JPS6323331A - 蓋体の開閉機構 - Google Patents
蓋体の開閉機構Info
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- JPS6323331A JPS6323331A JP61250343A JP25034386A JPS6323331A JP S6323331 A JPS6323331 A JP S6323331A JP 61250343 A JP61250343 A JP 61250343A JP 25034386 A JP25034386 A JP 25034386A JP S6323331 A JPS6323331 A JP S6323331A
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- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 15
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- SGTNSNPWRIOYBX-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-{[2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethyl](methyl)amino}-2-(propan-2-yl)pentanenitrile Chemical compound C1=C(OC)C(OC)=CC=C1CCN(C)CCCC(C#N)(C(C)C)C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 SGTNSNPWRIOYBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分!′?)
本発明はチャンバーに形成した開口部を着体によって開
閉する機構に関する。
閉する機構に関する。
(従来の技術)
プラズマ処理装置によって半導体ウェハーの表面をエツ
チングしたり、表面に形成したレジスト膜を7ツシング
する場合には、チャンバーに形成した開口部から゛h導
体ウェハーをチャンバー内に搬入し、次いで開口部を蓋
体によって気密に閉じ、チャンバ−内を減圧するととも
にチャンバー内にプラズマを発生せしめて、半導体ウェ
ハー表面を反応処理するようにしている。
チングしたり、表面に形成したレジスト膜を7ツシング
する場合には、チャンバーに形成した開口部から゛h導
体ウェハーをチャンバー内に搬入し、次いで開口部を蓋
体によって気密に閉じ、チャンバ−内を減圧するととも
にチャンバー内にプラズマを発生せしめて、半導体ウェ
ハー表面を反応処理するようにしている。
(発明が解決しようとする問題点)
1ユ述した蓋体によってチャンバーの開口部を閉じるに
は、蓋体を開口部(開口面)に対して直交する方向から
押し占てるか、開口部に対して平行に移動させて開口部
に蓋体を摺り合せるかいずれかであるが、チャンバーの
開口部をウェハーの搬入又は搬出用としても用いている
場合、以下の如き問題が生じる。
は、蓋体を開口部(開口面)に対して直交する方向から
押し占てるか、開口部に対して平行に移動させて開口部
に蓋体を摺り合せるかいずれかであるが、チャンバーの
開口部をウェハーの搬入又は搬出用としても用いている
場合、以下の如き問題が生じる。
即ち、蓋体を開口部に対して直交する方向から押し当て
る場合には、開口部を気密に閉塞することができるが、
ウェハーの搬送方向と蓋体、の移動方向とが一致するた
め、これらが干渉しないようにしなければならず、機構
が複雑となる。
る場合には、開口部を気密に閉塞することができるが、
ウェハーの搬送方向と蓋体、の移動方向とが一致するた
め、これらが干渉しないようにしなければならず、機構
が複雑となる。
−・方、?mt体を開口部に対して平行移動させて摺り
合せる場合には、ウェハーの搬送方向と蓋体の移動方向
とが異なるため、タイミングよくウェハーの搬入・搬出
及び蓋体の開閉動作を行うことができるが、開口部を気
密に閉じることが困難となる。
合せる場合には、ウェハーの搬送方向と蓋体の移動方向
とが異なるため、タイミングよくウェハーの搬入・搬出
及び蓋体の開閉動作を行うことができるが、開口部を気
密に閉じることが困難となる。
更に上記の問題は半導体ウェハーに限らず。
チャンバーに形成した開口部を蓋体によって開閉する場
合に常に問題となる。
合に常に問題となる。
(問題点を解決するための手段)
上記問題点を解決すべく本発明は、チャンバーの開口部
の近傍−側にストッパを配設し、このストッパと対向す
る位置に開口部に対してモ行移動する支持体を配設し、
この支持体にアームを介して蓋体を揺動可能に取付けた
。
の近傍−側にストッパを配設し、このストッパと対向す
る位置に開口部に対してモ行移動する支持体を配設し、
この支持体にアームを介して蓋体を揺動可能に取付けた
。
(作用)
シリンダユニット等の作動で支持体が開口部に対して平
行に且つストッパに向って移動し、支持体に取り付けた
蓋体がストッパに当接すると、蓋体が相対的に揺動して
開口部方向へ移動し、開口部に蓋体が直交方向から押し
付けられ、開口部を密閉する。
行に且つストッパに向って移動し、支持体に取り付けた
蓋体がストッパに当接すると、蓋体が相対的に揺動して
開口部方向へ移動し、開口部に蓋体が直交方向から押し
付けられ、開口部を密閉する。
(実施例)
以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて説明する。
第1図は本発明に係る蓋体の開閉機構を適用したプラズ
マ処理装置の全体図であり、プラズマ処理装置(1)は
中央に各種制御ボタン(2)・・・を備えた制御ボック
ス(3)を配設し、この制御ボックス(3)内に各種配
線の他、真空ポンプ及び高周波電源等を組み込み、制御
ボックス(3)のローダ側及びアンローダ側に長箱状の
ケース(4)、(5)を連設し、これらケース(4)、
(5)の側面を開閉扉(6)・・・としている、またケ
ース(4)、(5)の上面中央部には長手方向に開口部
(7)、(8)を形成し、この開口部(7)、(8)に
複数のウェハー(8)・・・を収納したカセッ) (1
0)の搬送部材である無端ベル) (11)、(12)
を臨ませている。この無端ベルト(11)、(12)の
上面は上記ケース(4)、(5)の上面と略々面一とさ
れ、その幅は開口部(7)、(8)の幅よりも狭くなっ
ており、無端ベル) (11)、(t2)の側端部と開
口部(7)、(8)との間には間隙(11)、(14)
が形成され、この間隙(13) 、(14)から側面ア
ングル状をなす二股状のアーム部材(]5)の上部が突
出し得るようにしている。
マ処理装置の全体図であり、プラズマ処理装置(1)は
中央に各種制御ボタン(2)・・・を備えた制御ボック
ス(3)を配設し、この制御ボックス(3)内に各種配
線の他、真空ポンプ及び高周波電源等を組み込み、制御
ボックス(3)のローダ側及びアンローダ側に長箱状の
ケース(4)、(5)を連設し、これらケース(4)、
(5)の側面を開閉扉(6)・・・としている、またケ
ース(4)、(5)の上面中央部には長手方向に開口部
(7)、(8)を形成し、この開口部(7)、(8)に
複数のウェハー(8)・・・を収納したカセッ) (1
0)の搬送部材である無端ベル) (11)、(12)
を臨ませている。この無端ベルト(11)、(12)の
上面は上記ケース(4)、(5)の上面と略々面一とさ
れ、その幅は開口部(7)、(8)の幅よりも狭くなっ
ており、無端ベル) (11)、(t2)の側端部と開
口部(7)、(8)との間には間隙(11)、(14)
が形成され、この間隙(13) 、(14)から側面ア
ングル状をなす二股状のアーム部材(]5)の上部が突
出し得るようにしている。
またケース(4)の前端部には前工程における処理が済
んだウェハー(9)を収納したカセッ) (10)を無
端ベル) (+1)上に・成せるためのリフト機構等、
、、 を組み込んだ連通部(16)を設け、ケ
ース(5)の後端部にはプラズマ処理が済んだウェハー
(3)を収納したカセン)(10)を次工程へ移送する
ための連通部(17)を設けている。
んだウェハー(9)を収納したカセッ) (10)を無
端ベル) (+1)上に・成せるためのリフト機構等、
、、 を組み込んだ連通部(16)を設け、ケ
ース(5)の後端部にはプラズマ処理が済んだウェハー
(3)を収納したカセン)(10)を次工程へ移送する
ための連通部(17)を設けている。
更に上記制御ボックス(3)の上部には前面及び後面が
開口したカバー(18)を設け、このカバー(18)内
にプラズマ発生用チャンへ−(19)を配設している。
開口したカバー(18)を設け、このカバー(18)内
にプラズマ発生用チャンへ−(19)を配設している。
このプラズマ発生用チャンバー(19)は略々円筒状を
なす石英管の外周部に電極板を固定して高周波を印加す
るようにしたものであり、カセy ト(to)の搬送方
向とチャンバー(19)の軛1とは一致し、チャンバ−
(18)の両端(図では一端のみを示す)の開口部(1
9a)はカセ、7ト(10)の搬送方向と直交している
。
なす石英管の外周部に電極板を固定して高周波を印加す
るようにしたものであり、カセy ト(to)の搬送方
向とチャンバー(19)の軛1とは一致し、チャンバ−
(18)の両端(図では一端のみを示す)の開口部(1
9a)はカセ、7ト(10)の搬送方向と直交している
。
また、開口部(19a)は第2図及び第3図に示す構成
の開閉機構によって開閉される。
の開閉機構によって開閉される。
この開閉機構は、前記カバー(18)の前端部下方、即
ち制御ボックス(3)とケース(4)の境界部近傍の底
部にシリンダユニッ) (20)を垂直方向に立設し、
このシリンダユニット(20)の口7ド(21)をカバ
ー(18)の曲端下部から内方に折曲したブラケッ)
(22)を貫通して、[−下方向に出没可能とし、且つ
口、ド(2I)の先端部には支持体(23)を固着して
いる。この支持体(23)の側面には蓋体(24)がア
ーム(25)、(25)を介して取り付けられており、
このアーム(25) 、(25)は支持体(23)内に
設けたスプリングによって第2図中反時計方向に付勢さ
れている。したがってロッド(21)が引っ込んだ状態
にあるときは蓋体(24)の上端部は支持体(23)の
上端部よりも上方へ突出することとなる。
ち制御ボックス(3)とケース(4)の境界部近傍の底
部にシリンダユニッ) (20)を垂直方向に立設し、
このシリンダユニット(20)の口7ド(21)をカバ
ー(18)の曲端下部から内方に折曲したブラケッ)
(22)を貫通して、[−下方向に出没可能とし、且つ
口、ド(2I)の先端部には支持体(23)を固着して
いる。この支持体(23)の側面には蓋体(24)がア
ーム(25)、(25)を介して取り付けられており、
このアーム(25) 、(25)は支持体(23)内に
設けたスプリングによって第2図中反時計方向に付勢さ
れている。したがってロッド(21)が引っ込んだ状態
にあるときは蓋体(24)の上端部は支持体(23)の
上端部よりも上方へ突出することとなる。
一方、カバー(18)の天井i7′17(18a)は支
持体(23)の上方まで張り出しており、その結果、第
2図にも示すように天井面(18a)と支持体(23)
とはチャンバー(19)の開口部(19a)近傍に対向
して配設されることとなり、支持体(23)及び蓋体(
24)が上動した際2天井面(18a)はこの上動を規
制するストッパとして機能する。
持体(23)の上方まで張り出しており、その結果、第
2図にも示すように天井面(18a)と支持体(23)
とはチャンバー(19)の開口部(19a)近傍に対向
して配設されることとなり、支持体(23)及び蓋体(
24)が上動した際2天井面(18a)はこの上動を規
制するストッパとして機能する。
以上の如き構成からなる開閉機構の作用を以下に説明す
る。
る。
先ず第2図に示す状態において、カセッh (10)を
載置するアーム部材(15)を開口部(19a)を介し
てチャンバー(19)内に挿入し、カセット(10)を
チャン/<−(+9)内に搬入する。次いで、シリンダ
ユニット(20)の作動でロッド頁21)が突出動する
と、蓋体(24)はこれにつれて上昇し、その」二端部
がカバー(18)の天井面(18a)に怒接する。そし
て更にロッド(21)が突出すると支持体(23)のみ
が上昇し、これにつれてアーム(25)、(25)は時
計方向に回動する。その結果蓋体(24)はその上端部
を天井面(18a)に摺接しつつ図中右方向、即ちチャ
ンバー(19)の開口部(19a)に向かって移動する
。そして支持体(23)の上端部が天井面(18a)に
当接したとき、つまりロッド(21)の上動限において
、蓋体(24)の側面に取り付けたシールリング(26
)がチャンバー(13)の開口部(19a)のフランジ
(+9b)に!l接し、第3図に示すように開口部(1
9a)を気密に閉塞することとなる。そして、気密に保
持されたチャンバー(19)内にてウェハー(9)ヲプ
ラズマ反応処理したならばチャンバー(19)の後端部
に形成した開口部から前記とは逆の動作によってカセ・
ント(10)を取り出す。
載置するアーム部材(15)を開口部(19a)を介し
てチャンバー(19)内に挿入し、カセット(10)を
チャン/<−(+9)内に搬入する。次いで、シリンダ
ユニット(20)の作動でロッド頁21)が突出動する
と、蓋体(24)はこれにつれて上昇し、その」二端部
がカバー(18)の天井面(18a)に怒接する。そし
て更にロッド(21)が突出すると支持体(23)のみ
が上昇し、これにつれてアーム(25)、(25)は時
計方向に回動する。その結果蓋体(24)はその上端部
を天井面(18a)に摺接しつつ図中右方向、即ちチャ
ンバー(19)の開口部(19a)に向かって移動する
。そして支持体(23)の上端部が天井面(18a)に
当接したとき、つまりロッド(21)の上動限において
、蓋体(24)の側面に取り付けたシールリング(26
)がチャンバー(13)の開口部(19a)のフランジ
(+9b)に!l接し、第3図に示すように開口部(1
9a)を気密に閉塞することとなる。そして、気密に保
持されたチャンバー(19)内にてウェハー(9)ヲプ
ラズマ反応処理したならばチャンバー(19)の後端部
に形成した開口部から前記とは逆の動作によってカセ・
ント(10)を取り出す。
斯かる動作を繰り返すことにより多数枚のウェハーを連
続的に処理する。
続的に処理する。
尚、図示例にあっては本発明に係る4体の開閉機構をプ
ラズマ処理装置に適用した例を示したが、これに限らず
、チャンバーの開0部を開閉するaI構として本発明は
あらゆるものに適用し得る。
ラズマ処理装置に適用した例を示したが、これに限らず
、チャンバーの開0部を開閉するaI構として本発明は
あらゆるものに適用し得る。
(発明の効果)
以」−に説明した如く本発明によれば、チャン/へ−の
開口部に対し、支持体を品行移動せしめることで、蓋体
が自動的に開口部に対し直交方向から怒接するため、ウ
ェハー等の搬送と蓋体の開閉動作と干渉することなく効
率よく行え、しかも蓋体によって開口部を気密に閉塞で
きる。
開口部に対し、支持体を品行移動せしめることで、蓋体
が自動的に開口部に対し直交方向から怒接するため、ウ
ェハー等の搬送と蓋体の開閉動作と干渉することなく効
率よく行え、しかも蓋体によって開口部を気密に閉塞で
きる。
第1図は本発明に係る蓋体の開閉機構を適用したプラズ
マ処理装置の全体図、第2図及び第3図は同蓋体の開閉
機構の断面図である。 尚、図面中(1)はプラズマ処理装置、(9)はウニバ
ー、(18)はカバー、(+8a)はストッパとしての
天井面、 (19)はチャンバー、(+9a)は開口部
、(20)はシリンダユニット、(23)は支持体、(
24)は27体、 (25)はアームである。 昔 許 出 願 人 東京応化工業株式会社代理人
弁理士 下 1) 容〜部同 弁理士
大 橋 邦 彦同 弁理士 小 山
右同 弁理士 野 1) 茂第
2図 第3図
マ処理装置の全体図、第2図及び第3図は同蓋体の開閉
機構の断面図である。 尚、図面中(1)はプラズマ処理装置、(9)はウニバ
ー、(18)はカバー、(+8a)はストッパとしての
天井面、 (19)はチャンバー、(+9a)は開口部
、(20)はシリンダユニット、(23)は支持体、(
24)は27体、 (25)はアームである。 昔 許 出 願 人 東京応化工業株式会社代理人
弁理士 下 1) 容〜部同 弁理士
大 橋 邦 彦同 弁理士 小 山
右同 弁理士 野 1) 茂第
2図 第3図
Claims (1)
- チャンバーに形成した開口部の近傍にストッパ及び支持
体を対向して配設し、支持体については前記開口部に対
して平行に移動するようにし、この支持体には一方向に
付勢されたアームを介して蓋体を揺動可能に取付け、ま
た前記ストッパについては支持体の移動によって蓋体が
当接した際に蓋体が開口部方向へ移動する角度でもって
配設されていることを特徴とする蓋体の開閉機構。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61250343A JPS6323331A (ja) | 1986-10-21 | 1986-10-21 | 蓋体の開閉機構 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61250343A JPS6323331A (ja) | 1986-10-21 | 1986-10-21 | 蓋体の開閉機構 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14755981A Division JPS5848935A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 自動プラズマ処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6323331A true JPS6323331A (ja) | 1988-01-30 |
JPS6323653B2 JPS6323653B2 (ja) | 1988-05-17 |
Family
ID=17206506
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61250343A Granted JPS6323331A (ja) | 1986-10-21 | 1986-10-21 | 蓋体の開閉機構 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6323331A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001509640A (ja) * | 1997-07-11 | 2001-07-24 | ブルックス オートメーション インコーポレイテッド | 正圧力による自動封止アクセス扉 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04143661A (ja) * | 1990-10-04 | 1992-05-18 | Daikin Ind Ltd | 風速測定器 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5239210U (ja) * | 1975-09-10 | 1977-03-19 | ||
JPS53153219U (ja) * | 1977-05-09 | 1978-12-02 | ||
JPS559940U (ja) * | 1978-07-07 | 1980-01-22 | ||
JPS5689680A (en) * | 1979-12-21 | 1981-07-21 | Tokyo Shibaura Electric Co | Switchgear for double door |
JPS5730320A (en) * | 1980-07-29 | 1982-02-18 | Fujitsu Ltd | Substrate holder for molecular beam epitaxy |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5227013A (en) * | 1975-08-27 | 1977-03-01 | Japan Atom Energy Res Inst | High temperature corrosion resisting ni-base alloy |
-
1986
- 1986-10-21 JP JP61250343A patent/JPS6323331A/ja active Granted
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5239210U (ja) * | 1975-09-10 | 1977-03-19 | ||
JPS53153219U (ja) * | 1977-05-09 | 1978-12-02 | ||
JPS559940U (ja) * | 1978-07-07 | 1980-01-22 | ||
JPS5689680A (en) * | 1979-12-21 | 1981-07-21 | Tokyo Shibaura Electric Co | Switchgear for double door |
JPS5730320A (en) * | 1980-07-29 | 1982-02-18 | Fujitsu Ltd | Substrate holder for molecular beam epitaxy |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001509640A (ja) * | 1997-07-11 | 2001-07-24 | ブルックス オートメーション インコーポレイテッド | 正圧力による自動封止アクセス扉 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6323653B2 (ja) | 1988-05-17 |
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