RU192228U1 - Вакуумная установка для нанесения тонкопленочных покрытий на подложку - Google Patents
Вакуумная установка для нанесения тонкопленочных покрытий на подложку Download PDFInfo
- Publication number
- RU192228U1 RU192228U1 RU2018142966U RU2018142966U RU192228U1 RU 192228 U1 RU192228 U1 RU 192228U1 RU 2018142966 U RU2018142966 U RU 2018142966U RU 2018142966 U RU2018142966 U RU 2018142966U RU 192228 U1 RU192228 U1 RU 192228U1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- technological
- chamber
- substrate holder
- substrate
- lock
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/568—Transferring the substrates through a series of coating stations
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
- C23C14/566—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases using a load-lock chamber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/458—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
- C23C16/4582—Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs
- C23C16/4583—Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs the substrate being supported substantially horizontally
- C23C16/4584—Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs the substrate being supported substantially horizontally the substrate being rotated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
Abstract
Полезная модель относится к области технологического оборудования для нанесения покрытий, а именно к вакуумному технологическому оборудованию, предназначенному для нанесения тонкопленочных покрытий с заданными оптическими, электрическими и другими характеристиками.Разработана вакуумная установка для нанесения тонкопленочных покрытий, включающая по меньшей мере одну технологическую камеру, установленную на каркасе и снабженную технологическими устройствами, и по меньшей мере одну шлюзовую камеру, установленную на транспортной системе, выполненной с возможностью обеспечения перемещения шлюзовой камеры из позиции загрузки/выгрузки в рабочую позицию под технологической камерой, подложкодержатель для размещения на нем подложки для нанесения тонкопленочного покрытия, выполненный с возможностью вращения вокруг своей оси, устройство подачи для перемещения подложкодержателя из шлюзовой камеры в технологическую камеру, вакуумный затвор, расположенный между камерами и выполненный с возможностью разделения внутреннего объема шлюзовой и технологической камер, устройство стыковки технологической и шлюзовой камер, при этом в верхней части технологической камеры установлен захват, выполненный с возможностью обеспечения фиксации подложкодержателя во внутреннем объеме технологической камеры и его вращения вокруг своей оси во время обработки поверхности подложки.Таким образом, разработана вакуумная установка для нанесения тонкопленочных покрытий, конструкция которой позволяет обеспечить достижение технического результата, заключающегося в сокращении времени осуществления технологического процесса, а также в повышении качества получаемого тонкопленочного покрытия.
Description
Полезная модель относится к области технологического оборудования для нанесения покрытий, а именно к вакуумному технологическому оборудованию, предназначенному для нанесения тонкопленочных покрытий с заданными оптическими, электрическими и другими характеристиками.
Из уровня техники известны различные устройства для нанесения тонкопленочных покрытий на обрабатываемые изделия.
Наиболее близким прототипом заявляемой полезной модели является вакуумная установка для нанесения тонкопленочных покрытий, описанная в международной заявке WO2017/156614 (опубл. 21.09.2017), включающая по меньшей мере одну технологическую камеру, установленную на каркасе и снабженную технологическими устройствами, и по меньшей мере одну шлюзовую камеру, установленную на транспортной системе, выполненной с возможностью обеспечения перемещения шлюзовой камеры из позиции загрузки/выгрузки в рабочую позицию под технологической камерой, подложкодержатель для размещения на нем подложки для нанесения тонкопленочного покрытия, выполненный с возможностью вращения вокруг своей оси, устройство подачи для перемещения подложкодержателя из шлюзовой камеры в технологическую камеру, вакуумный затвор, расположенный между камерами и выполненный с возможностью разделения внутреннего объема шлюзовой и технологической камер. При этом устройство подачи обеспечивает перемещение подложкодержателя в технологическую камеру до его стыковки с приводом вращения, после чего устройство подачи во время последующего вращения подложкодержателя не возвращается обратно в шлюзовую камеру, а вакуумный затвор между шлюзовой и технологической камерами остается открытым.
К недостаткам описанной конструкции можно отнести увеличение времени осуществления технологического процесса, что обусловлено необходимостью обеспечить вакуум как в технологической камере, так и в шлюзовой камере во время осуществления технологического процесса, поскольку внутренний объем камер остается неразделенным. Кроме того, присутствие устройства подачи в технологической камере во время осуществления технологического процесса нанесения тонкопленочного покрытия на подложку приводит к ухудшению качества покрытия.
В основу полезной модели поставлена задача разработать вакуумную установку для нанесения тонкопленочных покрытий, конструкция которой позволит обеспечить достижение технического результата, заключающегося в сокращении времени осуществления технологического процесса, а также в повышении качества получаемого тонкопленочного покрытия.
Поставленная задача решается тем, что разработана вакуумная установка для нанесения тонкопленочных покрытий, включающая, по меньшей мере, одну технологическую камеру, установленную на каркасе и снабженную технологическими устройствами, и, по меньшей мере, одну шлюзовую камеру, установленную на транспортной системе, выполненной с возможностью обеспечения перемещения шлюзовой камеры из позиции загрузки/выгрузки в рабочую позицию под технологической камерой, подложкодержатель для размещения на нем подложки для нанесения тонкопленочного покрытия, выполненный с возможностью вращения вокруг своей оси, устройство подачи для перемещения подложкодержателя из шлюзовой камеры в технологическую камеру, вакуумный затвор, расположенный между камерами и выполненный с возможностью разделения внутреннего объема шлюзовой и технологической камер, устройство стыковки технологической и шлюзовой камер, при этом в верхней части технологической камеры установлен захват, выполненный с возможностью обеспечения фиксации подложкодержателя во внутреннем объеме технологической камеры и его вращения вокруг своей оси во время обработки поверхности подложки.
За счет описанного конструктивного исполнения, а именно за счет наличия захвата, обеспечивается возможность разделения внутреннего объема технологической и шлюзовой камер во время осуществления технологического процесса посредством закрытия вакуумного затвора и дальнейшего вращения подложкодержателя для обеспечения обработки поверхности подложки. Таким образом, сокращается время осуществления технологического процесса, поскольку уменьшается объем, в котором требуется обеспечить вакуум, а также повышается качество получаемого тонкопленочного покрытия, поскольку в технологической камере во время его получения отсутствуют незадействованные непосредственно в технологическом процессе конструктивные элементы, которые могут приводить к загрязнению рабочего пространства.
В возможном исполнении захват, установленный в верхней части технологической камеры, содержит плиту, соединенное посредством подвижного соединения с плитой основание, снабженное набором зажимных механизмов, выполненных с возможностью фиксации подложкодержателя, пневматический привод, выполненный с возможностью передачи усилия на плиту для приведения в действие зажимных механизмов.
Предпочтительно подложкодержатель выполнен полым, в целом, в форме правильной n-угольной призмы, и оснащен сменными приемными устройствами для крепления подложек различного типоразмера.
Одним из примеров выполнения является подложкодержатель барабанного типа с цилиндрической поверхностью, имеющей возможность закрепления на ней гибких подложек.
Устройство подачи расположено снаружи шлюзовой и технологической камер. Это позволяет избежать загрязнения рабочего пространства внутри камер, что, в свою очередь, обуславливает высокое качество получаемых тонкопленочных покрытий.
Для уменьшения объема откачки в заявляемой установке шлюзовая камера выполнена по форме, соответствующей внутренней форме подложкодержателя.
В частном случае исполнения транспортная система представляет собой поворотную транспортную систему. Такая конструкция обеспечивает возможность использования заявляемой установки в массовом производстве за счет сокращения времени технологического цикла.
Описанная вакуумная установка для нанесения тонкопленочных покрытий на подложки различных типоразмеров применима для сложных и длительных технологических процессов с возможностью использования широкого круга технологий и технологических устройств.
Заявляемая полезная модель описывается с помощью следующих графических материалов.
Фиг. 1 - общий вид вакуумной установки для нанесения тонкопленочных покрытий.
Фиг. 2 - общий вид захвата вакуумной установки для нанесения тонкопленочных покрытий с приводом вращения.
На фиг. 1 в качестве примера реализации заявляемой полезной модели представлен общий вид вакуумной установки для нанесения тонкопленочных покрытий, которая включает, по меньшей мере, одну технологическую камеру 1, установленную на каркасе 2 и снабженную технологическими устройствами 3, и, по меньшей мере, одну шлюзовую камеру 4, установленную на транспортной системе (на рисунках не показана), выполненной с возможностью обеспечения перемещения шлюзовой камеры 4 из позиции загрузки/выгрузки в рабочую позицию под технологической камерой 1. Установка содержит подложкодержатель 5 для размещения на нем подложки для нанесения тонкопленочного покрытия, выполненный с возможностью вращения вокруг своей оси, устройство подачи 6 для перемещения подложкодержателя 5 из шлюзовой камеры 4 в технологическую камеру 1, вакуумный затвор 7, расположенный между камерами и выполненный с возможностью разделения внутреннего объема камер 1 и 4. В верхней части технологической камеры 1 установлен захват 8, выполненный с возможностью обеспечения фиксации подложкодержателя 5 во внутреннем объеме технологической камеры 1 во время обработки поверхности подложки и вращения подложкодержателя 5 вокруг своей оси посредством привода вращения 9. Также на фиг. 1 показаны устройство стыковки 10 и ограничители 11 объема.
На фиг. 2 в качестве примера реализации заявляемой полезной модели представлен общий вид захвата 8 вакуумной установки для нанесения тонкопленочных покрытий, содержащий подвижную плиту 12, соединенную с основанием 13, снабженным набором зажимных механизмов 14, выполненных с возможностью фиксации подложкодержателя 5. Также на фигуре показаны пневматический привод 19, включающий пневмоцилиндр 15, вакуумный ввод 16, толкатель 17, возвратные пружины 18, выполненный с возможностью передачи усилия на подвижную плиту 12 для приведения в действие зажимных механизмов 14.
Предпочтительно подложкодержатель 5 выполнен полым в форме правильной n-угольной призмы. Подложкодержатель 5 характеризуется наличием сменных приемных устройств для крепления подложек различного типоразмера. В наиболее предпочтительном варианте реализации подложкодержатель в форме правильной призмы имеет шесть боковых прямоугольных граней и на каждой грани смонтировано сменное приемное устройство для крепления подложек.
В патентуемой установке может быть использован подложкодержатель 5 барабанного типа с цилиндрической поверхностью, выполненной с возможностью закрепления на ней гибких подложек.
В позиции загрузки/выгрузки шлюзовой камеры 4 на подложкодержателе 5 может быть произведена замена подложек, замена приемных устройств вместе с подложками либо замена самого подложкодержателя, что обеспечивает сокращение времени технологического процесса. Описанное конструктивное исполнение обеспечивает возможность обработки на вакуумной установке как гибких (фольга, стекло, металл), так и твердых плоских (ниобат лития, танталат лития, стекло, кремний, сапфир, ситалл и др.) подложек различных типоразмеров.
Во время выполнения технологических операций подложкодержатель 5 находится внутри технологической камеры 1, а технологические устройства 3 расположены по периметру технологической камеры 1 вокруг вертикальной оси вращения подлождкодержателя 5. Вместе с захватом 8 подложкодержатель 5 приводится во вращение с помощью привода вращения 9 после его загрузки в технологическую камеру и фиксации в захвате 8.
Патентуемая установка в качестве технологических устройств 3 может содержать системы генерации плазмы, ионные источники очистки или травления, испарительные системы, магнетроны и т.д.
Привод вращения 9 для обеспечения вращения подложкодержателя 5 вокруг своей оси и устройство 6 его подачи в технологическую камеру 1 расположены вне технологической 1 и шлюзовой 4 камер, что позволяет избежать загрязнения рабочего пространства внутри камер и, в свою очередь, обуславливает высокое качество получаемых тонкопленочных покрытий.
Для уменьшения объема откачки в заявляемой вакуумной установке шлюзовая камера 4 выполнена по форме, соответствующей внутренней форме подложкодержателя 5 и может быть установлена на линейные направляющие транспортной системы с возможностью осуществления возвратно-поступательного движения с позиции загрузки/выгрузки на рабочую позицию под технологической камерой 1 и наоборот.
В другом возможном исполнении транспортная система представляет собой поворотную транспортную систему, включающую, например, поворотный механизм со штоком, на котором установлены две шлюзовые камеры 4. В то время, как одна шлюзовая камера пристыкована к технологической камере, вторая шлюзовая камера находится в положении загрузки/выгрузки. Описанная конструкция транспортной системы обеспечивает возможность использования заявляемой установки в массовом производстве за счет сокращения времени технологического цикла.
Для уменьшения объема откачки в заявляемой установке шлюзовая камера 4 выполнена с обеспечением соответствия форме внутренней поверхности подложкодержателя 5. Кроме того, для уменьшения «паразитного» объема откачки в шлюзовой камере 4 могут быть используются ограничители 11 объема, которые предпочтительно представляют собой вкладыши из нейтрального материала, установленные в шлюзовой камере 4.
Заявляемая вакуумная установка для нанесения тонкопленочных покрытий работает следующим образом.
Подложки предварительно закрепляют на подложкодержателе 5 вне шлюзовой камеры 4, после чего с помощью устройства подачи 6 подложкодержатель 5 в вертикальном положении автоматически опускают в шлюзовую камеру 4, установленную на транспортной системе. Далее транспортной системой перемещают шлюзовую камеру 4 с подложкодержателем 5 внутри из позиции загрузки в рабочую позицию - под технологическую камеру 1. С помощью устройства стыковки 10 герметично прижимают шлюзовую камеру 4 к вакуумному затвору 7, после чего с использование средств откачки (на рисунках не показаны), производят вначале низковакуумную затем высоковакуумную откачку шлюзовой камеры 4 при закрытом вакуумном затворе 7. При достижении требуемого вакуума открывают вакуумный затвор 7 и с помощью устройства подачи 6 перемещают подложкодержатель 5 в технологическую камеру 1 в зону захвата 8. Приводят в действие пневматический привод 19, при этом усилие от пневмоцилиндра 15 через вакуумный ввод 16 с помощью толкателя 17 передают на подвижную плиту 12, которая посредством шарнирного механизма соединена с основанием 13, снабженным, по меньшей мере, тремя зажимными механизмами 14. Указанные зажимные механизмы 14 разжимаются и подложкодержатель 5 соприкасается с основанием 13 захвата 8, после чего толкатель 17 возвращается в исходное положение и под воздействием возвратных пружин 18 зажимные механизмы 14 закрываются, захватывая и фиксируя таким образом подложкодержатель 5. После этого устройство подачи 6 опускают в шлюзовую камеру 4 и закрывают вакуумный затвор 7. Откачивают технологическую камеру 1 до требуемого рабочего давления, приводом вращения 9 осуществляют вращение захвата 8 с подложкодержателем 5, включают технологические устройства 3 и производят соответствующую обработку поверхности подложки, закрепленной на подложкодержателе 5, с нанесением на нее тонкопленочного покрытия с заданными свойствами.
После нанесения тонкопленочного покрытия с заданными свойствами останавливают вращение подложкодержателя 5, открывают вакуумный затвор 7 и вводят в технологическую камеру 1 устройство подачи 6. После стыковки устройства подачи 6 с подложкодержателем 5 осуществляют освобождение подложкодержателя 5 из захвата 8, при этом пневматическим приводом 19 с помощью толкателя 17 снова передают усилие на подвижную плиту 12, которая посредством шарнирного механизма соединена с основанием 13, обеспечивая, таким образом, разжимание зажимных механизмов 14 и, соответственно, освобождение подложкодердателя 5. Далее устройство подачи 6 перемещает подложкодержатель 5 в шлюзовую камеру 4. Производят закрытие вакуумного затвора 7 и напуск в шлюзовую камеру 4 воздуха. Выравнивают давление, после чего шлюзовую камеру 4 с подложкодержателем 5 отсоединяют от технологической камеры 1 с использованием устройства стыковки 10 и с помощью транспортной системы перемещают в зону загрузки/выгрузки, где происходит замена подложек.
Таким образом, разработана вакуумная установка для нанесения тонкопленочных покрытий, конструкция которой позволяет обеспечить достижение технического результата, заключающегося в сокращении времени осуществления технологического процесса, а также в повышении качества получаемого тонкопленочного покрытия.
Claims (6)
1. Вакуумная установка для нанесения тонкопленочных покрытий, содержащая технологическую камеру с технологическими устройствами для обработки поверхности подложки, установленную на каркасе, шлюзовую камеру, выполненную с возможностью перемещения из позиции загрузки/выгрузки в рабочую позицию под технологической камерой, подложкодержатель для размещения на нем подложки для нанесения тонкопленочного покрытия, выполненный с возможностью вращения вокруг своей оси, устройство для перемещения подложкодержателя из шлюзовой камеры в технологическую камеру, вакуумный затвор, расположенный между камерами и выполненный с возможностью разделения внутреннего объема шлюзовой и технологической камер, и устройство стыковки технологической и шлюзовой камер, отличающаяся тем, что в верхней части технологической камеры установлен захват с зажимными механизмами для подложкодержателя, выполненный с возможностью вращения вокруг своей оси во время обработки поверхности подложки, при этом захват содержит плиту, основание с зажимными механизмами для фиксации подложкодержателя, соединенное посредством подвижного соединения с плитой, и пневматический привод, выполненный с возможностью передачи усилия на плиту для приведения в действие зажимных механизмов захвата.
2. Установка по п. 1, отличающаяся тем, что подложкодержатель выполнен полым в форме правильной призмы.
3. Установка по п. 2, отличающаяся тем, что подложкодержатель выполнен со сменными приемными устройствами для крепления подложек различного типоразмера.
4. Установка по п. 1, отличающаяся тем, что подложкодержатель выполнен барабанного типа с цилиндрической поверхностью, выполненной с возможностью закрепления на ней гибких подложек.
5. Установка по п. 1, отличающаяся тем, что упомянутое устройство для перемещения расположено снаружи шлюзовой и технологической камер.
6. Установка по п. 1, отличающаяся тем, что шлюзовая камера выполнена по форме, соответствующей внутренней форме подложкодержателя.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| BYU20180234 | 2018-08-29 | ||
| BY20180234 | 2018-08-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU192228U1 true RU192228U1 (ru) | 2019-09-09 |
Family
ID=67038374
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2018142966U RU192228U1 (ru) | 2018-08-29 | 2018-12-04 | Вакуумная установка для нанесения тонкопленочных покрытий на подложку |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3221883U (ru) |
| KR (1) | KR200497904Y1 (ru) |
| CN (1) | CN211284525U (ru) |
| RU (1) | RU192228U1 (ru) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2748443C1 (ru) * | 2020-06-15 | 2021-05-25 | Акционерное общество "Омский научно-исследовательский институт приборостроения" (АО "ОНИИП") | Магнетронная распылительная система |
| RU2757882C1 (ru) * | 2021-01-11 | 2021-10-22 | Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" (Госкорпорация "Росатом") | Способ нанесения металлического покрытия из материала, подверженного активному окислению в атмосфере воздуха, и устройство для его осуществления |
| RU217003U1 (ru) * | 2021-12-02 | 2023-03-14 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный университет" (СПбГУ) | Устройство для намагничивания тонкопленочных покрытий в вакууме |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112992690B (zh) * | 2021-02-08 | 2024-03-19 | 杭州航鹏机电科技有限公司 | 一种集成电路制造工艺 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU901356A1 (ru) * | 1980-01-25 | 1982-01-30 | Предприятие П/Я А-3531 | Вакуумна установка |
| SU1153578A2 (ru) * | 1983-10-17 | 1995-07-25 | В.А. Ломовцев | Вакуумная установка |
| US5658114A (en) * | 1994-05-05 | 1997-08-19 | Leybold Aktiengesellschaft | Modular vacuum system for the treatment of disk-shaped workpieces |
| EP1098353A2 (en) * | 1999-11-03 | 2001-05-09 | Applied Materials, Inc. | Substrate processing system |
| RU2294395C2 (ru) * | 2005-04-29 | 2007-02-27 | Открытое акционерное общество "Национальный институт авиационных технологий" (ОАО "НИАТ") | Установка для вакуумной ионно-плазменной обработки поверхностей |
| RU2572658C2 (ru) * | 2014-05-20 | 2016-01-20 | Открытое акционерное общество "Кварц" | Устройство для нанесения покрытий на изделия в вакууме |
| WO2017156614A1 (ru) * | 2016-03-16 | 2017-09-21 | ШИРИПОВ, Владимир Яковлевич | Вакуумная установка для нанесения тонкопленочных покрытий и способ нанесения на ней оптических покрытий |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100585913B1 (ko) * | 2004-06-03 | 2006-06-01 | 주식회사 에이브이엠에스 | 광학소자 박막 코팅용 증발물질 용해장치 및 용해방법 |
| KR100945431B1 (ko) * | 2007-10-05 | 2010-03-05 | 한국원자력연구원 | 다층기판홀더를 이용한 양산형 박막증착장치 |
| KR100945429B1 (ko) * | 2007-10-05 | 2010-03-05 | 한국원자력연구원 | 대량의 기판 장착 및 탈착 시스템을 이용한 양산형박막증착 장치 |
| WO2009109464A1 (en) * | 2008-03-05 | 2009-09-11 | Applied Materials Inc. | Coating apparatus with rotation module |
-
2018
- 2018-12-04 RU RU2018142966U patent/RU192228U1/ru active
-
2019
- 2019-01-11 KR KR2020190000148U patent/KR200497904Y1/ko active IP Right Grant
- 2019-02-22 JP JP2019000611U patent/JP3221883U/ja active Active
- 2019-08-23 CN CN201921386722.XU patent/CN211284525U/zh active Active
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU901356A1 (ru) * | 1980-01-25 | 1982-01-30 | Предприятие П/Я А-3531 | Вакуумна установка |
| SU1153578A2 (ru) * | 1983-10-17 | 1995-07-25 | В.А. Ломовцев | Вакуумная установка |
| US5658114A (en) * | 1994-05-05 | 1997-08-19 | Leybold Aktiengesellschaft | Modular vacuum system for the treatment of disk-shaped workpieces |
| EP1098353A2 (en) * | 1999-11-03 | 2001-05-09 | Applied Materials, Inc. | Substrate processing system |
| RU2294395C2 (ru) * | 2005-04-29 | 2007-02-27 | Открытое акционерное общество "Национальный институт авиационных технологий" (ОАО "НИАТ") | Установка для вакуумной ионно-плазменной обработки поверхностей |
| RU2572658C2 (ru) * | 2014-05-20 | 2016-01-20 | Открытое акционерное общество "Кварц" | Устройство для нанесения покрытий на изделия в вакууме |
| WO2017156614A1 (ru) * | 2016-03-16 | 2017-09-21 | ШИРИПОВ, Владимир Яковлевич | Вакуумная установка для нанесения тонкопленочных покрытий и способ нанесения на ней оптических покрытий |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2748443C1 (ru) * | 2020-06-15 | 2021-05-25 | Акционерное общество "Омский научно-исследовательский институт приборостроения" (АО "ОНИИП") | Магнетронная распылительная система |
| RU2757882C1 (ru) * | 2021-01-11 | 2021-10-22 | Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" (Госкорпорация "Росатом") | Способ нанесения металлического покрытия из материала, подверженного активному окислению в атмосфере воздуха, и устройство для его осуществления |
| RU217003U1 (ru) * | 2021-12-02 | 2023-03-14 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный университет" (СПбГУ) | Устройство для намагничивания тонкопленочных покрытий в вакууме |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3221883U (ja) | 2019-06-27 |
| KR200497904Y1 (ko) | 2024-03-29 |
| CN211284525U (zh) | 2020-08-18 |
| KR20200000557U (ko) | 2020-03-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU192228U1 (ru) | Вакуумная установка для нанесения тонкопленочных покрытий на подложку | |
| KR102298893B1 (ko) | 진공처리 장치 | |
| US6429139B1 (en) | Serial wafer handling mechanism | |
| JP2002540612A (ja) | デュアル側面スロットバルブおよび同バルブを実施するための方法 | |
| JP7368460B2 (ja) | ピンリフトデバイス | |
| EP1052681B1 (en) | Apparatus for processing wafers | |
| US5205919A (en) | Cathode sputtering apparatus | |
| TW202032709A (zh) | 電隔離式的銷式舉升器 | |
| KR101381832B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
| KR20190077591A (ko) | 기판 처리 장치, 지지 핀 | |
| TWI681065B (zh) | 薄膜形成裝置 | |
| WO2017146204A1 (ja) | 真空装置 | |
| TWM590156U (zh) | 用於施加薄膜塗層的真空裝置 | |
| US20110155054A1 (en) | Vacuum processing apparatus | |
| JPH03155619A (ja) | 真空処理装置 | |
| FI130051B (en) | DEVICE AND METHOD | |
| JP7132060B2 (ja) | 成膜装置 | |
| JP4839097B2 (ja) | 真空装置 | |
| JPS6323331A (ja) | 蓋体の開閉機構 | |
| JPH01120811A (ja) | 半導体ウエハ処理装置 | |
| CN213172545U (zh) | 一种用于塑胶件的真空镀膜装置 | |
| JP5530917B2 (ja) | 試料ホルダの排気方法及び装置 | |
| JPH0262481A (ja) | ゲートバルブ | |
| JPS60160139A (ja) | 移送方法 | |
| CN117594516A (zh) | 基板处理装置和夹持机构 |