6)、(12−7)、
    (12−8)および(12−9) ▲数式、化学式、表等があります▼………(12−1) ▲数式、化学式、表等があります▼………(12−2) ▲数式、化学式、表等があります▼………(12−3) ▲数式、化学式、表等があります▼………(12−4) ▲数式、化学式、表等があります▼………(12−5) ▲数式、化学式、表等があります▼………(12−6) ▲数式、化学式、表等があります▼………(12−7) ▲数式、化学式、表等があります▼………(12−8) ▲数式、化学式、表等があります▼………(12−9) で示される化合物である特許請求の範囲第12項に記載
    の光学活性ナフタレン誘導体。 14、一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼…………( I ) で示される光学活性ナフタレン誘導体を少なくとも1種
    含有する液晶組成物。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01101389A (ja) * 1987-10-15 1989-04-19 Fujitsu Ltd 液晶組成物
JPH0249754A (ja) * 1988-05-12 1990-02-20 Mitsui Petrochem Ind Ltd ナフタレン化合物および該化合物を含む液晶組成物
JPH02191240A (ja) * 1989-01-18 1990-07-27 Adeka Argus Chem Co Ltd 光学活性なナフチルエステル化合物
JPH0368686A (ja) * 1989-08-09 1991-03-25 Showa Shell Sekiyu Kk ナフタレン骨格を含む液晶化合物
US5143644A (en) * 1989-04-06 1992-09-01 Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. Carboxylic acid ester compounds, and their related matters and method of producing the same
JP2006151928A (ja) * 2004-10-29 2006-06-15 Dainippon Ink & Chem Inc トリフルオロナフタレン誘導体
JP2010090057A (ja) * 2008-10-08 2010-04-22 Sony Corp 液晶分子、液晶表示素子及び液晶光空間変調素子
JP4517458B2 (ja) * 2000-06-14 2010-08-04 Dic株式会社 6−ブロモ−1,2−ジフルオロナフタレンの製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1603075A (en) * 1977-10-24 1981-11-18 Secr Defence Liquid crystal esters containing naphthyl groups
JPS5993777A (ja) * 1982-10-22 1984-05-30 ミネソタ・マイニング・アンド・マニユフアクチユアリング・コンパニ− ヘリクロミック―スメクチック液晶組成物
JPS62146984A (ja) * 1985-12-20 1987-06-30 Seiko Epson Corp 強誘電性液晶組成物
JPH0656673A (ja) * 1991-09-10 1994-03-01 Kobe Steel Ltd 抗発癌剤

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1603075A (en) * 1977-10-24 1981-11-18 Secr Defence Liquid crystal esters containing naphthyl groups
JPS5993777A (ja) * 1982-10-22 1984-05-30 ミネソタ・マイニング・アンド・マニユフアクチユアリング・コンパニ− ヘリクロミック―スメクチック液晶組成物
JPS62146984A (ja) * 1985-12-20 1987-06-30 Seiko Epson Corp 強誘電性液晶組成物
JPH0656673A (ja) * 1991-09-10 1994-03-01 Kobe Steel Ltd 抗発癌剤

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01101389A (ja) * 1987-10-15 1989-04-19 Fujitsu Ltd 液晶組成物
JPH0249754A (ja) * 1988-05-12 1990-02-20 Mitsui Petrochem Ind Ltd ナフタレン化合物および該化合物を含む液晶組成物
JP2672147B2 (ja) * 1988-05-12 1997-11-05 三井石油化学工業株式会社 ナフタレン化合物および該化合物を含む液晶組成物
JPH02191240A (ja) * 1989-01-18 1990-07-27 Adeka Argus Chem Co Ltd 光学活性なナフチルエステル化合物
US5143644A (en) * 1989-04-06 1992-09-01 Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. Carboxylic acid ester compounds, and their related matters and method of producing the same
JPH0368686A (ja) * 1989-08-09 1991-03-25 Showa Shell Sekiyu Kk ナフタレン骨格を含む液晶化合物
JP4517458B2 (ja) * 2000-06-14 2010-08-04 Dic株式会社 6−ブロモ−1,2−ジフルオロナフタレンの製造方法
JP2006151928A (ja) * 2004-10-29 2006-06-15 Dainippon Ink & Chem Inc トリフルオロナフタレン誘導体
JP4696549B2 (ja) * 2004-10-29 2011-06-08 Dic株式会社 トリフルオロナフタレン誘導体
JP2010090057A (ja) * 2008-10-08 2010-04-22 Sony Corp 液晶分子、液晶表示素子及び液晶光空間変調素子
US7935395B2 (en) 2008-10-08 2011-05-03 Sony Corporation Liquid crystal molecule, liquid crystal display device and liquid crystal optical spatial modulation device

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