JPS621821A - ひずみ取り焼鈍を施しても特性劣化のない超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 一方向性珪素鋼板の電気・磁気的特性の改善、なかでも
、鉄損の低減に係わる極限的な要請を満たそうとする近
年来の目覚ましい開発努力は、逐次その実を挙げつつあ
るが、その実施に伴う重大な弊害として、一方向性珪素
鋼板の使用に当たっての加工、組立てを経たのちいわゆ
るひずみ取り焼鈍がほどこされた場合に、特性劣化の随
伴を不可避に生じて、使途についての制限を受ける不利
が指摘される。

この明細書では、ひずみ取り焼鈍のような高温の熱履歴
を経ると否とに拘わらず、上記要請を有利に充足し得る
新たな方途を拓くことについての開発研究の成果に関連
して以下に述べる。

さて一方向性珪素鋼板は、よく知られているとおり製品
の２次再結晶粒を（１１０）　　（００１〕、すなわち
ゴス方位に、高度に集積させたもので、主として変圧器
その他の電気機器の鉄心として使用され電気・磁気的特
性として製品の磁束密１（Ｂｔａ値で代表される）が高
く、鉄損（ＷＩＴ／Ｓ。値で代表される）の低いことが
要求される。

この一方向性珪素鋼板は複雑多岐にわたる工程を経て製
造されるが、今までにおびただしい発明改善が加えられ
、今日では板厚０．３０ｍｍの製品の磁気特性がＩＬｏ
ｌ。９０Ｔ以上、Ｌ７．、ｉｏｌ、　０５Ｗ／ｋｇ以下
、また板厚０．２３ｍｍの製品の磁気特性がＢ＋ｏ１．
８９Ｔ以上、Ｗ＋　ｆｆ１５００．９０Ｗ／ｋｇ以下の
超低鉄ｍ一方向性珪ｉｏ板が製造されるようになって来
ている。

特に最近では省エネの見地から電力損失の低減を特徴と
する請が著しく強まり、欧米では損失の少ない変圧器を
作る場合に鉄損の減少分を金額に換算して変圧器価格に
上積みする「ロス・エバリユエーション」　（鉄損評価
）制度が普及している。

（従来の技術） このような状況下において最近、一方向性珪素鋼板の仕
上焼鈍後の鋼板表面に圧延方向にほぼ直角方向でのレー
ザー照射により局部微少ひずみを導入して磁区を細分化
し、もって鉄損を低下させ−ることか提案されたく特公
昭５７−２２５２号、特公昭５７−５３４１９号、特公
昭５８−２６４０５号及び特公昭５８−２６４０６号公
報参照）。

この磁区細分化技術はひずみ取り焼鈍を施さない、積鉄
心向はトランス材料として効果的であるが、ひずみ取り
焼鈍を施す、主として巻鉄心トランス材料にあっては、
レーザー照射によって折角に導入された局部微少ひずみ
が焼鈍処理により開放されて磁区幅が広くなるため、レ
ーザー照射効果が失われるという欠点がある。

一方これより先に特公昭５２−２４４９９号公報におい
ては、一方向性珪素鋼板の仕上げ焼鈍後の鋼板表面を鏡
面仕上げするか又はその鏡面仕上げ面上に金属薄めっき
やさらにその上に絶縁被膜を塗布焼付けすることによる
、超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法が提案されてい
る。

しかしながらこの鏡面仕上げによる鉄損向上手法は、工
程的に採用するには、著しいコストアップになる割りに
鉄損低減への寄与が充分でない上、とくに鏡面仕上後に
不可欠な絶縁被膜を塗布焼付し、さらに６００℃以上の
高温で長時間の歪取り焼鈍を経る間に鋼板との密着性に
問題があるため、現在の製造工程において採用されるに
至ってはいない。

また特公昭５６−４１５０号公報においても鋼板表面を
鏡面仕上げした後、酸化物系セラミックス薄膜を蒸着す
る方法が提案されている。しかしながらこの方法も６０
０℃以上の高温焼鈍を施すと鋼板とセラミックス層とが
はく離するため、実際の製造工程では採用できない。

（発明が解決しようとする問題点） 発明者らは上記した鏡面仕上による鉄損向上の実効をよ
り効果的に引き出すこと、とくに今日の省エネ材料開発
の観点では上記したごときコストアップの不利を凌駕す
る特性、なかでも高温処理でも特性劣化を伴うことなく
して絶縁層の密着性、耐久性の問題を克服することこそ
が肝要と考え、この基本認識に立脚して、鏡面仕上後の
鋼板処理方法に根本的な再検討を加えてこの発明に到達
した。

（問題点を解決するための手段） 上記検討の結果、板面上に形成されたフォルステライト
質よりなるを例とする下地被膜の除去跡に研磨処理によ
る平滑な仕上表面をもつ一方向性珪素鋼板にして、該仕
上表面は、中心線平均粗さ０．４μｍ以下の鏡面状態に
仕上げた鋼板表面上にＣＶ　Ｄ　（Ｃｈｅｍｉｃａｌ　
Ｖａｐｏｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法）を新たに適用し
てＴｉ、　Ｎｂ、　Ｓｉ、　Ｖ、　Ｃｒ、　Ａｌ、　Ｂ
、　Ｎｉ、　Ｃｏ、　Ｍｏ、　Ｗ、　Ｚｒ。

Ｈｆ及びＴａの窒化物および／又は炭化物のうちから選
んだ少なくとも１種から主として成る０、　００５〜５
μｍの極薄の張力被膜を形成させること（第１発明）ま
たはさらにその上に絶縁コーティング被膜を被成するこ
と（第２発明）により磁気特性の熱安定性に優れる超低
鉄損一方向性珪素鋼板の製造を可能ならしめたものであ
る。

上記各発明の成功が導かれた具体的な実験に従って説明
を進める。

Ｃ０，０４６重量％（以下車に％で示す）　、Ｓｉ　３
．４６％、Ｍｎ　０．０７２％、Ｓｅ　Ｏ，０２４％、
Ｓｂ　Ｏ，０２５％、Ｍｏ　Ｏ，０２５％を含有する珪
素鋼連鋳スラブを１３５０℃で３時間加熱後熱間圧延し
て２．０ｍｍ厚の熱延板とした。

その後９００℃で３分間の均一化焼鈍後、９５０℃で３
分間の中間焼鈍を挟んで２回の冷間圧延を施して０．２
３ｍｍ厚の最終冷延板とした。

その後８２０℃の湿水素雪囲気中で脱炭・１次再結晶焼
鈍を施した後、鋼板表面にＭｇＯを主成分とする焼鈍分
離剤を塗布し、ついで８５０℃で５０時間２次再結晶焼
鈍を施した後、１２００℃で７時間飽水素中での純化焼
鈍を施した。

その後まず８０℃のＨＣｌ液中で酸洗して鋼板表面のフ
ォルステライト質下地被膜を除去した。

次に３％ＨＦとＨ２Ｏ２の溶液中で化学研磨して鋼板表
面を中心線平均粗さ０．１μｍの鏡面に仕上げた。

その後第１図に示したプラズマＣＶＤ装置を試用して研
磨した表面に膜厚１．５μｍでＴｉＮのＣＶＤ処理を行
った。

図において１はめっき質、２は定流量反応ガス供給管、
３は鏡面仕上した試料、４は加熱ヒータ４．５は電極で
ある。このプラズマＣＶＤ装置の特徴は、イオン化させ
た後の分子を解離させて鏡面仕上し−た試料上に表面反
応により付着させることを基本とし、このＣＶＤ処理後
、りん酸塩とコロイダルシリカとを主成分とするコーテ
イング液でコーティング処理（絶縁性塗布焼付層の形成
）を行った。

これに対する比較のために従来の公知技術に従い１μｍ
の銅めっき処理を同様の研摩表面に施した後、やはりり
ん酸塩とコロイダルシリカとを主成分とするコーテイン
グ液でコーティング処理を行った。

このときの製品の磁気特性及び密着性の実験結果をまと
めて表１に示す。

表１から明らかなように、現在工程的に製造されている
、仕上げ焼鈍中、鋼板表面上に形成されるフォルステラ
イト質下地被膜の上に、コーティング処理を加えた通常
処理製品（ａ）の磁気特性はＢＩＯが１．９０１Ｔ、　
Ｌｔｙ、ｏが０．８８Ｗ／ｋｇ程度であって絶縁被膜の
密着性は一応良好であるのに対し、仕上焼鈍後にフォル
ステライト質被膜を酸洗で除去し、ついで表面を化学研
磨して鏡面仕上し、この研磨処理表面に銅めっきを経て
、コーティング処理した製品（ｂ）の磁気特性はＢＩＯ
が１．９０９Ｔ、　Ｌｔ７ｓａが０、７４Ｗ／　ｋｇ程
度にやや改善される反面、密着性が悪い。

ところがこの発明に従い、仕上焼鈍後フォルステライト
質被膜を除去し、表面を化学研磨して鏡面仕上した上で
とくにＣＶＤ処理を経て同様なコーティング処理をした
製品（Ｃ）の磁気特性はＢＩｏが１．９１８Ｔ、　Ｌｔ
７ｓｏが　０．６７Ｗ／ｋｇときわだツタ特性改善のみ
ならず、張力被膜はもちろん絶縁性塗布焼付層の密着性
もきわめて良好であった。

（作　用） 上述の磁気特性と密着性の向上は、ＣＶＤ法により上掲
の実験では鋼板表面上に生成させたＴｉＮが鋼板との密
着性を高めると同時にＴｉＮの熱膨張係数５．　Ｉ　Ｘ
　１０−”　（１／　ｔ）が鋼板１３．５　Ｘ　１０−
’　＜−１／−ｔ）にくらべて小さいため、鋼板表面に
は弾性張力が面上に働いて従来比類のない超低鉄損が実
現される。

ここにＴｉＮのほか、Ｎｂ、　Ｓｉ、　Ｖ、　Ｃｒ、　
Ａｌ、　Ｍｎ、　Ｂ、　Ｎ　ｉ、　Ｃｏ。

Ｍｏ、　Ｗ、　Ｚｒ、　Ｈｆ及びＴａの窒化物および／
又は炭化物についても、上掲したＴｉＮとほぼ同等の機
能を呈する同効物質である。

この方法では組成的な微小ひずみの働きを利用するわけ
ではないので、熱安定性に何らの問題もなく、ひずみ取
り焼鈍の如き高温の熱履歴の下に電気・磁気的特性に影
響されることはない。

ここに仕上表面の中心線平均粗さはＲ，５０，４μｍの
鏡面状態とすることが必要でＲａ　＞Ｑ、　４μｍのと
き表面が粗いため充分な鉄損低減が期待できない。

次に張力被膜の膜厚は、０；　００５〜５μｍの範囲で
適合し、０．００５μｍに満たないときは、必要な張力
付与に寄与し得ない一方、５μｍをこえると、コストア
ップになるとともに占積率および密着性において不利が
生じる。

次に一方向性珪素鋼板の製造工程について一般的な説明
を含めてより詳しく述べる。

出発素材は従来公知の一方向性珪素鋼素材成分、例えば ■ｃｏｏ、　０１〜０．０６０％、Ｓｉ＋２．５０〜４
．５％、Ｍｎ：０，０１〜０．２％、Ｍｏ：０．００３
〜０．１％、ｓｂ：ｏ、　００５〜０．２％、Ｓあるい
はＳｅの１種あるいは２種合計で、０．００５〜０．０
５％を含有する組成 ■Ｃ：０．０１〜０．０８％、Ｓｉ：２，０〜４．０％
、５ｏｌＡｊ７：０、００５〜０，０６％、Ｓ：０．０
０５〜０゜０５％、Ｎ：ｏ、ｏｏｔ〜０．０１％、Ｓｎ
：０．０１〜０．５％、Ｃｕ：０．０１〜０．３％、！
Ｊｎ：０．０１〜０．２％を含有する組成 ■（：：Ｑ、　Ｏｆ〜０．０６％、Ｓｉ：２．０〜４．
０％、Ｓ：０．００５〜０、０５！％　、Ｂ：０．００
０３〜０．００４０％、Ｎ：０．００１〜０．０１％、
Ｍｎ：Ｑ、旧〜０．２％を含有する組成）如キにおいて
適用可能である。

次に熱延板は８００〜１１００℃の均一化焼鈍を経て１
回の冷間圧延で最終板厚とする１回冷延法か又は、通常
８５０℃から１０５０℃の中間焼鈍をはさんでさらに冷
延する２回冷延法にて、後者の場合最初の圧下率は５０
％から８０％程度、最終の圧下率は５０％から８５％程
度で０．１５ｍｍから０．３５ｍ…厚の最終冷延板厚と
する。

最終冷延を終わり製品板厚に仕上げた鋼板は・表面脱脂
後７５０℃から８５０℃の湿水素中で脱炭・１次再結晶
焼鈍処理を施す。

その後鋼板表面に通常はＭｇＯを主成分とする焼鈍分離
剤を塗布する。

その後２次再結晶焼鈍を行うが、この工程は（１００）
＜００１＞方位の２次再結晶粒を充分発達させるために
施されるもので、通常箱焼鈍によって直ちに１０００℃
以上に昇温し、その温度に保持することによって行われ
る。

この場合（１００）＜００１＞方位に、高度に揃った２
次再結晶粒組織を発達させるためには８２０℃から９０
０℃の低温で保定焼鈍する方が有利であリ、そのほか例
えば０．５〜ｂ 熱焼鈍でもよい。

２次再結晶焼鈍後の純化焼鈍は、吃水素中で１１００℃
以上で１〜２０時間焼鈍を行って鋼板表面にフォルステ
ライト質被膜を形成するとともに鋼板の純化を達成する
ことが必要である。

この純化焼鈍後に鋼板表面のフォルステライト質被膜を
公知の酸洗などの化学除去法や切削、研削などの機械的
除去法又はそれらの絹合せにより除去する。

この除去処理の後化学研磨、電解研磨等の化学的研摩や
パフ研摩等の機械的研摩あるいはそれらの組合せなど従
来の手法により鋼板表面を鏡面状態つまり中心線平均粗
さ０．４μｍ以下に仕上げる。

その後ＣＶＤの手法により、張力被膜の混合相を介して
鏡面状態の仕上表面上に、強固に被着される。このＣＶ
Ｄ法は化学反応を生じさせるパラメータとか、方法の如
何によって（ａ）低温ＣＶＤ、高温ＣＶＤ　、　（ｂ）
低圧ＣＶＤ　、常圧ＣＶＤ　、　（Ｃ）　　プラグ７Ｃ
ＶＤ　。

（ｄ）　　レ−”Ｉ’　−ＣＶＤ　、　（ｅ）光ＣＶ［
］　ｔ、：分類されるがこれらいずれの方法を用いても
よい。

このＣＶＤ法により鋼板表面上に生成される極薄の張力
被膜はＴｉＮ、　ＴｉＣ，Ｓｉ３Ｎ４．　ＳｉＣ，Ｎｂ
Ｎ、　ＮｂＣ，ＣｏＮ、　Ｃ。

Ｃ，ＮｉＣ，ＮｉＮ、　８Ｎ、　Ｍｏ２Ｃ，ＭｏＮ、　
ｌ’ｌｃ、　ＩＩＮ、　ｌｒｃ、　ＺｒＮ、　ＨｆＣ，
）ｔｆＮなどが適当である。さらにこれらの極薄の張力
被膜上にりん酸塩とコロイダルシリカとを主成分とする
絶縁被膜の塗布焼付を行う。この絶縁被膜形成方法は従
来公知の手法を用いてもよい。

上記のように処理された珪素鋼板は、平たん化熱処理を
行うことができる。

（実施例） 実施例１ ｃｏｏ、　０４８％、Ｓｉ：３，３６％、Ｍｎ：０．０
６６％、ＭＯ’０１０２５％、Ｓｅ：０．０２２％、ｓ
ｂ：［１，０２５％を含有する熱延板を、９００℃で３
分間の均一化焼鈍後、９５０℃の中間焼鈍をはさんで２
回の冷間圧延を行って０．２３＋＋ｏｎ厚の最終冷延板
とした。

その後８２０℃の湿水素中で脱炭焼鈍後鋼板表面にＭｇ
Ｏを主成分とする焼鈍分離剤を塗布した後８５０℃で５
０時間の２次再結晶焼鈍し、１２００℃で８時間乾水素
中で純化焼鈍を行なった。

その後酸洗によりフォルステライト質被膜を除去後、３
％ＨＦとＨ２Ｏ２液中で化学研磨して鏡面仕上げした。

その後第１図の装置を用いてＣＶＤ法により膜厚０．５
μｍのＴｉＮ張力被膜を形成させた。

次にりん酸塩とコロイダルシリカとを主成分とする絶縁
性塗布焼付層を形成し、その後８００℃で２時間のひず
み取り焼鈍を行った。

そのときの製品の磁気特性及び密着性は次のとおりであ
った。

磁気特性　Ｂ＋　ｏ＝１．９０Ｔ、　Ｊ　Ｔ／５Ｏ＝０
．７０１１１／ｋｇ密着性　　曲げ直径３０ｍｍで１８
０°曲げてもはく離はなく密着性が良好であった。

実施例２ Ｃ：０．０６５％、Ｓｉ：３．３８％、Ｍｎ：０．０８
０％、Ａｌ：０．０２８％、Ｓ：０．０３０％、Ｎ：０
．００６８％を含有する熱延板を、１１５０℃で３分間
の均−化焼鈍後急冷処理を行い、その後３００℃の温間
圧延を施して０．２３ｍｍ厚の最終冷延板とした。

その後８５０℃の湿水素中で脱炭焼鈍後、表面にＭｇＯ
を主成とする焼鈍分離剤を塗布した後８５０℃から１１
５０℃まで８℃／ｈｒで昇温しで２次再結晶させた後、
１２００℃で８時間乾水素中で純化焼鈍を行った。

その後酸洗によりフォルステライト質被膜を除去し、つ
いで３％ＨＦとＨ２Ｏ２液中で化学研磨して鏡面仕上げ
した。

その後ＣＶＤ法により膜厚２．５μｍにて５ｘ３Ｎａ極
薄の張力被膜を形成させ、次にりん酸塩とコロイダルシ
リカとを主成分とする絶縁性塗布焼付層を形成させた後
、８００℃で２時間のひずみ取り焼鈍を行った。

そのときの製品の磁気特性及び密着性は次のとおりであ
った。

磁気特性　Ｂ、。＝１．９５Ｔ、　Ｗ、）７．。＝０．
６６１Ｊ／ｋｇ密着性　　曲げ直径３０ｍｍで１８０°
曲げてもはく離はなく密着性が良好であった。

実施例３ ｃ：ｏ、　０４５％、Ｓｉ：３．４４％、Ｍｎ：Ｑ、　
０６８％、！、ｌｏ：０．０２６％、Ｓｅ：０．０２３
％、Ｓｂ：０．０２５％を含有する熱延板を、９００℃
で３分間の均一化焼鈍後、９５０℃の中間焼鈍をはさん
で２回の冷間圧延を行って０．２０ｍｍ厚の最終冷延板
とした。

その後８００℃の湿水素中で脱炭焼鈍後、鋼板表面にＭ
ｇＯを主成分とする焼鈍分離剤を塗布した後８５０℃で
５０時間の２次再結晶焼鈍し、１１８０℃で１０時間乾
水素中で純化焼鈍を行った。

その後酸洗により鋼板表面のフォルステライト質被膜を
除去後、３％ＨＦとＨ，Ｏ□液液中化学研磨して鏡面に
仕上げた。

その後第１図の装置を用いたＣＶＤ法により膜厚０．６
０μｍにてＴｉＣの極薄の張力被膜を形成させた。

そのときの製品の磁気特性及び密着性は次のとおりであ
った。

磁気特性　Ｂ＋ｏ＝１．９１Ｔ、　Ｗｕ７ｓｏ＝０．６
９ｊ！ｌ／ｋｇ密着性　　曲げ直径３０ｍｎ＋で１８０
°曲げてもはく離はなく密着性が良好であった。

実施例４ Ｃ：０．０４２％、　Ｓｉ：３．４３．　Ｍｎ：０．０
６２％、　Ｍｏ：０．０２５％。

Ｓｅ：０．０２１％、　Ｓｂ：０．０２５％を含有する
熱延板を９００℃で３分間の均一化焼鈍後、９５０℃の
中間焼鈍をはさんで２回の冷間圧延を行って０．２３ｍ
ｍ厚の最終冷延板とした。

その後８２０℃の湿水素中で脱炭を兼ねた１次再結晶焼
鈍後鋼板表面にＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤を塗布
した後８５０℃で５０時間の２次再結晶焼鈍し、１１８
０℃で１０時間乾水素中で鈍化焼鈍を行った。

その後酸洗により鋼板表面のフォルステライト質被膜を
除去後電解研磨により中心線平均粗さ０．０５μｍの鏡
面状態に仕上げた。

その後ＣＶＤ装置を用いて鋼板表面上に種々の窒化物、
炭化物の薄膜（１，０〜１．５μｍ厚）形成させた後、
リン酸塩とコロイダルシリカを主成分とする絶縁被膜を
塗布焼付後８００℃で３時間の歪み取り焼鈍を行った。

そのときの製品の磁気特性を表２に示す。

実施例５ Ｃ：０．０５２％、　Ｓｉ：３，２９％、　Ｍｎ：０．
０７２％、　Ａ［：０．０３０％。

Ｓ：０．０２０％、　Ｎ＋０．００７３％、　Ｓｎ：Ｑ
、Ｑ５％、　Ｃｕ：０．１％を含有する熱延板を１１８
０℃で２分間の均一化焼鈍後、急冷処理を行い、その後
３５０℃の温間圧延を施して０、２３ｍｍ厚の最終冷延
板とした。

その後８４０℃の湿水素中で脱炭を兼ねた１次再結晶焼
鈍後、鋼板表面にＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤を塗
布した後８５０℃で１１５０℃まで１０℃／ｈｒで昇温
しで２次再結晶させた後、１２００℃で１０時間乾水素
中で鈍化焼鈍を行った。

その後酸洗によりフォルステライト質被膜を除去し、つ
いで３％ＨＦとＨ２Ｏ２液中で鏡面仕上げした。

その後ＣＶＤ法により膜厚３．２　μｍのＴｉＮの張力
被膜を形成させた後、リン酸塩とコロイダルシリカを主
成分とする絶縁性塗布焼付層を形成させた後、８００℃
で３時間のひずみ取り焼鈍を行った。

そのときの製品の磁気特性および密着性は次のとおりで
あった。

磁気特性　　Ｂ＋ｏ＝１．９５７．　Ｗ＋、７ｓｏ　＝
０．６８Ｗ／ｋｇ密着性　　曲げ直径３０ｍｍで１８０
°曲げてもはく離はなく密着性が良好であった。

（発明の効果） 第１発明により、ひずみ取り焼鈍が施される使途でも有
利に適合する超低鉄損の一方向性珪素鋼板の適切な製造
方法が確立され、また第２発明により、絶縁性の増強が
さらに加わる。

【図面の簡単な説明】

第１図はプラズマＣＶＤ装置の模式図である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、含珪素鋼スラブを熱間圧延して得られた熱延板に、
   １回又は中間焼鈍をはさむ２回の冷間圧延を施して、最
   終板厚としたのち脱炭・１次再結晶焼鈍を施し ついで鋼板表面にＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤を塗
   布してから最終仕上焼鈍を施してフォルステライト質下
   地被膜を一たん形成した後、このフォルステライト質下
   地被膜を除去し、ついで該表面を研磨により中心線平均
   粗さ０．４μｍ以下の鏡面状態とし、 その後、該鏡面仕上表面上にＣＶＤ法によって Ｔｉ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｂ、Ｎｉ、
   Ｃｏ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｒ、Ｈｆ及びＴａの窒化物および／
   又は炭化物のうちから選んだ少なくとも１種より主とし
   て成る ０．００５〜５μｍの極薄の張力被膜を形成することを
   特徴とするひずみ取り焼鈍を施しても特性劣化のない超
   低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法。 ２、含珪素鋼スラブを熱間圧延して得られた熱延板に、
   １回又は中間焼鈍をはさむ２回の冷間圧延を施して、最
   終板厚としたのち脱炭・１次再結晶焼鈍を施し ついで鋼板表面にＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤を塗
   布してから最終仕上焼鈍を施してフォルステライト質下
   地被膜を一たん形成した後、このフォルステライト質下
   地被膜を除去し、ついで該表面を研磨により中心線平均
   粗さ０．４μｍ以下の鏡面状態とし、 その後、該鏡面仕上表面上にＣＶＤ法によって Ｔｉ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｂ、Ｎｉ、
   Ｃｏ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｒ、ＨｆおよびＴａの窒化物および
   ／又は炭化物、のうちから選んだ少なくとも１種より主
   として成る０．００５〜５μｍ の極薄の張力被膜を形成し、さらに該張力被膜上に絶縁
   性塗布焼付層を重ねて被着することを特徴とするひずみ
   取り焼鈍を施しても特性劣化のない超低鉄損一方向性珪
   素鋼板の製造方法。