JPS6317241A - 光フアイバの製造方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は光伝送用のガラスファイバを生産性良好に製造
しつる光ファイバの製造方法及び装置に関する。

〈従来の技術及びその問題点〉 光ファイバの線引方法としては従来、第４図に示すよう
な方法が採られてきた。すなわち、プリフォーム１の先
端部を加熱炉２で加熱・溶融して光ファイバガラスに線
引きし、次いで、この光ファイバガラス３の外周に塗布
装置４により高分子樹脂を塗布した後、その下方に配置
した硬化炉５にて塗布された樹脂を硬化させ、巻取機６
に巻取るという方法である。

ところで、光ファイバガラスへの高分子樹脂の塗布は、
線引速度が変化しても塗布径が均一であることが要求さ
れる。ところが上述したような従来の方法では、線引速
度が高速になると塗布装置を通過する温度が上昇して塗
布される高分子樹脂に粘性等の状態変化が生じ、結果と
して塗布径が減少したり、塗布径の変動幅が増大したり
するという問題があった。

そこで、特公昭５４−３９４９６号公報には、加熱炉２
直下に冷却装置７を設けてガスを上方から下方へ向って
流すことにより光ファイバガラス３を冷却する方法が開
示されている。

しかし、高速で線引きされている光ファイバガラスの外
周には線引方向へ向う空気の層流層及び境界層が存在し
ているので、上述したような冷却装置７により光ファイ
バガラス３を冷却しようとした場合に層流層及び境界層
がシールドとなってしまい冷却効率が低いという問題が
あった。また、このような従来の装置においては光ファ
イバガラスを一定温度まで冷却するという検討がなされ
ていないため、線引速度の変化や加熱炉の温度変化によ
って塗布状態にばらつきが出てしまい、安定な塗布を得
るのが困難であフた。

よって、本発明はこのような事情に鑑み、冷却効率が良
好でしかも冷却能を容易に変化させることができる冷却
装置を備えることにより安定した塗布を行うことができ
る光ファイバの製造方法及び装置を提供することを目的
とする。

く問題点を解決するための手段〉 前記目的を達成する本発明にかかる光ファイバの製造方
法の構成は、プリフォームを加熱炉で加熱・溶融しなが
ら線引きして光ファイバガラスを得、この光ファイバガ
ラスの外周に塗布装置により高分子樹脂を塗布すること
により光ファイバ素線とする光ファイバの製造方法にお
いて、航記加熱炉より出た光ファイバガラスの周縁に線
引方向とは反対方向の空気流を発生させて該光ファイバ
ガラスを冷却し、その後、前記高分子樹脂を塗布するこ
とを特徴とする。またそれに用いる装置の構成は、プリ
フォームを加熱・溶融しながら線引きして光ファイバガ
ラスとする加熱炉と、この光ファイバガラスの外周に高
分子樹脂を塗布して光ファイバ素線とする塗布装置とを
有する光ファイバの製造装置において、前記加熱炉と前
記塗布装置との間にあって光ファイバガラスに貫通され
るとともにその内周面にフィンを有する冷却用円筒と、
この冷却用円筒を高速回転させて締引き方向とは反対方
向の空気流を発生させる駆動手段とを備えたことを特徴
とする。

〈作　　　用〉 上記構成においては、加熱炉から出た光ファイバガラス
の線引方向とは反対方向の空気流が光ファイバガラスの
外周表面に存在する境界層、及び線引方向へ向う層流か
らなる層流層が破壊され、光ファイバガラスが効率よく
冷却される。

く実　施　例〉 以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。

第１図は第１実施例を概念的に示す説明図であり、図示
しない加熱炉の下流に、円周面にフィンを有する円筒８
を設けている。この円筒８はその下端部とベルト１Ｇで
連結されるモータ９により軸中心に回転されて、その内
周面のフィンにより線引方向との逆方向（図中上向き）
の空気流を発生するものであり、その回転数は非接触表
面温度測定器■２により測定された塗布装置４に入る前
の光ファイバガラス３の表面温度が人力される演算機１
１により制御されるようになっている。これにより、塗
布装置４に入る光ファイバガラス３の温度が一定になる
ように円筒８を制御することができるので、塗布装置４
による塗布が安定して行えるようになる。

第２図は第２実施例を概念的に示す説明図であり、基本
的には第１実施例と変わらないが、円筒８の回転数を実
際の塗布径により一制御してその塗布を安定させようと
している。

つまり、塗布装置４及び硬化炉５により高分子樹脂が塗
布された光ファイバ素線の直径を塗布径測定装置１３に
より測定してこのデータを演算機１１に入力し、演算機
１１はこのデータに基づいてモータ９の回転数を制御し
ている。これにより実際に塗布径が一定となるように円
筒８の冷却能力を制御することができる。

第３図には線引速度と塗布径の関係を示す。同図中、点
線で示すＡは光ファイバガラスの冷却を行わない場合で
あり、線速５０ｍ／分以上では塗布径の減少と塗布径の
変動の増加が大きくなる。一方、一点鎖線で示すＢは従
来方法による冷却を行ったものであり、冷却制御が全く
行われていないため、線速５０〜１００ｍ／分付近では
過冷却となって塗布径が大きくなり、逆に線速１５０ｏ
＋／分以上では冷却効率が悪くなって稔布径の減少と塗
布径の変動の増加が大きくなる。

これに対し、上記実施例の装置を用いた場合にはＣに示
すように線速３０〜３００ｍ／分において安定した塗布
が実施できる。

〈発明の効果〉 以上、実施例とともに具体的に示したように、本発明に
よれば、塗布装置に入る光ファイバガラスの温度を一定
に保つように冷却することにより線速の変化による塗布
径の変化を防止して、安定な塗布を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１実施例を示す説明図、第２図は本
発明の第２実施例を示す説明図、第３図は線引速度と塗
布径との関係を示すグラフ、第４図は従来技術にかかる
製造装置を概念的に示す説明図である。 図面中、 １はプリフォーム、 ２は加熱炉、 ３は光ファイバガラス、 ４は塗布装置、 ５は硬化炉、 ６は巻取機、 ８は円筒、 ９はモータ、 １０は円筒駆動用ベルト、 １Ｎは演算機、 １２は非接触温度測定器、 １３は塗布径測定装置である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）プリフォームを加熱炉で加熱・溶融しながら線引き
   して光ファイバガラスを得、この光ファイバガラスの外
   周に塗布装置により高分子樹脂を塗布することにより光
   ファイバ素線とする光ファイバの製造方法において、前
   記加熱炉より出た光ファイバガラスの周縁に 線引方向とは反対方向の空気流を発生させて該光ファイ
   バガラスを冷却し、その後、前記高分子樹脂を塗布する
   ことを特徴とする光 ファイバの製造方法。 ２）塗布装置に入る光ファイバガラスの温度が一定にな
   るように空気流を調節することを 特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光 ファイバの製造方法。 ３）塗布装置により高分子樹脂が塗布された光ファイバ
   素線の外径が一定になるように空気流を調節することを
   特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光ファイバの製
   造方法。 ４）プリフォームを加熱・溶融しながら線引きして光フ
   ァイバガラスとする加熱炉と、この光ファイバガラスの
   外周に高分子樹脂を塗布して光ファイバ素線とする塗布
   装置とを有する光ファイバの製造装置において、前記加
   熱炉と前記塗布装置との間にあって光ファイバガラスに
   貫通されるとともにその内周面にフィンを有する冷却用
   円筒と、この冷却用円筒を高速回転させて線引き方向と
   は反対方向の空気流を発生させる駆動手段とを備えたこ
   とを特徴とする光ファイバの製造装置。 ５）冷却用円筒の回転速度は、塗布装置に入る光ファイ
   バガラスの温度が一定になるように制御されることを特
   徴とする特許請求の範囲第４項記載の光ファイバの製造
   装置。 ６）冷却用円筒の回転速度は、塗布装置により高分子樹
   脂が塗布された光ファイバ素線の 外径が一定になるように制御されることを特徴とする特
   許請求の範囲第４項記載の光ファイバの製造装置。