JPS5848935A - 自動プラズマ処理装置 - Google Patents
自動プラズマ処理装置Info
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- JPS5848935A JPS5848935A JP14755981A JP14755981A JPS5848935A JP S5848935 A JPS5848935 A JP S5848935A JP 14755981 A JP14755981 A JP 14755981A JP 14755981 A JP14755981 A JP 14755981A JP S5848935 A JPS5848935 A JP S5848935A
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- cassette
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- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はＬＳＩ或いは超ＬＳＩ等の大集積回路を形成し
たチップの製造に用いる半導体ウニ・・−のエツチング
、クリーニング及び半導体ウニノ・−表面のホトレジス
ト層のアッシング（灰化剥離）等に用いるプラズマ処理
装置に関する。
たチップの製造に用いる半導体ウニ・・−のエツチング
、クリーニング及び半導体ウニノ・−表面のホトレジス
ト層のアッシング（灰化剥離）等に用いるプラズマ処理
装置に関する。
半導体集積回路における微細加工には、露光・現像によ
りパターンを形成したレジスト膜を介して、ウニ・・−
に絶縁膜、半導体膜或いは導体膜をエツチングする工程
、上記膜をクリーニングする工程、及び、エツチング終
了後にマスクに用いたレジスト膜をウェハー表面から除
去するアラソング工程等が含まれている。
りパターンを形成したレジスト膜を介して、ウニ・・−
に絶縁膜、半導体膜或いは導体膜をエツチングする工程
、上記膜をクリーニングする工程、及び、エツチング終
了後にマスクに用いたレジスト膜をウェハー表面から除
去するアラソング工程等が含まれている。
そして従来にあっては、これらエツチング、クリーニン
グ或いはアッシングは無機酸、有機溶剤等の種々の液体
化学薬品を用いた湿式処理によって行なってきた。しか
しながら斯る湿式処理では微細加工の精度を高めること
ができず且つ廃液処理等の問題があり、特に最近では超
ＬＳＩの開発に伴ないパターンは更に微細化する傾向に
あるため、プラズマを利用した所謂ドライエツチング、
ドライアッシングへ移行している。
グ或いはアッシングは無機酸、有機溶剤等の種々の液体
化学薬品を用いた湿式処理によって行なってきた。しか
しながら斯る湿式処理では微細加工の精度を高めること
ができず且つ廃液処理等の問題があり、特に最近では超
ＬＳＩの開発に伴ないパターンは更に微細化する傾向に
あるため、プラズマを利用した所謂ドライエツチング、
ドライアッシングへ移行している。
このため、ドライアッシングペ、を行なうプラズマ処理
装置も種々提案されているが、これらの多くは、手作業
によって半導体ウェハーをプラズマ発生用チャンバー内
に装填したり、チャンバー内から取り出すようにしたも
のであり、極めて作業能率が低く、且つウェハー自体を
破損させる場合が多く製品歩留も好塘しいものではない
。このため自動的に処理する装置も提案されている。例
えば特開昭５３−９０８７０号に示される如きものであ
る。しかしながら斯る装置は、ウェハーを収納しタカセ
ットの搬送方向に対して直角にチャンバーが開口してい
るため、カセットの搬送方向を途中で変化させなければ
ならず、このため装置自体の機構が複雑化し、大型化す
るという問題がある。
装置も種々提案されているが、これらの多くは、手作業
によって半導体ウェハーをプラズマ発生用チャンバー内
に装填したり、チャンバー内から取り出すようにしたも
のであり、極めて作業能率が低く、且つウェハー自体を
破損させる場合が多く製品歩留も好塘しいものではない
。このため自動的に処理する装置も提案されている。例
えば特開昭５３−９０８７０号に示される如きものであ
る。しかしながら斯る装置は、ウェハーを収納しタカセ
ットの搬送方向に対して直角にチャンバーが開口してい
るため、カセットの搬送方向を途中で変化させなければ
ならず、このため装置自体の機構が複雑化し、大型化す
るという問題がある。
本発明者等は上述の如き従来の問題点に鑑み、これを有
効に解決すべく本発明を成したものであり、その目的と
する処は簡単な機構でコンパクト化が図れ、且つ半導体
ウェハーを連続して自動的に処理できる自動プラズマ処
理装置を提供するにある。
効に解決すべく本発明を成したものであり、その目的と
する処は簡単な機構でコンパクト化が図れ、且つ半導体
ウェハーを連続して自動的に処理できる自動プラズマ処
理装置を提供するにある。
斯る目的を達成すべく第１発明は装置本体に複数枚のウ
ェハーを収納シ、タカセットを搬送する搬送部材を設け
るとともに、この搬送部材の搬送方向に対して開口する
プラズマ発生用チャンバーを設置し１、このチャンバー
の開口を自動的に開閉する蓋体會付設し、更に昇降動作
及び水平動作を行なうアーム部材によって、搬送部材上
のカセットをチャンバー内に送り込むとともに、チャン
バー内のカセットを搬送部材上に取り出すようにしたこ
とを要旨と（２ている。そして第２発明は上記第１発明
の搬送部材をアーム部材に一体的に取り付けたことをそ
の要旨としている。
ェハーを収納シ、タカセットを搬送する搬送部材を設け
るとともに、この搬送部材の搬送方向に対して開口する
プラズマ発生用チャンバーを設置し１、このチャンバー
の開口を自動的に開閉する蓋体會付設し、更に昇降動作
及び水平動作を行なうアーム部材によって、搬送部材上
のカセットをチャンバー内に送り込むとともに、チャン
バー内のカセットを搬送部材上に取り出すようにしたこ
とを要旨と（２ている。そして第２発明は上記第１発明
の搬送部材をアーム部材に一体的に取り付けたことをそ
の要旨としている。
以下に本発明の好適一実施例を添付図面に基いて詳述す
る、 第１図は第１発明に係るプラズマ処理装置の全体斜視図
である。図中１１ｄ２つのチャンバーを併設し７、多数
のウェハーを同時に処理し得るようにしたプラズマ処理
装置であり、このプラズマ処理装置１は中央に各種制御
ボタン２・・・を備えた制御ボックス３を配設し、この
制御ボックス３内に各種配線の他、真空ポンプ及び高周
波電源等を絹み込んでいる。
る、 第１図は第１発明に係るプラズマ処理装置の全体斜視図
である。図中１１ｄ２つのチャンバーを併設し７、多数
のウェハーを同時に処理し得るようにしたプラズマ処理
装置であり、このプラズマ処理装置１は中央に各種制御
ボタン２・・・を備えた制御ボックス３を配設し、この
制御ボックス３内に各種配線の他、真空ポンプ及び高周
波電源等を絹み込んでいる。
そして上記制御ボックス３のローダ側及びアンローダ側
に長箱状のケース４，５を連設し、これらケース４，５
の側面を開閉ｎ６・・・とじている。
に長箱状のケース４，５を連設し、これらケース４，５
の側面を開閉ｎ６・・・とじている。
またケース４．５の上面中央部には長手方向に開口部７
．８を形成し、この開口部７．８に複数のウェハー９・
・・を収納したカセット１０の搬送部材である無端ベル
）１１．１２を臨ませている。この無端ベル）１１．１
２の上面は上記ケース４゜５の上面と略々面一とされ、
その幅Ｆｉ開口部７゜８の幅よりも狭くなっており、無
端ベルト１１゜１２の側端部と開口部７，８との間には
隙間１３゜１４が形成され、この隙間１３．１４から側
面アングル状をなす二股状のアーム部材１５の上部が突
出し得るようにしている。
．８を形成し、この開口部７．８に複数のウェハー９・
・・を収納したカセット１０の搬送部材である無端ベル
）１１．１２を臨ませている。この無端ベル）１１．１
２の上面は上記ケース４゜５の上面と略々面一とされ、
その幅Ｆｉ開口部７゜８の幅よりも狭くなっており、無
端ベルト１１゜１２の側端部と開口部７，８との間には
隙間１３゜１４が形成され、この隙間１３．１４から側
面アングル状をなす二股状のアーム部材１５の上部が突
出し得るようにしている。
またケース４の前端部には前工程における処理が済んだ
ウェハー９を収納したカセット１０を無端ベルト１１上
に載せるためのリフト機構等を組み込んだ連通部１６を
設け、ケース５の後端部にはプラズマ処理が済んだウェ
ハー９を収納したカセット１０を次工程へ移送するため
の連通部１７を設けている。
ウェハー９を収納したカセット１０を無端ベルト１１上
に載せるためのリフト機構等を組み込んだ連通部１６を
設け、ケース５の後端部にはプラズマ処理が済んだウェ
ハー９を収納したカセット１０を次工程へ移送するため
の連通部１７を設けている。
更に上記制御ボックス３の上部には前面及び後面が開口
したカバー１８を設け、このカバー１８内にプラズマ発
生用チャンバー１９を配設している。このプラズマ発生
用チャンバー１９は略々円筒状をなす石英管の外周部に
電極板を固定して高周波を印加するようにしたものであ
り、両端の開口部は上記カセット１０の搬送方向に向っ
て開口している。換言すればカセット１０の搬送方向と
チャンバー１９の軸とは一致している、第２図及び第３
図はアーム部材１５に昇降動作及び水平動作をなさしめ
る機構を示すものであり、前記ケース４の底部にシリン
ダユニット２０を水平方向に固定設置し、このシリンダ
ユニット２０のロッド２１に支持体２２を嵌着し、この
支持体２２上面に垂直方向に７リングユニツト２３を立
設し、このシリンダユニット２３のロッド２４の先端部
にアーム部材１５の下端部を固着している。
したカバー１８を設け、このカバー１８内にプラズマ発
生用チャンバー１９を配設している。このプラズマ発生
用チャンバー１９は略々円筒状をなす石英管の外周部に
電極板を固定して高周波を印加するようにしたものであ
り、両端の開口部は上記カセット１０の搬送方向に向っ
て開口している。換言すればカセット１０の搬送方向と
チャンバー１９の軸とは一致している、第２図及び第３
図はアーム部材１５に昇降動作及び水平動作をなさしめ
る機構を示すものであり、前記ケース４の底部にシリン
ダユニット２０を水平方向に固定設置し、このシリンダ
ユニット２０のロッド２１に支持体２２を嵌着し、この
支持体２２上面に垂直方向に７リングユニツト２３を立
設し、このシリンダユニット２３のロッド２４の先端部
にアーム部材１５の下端部を固着している。
而してアーム部材１５けシリンダユニット２０のロッド
２１の出没動によって水平動作を行ない、シリンダユニ
ット２３のロッド２４の出没動で昇降動作を行なう。
２１の出没動によって水平動作を行ない、シリンダユニ
ット２３のロッド２４の出没動で昇降動作を行なう。
また、上記の機構はケースぢの内部にも設けられている
。
。
第４図乃至第６図はチャンバー１９の開口部を開閉する
蓋体２５の開閉動作を示すものであり、前記カバー１８
の前端部下方、即ち制御ボックス３とケース４の境界部
近傍の底部にシリンダユニット２６を垂直方向に立設し
ている。そしてこのシリンダユニット２６のロッド２７
はカバー１８の前端下部から内方に折曲したブラケット
２８を貫通して上下方向に出没可能とされ、且つロッド
２７の先端部には支持体２９を固着している。この支持
体２９の側面には前記蓋体２５がアーム３０．３０を介
して取り付けられており、このアーム３０．３０は支持
体２９内に設けたスプリングによって図中反時計方向に
付勢されている。したがって第４図に示す如くロッド２
７が引っ込んだ状態にあるときけ蓋体２５の上端部が支
持体２９の上端部よりも上方へ突出することとなる。
蓋体２５の開閉動作を示すものであり、前記カバー１８
の前端部下方、即ち制御ボックス３とケース４の境界部
近傍の底部にシリンダユニット２６を垂直方向に立設し
ている。そしてこのシリンダユニット２６のロッド２７
はカバー１８の前端下部から内方に折曲したブラケット
２８を貫通して上下方向に出没可能とされ、且つロッド
２７の先端部には支持体２９を固着している。この支持
体２９の側面には前記蓋体２５がアーム３０．３０を介
して取り付けられており、このアーム３０．３０は支持
体２９内に設けたスプリングによって図中反時計方向に
付勢されている。したがって第４図に示す如くロッド２
７が引っ込んだ状態にあるときけ蓋体２５の上端部が支
持体２９の上端部よりも上方へ突出することとなる。
而して第４図の状態から、ロッド２７が突出動すると、
蓋体２５はこれにつれて上昇し、その上端部がカバー１
８の天井面１８ａに当接する。そして更にロッド２７が
突出すると支持体２９のみが上昇し、これにつれてアー
ム３０．３０は時計方向に回動する。その結果蓋体２５
はその上端部を天井面１８ａに摺接しつつ図中右方向、
即ちチャンバー１９の開口部１９ａに同って移動する。
蓋体２５はこれにつれて上昇し、その上端部がカバー１
８の天井面１８ａに当接する。そして更にロッド２７が
突出すると支持体２９のみが上昇し、これにつれてアー
ム３０．３０は時計方向に回動する。その結果蓋体２５
はその上端部を天井面１８ａに摺接しつつ図中右方向、
即ちチャンバー１９の開口部１９ａに同って移動する。
そして支持体２９の上端部が天井面１８ａに当接したと
き、つ捷りロッド２７の上動限において、蓋体２５の側
面に取り付けたシールリング３１がチャンバー１９の前
端部のフランジ１９ｂに当接し、第５図に示すように開
口部１９ａを気密に閉塞することとなる。そして前記と
逆の動作により第６図に示す如き元の状態に戻る。
き、つ捷りロッド２７の上動限において、蓋体２５の側
面に取り付けたシールリング３１がチャンバー１９の前
端部のフランジ１９ｂに当接し、第５図に示すように開
口部１９ａを気密に閉塞することとなる。そして前記と
逆の動作により第６図に示す如き元の状態に戻る。
またチャンバー１９の後端部の開口部を開閉する蓋体２
５も上記と同様の機構によって動作するようになってい
る。
５も上記と同様の機構によって動作するようになってい
る。
以上の如き構成からなる第１発明の作用を第７図に基い
て説明する。
て説明する。
先ず第７図（イ）に示す如く、カセット１０が無端ベル
ト１１の先端部までくるとリミットスイッチにより無端
ベルト１１が停止し、これと同時にチャンバー１９の前
端開口部を閉じていた蓋体２５が降下し、開口部を開け
る。次いで（ロ）Ｋ示す如くアーム部材１５が上昇し、
カセット１０を無端ベルト１１上から持ち上げ、（ハ）
に示す如くアーム部材１５が右方向に移動しカセット１
ｏをチャンバー１９内に送り込む。次いで←ンに示す如
くアーム部材１５が若干降下してチャンバー１９内に配
設した載置台３２上にカセット１０を載せ、牛）に示す
如くアーム部材１５が後退し、これと同時に（ロ）−ダ
側の蓋体２５が上昇しチャンバー１９の開口部を気密に
閉じる。
ト１１の先端部までくるとリミットスイッチにより無端
ベルト１１が停止し、これと同時にチャンバー１９の前
端開口部を閉じていた蓋体２５が降下し、開口部を開け
る。次いで（ロ）Ｋ示す如くアーム部材１５が上昇し、
カセット１０を無端ベルト１１上から持ち上げ、（ハ）
に示す如くアーム部材１５が右方向に移動しカセット１
ｏをチャンバー１９内に送り込む。次いで←ンに示す如
くアーム部材１５が若干降下してチャンバー１９内に配
設した載置台３２上にカセット１０を載せ、牛）に示す
如くアーム部材１５が後退し、これと同時に（ロ）−ダ
側の蓋体２５が上昇しチャンバー１９の開口部を気密に
閉じる。
そして所定時間チャンバー内でプラズマ処理を行なった
後、ム）に示す如くアンローダ側の蓋体２５を下げてチ
ャンバ−１９０後端開口部を開け、次いで（ト）に示す
如くアンローダ側のアーム部材１５がチャンバー内に入
りカセツ）１０．の下方に位置する。この後アーム部材
１５は先端部にカセットを載せたまま後退し、（１）に
示す如くアンローダ側の無端ベルト１２上にカセット１
０を移す。
後、ム）に示す如くアンローダ側の蓋体２５を下げてチ
ャンバ−１９０後端開口部を開け、次いで（ト）に示す
如くアンローダ側のアーム部材１５がチャンバー内に入
りカセツ）１０．の下方に位置する。この後アーム部材
１５は先端部にカセットを載せたまま後退し、（１）に
示す如くアンローダ側の無端ベルト１２上にカセット１
０を移す。
そしてこのカセット１０は（す）に示す如く無端ベルト
１２により後方へ搬送され、次工程へと送られる。
１２により後方へ搬送され、次工程へと送られる。
第８図及び第９図は第２発明の第１発明とは異った構成
とし、たアーム部材の動作機構を示すものである。
とし、たアーム部材の動作機構を示すものである。
即ち第２発明にあっては、水平方向に設置したシリンダ
ユニット３３のロッド３４の先端部に支持体３５を固着
し、この支持体３５に案内棒３６゜３６を貫通せしめる
ことで、支持体３５がロッド３４の出没動によって案内
棒３６．３６に沿って水平動作を行なうようにして一２
腔る。そしてこの支特休３５上には支持板３７を介して
案内棒３８゜３８を垂直方向に設けるとともに、シリン
ダユニット３９を立設し、このシリンダユニット３９の
ロッド４０の先端部にアーム部材４１の基部下面を固着
している。このアーム部材４１は上面を水平とするとと
もに、その上面に長き方向に伸びる凹溝４２を形成し、
この凹溝４２によってアーム部材４１を左右の突条部４
１ａ、４１ｂに分けている。そして左側の突条部４１ａ
［１１上記案内棒３８が挿通する孔を形成し、上記ロッ
ド４ｏの出没動に応じてアーム部材４１が案内棒３８に
沿って昇降動するようにしている。また右側の突条部４
１ｂの先端部及び後端部に軸４３．４４を回転自在に挿
通し、これら１ｌｌ１４３．４４の両端にプーリ４５・
４６を嵌合し、プーリ４５，４６間にベルト４７．４７
を張り渡し、図示しないモータによりベルト４７を駆動
するようにしている。
ユニット３３のロッド３４の先端部に支持体３５を固着
し、この支持体３５に案内棒３６゜３６を貫通せしめる
ことで、支持体３５がロッド３４の出没動によって案内
棒３６．３６に沿って水平動作を行なうようにして一２
腔る。そしてこの支特休３５上には支持板３７を介して
案内棒３８゜３８を垂直方向に設けるとともに、シリン
ダユニット３９を立設し、このシリンダユニット３９の
ロッド４０の先端部にアーム部材４１の基部下面を固着
している。このアーム部材４１は上面を水平とするとと
もに、その上面に長き方向に伸びる凹溝４２を形成し、
この凹溝４２によってアーム部材４１を左右の突条部４
１ａ、４１ｂに分けている。そして左側の突条部４１ａ
［１１上記案内棒３８が挿通する孔を形成し、上記ロッ
ド４ｏの出没動に応じてアーム部材４１が案内棒３８に
沿って昇降動するようにしている。また右側の突条部４
１ｂの先端部及び後端部に軸４３．４４を回転自在に挿
通し、これら１ｌｌ１４３．４４の両端にプーリ４５・
４６を嵌合し、プーリ４５，４６間にベルト４７．４７
を張り渡し、図示しないモータによりベルト４７を駆動
するようにしている。
第１０図及び第１１図はアーム部材４１に昇降動作及び
水平動作をなさしめる機構の別実施例を示すものであり
、同一部材については同一番号を付している。
水平動作をなさしめる機構の別実施例を示すものであり
、同一部材については同一番号を付している。
即ちモータ４８によって回転せしめられるとともに、雄
ネジ部を刻設した軸４９を水平方向に架一般し、且つこ
の軸４９に支持体３５を螺着し、軸４９の回転に応じて
支持体３５が案内棒３６に沿って水平方向に移動するよ
うにしている。そして支持体３５上にモータ５ｏを固定
し、このモータ５０によって回転せしめられるとともに
雄ネジ部を刻設した軸５１を立設し、この＠５１に前記
アーム部材４１を螺合している。而してモータ５゜を駆
動することでアーム部材４１は案内棒３８に沿って昇降
動を行なう。
ネジ部を刻設した軸４９を水平方向に架一般し、且つこ
の軸４９に支持体３５を螺着し、軸４９の回転に応じて
支持体３５が案内棒３６に沿って水平方向に移動するよ
うにしている。そして支持体３５上にモータ５ｏを固定
し、このモータ５０によって回転せしめられるとともに
雄ネジ部を刻設した軸５１を立設し、この＠５１に前記
アーム部材４１を螺合している。而してモータ５゜を駆
動することでアーム部材４１は案内棒３８に沿って昇降
動を行なう。
以上の如き構成からなる第２発明も前記第７図に示した
と同様の作用によって半導体ウェハー９・・・を収納し
たカセット１ｏをチャンバー１９内に送り込み、所定時
間プラズマ処理をした後、カセット１０をチャンバー１
９から取り出すようになっている。
と同様の作用によって半導体ウェハー９・・・を収納し
たカセット１ｏをチャンバー１９内に送り込み、所定時
間プラズマ処理をした後、カセット１０をチャンバー１
９から取り出すようになっている。
尚、図面においてはチャンバー１９のローダ側とアンロ
ーダ側に夫々無端ベル）１１，１２゜４７の如き搬送部
材及びアーム部材１５．４１を配設したものを示したが
、ローダ側のみに開口するチャンバー１９を用い、且つ
アンローダ側に搬送部材、アーム部材等を配設せずに、
ローダ側Ｃ搬送部材とアーム部材によってチャンバー内
からカセットを取り出す動作をなさしめるようにしても
よい。
ーダ側に夫々無端ベル）１１，１２゜４７の如き搬送部
材及びアーム部材１５．４１を配設したものを示したが
、ローダ側のみに開口するチャンバー１９を用い、且つ
アンローダ側に搬送部材、アーム部材等を配設せずに、
ローダ側Ｃ搬送部材とアーム部材によってチャンバー内
からカセットを取り出す動作をなさしめるようにしても
よい。
以上の説明で明らかな如く本発明によれば、プラズマ処
理装置のケース等に複数枚の半導体ウェハーを収めたカ
セットを搬送する搬送部材を設けるとともに、該カセッ
トの搬送方向に開口するプラズマ発生用チャ／バーを設
置し、昇降動作及び水平動作を行なうアーム部材によっ
てカセットのチャンバー内へＣ送り込み及び取り出しを
自動的に行なえるようにし、或いは上記アーム部材に上
記搬送部材を一体的に取り付けることでカセットのチャ
ンバー内への送り込み及び取り出しを自動的に行なえる
ようにしたので、少ない部品点数によシ多数枚のウェハ
ーを効率良く処理で、き、且つ故障しにくくコンパクト
化が図れるプラズマ処理装置を安価に製作できる等多大
の利点を有する。
理装置のケース等に複数枚の半導体ウェハーを収めたカ
セットを搬送する搬送部材を設けるとともに、該カセッ
トの搬送方向に開口するプラズマ発生用チャ／バーを設
置し、昇降動作及び水平動作を行なうアーム部材によっ
てカセットのチャンバー内へＣ送り込み及び取り出しを
自動的に行なえるようにし、或いは上記アーム部材に上
記搬送部材を一体的に取り付けることでカセットのチャ
ンバー内への送り込み及び取り出しを自動的に行なえる
ようにしたので、少ない部品点数によシ多数枚のウェハ
ーを効率良く処理で、き、且つ故障しにくくコンパクト
化が図れるプラズマ処理装置を安価に製作できる等多大
の利点を有する。
図面は本発明の実施の一例を示すものであり、第１図は
第１発明に優るプラズマ処理装置の全体斜視図、第２図
はアーム部材に昇降動作及び水平動作を行なわせる機構
を示す正面図、第３図は同機構の側面図、第４図乃至第
６図は蓋体の開、閉動を行なう機構を示す一部破断圧面
図、枦、７図＠）乃至（す）はプラズマ処理装置の作動
を順を追って説明した正面図、第８図は第２発明に係る
プラズマ処理装置のアーム部材に昇降動作及び水平動作
を行なわせる機構を示す正面図、第９図は同機構の側面
図、第１０図は別実施例を示す第８図と同様の正面図、
第１１図に同別実施例の第９図と同様の側面図である。 尚、図面中９はウニ・・−１１０ｉカセツト、１１．１
２，４７け搬送部材、１５．４１はアーム部材、１９は
プラズマ発生用チャンバー、１９ａはチャンバーの開口
、２５は蓋体である。 第１１図 ノ 易
第１発明に優るプラズマ処理装置の全体斜視図、第２図
はアーム部材に昇降動作及び水平動作を行なわせる機構
を示す正面図、第３図は同機構の側面図、第４図乃至第
６図は蓋体の開、閉動を行なう機構を示す一部破断圧面
図、枦、７図＠）乃至（す）はプラズマ処理装置の作動
を順を追って説明した正面図、第８図は第２発明に係る
プラズマ処理装置のアーム部材に昇降動作及び水平動作
を行なわせる機構を示す正面図、第９図は同機構の側面
図、第１０図は別実施例を示す第８図と同様の正面図、
第１１図に同別実施例の第９図と同様の側面図である。 尚、図面中９はウニ・・−１１０ｉカセツト、１１．１
２，４７け搬送部材、１５．４１はアーム部材、１９は
プラズマ発生用チャンバー、１９ａはチャンバーの開口
、２５は蓋体である。 第１１図 ノ 易
Claims (2)
- （１） 複数枚のウェハーを収納したカセットを搬送
する搬送部材と、上記カセットの搬送方向に対して開口
するプラズマ発生用チャンバーと、このチャンバーの開
口を開閉する蓋体と、昇降動作及び水平動作を可能とさ
れ、これらの動作によって上記搬送部材上のカセットを
上記チャンバー内に装填するとともにチャンバー内に装
填したカセットを塩９出すアーム部材とからなる自動プ
ラズマ処理装置。 - （２）複数枚の２ウニ・・−を収納したカセットを搬送
する搬送部材を上部に備え、昇降動作及び水平動作を可
能とされたアーム部材と、上記カセットの搬送方向に対
して開口するプラズマ発生用チャンバーと、このチャン
バーの開口を開閉する蓋体とからなり、上記アーム部材
の動作によって上記カセットを上記チャンバー内核装填
するとともにチャンバー内に装填したカセットををシ出
すようにした自動プラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14755981A JPS5848935A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 自動プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14755981A JPS5848935A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 自動プラズマ処理装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61250343A Division JPS6323331A (ja) | 1986-10-21 | 1986-10-21 | 蓋体の開閉機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5848935A true JPS5848935A (ja) | 1983-03-23 |
| JPH0325938B2 JPH0325938B2 (ja) | 1991-04-09 |
Family
ID=15433075
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14755981A Granted JPS5848935A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 自動プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5848935A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01181527A (ja) * | 1988-01-11 | 1989-07-19 | Mitsubishi Electric Corp | プラズマ真空容器のシール装置 |
| US6709522B1 (en) * | 2000-07-11 | 2004-03-23 | Nordson Corporation | Material handling system and methods for a multichamber plasma treatment system |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS513743U (ja) * | 1974-06-25 | 1976-01-12 | ||
| JPS53126564U (ja) * | 1977-03-17 | 1978-10-07 |
-
1981
- 1981-09-18 JP JP14755981A patent/JPS5848935A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS513743U (ja) * | 1974-06-25 | 1976-01-12 | ||
| JPS53126564U (ja) * | 1977-03-17 | 1978-10-07 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01181527A (ja) * | 1988-01-11 | 1989-07-19 | Mitsubishi Electric Corp | プラズマ真空容器のシール装置 |
| US6709522B1 (en) * | 2000-07-11 | 2004-03-23 | Nordson Corporation | Material handling system and methods for a multichamber plasma treatment system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0325938B2 (ja) | 1991-04-09 |
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