JPS63227719A - 超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 一方向性珪素鋼板の電気・磁気的特性の改善、なかでも
、鉄損の低減に係わる極限的な要請を満たそうとする近
年来の目覚ましい開発努力は、逐次その実を挙げつつあ
るが、その実施に伴う重大な弊害として、一方向性珪素
鋼板の使用に当たっての加工、組立てを経たのちいわゆ
るひずみ取り焼鈍がほどこされた場合に、特性劣化の随
伴を不可避に生じて、使途についての制限を受ける不利
が指摘される。

この明細書では、ひずみ取り焼鈍のような高温の熱履歴
を経ると否とに拘わらず、上記要請を有利に充足し得る
新たな方途を拓くことについての開発研究の成果に関連
して以下に述べる。

さて一方向性珪素鋼板は、よく知られているとおり製品
の２次再結晶粒を（１１０）　（００１）　、すなわち
ゴス方位に、高度に集積させたもので、主として変圧器
その他の電気機器の鉄心として使用され電気・磁気的特
性として製品の磁束密度（Ｂｌ。値で代表される）が高
く、鉄損（Ｌ？／Ｓ。値で代表される）の低いことが要
求される。

この一方向性珪素鋼板は複雑多岐にわたる工程を経て製
造されるが、今までにおびただしい発明改善が加えられ
、今日では板厚０．３０−一の製品の磁気特性がＢ＋ｏ
ｌ、９０７以上、Ｌｖ／ｓｏ１．０５Ｗ／ｋｇ以下、ま
た板厚０．２３ｎｕｓの製品の磁気特性がＢ＋ｏ１．８
９Ｔ以上、Ｗｌ？／Ｓ。０．９０Ｗ／ｋｇ以下の超低鉄
損一方向性珪素鋼板が製造されるようになって来ている
。

特に最近では省エネの見地から電力損失の低減を特徴と
する請が著しく強まり、欧米では損失の少ない変圧器を
作る場合に鉄損の減少分を金額に換算して変圧器価格に
上積みする「ロス・エバリユエーション」　（鉄損評価
）制度が普及している。

（従来の技術） このような状況下において最近、一方向性珪素鋼板の仕
上焼鈍後の鋼板表面に圧延方向にほぼ直角方向でのレー
ザー照射により局部微小ひずみを導入して磁区を細分化
し、もって鉄損を低下させることが提案された（特公昭
５７−２２５２号９特公昭５７−５３４１９号、特公昭
５８−２６４０５号及び特公昭５８−２６４０６号各公
報参照）。

この磁区細分化技術はひずみ取り焼鈍を施さない、積鉄
心向はトランス材料として効果的であるが、ひずみ取り
焼鈍を施す、主として巻鉄心トランス材料にあっては、
レーザー照射によって折角導入された局部微少ひずみが
焼鈍処理により開放されて磁区幅が広くなるため、レー
ザー照射効果が失われるという欠点がある。

一方これより先に特公昭５２−２４４９９号公報におい
ては、一方向性珪素鋼板の仕上げ焼鈍後の鋼板表面を鏡
面仕上げするか又はその鏡面仕上げ面上に金属薄めっき
やさらにその上に絶縁被膜を塗布焼付けすることによる
、超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法が提案されてい
る。

しかしながらこの鏡面仕上げによる鉄損向上手法は、工
程的に採用するには、著しいコストアップになる割りに
鉄損低減への寄与が充分でない上、とくに鏡面仕上後に
不可欠な絶縁被膜を塗布焼付した後の密着性に問題があ
るため、現在の製造工程において採用されるに到っては
いない。

また特公昭５６−４１５０号公報においても鋼板表面を
鏡面仕上げした後、酸化物系セラミックス薄膜を蒸着す
る方法が提案されている。しかしながらこの方法も６０
０°Ｃ以上の高温焼鈍を施すと鋼板とセラミックス層と
がはく離するため、実際の製造工程では採用できない。

（発明が解決しようとする問題点） 発明者らは上記した鏡面仕上による鉄損向上を目指しそ
の実効をより有利に引き出すにあたって、とくに今日の
省エネ材料開発の観点では上記したごときコストアップ
の不利を凌駕する特性、なかでも高温処理でも特性劣化
を伴うことなくして絶縁層の密着性、耐久性の問題を克
服することが肝要と考え、この基本認識に立脚し、仕上
焼鈍済みの方向性珪素鋼板表面上の酸化物を除去した後
に研磨を施して鏡面状態にする場合も含め、該酸化物除
去後における鋼板処理方法の根本的改善によってとくに
有利な超低鉄損化を達成することが発明の目的である。

（問題点を解決するための手段） 種々検討した結果、方向性珪素鋼板の仕上焼鈍板表面上
の酸化物を除去した後、ＣＶＯ，イオンプレーティング
又はイオンインブランテーシジンによりＴｉ、Ｚｒ、Ｖ
、ＮｂｔＴａ、Ｃｒ、ＭｏＪＪｎｔＣｏ＋Ｎｉ、Ａｌ、
Ｂ、Ｓｉの窒化物及び／又は炭化物、並びにＡｌ、Ｎｉ
＋Ｃｕ、　ｗ、ｓｉ及びＺｎの酸化物のうちから選んだ
異種２層以上の極薄張力被膜を、上記炭化物及び／又は
窒化物よりなるものを下地第１層とする重層として鋼板
表面上へ形成させること（第１発明）、を基本的構成と
して、極薄張力被膜の形成に先立ち鋼板の酸化物除去面
に研磨を施して中心線平均粗さ０．４μ醜以下の鏡面状
態にすること（第２発明）、そして第１、第２各発明に
従う極薄張力被膜上に、りん酸塩とコロイダルシリカを
主成分とする絶縁被膜を形成し、これに次いで該鋼板の
圧延方向を横切る向きに塑性ひずみを導入してからさら
に、低温絶縁コーティング被膜を形成させること（第３
．４各発明）の各付加的構成を加える場合とともに、そ
れぞれ上記の目的を有利に充足することかたしかめられ
た。

上記各発明の成功が導かれた基礎実験から順次に説明を
進める。

ＣＯ，０４８重量％（以下単に％で示す）　、Ｓｉ　３
．３９％、Ｍｎ　Ｏ，０６８％、Ｓｅ　Ｏ，０２２％、
ｓｂ　Ｏ，０２５％及び？’ｌ。

Ｏ，０２５χを含有する珪素鋼連鋳スラブを、１３４０
℃で４時間加熱後熱間圧延して２．０ｍ−厚の熱延板と
した。

その後９００°Ｃで３分間の均一化焼鈍後、９５０℃で
３分間の中間焼鈍をはさむ２回の冷間圧延を施して０．
２３ｍｍ厚の最終冷延板とした。

その後８２０℃の温水素雰囲気中で脱炭・−成典結晶焼
鈍を施した後、鋼板表面に不活性ＡｈＯ’５（８０χ）
とＭｇＯ（２０χ）から成る焼鈍分離剤を塗布し、つい
で８５０℃で５０時間の２次再結晶焼鈍と、１２００℃
で飽水素中５時間の純化焼鈍とを施した。かくして得ら
れた仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板コイルを１０区分し
それぞれについて、表１に示す処理条件に従い処理した
。

酸洗は１０％のＩ（ＣＩ液液中浸漬した。

その後イオンプレーティング装置を用いて鋼板表面に０
．３μｍ厚のＴｉＮの張力被膜を形成させた後、その上
にさらに５ｉｉＮ４を０．３μ醜厚のブレーティング処
理を行なった。（表１−（ａ））。

その後この表面上にりん酸塩とコロイダルシリカを主成
分とする絶縁被膜を形成させた（表１−（ｂ））。

また仕上焼鈍後の鋼板を酸洗したあと３％ＩＰとＨ，Ｏ
□液液中化学研磨して鋼板表面を中心線平均粗さ０．０
５μに鏡面仕上したあとイオンプレーティング装置を用
いて鋼板表面に０．３μ糟厚のＴｉＮ張力被膜を形成さ
せた後、その上にさらに５ｉｚＮ４を０．３μｍ厚のブ
レーティング処理を施した（表１−（Ｃ））。

その後この表面上にりん酸塩とコロイダルシリカを主成
分とする絶縁被膜を形成させた（表１−（ｄ）。

さらにその後一部の試料はレーザー照射〔レーザー照射
条件はＹＡＧレーザーを使用し、スポット当りのエネル
ギー４Ｘ１０−″、Ｗ、スポット直径０．１５ｍ５＋、
スポットの中心間隔０．４ｍｍ、レーザー走査痕間隔ｆ
＝８ｎ＋ｍ）シた後、低温絶縁コーティング被膜を施し
た（表１−（ｅ））。

（ｅ）の場合において酸洗後に化学研磨処理を行った（
表１−（ｆ））。

比較のため上記の熱延板を酸洗又は酸洗後化学研磨した
（表１（６）と（ｉ））ほか、さらにこれらに低温絶縁
コーティング被膜を施した（表１（ハ）、（ｊ））。

これらの種々の条件で処理したときの製品の磁気特性を
表１にあわせ示す。

表１から製品の磁気特性は、仕上焼鈍後の酸洗処理と酸
洗後化学研磨による鏡面仕上げ処理とを比較すると、鋼
板表面を鏡面状態にした上でイオンプレーティングによ
り異種２Ｎの張力被膜を形成させた場合において磁気特
性がきわめて良好となる。

さらに表１−０））、同一（ロ）の絶縁被膜上にレーザ
ー照射を施した場合異種２層の張力被膜効果をさらに発
揮させることが可能であって、ここに異種２層の極薄張
力被膜を形成させたことによって鋼板表面にきわめて効
果的に張力弾性ひずみが加わるため鉄損をより効果的に
低下させることが可能である。

（作　用） 上に述べた磁気特性の向上はまず鋼板表面との強力な密
着性を保ちつつ異種２層以上の極薄張力被膜を形成する
ことによって効果的に超低鉄損が実現されるのであり、
その状態は鋼板表面状態に大きく依存するが、鋼板表面
上の酸化物が除去された状態さらには鋼板表面を鏡面状
態にして一層効果的に発揮することが可能である。また
異種２層以上の極薄被膜を形成させた後の塑性ひずみ導
入によってさらに効果的に低鉄損化を図ることが可能で
ある。

次に、一方向性珪素鋼板の製造工程について一般的な説
明を含めてより詳しく述べる。

まず出発素材は従来公知の一方向性珪素鋼板素材成分、
例えば ■Ｃ：０．００４〜０．０５０χ、Ｓｆ　：　０．２５
〜４．５２、Ｍｎ　：　０．０１〜０．２χ、Ｍｏ：０
．００３〜０．１χ、Ｓｂ：０．００５〜０．２χ、Ｓ
あるいはＳｅの１種あるいは２種合計で、０．００５〜
０．０５％を含有する組成 ■Ｃ：０．００４〜０．０８％、Ｓｉ：２．０〜４．０
χ、Ｓ：０．００５〜０．０５％、Ｎ　：０．００１〜
０．０１％、Ｓｎ：０．０１〜０．５Ｘ、Ｃｕ　：　０
．０１〜０．３Ｘ、Ｍｎ　：　０．０１〜０．２χを含
有する組成 ■Ｃ：０．００３〜０．０６％、Ｓｉ：２．０〜４．０
χ、Ｓ：０．００５〜０．０５％、Ｂ：０．０００３〜
０．００４０％、Ｎ：０．００１〜０．０１％、Ｍｎ　
：　０．０１＝０．２２を含有する組成の如きにおいて
適用可能である。

次に熱延板は８００〜１１００°Ｃの均一化焼鈍を経て
１回の冷間圧延で最終板厚とする１回冷延法か又は、通
常８５０℃から１０５０℃の中間焼鈍をはさんでさらに
冷延する２回冷延法にて、後者の場合最初の圧下率は５
０％から８０％程度、最終の圧下率は５０％から８５％
程度で０．１５ａｍから０．３５ｗ醜厚０最終冷延板厚
とする。

最終冷延を終わり製品板厚に仕上げた鋼板は、表面脱脂
後７５０℃から８５０°Ｃの湿水素中で脱炭・１次再結
晶焼鈍処理を施す。

その後は通常、鋼板表面にＭｇＯを主成分とする焼鈍分
離剤を塗布する。この際、一般的には仕上げ焼鈍後の形
成を不可欠としていたフォルステライトをとくに形成さ
せない方がその後の鋼板の鏡面化処理を簡便するのに有
効であるので、焼鈍分離剤としてＡｂＯ＋＋　Ｚｒ０ｚ
、　Ｔｉ１ｔ等を５０％以上、ＭｇＯに混入して使用す
るのが好ましい。

その後２次再結晶焼鈍を行うが、この工程は（１１０）
　＜００１＞方位の２次再結晶粒を充分発達させるため
に施されるもので、通常箱焼鈍によって直ちに１０００
℃以上に昇温し、その温度に保持することによって行わ
れる。

この場合（１１０）　＜００１＞方位に、高度に揃った
２次再結晶粒組織を発達させるためには８２０°Ｃから
９００°Ｃの低温で保定焼鈍する方が有利であり、その
ほか例えば０．５〜１５°Ｃ／ｈの昇温速度の除熱焼鈍
でもよい。

２次再結晶焼鈍後の純化焼鈍は、飽水素中で１１００’
Ｃ以上で１〜２０時間焼鈍を行って鋼板の純化を達成す
ることが必要である。

この純化焼鈍後に鋼板表面の酸化物被膜を公知の酸洗な
どの化学的方法や切削、研削などの機械的方法により除
去する。

さらには必要に応じこの酸化物除去処理の後、化学研磨
、電解研磨等の化学的研磨法やパフ研磨などの機械的研
磨法などの従来の手法により鋼板表面を鏡面状態つまり
中心線平均粗さ０．４μ四以下に仕上げる。

これらの酸化物除去処理あるいは鏡面研磨処理後イオン
プレーティング、ＣｖＤ又はイオンインブランテーシジ
ンにより、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、ＣｒＪｏ、Ｗ
。

Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｂ＋Ｓｉの窒化物及び／又は
炭化物のうちから選んだ少なくとも１種から成るものを
下地第１層被膜として形成させた後、さらにその上にＴ
ｉ、Ｚｒ、Ｖ＋Ｎｂ、Ｔａ＋Ｃｒ、Ｍｏ＋Ｗ＋Ｍｎ、Ｃ
ｏ＋Ｎｉ、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉの窒化物及び／又は炭化物並
びにＡｌ、Ｎｉ＊Ｃｕ、　Ｗ、ＳｉおよびＺｎの酸化物
のうちから選んだ少なくとも１種からなる下地第１層と
は異種の、積層被膜を形成させる。なおこの場合最初の
下地第１層被膜は、鉄との密着性を確保するため熱膨張
係数が鉄に近（、その上の積層被膜は鉄のそれに比しよ
り小さいものを用いるのが好適である。積層被膜は２層
以上用いてもかまわないが何層も用いるとコーストアッ
プとなるため、鉄損をもっとも効果的に低下させうる層
欽を用いればよい、下地第１層及び積層の各被膜は０．
１〜２μ慣程度の厚みで形成させる方が効果的である。

さらにこのように生成した極薄の張力被膜上にりん酸塩
とコロイダルシリカを主成分とする絶縁被膜の塗布焼付
を行うことが、１００万ＫＶＡにも上る大容量トランス
の使途において当然に必要であるがこの絶縁性塗布焼付
層の形成の如きは、従来公知の手法をそのまま用いて良
い。

さらにこのように処理した後の１部の鋼板に局所的に塑
性ひずみを導入することによりさらに効果が増す０例え
ばレーザー照射による局所ひずみ導入の場合、使用する
レーザーはＹＡＧレーザーが良好であり、その使用条件
はエネルギー１〜ｌ０Ｘ１０−’　Ｊ　、スポット直径
０．０５〜０．２ｍｍ、スポット中心間隔０．１〜０．
５−一、レーザー走査痕間隔３〜３０ｍ５＋とするのが
適切である。

このようなレーザー照射した後６００°Ｃ以下で低温絶
縁コーティングを施す。このときの低温絶縁被膜はレー
ザー照射効果を生かすため、低温で処理する必要があり
、この絶縁コーティングは従来公知の処理液で行なって
良い。なお塑性ひずみの導入は、放電加工や線引きなど
の機械的手法も適用可能である。

（実施例） 叉隻五工 （八）Ｃ：０．０４３χ　、　Ｓｉ：３．３６χ、　Ｍ
ｎ：０．０６７％、　Ｍｏ：０．０１３％、Ｓｂ：０．
０２５％、Ｓｅ：０．０２２％並びに（Ｂ）Ｃ：０．０
５３χ、Ｓｉ：３．４２χ、Ｍｎ：０．０８１％、Ａ１
：０．０２６％、Ｓ：０．０２６％、Ｎ：０．００８２
％を含有し残部実質的にＦｅよりなる一方向性珪素鋼の
熱延板（いずれも２．０１厚）を用いた。

この中で（Ａ）の熱延板は９５０°Ｃで３分間の均一化
焼鈍を施した後、９５０℃の中間焼鈍をはさんで２回の
冷間圧延を施して０．２０ｍｍ厚の最終冷延板とした。

一方（Ｂ）の熱延板は１１００°Ｃの中間焼鈍をはさん
で２回の冷間圧延を施して０．２０ｍ＋厚の最終冷延板
とした。

その後（Ａ）　、　（Ｂ）の冷延板は表面を脱脂後８２
０℃（Ａ）および８４０″Ｃ（Ｂ）の湿水素中で脱炭１
次再結晶焼鈍処理を施した後、Ａ１□０ｇ（６０χ）、
ＭｇＯ（３５χ）、ＺｒＯ□（５χ）を主成分とする焼
鈍分離剤を鋼板表面上に塗布した。

その後（Ａ）の鋼板は８５０℃で５０時間の２次再結晶
焼鈍、（Ｂ）の鋼板は８５０　”Ｃから１０５０℃まで
１０°Ｃ／ｈ。

で昇温してゴス方位２次再結晶粒を発達させた後、１２
００°Ｃの乾Ｈ２中で１０時間の純化処理を施した。

その後、酸洗により鋼板表面上の酸化物を除去し、その
後１部の鋼板は、電解研磨により鋼板表面を鏡面状態に
仕上げた。

その後イオンプレーティング（１部はｃｖｏ　”イオン
インプランテーション０で表１中に＊印と＊＊印で区別
表示）法により、下地第１Ｎ被膜は窒化物、炭化物より
なる極薄張力被膜、第２層被膜は酸化物、窒化物および
炭化物よりなる極薄張力被膜を順次に形成させた後、８
００℃で２時間の歪み取り焼鈍を行なった。

そのときの製品の磁気特性を表２に示す。

ス１」■− Ｃ：０．０６２χ、Ｓｉ：３，４８χ、Ｍｎ：０．０７
９％、ＡＩ：０．０２８％、Ｓ：０．０３２％、　Ｎ：
０．００７８％を含有し、残部実質的にＦｅよりなる珪
素鋼熱延板（２，２ｍ厚）を１１００°Ｃの中間焼鈍を
はさんで２回冷間圧延を施して０．２３ｍｍの最終冷延
板とした。その後８５０℃の湿水素中で脱炭・１次再結
晶焼鈍を施した後、鋼板表面上にＭｇ０（４０Ｘ）　、
ＡＩｔｏ！（５５Ｋ）、ＴｔＯ，（３χ）、ＺｎＯ（２
χ）の焼鈍分離剤を塗布したのち、８５０°Ｃから１１
００℃まで１２”Ｃ／ｈｒで昇温してゴス方位２次再結
晶粒を発達させた後、１２００°Ｃ乾Ｈ２中で８時間の
純化焼鈍を施した。

その後鋼板表面上の酸化物を除去し、電解研磨により中
心線平均粗さＲａ　−０，０８μｍの鏡面状態に仕上げ
た。

その後イオンプレーティングにより下地第１層被膜は炭
・窒化物の薄膜（約０．５〜０．７μ観厚）その上への
第２層および第３層の積層被膜として炭・窒化物と酸化
物との混合になる薄膜（約０．５〜０．８μ謹厚）を順
次に形成させた後、８００°Ｃで２時間の焼鈍を行った
。

そのときの磁気特性を表３にまとめて示す。

表３ Ｃ：０．０４３χ、Ｓｉ：３．４１χ、Ｍｎ：０．０６
８χ、Ｍｏ：０．Ｏ１５χ、Ｓｅ：０．０２１χ１．Ｓ
ｂ：０．０２６χを含有し、残部実質的にＦｅよりなる
珪素鋼熱延板（２、Ｏ＊厚）を９５０℃の中間焼鈍をは
さんで２回の冷間圧延を施して０．２０Ｘ厚の最終冷延
板とした。

その後８２０°Ｃの湿水素中で脱炭・１次再結晶焼鈍を
施した後、鋼板表面上にＭｇＯ（３０χ）、Ａｌｔ（ｈ
（６０χ）、Ｔｉ０ｚ（５χ）、Ｚｒ０ｚ（５χ）の焼
鈍分離剤を塗布シタのち、８５０°Ｃで５０時間の２次
再結晶焼鈍を行なった。その後１２００°Ｃで乾Ｈ２中
で１０時間の純化焼鈍を行った。

その後鋼板表面上の酸化物を除去した後、電解研磨によ
りＲａ・０．０７μ醜の鏡面状態に仕上げた。

その後イオンプレーティング法により下地第１層被膜を
炭・窒化物の極薄張力被膜（０，３μｍ厚程度）、その
上の第２層〜４層目を酸化物、炭化物および窒化物の極
薄張力被膜（１，０〜１．５μ観厚）形成させた後、８
００°Ｃで２時間の歪取り焼鈍を施した。

そのときの製品の磁気特性を表４に示す。

表４ 実施例４ Ｃ：０．０６３χ、Ｓｉ：３．４２χ、Ｍｎ：０．０７
８χ、Ａ１：０．０２６χ、Ｓ：０．０３１χ、Ｎ：０
．００８２＄を含有し、残部実質的にｒｅよりなる珪素
鋼熱延板（２，２１厚）を１１００℃の中間焼鈍をはさ
んで２回の冷間圧延を施して０．２　ｍｍ厚の最終冷延
板とした。

その後８４０°Ｃの湿水素中で脱炭・１次再結晶焼鈍を
施した後に、鋼板表面上にＭｇＯ（３５χ）、Ａ１□０
１（６０２）　、Ｔｉ０ｚ（２χ）、ＺｒＯ＊（３χ）
の焼鈍分離剤を塗布したのち、８５０°Ｃから１１００
°Ｃまで９℃／ｈｒで昇温してＧｏｓｓ方位２次再結晶
焼鈍を発達させた後、１２００℃の乾Ｈ２中で１０時間
の純化焼鈍をした。

その後鋼板表面上の酸化物を除去した。その後１部の鋼
板は電解研磨により中心線平均粗さＲａ・０．０７μｍ
の鏡面状態に仕上げた。

ついで、イオンプレーティングにより下地第１層はＴｉ
Ｎ−Ｔｉ　（Ｃ，Ｎ）　（０，３μ醜厚）、その上に第
２層としてＡｌ２Ｏ２−Ｓｉ３Ｎ４−　Ｓｉｎ、　（０
，３μ醜厚）第３層にはＡｌｔｏｓ　（０，４μ醜厚）
の被膜を形成させた。

その後りん酸塩とコロイダルシリカを主成分とする絶縁
被膜を形成させた。

その後火の３条件で圧延方向と直角方向に線状に微少歪
を導入した。

（１）レザー照射、パルスレーザ−（８ａ間隔、エネル
ギー４　Ｘｌ０−’Ｊ） （２）放電加工（８鵬間隔、パワー密度０．５　Ｘｌ０
−’Ｗ／ｃａ＋”） （３）機械加工（８ａａ間隔で０．１５閣幅にナイフで
微少歪導入） このような処理後低温絶縁コーティングを施した。

そのときの磁気特性の値を表５に示す。

表５ （発明の効果） 巻鉄心向はトランス材料としての使途におけるような高
温のひずみ取り焼鈍の如き高温熱処理の適用有無に拘ら
ず、超低鉄損が、上掲各発明によって確保され得る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板に、その表面上の酸
   化物を除去した後、ＣＶＤ、イオンプレーティング又は
   イオンインプランテーションでもって、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ
   、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ａ
   ｌ、Ｂ、Ｓｉの窒化物及び／又は炭化物、並びにＡｌ、
   Ｎｉ、Ｃｕ、Ｗ、Ｓｉ及びＺｎの酸化物のうちから選ん
   だ異種２層以上の極薄張力被膜を、上記炭化物及び／又
   は窒化物よりなるものを下地第１層とする重層として、
   鋼板表面上へ形成させることを特徴とする超低鉄損一方
   向性珪素鋼板の製造方法。 ２、仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板に、その表面上の酸
   化物を除去し、ついで研磨を施して中心線平均粗さ０．
   ４μｍ以下の鏡面状態とした後、ＣＶＤ、イオンプレー
   ティング又はイオンインプランテーションでもってＴｉ
   、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｃｏ
   、Ｎｉ、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉの窒化物及び／又は炭化物、並
   びにＡｌ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｗ、Ｓｉ及びＺｎの酸化物のう
   ちから選んだ異種２層以上の極薄張力被膜を、上記炭化
   物及び／又は窒化物よりなるものを下地第１層とする重
   層として、鋼板表面上へ形成させることを特徴とする超
   低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法。 ３、仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板に、その表面上の酸
   化物を除去した後、ＣＶＤ、イオンプレーティング又は
   イオンインプランテーションでもってＴｉ、Ｚｒ、Ｖ、
   Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ａｌ
   、Ｂ、Ｓｉの窒化物及び／又は炭化物、並びにＡｌ、Ｎ
   ｉ、Ｃｕ、Ｗ、ＳｉおよびＺｎの酸化物のうちから選ん
   だ異種２層以上の極薄張力被膜を、上記炭化物及び／又
   は窒化物よりなるものを下地第１層とする重層として鋼
   板表面上へ形成させた後、さらにりん酸塩とコロイダル
   シリカを主成分とする絶縁被膜を形成させ、次いで該鋼
   板の圧延方向を横切る向きに塑性ひずみを導入してから
   さらに低温絶縁コーティング被膜を形成させることを特
   徴とする超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法。 ４、仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板に、その表面上の酸
   化物を除去し、ついで研磨を施して中心線平均粗さ０．
   ４μｍ以下の鏡面状態とした後、鋼板表面にＣＶＤ、イ
   オンプレーティング又はイオンインプランテーションで
   もってＴｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、
   Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉの窒化物及び／又は
   炭化物、並びにＡｌ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｗ、Ｓｉ及びＺｎの
   酸化物のうちから選んだ異種２層以上の極薄張力被膜を
   、上記炭化物及び／又は窒化物よりなるものを下地第１
   層とする重層として鋼板表面上へ形成させたのち、さら
   にりん酸塩とコロイダルシリカを主成分とする絶縁被膜
   を形成させ、次いで該鋼板の圧延方向を横切る向きに塑
   性ひずみを導入してから、さらに低温絶縁コーティング
   被膜を形成させることを特徴とする超低鉄損一方向性珪
   素鋼板の製造方法。