JPS6318356A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野］ 本発明は電子写真感光体に関し、特に負帯電用感光体の改良に関する。 【従来の技術】

従来、例えば電子写真感光体としては、セレン、酸化亜
鉛、硫化カドミウム等の無機光導電性物質を含有ｔ７１
患光層を有する感光体が広く用いられている。 一方、種々の有機光導電性物質を電子写真感光体の感光
層の材料として利用することが近年活発に開発、研究さ
れている。 例えば特公昭５０−１０４９６号公報には、ボＩＪ　　
Ｎ−ビニルカルバゾールと２．４，７．−）＋７ニトロ
＝９−フルオレノンを含有した感光層を有する有機感光
体について記載されている。しかしこの感光体は、感度
及び耐久性において必ずしも満足でさるものではない、
このような欠点を改善するために、感光層において、電
荷発生機能と電荷輸送機能とを異なる物質に個別に分担
させることにより、感度が高くて耐久性の大きい有機感
光体を開発する試みがなされている。 このような、いわば機能分離型の電子写真感光体におい
ては、各機能を発揮する物質を広い範囲のものから選択
することができるので、任意の特性を有する電子写真感
光体を比較的容易に作製することが可能である。 こうした機能分離型の電子写真感光体に有効な電荷発生
物質として、従来数多くの物質が提案されている。無機
物質を用いる例としては、例えば特公昭４３−１６１９
８号公報に記載されているように、無定形セレンがあり
、これは有機電荷輸送ａＩＩ賀と組み合わせる。 また、有機染料や有機顔料を電荷発生物質として用いた
電子写真感光体も多数提案されており、例えば、ビスフ
ジ化合物を含有する感光層を有するものは、特開昭４７
−３７５４３号、同５５−２２８３４号、同５４−７９
６３２号、同５６−１１６０４０号各公報等により既に
知られている。 ところで、前記有機光導電性物質を用いた在米の感光体
は通常、負帯電用として使用されている。 この理由は、負帯電使用の場合には、電荷のうちホール
の移動度が大きいことから、光感度等の面で有利なため
である。しかしながら、このような負帯電使用では、次
の如き問題があることが判明している。即ち、帯電器に
よる負帯電時に雰囲気中にオゾンが発生し易くなり、環
境条件を悪くするという問題がある。さらに池の問題は
、負帯電用感光体の現像には正極性のトナーが必要とな
るが、正極性のトナーは強磁性体電荷粒子に対する摩擦
帯電系列がらみで製造が困難であることである。 そこで、有機光導電性物質を用いる感光体を正帯電で使
用することが提案されている。例えば、電荷発生層上に
電荷輸送層を積層して感光体を形成する際、感光体表面
の正電荷を能率よく打消すため前記電荷輸送層に電子輸
送能の大きい、例えばトリニトロフルオレノンを使用し
ているが、該物質は発ガン性があり、公害上極めて不適
当である。 さらに正帯電用感光体として、米国特許第３６１５４１
４号明ａｔには１チアピ１７　リウム塩（電荷発生物質
）をポリカーボネート（バイングー樹脂）と共晶錯体を
形成するように含有させたものが示されている。しかし
この公知の感光体では、メモリー現象が大さく、ゴース
トも発生し易いという欠、αがある。又米国特許第３３
５７９８９号明細書にも、７タロシアニンを含有せしめ
た感光体が示されているが、７りロシアニンは結晶型に
よって特性が変化する上に、結晶型を厳密に制御しなけ
ればならないという弊害があり、かつメモリー現象が大
きく、短波長感度が低いため前記短波長を含む可視光を
光源とする複写機には不適当なものとされる。 このように正帯電用感光体を得るための試みが種々行な
われているが、いずれも光感度、メモリー又は公害等の
点で改善すべき多くの問題点があり、実用化には程遠い
現状である。

【発明の目的】

従って本発明の目的は、有機光導電性物質を用いて負帯
電用として構成され、高感度で耐久性があり、しかもオ
ゾン酸化耐性にも優れた電子写真感光体を提供すること
にある。

【発明の構成および作用効果】

本発明の目的は、導電性支持体上に電荷発生層、電荷輸
送層を順次積層した電子写真感光体において、電荷発生
層中に下記群より選択される少なくとも１ａ以上の酸化
防止剤を含有する負帯電用電子写真感光体によって達成
される。 群　　ヒンダードフェノール類 パラフェニレンジアミン類 ハイドロキノン類 有機硫黄化合物類 有機燐化合物類 本発明者らは、オゾン劣化性の改良に関し鋭意検討の結
果、オゾン酸化には比較的強いと考えられていた電荷発
生物質（以下、ＣＧＭと略すことがある）を主要成分と
する電荷発生層（以下、ＣＧＬと略すことがある）中に
、ある種の酸化防止剤を含有させることにより、ＣＧＭ
を保護して電荷発生効率を維持すると共に、老化ＣＧＭ
からの電荷注入を防ぎ感光体の電位低下を抑制できると
いう予期せざる効果を見出し、本発明をなすに至った。 以下、本発明をより具体的に説明する。 本発明に用いられる酸化防止剤の代表的具体例を以下に
示すが、これに限定されるものではない。 ヒングードフェ／−ル類 ノブチルヒドロキシトルエン、２．２’−メチレンビス
（６−ｔ−ブチル−４−メチル７エ／−ル）、４，４°
−ブチリデンビス（６−し−ブチル−３−メチルフェノ
ール）、４，４゛−チオビス（６−Ｌ−ブチル−３−メ
チル７エ７−ル）、２，２′−チオノエチレンビス（３
−（３，５−ノーｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェニル
）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンノオールービス
〔３−（３，５−ノーし一ブチルー４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート〕、α−トコフェロール、β−ト
コフェロール、ペンタエリスリチル−テトラキス（３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート〕２．２．４−）ジメチル−６−ヒドロ
キシ−７−ｔ−２チルクロマン、ノブチルヒドロキシ７
二ソール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３
，５−ノーＬ−ブチルー４−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオネート〕等 パラフェニレンノアミソ類 Ｎ−フェニル−Ｎ′−イソプロピル−ｐ−７ヱニレンノ
アミン、Ｎ、Ｎ−ノエチルーｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ−７ヱニルーＮ’−エチル−２−メチル−１】−７二
二レンジアミン、Ｎ−工ｆルーＮ−ヒドロキシエチル−
ｐ　　７ｚニレンジアミン等 ハイドロキノン類 ２．５−ジーを一オクチルハイドロキノン、２−ドデシ
ルハイドロキノン、２−ｔ−才クチル−５−７チルハイ
ドロキノン、２−ｓｅｅ−ドブ、シル−５−クロロハイ
ドロキノン、２．Ｇ−ジドデシルハイドロキノン等 有機硫黄化合物類 ジラウリル−３，３゛−チオノプロピオネート、ジステ
アリル−３，３゛−チオジプロピオネート、ジオクチル
−３，３°−チオノプロピオネー）？有機燐化合物類 トリフェニルホスフィン、トリフレノールホスフィン、
トリ（ツノニルフェニル）ホスフィン等これらの化合物
は、プラスチック、ゴム、石油または油脂類の酸化防止
剤として公知の化合物であり、市販品として容易に入手
できる。 本発明において使用される酸化防止剤の添加量は、ＣＧ
　Ｍ　１００重量部に対して０．０１〜１００重量部が
好ましく、特に好ましくは０．１〜５０重量部である。 本発明の感光体の構成は支持体（導電性支持体またはシ
ート上に導ｊｌｉ層を設けたもの）上に電荷発生物質（
ＣＧ　Ｍ　）と必要に応じてバイングー樹脂を含有する
電荷発生ＷＩ（ＣＧＬ）を下層とし、電荷輸送物ｆｆ１
（以下、ＣＴＭと略すことがある）と必要に応じてバイ
ングー樹脂を含有する電荷輸送層（以下、ＣＴＬと略す
ことがある）を上層とする積層構成の感光層を設けたも
のであるが、必要に応じて支持体とＣＧＬの開に中間層
が、またＣＴＬの上に保！１１層（ＯＣＬ）が設けられ
てもよい。 次に本発明に適する電荷発生物質としては、可視光を吸
収してフリー電荷を発生するものであれば、無機顔料及
び有機色素の何れをも用いることができる。無定形セレ
ン、三方墨糸セレン、セレン−砒素合金、セレン−テル
ル合金、硫化カドミウム、セレン化カドミウム、硫セレ
ン化カドミウム、硫化水銀、酸化鉛、硫化鉛等の無機顔
料の外、次の代表例で示されるような有＃歿顔料を用い
てもよい。 （１）　モノアゾ顔料、ポリアゾ顔料、金属錯塩７ゾ顔
料、ピラゾロンアゾ顔料、スチルベンアゾ及びチアゾー
ルアゾ顔料等のアゾ系顔料。 （２）　ペリレンｆｉｆｉ水物及びペリレン酸イミド等
のペリレン系顔料。 （３）７ントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体
、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロン誘導体、
ビオラントロン誘導体及びインビオラントロン誘導体等
の７ントラキ／ン系又は多環キノン系顔料 （４）　インジゴ誘導体及びチオインノボ誘導体等のイ
ンジゴイド系顔料 （５）金属フタロシアニン及び無金属７タロシアニン等
の７タロシアニンａ　ＩＡ　料 （６）　７フエニルメタン系顔料、トリフェニルメタン
顔料、キサンチン顔料及びアクリジン顔料等のカルボニ
ウム系顔料 （７）アノン顔料、オキサノン顔料及びチアノン顔料等
のキノンイミン系顔料 （８）　ンアニン顔料及びアゾメチン顔料等のメチン系
顔料 （９）　キノリン系顔料 （１０）ニドａ系顔料 （１１）　　ニトロン系顔料 （１２）ペンゾキ／ン及びす７トキノン系顔料〈１３）
　　す７タルイミド系顔料 （１４）　　ビスベンズイミダゾール誘導体等のペリノ
ン系顔料 電子吸引性基を有する種々のアゾ顔料が、感度、メモリ
ー現象、残留電位等の電子写真特性の良好さから用いら
れるが耐オゾン性の点で多環キノン系顔料が最も好まし
い。 詳細は不明であるが、おそらく７ゾ基はオゾン酸化を受
は易く電子写真特性が低下してしまうが、多環キノン類
はオゾンに対して不活性であるためと思われる。 前記本発明に用いられるアゾ系顔料上しては、例えば次
の例示化合物群ＣＩ）〜（Ｖ）で示され例示化合物１！
？、　（＋　〕： 例示化合物群（ＩＤ： 例示化合物群ＣＩｌｌ　］’　： 例示化合物（ＩＶ）： 例示化合物〔■〕： また、以下の多環キノン顔料から成る例示化合物１１′
￥〔ｖ１〕〜〔■〕はＣＧＭとして最も好ましく例示化
合物群〔■〕： 例示化合物１１丁〔〜１〕： 例示化合物群い１〕： 次に本発明で使用ｊＪ能な電荷輸送物質としては、特に
制限はないが、例えばオキサゾール誘導体、オキザジア
ゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導
体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダ
ゾール誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリ
ジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラ
ゾリン誘導体、オキサゾ【ｌン誘導体、ベンゾチアゾー
ル誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導
体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジ
ン誘導体、アミノスチルベン誘導体、ポリ−Ｎ−ビニル
カルバゾール、ポリ−１−ビニルピレン、ポリ−９−ビ
ニルアントラセン等であってよい。 しかしながら光照射時発生ずるホールの支持体側への輸
送能力が優れている外、前記キャリア発生物質との組合
Ｕに好ｉフなものが好ましく用いられ、かかるＣＴＭと
しては、例えばド記例示化合物７７１　（ＩＸ　）又は
〔ＸＪで示されるスチル化合物が使用される。 例示化合物群（ＩＸ）： 例示化合物群〔Ｘ〕 また、ＣＴＭとしてド記例示化合物群（ＸＩ　）〜〔×
■〕でｌドされるヒドラゾン化合物も使用＋ｉＪ能であ
る。 例示化合物群（ＸＵ　） 例示化合物群（Ｘｌｌｌ）： 例示化合物群（Ｘ　ＩＶ　）・ 例示化合物ｒ！ＨＸＶ］： まノこ、ＣＴＭとしてド記例示化合物〔Ｘ■〕で示され
るピラゾリン化合物も使用可能である。 また、Ｃ’！’　Ｍとして下記例示化合物群〔Ｘ■〕で
示されるアミン誘導体も使用可能である。 例示化合物群〔Ｘ■〕： また、ＣＴＭとして下記例示化合物〔Ｘ■〕で示される
アリールアルカン化合物も使用可能である。 例示化合物ＤＣＸ■〕 本発明の感光体の表面層となるＣＴＬまたはＯＣＬのい
ずれか、もしくは複数層には感度の向上、残留電位ない
し反復使用時の疲労低減等を目的として、１種または２
８１以上の電子受容性物質を含有せしめることができる
。本発明の感光体に使用可能な電子受容性物質としては
、例えば無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水
マレイン酸、無水７タル酸、テトラクロル無水７タル酸
、テトラブロム無水７タル酸、３−ニトロ無水７タル酸
、４−二トロ無水７タル酸、無水ピロメリット酸、無水
メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラシフツキ７
ノメタン、０−ジニトロベンゼン、ｌ−ジニトロベンゼ
ン、１，３，５．−）ジニトロベンゼン、バラニトロベ
ンゾニトリル、ビクリルクロライド、キノンクロルイミ
ド、クロラニル、プルマニル、２−メチルナフトキノン
、シクロロッジ７ノパラベンゾキノン、アントラキノン
、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、
９−フルオレノンデン〔ジシアノメチレンマロノジニト
リル〕、ポリニトロ−９−フルオレノンデンー〔ジシア
ノメチレンマロノジニトリル〕、ピクリン酸、０−ニト
ロ安息香酸、ｐ−二トロ安息香酸、３．５−ジニトロ安
息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、５−ニトロサリチル
酸、３．５−ジニトロサリチル酸、７タル酸等が挙げら
れる。 本発明において感光層に使用可能なパイングー樹脂とし
ては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル
樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂
、ポリエステル樹脂、アルキッドリ（詣、ポリカーボネ
ートＵ（脂、シリコン樹脂、メラミン樹脂等の付加重合
型樹脂、重付加型樹脂、重縮合型樹脂、並びにこれらの
樹脂の繰り返し単位のうちの２つ以上を含む共重合体樹
脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化
ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂等の
絶縁性樹脂の他、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等の高
分子有機半導体が挙げられる。 また、前記中間層は接着層又はバリヤー層等として機能
するもので、上記バイングー樹脂の外に、例えばポリビ
ニルアルコ−１ル、エチルセルロース、カルボキシメチ
ルセルロース、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化
ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、カゼイ
ン、Ｎ−フルフキジメチル化ナイロン、澱粉等が用いら
れる。 次に前記感光層を支持する導電性支持体としては、アル
ミニウム、ニッケルなどの金属板、金属ドラム又は金属
箔、アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウムなどを蒸
着したプラスチックフィルムあるいは導電性物質を塗布
した紙、プラスチックなどのフィルム又はドラムを使用
することができる。 ＣＧＬは既述のＣＣＭを上記支持体上に真空蒸着させる
方法、ＣＧＭを適当な溶剤に単独もしくは適当なバイン
グー樹脂と共に溶解もしくは分散せしめたものを塗布し
て乾燥させる方法により設けることができる。 上記ＣＧＭを分散せしめてＣＧＬを形成する場合、当該
ＣＧＭは２μ論以下、好ましくは１μ噛以下の平均粒径
の粉粒体とされるのが好ましい。即ち、粒径があまり大
きいと層中への分散が悪くなると共に、粒子が表面に一
部突出して表面の平滑性が悪くなり、場合によっては粒
子の突出部分で放電が生じたり或いはそこにトナー粒子
が付着してトナーフィルミング現象が生じ易い。 ただし、上記粒径があまり小さいと却って凝集し易く、
層の抵抗が上昇したり、結晶欠陥が増えて感度及びａ返
し特性が低下したり、或いは微細化する上で限界がある
から、平均粒径の下限を０．０１μｍとするのが望まし
い。 ＣＧＬは、次の如き方法によって設けることができる。 即ち、記述のＣＧＭをボールミル、ホモミキサー等によ
って分散媒中で微細粒子とし、バイングー樹脂を加えて
混合分散して得られる分散液を塗布する方法である。こ
の方法において超音波の作用下に粒子を分散させると、
均一分散が可能である。 ＣＧＬの形成に用いられる溶媒としては、例えばＮ、Ｎ
−ツメチルホルムアミド、ベンゼン、Ｆルエン、キシレ
ン、モノクロルベンゼン、１．２−ジクロロエタン、ジ
クロロメタン、１，１．２−トリクロロエタン、テトラ
ヒドロフラン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸
ブチル等を挙げることができる。 ＣＧＬ中のバイングー樹脂１００重量当りＣＧＭが２０
〜２００重量部、好ましくは２５〜１００ｆｆｌ量部と
される。ＣＧＭがこれより少ないと光感度が低く、残留
電位の増加を招き、又これより多いと暗減貨が増大し、
かつ受容電位が低下する。 以上のようにして形成されるＣＧＬの膜厚は、好ましく
は０．０１〜１０μｌ、特に好ましくは０．１〜３μｌ
である。 また、ＣＴＬは、既述のＣＴＭを上述のＣＧＬと同様に
して、（即ち、単独であるいは上述のバインダーＵ（脂
と共に溶解、分散せしめたものを塗布、乾燥して）形成
することができる。 ＣＴＬ中のパイングー樹脂１００重量部当りＣＴＭが２
０〜２００重量部、好ましくは３０〜１５０重量部とさ
れる。 ＣＴＨの含有割合がこれより少ないと光感度が悪く残留
電位が高くなり易く、又これより多いと溶媒溶解性が悪
くなる。 形成されるＣＴＬの膜厚は、好ましくは５〜５０μ肩、
特に好ましくは５〜３０μ肩である。また、ＣＣ：Ｌと
ＣＴＬの膜厚比は１：（１〜３０）であるのが好ましい
。 本発明において必要に応じて設けられる保護層はバイン
ダーとしては、体積抵抗１０”Ω・Ｃ−以上、好ましく
は１０１０Ω・ｃｍ以上、より好ましくは１０１３Ω・
０１１以上の透明樹脂が用いられる。又前記バインダー
は光又は熱により硬化するυ（脂を少な（とも５０重１
％以上含有するものとされる。 かかる光又は熱により硬化する樹脂としては、例えば熱
硬化性アクリル樹脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、ウ
レタン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル
樹脂、フルキッド樹脂、メラミン樹脂、光硬化性・桂皮
酸樹脂等又はこれらの共重合もしくは共縮合樹脂があり
、その外電子写真材料に供される光又は熱硬化性（」（
脂の全てが利用される。又前記保護層中には加工性及び
物性の改良（亀裂防止、柔軟性付与等）を目的として必
要により熱可塑性樹脂を５０重量％未満含有せしめるこ
とができる。かかる熱可塑性樹脂としては、例えばポリ
プロピレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニ
ルＱ（脂、酢酸ビニルυ（脂、エポキシａｔ　ｍ　、ブ
チラール樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコン樹層、
又はこれらの共重合樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイ
ン酸共重合体樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等の
高分子有機半導体、その他電子写真材料に供される熱可
塑性樹脂の全てが利用される。 また前記保護層は、電子受容性物質を含有してもよく、
その他、必要によりＣＧＭを保護する目的で紫外線吸収
剤等を含有してもよく、前記バイングーと共に溶剤に溶
解され、例えばディップ塗布、スプレー塗布、ブレード
塗布、ロール塗布等により塗布・乾燥されて２μ論以下
、好ましくは１μｌ以下のＨ！Ｉ厚に形成される。 【実施例］ 以下本発明を実施例により説明するが、これにより本発
明の実施の態様が限定されるものではない。 実施例１ アルミニツムを蒸着した厚す１００μｌのポリエチレン
テレフタレートからなる導電性支持体上に、塩化ビニル
−酢酸ビニル−無水マイレン酸共重合体（エスレックＭ
Ｆ−１０、積水化学社９１）からなる厚さ０．１μｌの
中間層を設けた。 次いで、ＣＧＭとしてビスアゾ化合物（ＩＶ−７＞１．
５ｇと２，６−ノーｔ−ブチル−４−メチルフェノール
ｏ、ｉｓ、を１，２−ノクロロエタン／モ／エタノール
アミン（１０００７１容積比）混合溶媒１００ｚｌ中に
ボールミルにより８時間分散した分散液を上記中間層上
に塗布し、充分乾燥して厚さ０．３μ訳の電荷発生層を
形成した。 次に、ＣＴＭとしてスチリル化合物＜ｌＸ−４３）１１
．２５．およびポリカーボネートｆｌ（ＩＩＩ！（パン
ライトＬ　−１２５０、前人化成社製）１５ｇを１．２
−ノクロロエタン１００屓ｌに溶解した溶液を前記ＣＧ
Ｌ上に塗布し、充分子Ｉ！、燥して厚さ１５μ糞の電荷
輸送層を形成し、本発明の電子写真感光体を作成した。 比較例Ｉ ＣＧＬ中の２．６−ジー（−ブチル−４−メチル７１）
−ルを除いた以外は実施例１と同様にして、比較用の感
光体を作成した。 実施例２ 実施例１のＣＴＭ（Ｉ！−４３）に代えてアリールアル
カン系化合物（Ｘ■−３）を添加した以外は実施例１と
同様にして感光体を作成した。 比較例２ ２．６−ノーｔ−ブチル−４−メチルフェノールを除い
た以外は実施例２と同様にして比較用の感光体を作成し
た。 実施例３ 実施例１のＣＧＭ（Ｉｔ／−７）に代えてトリスアゾ系
化合物（■−１３）を添加した以外は実施例１と同様に
して感光体を作成した。 比較例３ ２．６−ジーし−ブチルー４−メチルフェノールを除い
た以外は実施例３と同様にして比較用の感光体を作成し
た。 実施例４ 実施例１の２，６−ジーｔ−ブチル−４−メチルフェノ
ールに代えて２．２′−メチレンビス（６−を−ブチル
−４−メチルフェノール）を添加した以外は実施例１と
同様にして感光体を作成した。 比較例４ ２．２゛−メチレンビス（６−し−ブチル−４−メチル
フェノール）を除いた以外は実施例４と同様にして比較
用の感光体を作成した。 実施例５〜８ 実施例１の２．６−ノーｔ−ブチル−４−メチルフェノ
ールに代えてＮ−フェニル−Ｎｏ−イソプロピル−ｐ−
フェニレンノアミン、２，５−ノーｔ−オクチルハイド
ロキノン、ジラウリル−３，３′−チオノプロピオネー
ト、トリフェニルホスフィンを、それぞれ添加した以外
は実施例１と同様にして本発明の感光体を作成した。 上記のようにして得られた感光体試料を次に示すオゾン
疲労試験機により耐オゾン性を評価した。 すなわち、ｔ７Ｐ電試９．磯（川口電機製作新製５Ｐ−
４２８型）にオゾン発生器（口本オゾン株式会社５Ｍ　
Ｏ−１−２型）およびオゾンモニター（エバラ実業株式
会社製ＥＣ−２００１型）を取り付けた装置を用いた。 オゾン濃度９０ｐｐｍｌこおいて感光体を装着し、−６
ＫＶの電圧を印加して５秒間コロナ放電により感光層を
帯電させた後５秒間放置（この時の電位を初期電位ｖＯ
とする）し、次いで感光層表面の照度が１４ルツクスと
なる状態でタングステンランプよりの光を照射し、この
４作を１００回くり返した。 １００回照光後の電位ｖとする時、Ｖ　／ＶｏＸ　１０
０（％）で耐オゾン性を表した。　Ｖ　／Ｖ、は１００
回反復後の電位低下の程度を示すものであり、数値が大
きい程好ましい。 また、オゾンを導入しないで初期電位を一６００■から
一１００Ｖに減衰させるに必要な露光量Ｅ（ルックス・
秒）も側定した。数値が小さい程、感度が高いことを示
す、これらの結果を別表に示す。 別表から本発明の感光体はいずれも耐オゾン性および電
子写真特性共にすぐれているのに対し、比較用感光体は
オゾン劣化が者しく電子写真特性も良くないことが判る
。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 導電性支持体上に電荷発生層、電荷輸送層を順次積層し
   た電子写真感光体において、電荷発生層中に下記群より
   選択される少なくとも１種以上の酸化防止剤を含有する
   ことを特徴とする電子写真感光体。 群　ヒンダードフエノール類 パラフェニレンジアミン類 ハイドロキノン類 有機硫黄化合物類 有機燐化合物類