JPS63227720A - 超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 一方向性珪素鋼板の電気・磁気的特性の改善、なかでも
、鉄損の低減に係わる極限的な要請を満たそうとする近
年来の目覚ましい開発努力は、逐次その実を挙げつつあ
るが、その実施に伴う重大な弊害として、一方向性珪素
鋼板の使用に当たっての加工、組立てを経たのちいわゆ
るひずみ取り焼鈍がほどこされた場合に、特性劣化の随
伴を不可避に生じて、使途についての制限を受ける不利
が指摘される。

この明細書では、ひずみ取り焼鈍のような高温の熱履歴
を経ると否とに拘わらず、上記要請を有利に充足し得る
新たな方途を拓くことについての開発研究の成果に関連
して以下に述べる。

さて一方向性珪素鋼板は、よく知られているとおり製品
の２次再結晶粒を（１１の　（００１）　、すなわちゴ
ス方位に、高度に集積させたもので、主として変圧器そ
の他の電気機器の鉄心として使用され電気・磁気的特性
として製品の磁束密度（Ｂ＋。値で代表される）が高く
、鉄損（１’ｌｌ？／ｉｌｌ値で代表される）の低いこ
とが要求される。

この一方向性珪素鋼板は複雑多岐にわたる工程を経て製
造されるが、今までにおびただしい発明改善が加えられ
、今日では板厚０．３０ｍｍの製品の磁気特性がＢｔｅ
ｌ、９０Ｔ以上、１，７．。１．０５Ｗ／ｋｇ以下、ま
た板厚０．２３ａ＋ｍの製品の磁気特性がＢｔｅｌ、８
９Ｔ以上、Ｗ　Ｉ　？／Ｓ。０．９０Ｗ／ｋｇ以下の超
低鉄損一方向性珪素鋼板が製造されるようになって来て
いる。

特に最近では省エネの見地から電力損失の低減を特徴と
する請が著しく強まり、欧米では損失の少ない変圧器を
作る場合に鉄損の減少分を金額に換算して変圧器価格に
上積みする「ロス・エバリュエーシッン」　（鉄損評価
）制度が普及している。

（従来の技術） このような状況下において最近、一方向性珪素鋼板の仕
上焼鈍後の鋼板表面に圧延方向にほぼ直角方向でのレー
ザー照射により局部微小ひずみを導入して磁区を細分化
し、もって鉄損を低下させることが提案された（特公昭
５７−２２５２号、特公昭５７−５３４１９号、特公昭
５Ｂ−２６４０５号及び特公昭５８−２６４０６号各公
報参照）。

この磁区細分化技術はひずみ取り焼鈍を施さない、積鉄
心向はトランス材料として効果的であるが、ひずみ取り
焼鈍を施す、主として巻鉄心トランス材料にあっては、
レーザー照射によって折角導入された局部微少ひずみが
焼鈍処理により開放されて磁区幅が広（なるため、レー
ザー照射効果が失われるという欠点がある。

一方これより先に特公昭５２−２４４９９号公報におい
ては、一方向性珪素鋼板の仕上げ焼鈍後の鋼板表面を鏡
面仕上げするか又はその鏡面仕上げ面上に金属薄めっき
やさらにその上に絶縁被膜を塗布焼付けすることによる
、超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法が提案されてい
る。

しかしながらこの鏡面仕上げによる鉄損向上手法は、工
程的に採用するには、著しいコストアップになる割りに
鉄損低減への寄与が充分でない上、とくに鏡面仕上後に
不可欠な絶縁被膜を塗布焼付した後の密着性に問題があ
るため、現在の製造工程において採用されるに到っては
いない。

また特公昭５６−４１５０号公報においても鋼板表面を
鏡面仕上げした後、酸化物系セラミックス薄膜を蒸着す
る方法が提案されている。しかしながらこの方法も６０
０″Ｃ以上の高温焼鈍を施すと鋼板とセラミックス層と
がはく離するため、実際の製造工程では採用できない。

（発明が解決しようとする問題点） 発明者らは上記した鏡面仕上による鉄損向上を目指しそ
の実効をより有利に引き出すにあたって、とくに今日の
省エネ材料開発の観点では上記したごときコストアップ
の不利を凌駕する特性、なかでも高温処理でも特性劣化
を伴うことなくして絶縁層の密着性、耐久性の問題を克
服することが肝要と考え、この基本認識に立脚し、仕上
焼鈍済みの方向性珪素鋼板表面上の酸化物を除去した後
に研磨を施して鏡面状態にする場合も含め、該酸化物除
去後における鋼板処理方法の根本的改善によってとくに
有利な超低鉄損化を達成することが発明の目的である。

（問題点を解決するための手段） 種々検討した結果、方向性珪素鋼板の仕上焼鈍板表面上
の酸化物を除去した後、ＣＶＤ、イオンプレーティング
もしくはイオンインプランテーションによりＴｉ、Ｚｒ
＋Ｖ＋Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ＋Ｗ＋Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ
、Ａｌ、Ｂ＋Ｓｉの窒化物及び／又は炭化物、並びにＡ
ｌ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｗ、Ｓｔ及びＺｎの酸化物のうちから
選んだ異種２層の極薄張力被膜を、上記酸化物よりなる
ものは上層に重ねて、鋼板表面上へ形成させること（第
１発明）を基本的構成として、極薄張力被膜の形成に先
立ち鋼板の酸化物除去面に研磨を施して中心線平均粗さ
０．４　Ｂ　ｔａ以下の鏡面状態にすること（第２発明
）、そして第１発明、第２各発明に従う極薄張力被膜上
に、りん酸塩とコロイダルシリカを主成分とする絶縁被
膜を形成し、これに次いで該鋼板の圧延方向を横切る向
きに塑性ひずみを導入してからさらに低温絶縁コーティ
ング被膜を形成させること（第３，４各発明）の各付加
的構成を加える場合とともに、それぞれ上記の目的を有
利に充足することかたしかめられた。

上記各発明の成功が導かれた基礎実験から順次に説明を
進める。

ＣＯ，０４８重量％（以下単に％で示す）　、Ｓｉ　３
．３９％、Ｍｎ　Ｏ，０６８％、Ｓｅ　Ｏ，０２２％、
Ｓｂ　Ｏ，０２５％及びＭ。

０．０２５χを含有する珪素鋼連鋳スラブを、１３４０
℃で４時間加熱後熱間圧延して２．Ｏｓ＋ｇｅ厚の熱延
板とした。

その後９００°Ｃで３分間の均一化焼鈍後、９５０”Ｃ
で３分間の中間焼鈍をはさむ２回の冷間圧延を施して０
．２３ｅ＋ｍ厚の最終冷延板とした。

その後８２０”Ｃの温水素雰囲気中で脱炭・−成典結晶
焼鈍を施した後、鋼板表面に不活性Ａ１ｇＯｓ（８０χ
）とＭｇＯ（２０χ）から成る焼鈍分離剤を塗布し、つ
いで８５０℃で５０時間の２次再結晶焼鈍と、１２００
℃で飽水素中５時間の純化焼鈍とを施した。かくして得
られた仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板コイルを１０区分
しそれぞれについて、表１に示す処理条件に従い処理し
た。

酸洗は１０％のＨＣＩ液中に浸漬した。

その後イオンプレーティング装置を用いて鋼板表面に０
．３ｕｔａ厚のＴｉＮの張力被膜を形成させた後、その
上にさらに５ｉＪＬを０．３μ醜厚のブレーティング処
理を行なった。（表１−（ａ））。

その後この表面上にりん酸塩とコロイダルシリカを主成
分とする絶縁被膜を形成させた（表１−山））。

また仕上焼鈍後の鋼板を酸洗したあと３％ＨＰとＨ，Ｏ
ｔ液液中化学研磨して鋼板表面を中心線平均粗さ０．０
５μに鏡面仕上したあとイオンプレーティング装置を用
いて鋼板表面に０．３μ醜厚のτｉＮ張力被膜を形成さ
せた後、その上にさらに５ｉｓＮａを０．３μ醜厚のブ
レーティング処理を施した（表１−（Ｃ））。

その後この表面上にりん酸塩とコロイダルシリカを主成
分とする絶縁被膜を形成させた（表１−（ｄ）。

さらにその後一部の試料はレーザー照射〔レーザー照射
条件はＹＡＧレーザーを使用し、スポット当りのエネル
ギー４Ｘ１０−３Ｊ、スポット直径０．１５ｍ１ｓ、ス
ポットの中心間隔０．４＋＋ｕ＋＋、レーザー走査痕間
隔ｆ＝１３＋ａ＋）した後、低温絶縁コーティング被膜
を施した（表１−（ｅ））。

（ｅ）の場合において酸洗後に化学研磨処理を行った（
表１−（ｆ））　。

比較のため上記の熱延板を酸洗又は酸洗後化学研磨した
（表１（６）と（ｉ））ほか、さらにこれらに低温絶縁
コーティング被膜を施した（表１（ハ）、（ｊ））。

これらの種々の条件で処理したときの製品の磁気特性を
表１にあわせ示す。

表１から製品の磁気特性は、仕上焼鈍後の酸洗処理と酸
洗後化学研磨による鏡面仕上げ処理とを比較すると、鋼
板表面を鏡面状態にした上でイオンプレーティングによ
り異種２層の張力被膜を形成させた場合において磁気特
性がきわめて良好となる。

さらに表１−（ｂ）、同一（ｄ）の絶縁被膜上にレーザ
ー照射を施した場合異種多重の張力被膜効果をさらに発
揮させることが可能であって、ここに異種２層の極薄張
力被膜を形成させたことによって鋼板表面にきわめて効
果的に張力弾性ひずみが加わるため鉄損をより効果的に
低下させることが可能である。

（作　用） 上に述べた磁気特性の向上はまず鋼板表面との強力な密
着性を保ちつつ異種２層の極薄張力被膜を形成すること
によって効果的に超低鉄損が実現されるのであり、その
状態は鋼板表面状態に大きく依存し、鋼板表面上の酸化
物が除去された状態さらには鋼板表面を鏡面状態にして
一層効果的に発揮することが可能である。また異種２層
以上の極薄被膜を形成させた後の塑性ひずみ導入によっ
てさらに効果的に低鉄損化を図ることが可能である。

次に、一方向性珪素鋼板の製造工程について一般的な説
明を含めてより詳しく述べる。

まず出発素材は従来公知の一方向性珪素鋼板素材成分、
例えば ■Ｃ：０．００４〜ｏ、ｏｓｏχ、Ｓｉ　：　０．２５
〜４．５χ、Ｍｎ　：　０．０１〜０．２χ、Ｍｏ：０
．００３〜０．１χ、Ｓｂ：０．００５〜０．２χ、Ｓ
あるいはＳｅの１種あるいは２種合計で、０．００５〜
０．０５％を含有する組成 ■Ｃ：０．００４〜ｏ、ｏａ％、Ｓｉ：２．０〜４．Ｏ
χ、Ｓ：０．００５〜０．０５％、Ｎ　：０．００１〜
０．０１％、Ｓｎ：０．０１〜０．５χ、Ｃｕ　：　０
．０１〜０．３Ｘ、Ｍｎ　：　０．０１〜０．２χを含
有する組成 ■Ｃ：０．００３〜０．０６％、Ｓｉ：２．０〜４．０
Ｘ、ｓ：ｏ、ｏｏ５〜０．０５％、Ｂ：０．０００３〜
０．００４０％、Ｎ：０．００１〜０．０１％、Ｍｎ　
：　０．０１〜０．２χを含有する組成の如きにおいて
適用可能である。

次に熱延板は８００〜１１００°Ｃの均一化焼鈍を経て
１回の冷間圧延で最終板厚とする１回冷延法が又は、通
常８５０℃から１０５０°Ｃの中間焼鈍をはさんでさら
に冷延する２回冷延法にて、後者の場合最初の圧下率は
５０％から８０％程度、最終の圧下率は５０％から８５
％程度で０．１５慣醜から０．３５＋＋ｎ＋厚の最終冷
延板厚とする。

最終冷延を終わり製品板厚に仕上げた綱板は、表面脱脂
後７５０°Ｃから８５０℃の湿水素中で脱炭・１次再結
晶焼鈍処理を施す。

その後は通常、鋼板表面にＭｇＯを主成分とする焼鈍分
離剤を塗布する。この際、一般的には仕上げ焼鈍後の形
成を不可欠としていたフォルステライトをとくに形成さ
せない方がその後の鋼板の鏡面化処理を簡便するのに有
効であるので、焼鈍分離剤としてＡｈ０３．Ｚｒ０１．
ＴｉＯｘ等を５０％以上、ＭｇＯに混入して使用するの
が好ましい。

その後２次再結晶焼鈍を行うが、この工程は（１１の　
＜００１＞方位の２次再結晶粒を充分発達させるために
施されるもので、通常箱焼鈍によって直ちに１０００’
Ｃ以上に昇温し、その温度に保持することによって行わ
れる。

この場合（１１の　＜００１＞方位に、高度に揃った２
次再結晶粒組織を発達させるためには８２０℃から９０
０°Ｃの低温で保定焼鈍する方が有利であり、そのほか
例えば０．５〜１５°Ｃ／ｈの昇温速度の除熱焼鈍でも
よい。

２次再結晶焼鈍後の純化焼鈍は、飽水素中で１１００’
Ｃ以上で１〜２０時間焼鈍を行って鋼板の純化を達成す
ることが必要である。

二の純化焼鈍後に鋼板表面の酸化物被膜を公知の酸洗な
どの化学的方法や切削、研削などの機械的方法により除
去する。

さらには必要に応じこの酸化物除去処理の後、化学研磨
、電解研磨等の化学的研磨法やパフ研磨などの機械的研
磨法などの従来の手法により鋼板表面を鏡面状態つまり
中心線平均粗さ０．４μｍ以下に仕上げる。

これらの酸化物除去処理あるいは鏡面研磨処理後イオン
プレーティング、ＣＶＤ又はイオンインプランチーシラ
ンにより、Ｔｉ、　Ｚｒ、　Ｖ、　Ｎｂ、　Ｔａ、　Ｃ
ｒ、　Ｍｏ、　Ｗ。

Ｍｎ＋Ｃｏ＋Ｎｘ＋Ａｌ、ＢＪｉの窒化物及び／又は炭
化物のうちから選んだ少なくとも１種から成る極薄張力
被膜を下地被膜として形成させた後、さらにその上にＡ
ｌ、　Ｎｉ、ＣｕＪ、ＳｉおよびＺｎの酸化物のうちか
ら選んだ少なくとも１種からなる上層被膜を重ねて形成
させる。この場合最初の下地被膜は、鉄との密着性を確
保するため熱膨張係数が鉄に近（、上層被膜のそれは鉄
に比しより小さいので最適である。

この下地被膜及び上層被膜は０．１〜２μｍ程度の厚み
で形成させる方が効果的である。

さらにこのように生成した極薄の張力被膜上にりん酸塩
とコロイダルシリカを主成分とする絶縁被膜の塗布焼付
を行うことが、１００万ＫＶＡにも上る大容量トランス
の使途において当然に必要であるがこの絶縁性塗布焼付
層の形成の如きは、従来公知の手法をそのまま用いて良
い。

さらにこのように処理した後の１部の鋼板に局所的に塑
性ひずみを導入することによりさらに効果が増す０例え
ばレーザー照射による局所ひずみ導入の場合、使用する
レーザーはＹＡＧレーザーが良好であり、その使用条件
はエネルギー１〜１０×１０−”　Ｊ　、スポット直径
０．０５〜０．２醜餉、スポット中心間隔０．１〜０．
５ｍｍ、レーザー走査痕間隔３〜３０ｎ＋ｍとするのが
適切である。

このようなレーザー照射した後６００℃以下で低温絶縁
コーティングを施す、このときの低温絶縁被膜はレーザ
ー照射効果を生かすため、低温で処理する必要があり、
この絶縁コーティングは従来公知の処理液で行なって良
い、なお塑性ひずみの導入は、放電加工や線引きなどの
機械的手法も適用可能である。

（実施例） 大施勇上 Ｃ：０．０４４χ、Ｓｉ：３．４２Ｘ、　Ｍｒｉ：０．
０６８％、Ｍｏ：０．０２５％、Ｓｅ：０．０２４％、
Ｓｂ：０．０２０％を含有する熱延板を、９００”Ｃで
３分間の均一化焼鈍後、９５０°Ｃの中間焼鈍をはさん
で２回の冷間圧延を行って０　、２３ｍｍ厚の最終冷延
板とした。

その後８２０℃の湿水素中で脱炭焼鈍後鋼板表面にＡｂ
Ｏ＋（８０χ）、ＭｇＯ（２０χ）を主成分とする焼鈍
分離剤を塗布した後８５０℃で５０時間の２次再結晶焼
鈍し、１２００°Ｃで８時間飽水素中で純化焼鈍を行な
った。

その後、酸洗により酸化被膜を除去後、１部の試料は３
％ＨＰとＨｚＯｔ液中で化学研磨して鏡面仕上げした。

その後イオンプレーティング装置を使用してＴｉＮを０
．４μｍ厚に形成させた後、その上に＾ＩＮを０．４μ
ｍ厚に形成した。また１部の試料はこの表面上にりん酸
塩とコロイダルシリカを主成分とする絶縁被膜を形成さ
せた。そのときの製品の磁気特性を各処理工程別に表２
で示す。

１隻皿主 Ｃ：０．０６３χ、Ｓｉ：３．３６ＸＳ　Ｍｎ：０．０
８６χ、ＡＩ：０．０２４χ、Ｓ：０．０２８χ、Ｎ：
０．００６８χを含有する熱延板を、９００°Ｃで３分
間の均−化焼鈍後急冷処理を行い、その後３００°Ｃの
温間圧延を施して０．２０ｍ５厚の最終冷延板とした。

その後８５０°Ｃの湿水素中で脱炭焼鈍後、表面にＡｘ
ｔｏ３（６０χ）、ＭｇＯ（４０χ）を主成分とする焼
鈍分離剤を塗布した後８５０°Ｃから１１５０°Ｃまで
８°Ｃ／ｈで昇温しで２次再結晶させた後、１２００″
Ｃで８時間乾水素中で純化焼鈍を行った。

その後酸洗により酸化被膜を除去し、１部の試料はつい
で３％ＨＦとＨ，Ｏ，液中で化学研磨して鏡面仕上げし
た。

次にＣＶＤ法によりＴｉＣ１４（７０χ）ガス雰囲気中
極薄のＴｉＮ（０，４μ厚）を形成し、さらにその上に
ＡｌｚＯｓ（０，３μ厚）をイオンプレーティングによ
り形成した。

その後この表面上にりん酸塩とコロイダルシリカを主成
分とするコーテイング液を塗布したあとレーザー照射に
より局部ひずみの導入をした。このときのレーザー照射
条件はＹＡＧレーザーを用い、スポット当りのエネルギ
ーは３．８　Ｘ　１０−’　Ｊ　、スポット直径０．１
５ｍａｉ、スポット中心間隔０．４＋ｕ＋、レーザー走
査痕間隔ｊ！＝８ｍ−で行なった。

その後５００’Ｃでの低温コーティング処理したときの
製品の磁気特性を表３に示す。

１隻斑主 Ｃ：０．０４２Ｘ、Ｓｉ：３．３８χ、Ｍｎ：０．０６
５χ、Ｍｏ：０．０２５χ＋Ｓｓ：０．０２２χ、Ｓｂ
：０．０２５χを含有する熱延板を９００°Ｃで３分間
の均一化焼鈍後、９５０°Ｃの中間焼鈍をはさんで２回
の冷間圧延を行って０．２ｈｍ厚の最終冷延板とした。

その後８２０°Ｃの湿水素中で脱炭焼鈍後鋼板表面に＾
ＩｇＯａ（７０χ）、Ｚｒ０ｔ（５χ）、Ｔｉｏｔ（１
％）　、Ｍｇ０（２４χ）を主成分とする焼鈍分離剤を
塗布した後８５０″Ｃで５０時間の２次再結晶焼鈍し、
１２００℃で１０時間乾水素中で純化焼鈍を行なった。

その後鋼板表面を酸洗により酸化被膜を除去後、３χＨ
ＰとＨ，Ｏ，液中で化学研磨して鏡面仕上した。

その後表４の（１）〜（５）の処理条件に示すようにＴ
ｉＮ　（０，３μ厚）をイオンプレーティングした後、
ＢＮを０．４ｔｔ厚（ｔ）、５ｔ３Ｎ、を０．３ａ厚（
２）、ＺｒＮを０．２ａ厚（３）、ＡＩＮを０．３μ厚
（４）、　（５）　Ｔｉｃを０．３μ厚（５）のブレー
ティング処理を行なった。また第２表の（６）〜ａωの
処理条件に示すようにＴｉｃ　（０，３μ層厚）をイオ
ンプレーティングした後、ＳｉＣを０．３μ醜厚（６）
。

ＺｒＣを０．３μ厚（７）、ＺｎＯを０．３ｔｔ厚（８
）　、　Ｓ　ｉ　Ｏ，を０．３μ厚（９）、Ａｔｚｏｉ
を０．３μ糟厚でブレーティング処理を行なった。

このときの製品の磁気特性を表４にあわせ示す。

（発明の効果） 巻鉄心向はトランス材料としての使途におけるような高
温のひずみ取り焼鈍の如き高温熱処理の適用有無に拘ら
ず、超低鉄損が、上掲各発明によって確保され得る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板にその表面上の酸化
   物を除去した後、ＣＶＤ、イオンプレーティング又はイ
   オンインプランテーションでもって、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、
   Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ａｌ
   、Ｂ、Ｓｉの窒化物及び／又は炭化物、並びにＡｌ、Ｎ
   ｉ、Ｃｕ、Ｗ、Ｓｉ及びＺｎの酸化物のうちから選んだ
   異種２層の極薄張力被膜を、上記酸化物よりなるものは
   上層に重ねて、鋼板表面上へ形成させることを特徴とす
   る超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法。 ２、仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板にその表面上の酸化
   物を除去し、ついで研磨を施して中心線平均粗さ０．４
   μｍ以下の鏡面状態とした後、ＣＶＤ、イオンプレーテ
   ィング又はイオンインプランテーションでもってＴｉ、
   Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｃｏ、
   Ｎｉ、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉの窒化物及び／又は炭化物、並び
   にＡｌ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｗ、Ｓｉ及びＺｎの酸化物のうち
   から選んだ異種２層の極薄張力被膜を、上記酸化物より
   なるものは上層に重ねて、鋼板表面上へ形成させること
   を特徴とする超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法。 ３、仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板に、その表面上の酸
   化物を除去した後、ＣＶＤ、イオンプレーティング又は
   イオンインプランテーションによりＴｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎ
   ｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ａｌ、
   Ｂ、Ｓｉの窒化物及び／又は炭化物並びにＡｌ、Ｎｉ、
   Ｃｕ、Ｗ、ＳｉおよびＺｎの酸化物のうちから選んだ異
   種２層の極薄張力被膜を、上記酸化物よりなるものは上
   層に重ねて、鋼板表面上へ形成させた後、さらにりん酸
   塩とコロイダルシリカを主成分とする絶縁被膜を形成さ
   せ、次いで該鋼板の圧延方向を横切る向きに塑性ひずみ
   を導入してからさらに低温絶縁コーティング被膜を形成
   させることを特徴とする超低鉄損一方向性珪素鋼板の製
   造方法。 ４、仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板に、その表面上の酸
   化物を除去し、ついで研磨を施して中心線平均粗さ０．
   ４μｍ以下の鏡面状態とした後、鋼板表面にＣＶＤ、イ
   オンプレーティング又はイオンインプランテーションで
   もってＴｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、
   Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉの窒化物及び／又は
   炭化物、並びにＡｌ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｗ、Ｓｉ及びＺｎの
   酸化物のうちから選んだ異種２層の極薄張力被膜を、上
   記酸化物よりなるものは上層に重ねて、鋼板表面上へ形
   成させたのち、さらにりん酸塩とコロイダルシリカを主
   成分とする絶縁被膜を形成させ、次いで該鋼板の圧延方
   向を横切る向きに塑性ひずみを導入してから、さらに低
   温絶縁コーティング被膜を形成させることを特徴とする
   超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法。