JPH01159322A - 超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法に関す
るもので、とくに電子ビームの照射を活用することによ
り、効果的な磁区の細分化をもってする鉄損特性の有利
な改善を図ろうとするものである。

一方向性珪素鋼板の電気・磁気的特性の改善、なかでも
鉄損の低減に係わる極限的な要請を満たそうとする近年
来の目覚ましい開発努力は、逐次その実を挙げつつある
。

一方向性珪素鋼板はよく知られているとおり、主に変圧
器その他の電気機器の鉄心として広く使用されているが
、鋼板製品の２次再結晶粒を（１１０）＜００１＞、す
なわちゴス方位に、高度に集積させたもので、電気磁気
的特性として製品の磁束密度（Ｂｏｏ値で代表される）
が高く、かつ鉄損（Ｗ＋７／Ｓ。

値で代表される）の低いことが要求される。

この一方向性珪素鋼板は、　１ｉｌｊＱに複雑多岐にわ
たる工程を経て製造され、各工程にわたって今までにお
びただしい発明改善が加えられた結果、今日では板厚０
．３０ｍｍの製品の磁気特性はＢＩＧ値１．９０Ｔ以上
、Ｗｕｚｓ。値１．０５１ｔｌ／ｋｇ以下、または板厚
０．２３＋ｎｍの製品の磁気特性は８．ｏ値１．８９Ｔ
以上、Ｗｌｆｆ１５０値０．９０１＋ｌ／ｋｇ以下の低
鉄損一方向性珪素鋼板も製造されている。

最近に至り省エネの見地から電力損失の低減を特徴とす
る請求が著しく強まり、欧米では損失の少ない変圧器を
作る場合に鉄損の減少分を金額に換算して変圧器価格に
上積みする「ロス・エバリューニージョン」　（鉄損評
価）制度の普及がみられる。

（従来の技術） 一方向性珪素鋼板の電気磁気的特性の改善のため、仕上
焼鈍後の鋼板表面に圧延方向にほぼ直角方向でのレーザ
ー照射による局部微小ひずみを導入して磁区を細分化し
、これによって鉄損を低下させることが提案された（特
公昭５７−２２５２号、特公昭５７−５３４１９号、特
公昭５８−２６４０５号及び特公昭５８−２６４０６号
各公報参照。）この磁区細分化技術はひずみ取り焼鈍を
施さない、積鉄心向はトランス材料として効果的である
が、ひずみ取り焼鈍を施す、主として巻鉄心トランス材
料にあっては、レーザー照射によって折角に導入された
局部微小ひずみが焼鈍処理により開放されて磁区幅が広
くなるため、レーザー照射効果がなくなるという欠点が
ある。

一方これよりさき、特公昭５２−２４４９９号公報にお
いては、一方向性珪素鋼板の仕上げ焼鈍後の鋼板表面を
鏡面仕上げするか、又はその鏡面仕上げ面上に金属メツ
キやさらにその上に絶縁被膜を塗布焼付けすることによ
る、超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法が提案されて
いる。しかしながらこの鏡面仕上げによる鉄損向上手法
は、工程的に採用するには、著しいコストアップになる
がその割には鉄損低減への寄与が充分でない上、とくに
鏡面仕上後に不可欠な絶縁被膜を塗布焼付した後の密着
性に問題があったため、現在の製造工程において採用さ
れるに至ってはいない。

また特公昭５６−４１５０号公報においても鋼板表面を
鏡面仕上げした後、酸化物系セラミックス薄膜を蒸着す
る方法が提案されている。しかしながらこの方法も６０
０℃以上の高温焼鈍を施すと鋼板とセラミックス層とが
剥離するため、実際の製造工程では採用できない。

さらに特開昭５９−２２９４１９号公報において珪素鋼
板表面に局部的に熱エネルギーを加えることにより熱歪
領域を形成させる方法が提案されている。

しかしながらこの局所熱歪領域の優先形成は６００℃以
上の高温焼鈍によってその効果がなくなるという欠点を
有している。

また特開昭５８−１４４４２４号公報においては、３ｍ
ｍ以上の２次粒径を有する珪素鋼板に擬結晶粒界を導入
する方法や、さらに特開昭６２−９６６１７号公報にお
いて仕上焼純情の方向性珪素鋼板にプラズマ炎を放射す
る方法が提案されている。しかしながらこれらの方法は
いずれもひずみ取り焼鈍を施す巻鉄心トランス材料には
その効果がなくなるため適用できないという欠点があっ
た。

（発明が解決しようとする問題点） 前記した従来の技術、それもとくに上掲の特公昭５２−
２４４９９号、同５６−４１５０号両公報における鏡面
仕上げによるような不利を補ってあまりある、鉄損の著
しい低減を成就することがこの発明の目的である。

（問題点を解決するための手段） この発明は、仕上げ焼鈍済みの方向性珪素鋼板面上の表
面酸化物を除去したのち研磨により鋼板表面を中心線平
均粗さＲａ０．４μｍ以下の鏡面状態に仕上げ、この鏡
面上に真空めっきによる極薄張力被膜を形成し、この極
薄張力被膜上に重ねて絶縁被膜を形成する一方向性珪素
鋼板の製造にあたり、 絶縁被膜は比抵抗が１０１０μΩ・ｃｍ以上の物性を呈
する真空めっき膜よりなるものとし、かつこの絶縁被膜
の形成の前又は後に該鋼板の圧延方向を横切る向きで該
鋼板に電子ビームの照射を施すことを特徴とする超低鉄
損一方向性珪素鋼板の製造方法である。

この発明における極薄張力被膜は、仕上げ焼鈍済みの方
向性珪素鋼板面上の表面酸化物を除去したのち研磨によ
り鋼板表面を中心線平均粗さＲａ００４μｍ以下の鏡面
状態に仕上げ、この鏡面上に真空めっきすなわちＣＶＤ
　、イオンブレーティング又はイオンインプランテーシ
ョンでもって、Ｔｉ。

Ｚｒ、　Ｈｆ、　Ｖ、　Ｎｂ、　Ｔａ、　Ｃｒ、　Ｍｏ
、　Ｉｌｌ、　Ｍｎ、　Ｃｏ、　Ｎｉ、　ｉ。

Ｂ及びＳｌの窒化物及び／又は炭化物、並びにＡｌ。

Ｎｉ、　Ｃｕ、　Ｗ、　Ｓｉ及びＺｎの酸化物のうちか
ら選ばれる少なくとも１種を被着させた０、０５〜５μ
ｍ程度の極薄被膜よりなる。

次に絶縁被膜は極薄張力被膜の上に重ねて、やはり真空
めっきすなわちＣＶＤ　、イオンブレーティング又はイ
オンインプランテーションにより、比抵抗が１０１０μ
Ω’　ｃｍ以上であるたとえば５ｉｎ２．　Ｓｉ３Ｎ４
゜ＳｉＣ，Ａｌ２Ｏ２，ＢＮ、及びＡｌ２Ｎの少なくと
も１種を被着させて形成する。

この絶縁被膜の形成の前又は後に、上記鋼板の圧延方向
を横切る向きで該鋼板に電子ビーム（以下ＥＢと略す〉
照射を施す。

ＥＢ照射条件は、１０〜１００Ｋｖ）加速電圧テ０．０
０５〜１０ｍＡの電流とし、０．００５〜１　ｍｍのビ
ーム径にて点状又は線状に、鋼板の圧延方向に対し６０
°〜９０゜にて３〜１５ｍｍ程度の間隔で照射する。

このようにして一方向性珪素鋼板の鉄損の著しい低下が
もたらされる。

上記のように処理される珪素鋼板は６００℃以上の温度
で鉄損特性を劣化させることなく歪取り平たん化熱処理
を行うことができる。

次にこのような方向性珪素鋼板表面上に圧延方向を横切
る向きにＥＢを照射する装置はバッチ型でも行なうこと
が出来るが、コイルで高真空に徐々に真空度を上げるＡ
ｉｒ−ｔｏ−Ａｉｒの連続処理設備で行なう方が効率的
である。

この発明に従う一方向性珪素鋼板の仕上げ焼鈍に至る製
造工程について具体的に説明する。

出発素材は従来公知の一方向性珪素鋼素材成分（以下ｗ
ｔ％について％で示す）、例えば■　Ｃ：　０．０１〜
０．０６０％、　Ｓｉ　：２．５０〜４．５％、Ｍｎ：
０．０１〜０．２％、　Ｍｏ　：　０．００３〜０．１
％、　Ｓｂ’：　ｏ、　００５〜０．２％、Ｓあるいは
Ｓｅの１種あるいは２種合計で、０．００５〜０．０５
％を含有する組成■　Ｃ：０．０１〜０．０８％、Ｓｉ
：２．０〜４．０％、Ｓ：０、００５〜０．０５％、ｉ
：０．００５〜０．０６％、Ｎ：０．００１〜０．０１
％、　Ｓｎ　；０．０１〜０．５％、Ｃｕ：０．０１〜
０．３％、　Ｍｎ　：０．０１〜０．２％を含有する組
成■　Ｃ：０．旧〜０．０６％、Ｓｉ：２．０〜４．０
％、Ｓ：０、００５〜０．０５％、　Ｂ　：０．０００
３〜０．００４０％、Ｎ：０．００１〜０．０１％、　
Ｍｎ　：　０．０１〜０．２％を含有する組成の如きに
おいて適用可能である。

（作　用） この発明の成功が導かれた具体的な実験経緯を作用にあ
わせ、以下に説明を進める。

Ｃ：０．０４３％、Ｓｉ：　　３．３２％、　Ｍｎ　：
　０．０６６％。

Ｓｅ　：　０．０２０％、　Ｓｂ　：　０．０２３％、
　Ｍｏ　：　０．０１３％、残部実質的にＦｅの組成に
なる珪素鋼スラブを用意し、これを１３６０℃で５時間
の加熱後熱間圧延を施して２．２ｎ＋ｎ＋厚さの熱延板
とした。

その後９００℃で３分間の均−化焼鈍後、９５０℃度で
３分間の中間焼鈍をはさんで２回の冷間圧延を施し、０
．２３Ｉｌ］ｍ厚の最終冷延板とした。

次に熱延板は８００〜１１００℃の均一化焼鈍を経て１
回の冷間圧延で最終板厚とする１回冷延法か又は、通常
８５０℃から１０５０℃の中間焼鈍をはさんでさらに冷
延する２回冷延法にて、後者の場合最初の圧下率は５０
％から８０％程度、最終の圧下率は５０％から８５％程
度で０．１５ｍｍから０．３５ｍｍの最終冷延板厚とす
る。

最終冷延を終わり製品板厚に仕上げた鋼板は、表面脱脂
後７５０℃から８５０℃の湿水素中で脱炭・１次再結晶
焼鈍処理を施す。

その後は通常鋼板表面にＭｇＯを主成分とする焼鈍分離
材を塗布する。

この際、−船釣には仕上げ焼鈍後フォルステライト被膜
の形成を不可欠とする場合はＭｇＯを主成分とする焼鈍
分離剤を塗布するのに対し、むしろフォルステライトを
特に形成させない方がその後の鋼板の鏡面化処理を簡便
にするのに有効であるので、焼鈍分離剤としてＡｌ２Ｏ
２や１ｒ０２．　ＴｉＯ□の如きを５０％以上でＭｇＯ
に混入した焼鈍分離剤を使用するのが好ましい。

その後２次再結晶焼鈍を行うが、この工程は（１１０）
　＜００１＞方位の２次再結晶粒を充分発達させるため
に施されるもので、通常箱焼鈍によって直ちに１０００
℃以上に昇温し、その温度に保持することによって行わ
れる。

この場合（１１０）　＜００１＞方位に、高度に揃った
２次再結晶粒組織を発達させるためには８２０℃から９
００　℃の低温で保定焼鈍する方が有利であり、そのほ
か例えば０．５〜ｂ 鈍でもよい。

２次再結晶焼鈍後の純化焼鈍は乾水素中で１１００℃以
上で１〜２０時間焼鈍を行って鋼板の純化を達成するこ
とが必要である。

この純化焼鈍後に鋼板表面の酸化物被膜を硫酸、硝酸又
は弗酸などの強酸によるような酸洗い又は機械的研削、
切削等により除去する。

次に化学研磨および／又は電解研磨など従来から既知の
手法により鋼板表面を鏡面状態つまり中心線平均粗さＲ
ａで０．４μｍ以下に仕上げる。

次に８２０℃の湿水素雲囲気中で脱炭・１次再結晶焼鈍
を施した後、不活性Ａβ２０３　（６５％）　、　Ｍｇ
０（３０％）　、　ＴｌＯ２（３％）とＭｇ５（］、　
（２％）の配合に成る焼鈍分離剤をスラリ塗布した。

その後仕上げ焼鈍として８５０℃で５０時間の２次再結
晶焼鈍を行った後、１２００℃で８時間乾水素中で純化
焼鈍を施した。

この仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板表面上の表面酸化物
を酸洗により除去したのち、この場合電解研磨により中
心線平均粗さＲａ０．１μｍの鏡面状態に仕上げた。

次にイオンブレーティング装置（ＨＣＤ法）により鏡面
上にＴｉＮを１．０　μｍ厚の極薄張力被膜として形成
した。

この極薄張力被膜上に、圧延方向と直角な向きに間隔７
　ｍｍで、加速電圧６０　ＫＶ　、加速電流０．７ｍＡ
。

ビーム径０．１ｍｍφの条件で、ＥＢ熱照射行った上で
、イオンブレーティング装置により約１．３μｍ厚さの
Ｓｉ、Ｎ、よりなる絶縁被膜を形成した。

このときＥＢ熱照射しに同じ（Ｓｉ３Ｎ、の絶縁被膜を
形成したときの電気磁気特性はＢ、Ｑ値１．９２７で、
”Ｉｔ／Ｓｏ値が０．６６　Ｗ／ｋｇであったのに対し
、ＥＢ熱照射行った試料はＢ１ｏ値１．９２　Ｔ、　Ｊ
７／ｓｏ値０．６０Ｗ／ｋｇで、著しい鉄損の低減がみ
られた。

次にＥＢ熱照射ついてＳｉ３Ｎ４の絶縁被膜を形成した
後から施すように変更した場合には、Ｂ１ｏ値１．９２
Ｔ　、　Ｌ□／ｓｏ　０．６２Ｉｌｌ／ｋｇでやはりは
ゾ同様な著しい鉄損低減がみられた。

ここに５１３Ｎ４の比抵抗は４Ｘ１０１μΩ・ａｍであ
る。

これに対して絶縁被膜（約１．２μｍ）として参考のた
め比抵抗が８Ｘ１０６μΩ・ａｍのＢ＜Ｃを用いて実験
したところ、ＥＢ熱照射しのとき８１０値１．９２”　
ＳＷ＋７／Ｓｏ値０．６９Ｗ／ｋｇであったのが、ＥＢ
熱照射絶縁被膜の形成前と後に施したとき、Ｂ１０値は
変らず、銑鉄はそれぞれ、０．７０Ｗ／ｋｇ、　０．７
１Ｗ／ｋｇに却って悪化した。

これに反し、比抵抗が２Ｘ１０”μΩ・ｃｍであるＡｌ
２Ｏ２、同じ＜　２　ｘｌＯ１２μΩ’　ａｍであるＢ
Ｎ、また４　Ｘｌ０１５μΩ’　ｃｍの５ｉｎ２．　３
　Ｘｌ０Ｉ３μΩ’　ｃｍのＳｉＣ，２，５Ｘ１０”μ
Ω’　ｃｍのＡｌＮについて同様な実験によってＥＢ熱
照射絶縁被膜の形成の前又は後で行ったとき、ＥＢ熱照
射しない場合に比し、はるかに著しい鉄損の低減が達成
された。

上記の各成績とも、８００℃で２時間にわたるひずみ取
り焼鈍を施したのちの磁気特性である。

また上の実験におけるＴｉＮの代りに、Ｚｒ、　Ｈｆ。

Ｖ、　Ｎｂ、　Ｔａ、　Ｃｒ、　Ｍｏ、　Ｗ、　Ｍｎ、
　Ｃｏ、　Ｎｉ、　ｉ、　Ｂ、及びＳｌの窒化物及び／
又は炭化物並びにＡｊｌ！、　Ｎｉ。

Ｃｕ、　Ｗ、　Ｓｉ及び２ｎの酸化物を用いても、また
それらの混合物を用いて極薄張力被膜を形成した場合に
ついても、はぼ同様な鉄損軽減の著大な効果かもたられ
た。

従って絶縁被膜については５ｉｎ２．　Ｓｉ：＋Ｌ、　
ＳｉＣ。

Ａｌ２２０３．　ＢＮ及びｉＮ　、また極薄張力被膜に
ついては、Ｔｉ、　Ｚｒ、　ｔ（ｆ、　Ｖ、　Ｎｂ、　
ＴＡ、　Ｃｒ、　Ｍｏ、　Ｗ、　Ｍｎ。

Ｃｏ、　Ｎ＋、　Ａｌ、　Ｂ及びＳｌの窒化物及び／又
は炭化物並びにＡｊｌ’、　Ｎ＋、　Ｃｕ、　Ｗ、　Ｓ
＋及びＺｎの酸化物が、それぞれ均等物である。

また玉揚の比較実験の結果から、この発明では、絶縁被
膜が１０１０μΩ・Ｃｌ１１以上の比抵抗をもつことが
不可欠で、これに満たないときは鉄損特性の向上に寄与
しないからである。

もっとも、比抵抗の高い絶縁被膜の形成の前又は後にＥ
Ｂ前照射行ったときに限って鉄損特性の著しい向上がも
たらされる理由の詳細は明らかであいけれども、ＥＢ前
照射よって鉄損が低減するのは第１図（ａ）、（ｂ）に
示した模式図のように、ＥＢ前照射よって張力被膜１又
は絶縁被膜２上に異常張力状態がつくり出されることに
よると考えられ、またこの場合において比抵抗がｌＸｌ
０１０μΩ・ａｍ以上であることによって、一方向性珪
素鋼板の確実な絶縁性が保証され得る。

（実施例） 例　　１ 実験経緯に関してさきに述べたＴｉＮよりなる極薄張力
被膜上に、比抵抗２　ＸＩＯ”μΩ・ｃｍのＡ　ｎ　２
０：１また同じ＜　２　ＸｌＯ１２μΩ・ｃｍのＢＮよ
りなる絶縁被膜をそれぞれ約１．１μｍ１約１．２μｍ
の厚みで形成して、これらの絶縁被膜の形成の前にＥＢ
前照射行ったときには、ＥＢ前照射しないときのＷＩＴ
７５０値がそれぞれ０．６７．０．６８　Ｗ／ｋｇであ
ったのが０．６１．０、６２Ｗ／　ｋｇ、また絶縁被膜
の形成のあとのＥＢ前照射は何れも０．６２Ｗ／ｋｇま
で低減した。なＪｅ＋ｏ値については何れも１．９２７
であった。

例２ Ｃ：０．０４２％、　Ｓｉ　：３．３２％、　Ｍｎ　：
　０．０４８％、Ｓ二０．０３１％、　Ｂ　：０．００
２８％、　Ｎ　：０．００６２％、残部実質的にＦｅか
ら成る珪素鋼スラブを用意し、１３００℃で４時間加熱
後熱間圧延して１．８＋ｍｎ厚の熱延板とした。その後
９５０℃で３分間の均一化焼鈍を施した後、３５０℃で
温間圧延を施して０．２３ｍｍ厚の最終冷延板とした。

その後８３０℃の湿水素中で脱炭を兼ねる１次再結晶焼
鈍を施した後、鋼板表面上にＭｇＯ（３５％）とＡｌ２
Ｏ２（６２％）　、　ＴｌＯ２（３％）を主成分とする
焼鈍分離剤をスラリー塗布した。

その後仕上げ焼鈍として８５０℃から１０５０℃まで昇
温しで２次再結晶させた後１２５０℃で４時間飽水素中
で純化焼鈍を行なった。

その後酸洗により鋼板表面上の酸化物を除去後電解研磨
により中心線平均粗さＲａ　＝０．０８μｍの鏡面状態
に仕上げた。

その後イオンブレーティング（ＨＣＤ法）により、Ｔ　
ｉ　（Ｃ，Ｎ）被膜を０．８μｍ厚みで形成した。

その後その表面上にＥＢ前照射た。照射条件は圧延方向
に直角方向に５ｍｍ間隔で加速電圧６５　ＫＶ。

加速電流１．ＱｍＡ、　　ビーム径０．１５ｕφとした
。

その後ＳｉＣをＣＶＤにより２．０　μｍの厚さで形成
させた後８５０℃で２時間の歪取り焼鈍を行なった。

そのときの製品の磁気特性は次のようであった。

１３１０値１．９２　Ｔ、　Ｗ１ｔ７ｓｏ値０．６３１
１／ｋｇ例　　３ Ｃ：０．０６２％、　Ｓｉ　：３．３６％、　Ｍｎ　：
　０．０７９％、酸可溶へｌｏ、０２９％、　Ｓｅ　：
　０．０２１％、　　Ｎ　：０．０６９％、残部実質的
にＦｅから成る珪素鋼スラブを用意し１４２０℃で８時
間加熱後、熱間圧延して２．Ｏｍｍ厚の熱延板とした後
、１０００℃で３分間の中間焼鈍をはさんで２回の冷間
圧延を施して０．２０ｍｍ厚の最終冷延板とした。

なお中間焼鈍の際には５００℃から９００℃までの温度
範囲は１５℃／Ｓで急熱し、中間焼鈍後の９００℃から
５００℃までは１８℃／ｓｅｃで急冷した。

その後１８０℃の湿水素中で脱炭焼鈍を行なった後、鋼
板表面上にＭｇＤ　（４０％）とＡ　ｐ　２ｏｆｆ　（
Ｅｉｏ％）を主成分とする焼鈍分離剤をスラリー塗布し
た。

その後仕上げ焼鈍として８５０℃から１１００℃まで８
℃／ｈｒで昇温しで２次再結晶させた後、１２２０℃で
６時間軟水素中で純化処理を行なった。

その後酸洗いと機械研磨により表面上の酸化物を除去後
、電解研磨により中心線平均粗さＲａ＝０．０７μｍに
鏡面仕上げを施した。その後イオンブレーティングによ
り鋼板表面上にＴｉ（Ｃ，Ｎ）の極薄張力被膜（０，８
μｍ厚）を形成させた後、圧延方向に直角方向に７　ｍ
ｍ間隔にＥＢ前照射ＥＢ照射条件は加速電圧６５　ＫＶ
、電流１．２ｍＡ、走査ビーム径０．１５ｍｍφ）した
後、（ａ）Ｓ＋０２．　（ｄ）Ｓ１３Ｎ４．（ｇ）Ａｌ
２Ｏ２゜（ｊ）ＯＮ、　　（ｍ）ＳｉＣ＋−３ｉｎ□の
絶縁被膜をそれぞれ形成させた。なお（ａ）　　のＳｉ
ｎ□はＣＶＤ法、（ｄ）の５Ｉ３Ｎ４１軸）のＡ　１２
２［３３および（ｍ）のＳｉＣ＋Ｓｉ［ｌ□はイオンプ
レーティングされ、（Ｊ）のＯＮはイオンインプランテ
ーションにより被膜を形成させたものである。

又、別にＴｉ　（Ｃ，Ｎ）膜被成後、（ｂ）　：Ｓ＋０
２．　　（ｅ）　：ＳＩ３Ｎ４゜（ｈ）　：Ａ　Ｉ！　
２０３．　（ｋ）　：ＢＮ、　　（ｎ）　：ＳｉＣ＋Ｓ
ＩＯ□の混合被膜を前記同様の方法で形成させた後再び
上記方法でＥＢ前照射た。その後８００℃で３時間の歪
取り焼鈍を施した後の磁気特性とそのときのＥＢ前照射
しないときの磁気特性と比較して表１に示す。

例４ Ｃ：０．０３９％、　Ｓｉ　：３．０８％、　Ｓ　：０
．０２３％、Ｂ：　０．００２６％、　Ｎ　：０．００
６９％、　Ｍｎ　：０．０４９％、残部実質的にＦｅよ
り成る珪素鋼スラブを用意し、１２５０℃で６時間加熱
延後、熱間圧延して１．７ｍｍ厚の熱延板とした。その
後３５０℃の温間圧延を施しながら、０．２３ｍｍ厚の
最終冷延板とした。

その後８４０℃の湿水素中で脱炭を兼ねる１次再結晶焼
鈍を施した後、鋼板表面上にＭｇＯ（３５％）。

Ａβ２０３（６３％）　、　ＴｉＱ□（２％）の焼鈍分
離剤をスラリー塗布した。

その後８５０℃から８℃／ｈｒで昇温しで１１００℃ま
で昇温しで２次再結晶させた後、１２００℃の軟水素中
で純化焼鈍を施した。

その後鋼板表面上の酸化物を除去後、電解研磨により中
心線平均粗さＲａ＝０．０５μｍに鏡面仕上げした。そ
の後イオンブレーティング（ＨＣＤ　法）　　によりＴ
ｉＮを０．５　μｍ成膜した後ＥＢ前照射た。このとき
のＥＢ照射条件は加速電圧６５ＫＶ、　加速電流０．９
ｍＡ、　走査間隔５ｍｍでビーム径０．０５ｍｍφで圧
延方向と直角方向にした。その後イオンブレーティング
によりＡｆＮを１．２　μｍ厚さで形成した。そのきと
の製品の磁気特性は８．。：　１．９３Ｔ、　Ｌｔｙｓ
。：０．６５Ｗ／ｋｇ比抵抗は７ｘｌＯＩ３μΩ”　ｃ
ｍであった。

（発明の効果） この発明によれば一方向性珪素鋼板の鉄損特性を著しく
改善することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はＥＢ照射を施したときの鉄損低下の模式図であ
る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、仕上げ焼鈍済みの方向性珪素鋼板面上の表面酸化物
   を除去したのち研磨により鋼板表面を中心線平均粗さＲ
   ａ０．４μｍ以下の鏡面状態に仕上げ、この鏡面上に真
   空めっきによる極薄張力被膜を形成し、この極薄張力被
   膜上に重ねて絶縁被膜を形成する一方向性珪素鋼板の製
   造にあたり、 絶縁被膜は比抵抗が１０＾１＾０μΩ・ｃｍ以上の物性
   を呈する真空めっき膜よりなるものとし、かつこの絶縁
   被膜の形成の前又は後に該鋼板の圧延方向を横切る向き
   で該鋼板に電子ビームの照射を施すこと を特徴とする超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法。