JPH0380743B2 - - Google Patents
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- JPH0380743B2 JPH0380743B2 JP62220374A JP22037487A JPH0380743B2 JP H0380743 B2 JPH0380743 B2 JP H0380743B2 JP 62220374 A JP62220374 A JP 62220374A JP 22037487 A JP22037487 A JP 22037487A JP H0380743 B2 JPH0380743 B2 JP H0380743B2
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- optical fiber
- coating
- forced cooling
- cooling device
- fiber glass
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/02—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
- C03B37/025—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from reheated softened tubes, rods, fibres or filaments, e.g. drawing fibres from preforms
- C03B37/027—Fibres composed of different sorts of glass, e.g. glass optical fibres
- C03B37/02718—Thermal treatment of the fibre during the drawing process, e.g. cooling
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
- C03B2205/60—Optical fibre draw furnaces
- C03B2205/74—Means for moving at least a part of the draw furnace, e.g. by rotation or vertical or horizontal movement
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光フアイバの製造方法および製造装置
に関し、特に光フアイバの線引における光フアイ
バガラスの強制冷却・被覆材塗布工程を改良して
光フアイバの生産性を向上を可能とした製造方法
およびその装置に関するものである。
に関し、特に光フアイバの線引における光フアイ
バガラスの強制冷却・被覆材塗布工程を改良して
光フアイバの生産性を向上を可能とした製造方法
およびその装置に関するものである。
従来の光フアイバの製造における線引工程の概
略を第９−Ａ図に示す。光フアイバ母材１の先端
を加熱炉２により加熱・溶融し、線引して光フア
イバガラス３を形成した後、塗布装置４に挿通す
ることにより、該光フアイバガラス３の外周表面
に被覆材の高分子樹脂を塗布し、次にこれを硬化
炉５に挿通して高分子樹脂を硬化させて高分子樹
脂被覆を施した光フアイバ素線６を形成し、キヤ
プスタレ７を介して巻取機８に巻取る工程から構
成されている。
略を第９−Ａ図に示す。光フアイバ母材１の先端
を加熱炉２により加熱・溶融し、線引して光フア
イバガラス３を形成した後、塗布装置４に挿通す
ることにより、該光フアイバガラス３の外周表面
に被覆材の高分子樹脂を塗布し、次にこれを硬化
炉５に挿通して高分子樹脂を硬化させて高分子樹
脂被覆を施した光フアイバ素線６を形成し、キヤ
プスタレ７を介して巻取機８に巻取る工程から構
成されている。
一般に光フアイバの製造に際しては光フアイバ
母材から線引形成された光フアイバガラスへの被
覆材としての高分子樹脂の塗布は線引速度（以下
線速と称す）の変化に拘らず常に均一な塗布径を
保持することが要求される。しかしながら実際に
は第９−Ａ図の従来法で線速が高速化すると塗布
装置を挿通する光フアイバガラスの温度が上昇
し、塗布される高分子樹脂に粘性などの状態変化
が生じ、その結果として塗布径の変化が生じる。
母材から線引形成された光フアイバガラスへの被
覆材としての高分子樹脂の塗布は線引速度（以下
線速と称す）の変化に拘らず常に均一な塗布径を
保持することが要求される。しかしながら実際に
は第９−Ａ図の従来法で線速が高速化すると塗布
装置を挿通する光フアイバガラスの温度が上昇
し、塗布される高分子樹脂に粘性などの状態変化
が生じ、その結果として塗布径の変化が生じる。
これに対して、高線速化に伴う光フアイバガラ
スの温度上昇を防ぐ目的で、第９−Ｂ図に示した
ように加熱炉２と塗布装置４の間に空冷又は液冷
による光フアイバ強制冷却装置９を設置し、光フ
アイバガラスの冷却を行う試みがなされている。
スの温度上昇を防ぐ目的で、第９−Ｂ図に示した
ように加熱炉２と塗布装置４の間に空冷又は液冷
による光フアイバ強制冷却装置９を設置し、光フ
アイバガラスの冷却を行う試みがなされている。
ところが第９−Ｂ図のような強制冷却装置９を
加熱炉２と塗布装置４の間に固定した製造方法で
は、線速と光フアイバガラスの温度の関係を監
視・制御することが行われていないので、例えば
低線速時には光フアイバガラスを冷却しすぎてし
まう現象、いわゆる過冷却状態が発生したりして
線速変化に伴う光フアイバガラスへの被覆材塗布
径の変化という問題が依然解決しきれていなかつ
た。
加熱炉２と塗布装置４の間に固定した製造方法で
は、線速と光フアイバガラスの温度の関係を監
視・制御することが行われていないので、例えば
低線速時には光フアイバガラスを冷却しすぎてし
まう現象、いわゆる過冷却状態が発生したりして
線速変化に伴う光フアイバガラスへの被覆材塗布
径の変化という問題が依然解決しきれていなかつ
た。
本発明は上述のような問題点を解決して、線速
が変化しても被覆材の塗布径を一定に保持でき、
しかも高速線引においても一定の塗布径とでき
る、新規な光フアイバの製造方法及びその装置を
提供せんとするものである。
が変化しても被覆材の塗布径を一定に保持でき、
しかも高速線引においても一定の塗布径とでき
る、新規な光フアイバの製造方法及びその装置を
提供せんとするものである。
本発明は光フアイバ母材を加熱溶融して線引き
して光フアイバガラスとし、続いて該光フアイバ
ガラスを強制冷却装置内を挿通させて冷却した後
に、該光フアイバガラスの外周表面に高分子材料
を塗布して硬化炉中を挿通させることにより該高
分子材料を硬化させて、高分子材料被覆を有する
光フアイバ素像とする方法において、上記強制冷
却装置を光フアイバガラスに沿つて上下方向に移
動させながら冷却を行なうことにより高分子材料
の塗布径を一定にすることを特徴とする光フアイ
バの製造方法に関する。
して光フアイバガラスとし、続いて該光フアイバ
ガラスを強制冷却装置内を挿通させて冷却した後
に、該光フアイバガラスの外周表面に高分子材料
を塗布して硬化炉中を挿通させることにより該高
分子材料を硬化させて、高分子材料被覆を有する
光フアイバ素像とする方法において、上記強制冷
却装置を光フアイバガラスに沿つて上下方向に移
動させながら冷却を行なうことにより高分子材料
の塗布径を一定にすることを特徴とする光フアイ
バの製造方法に関する。
上記方法において強制冷却装置の上下方向への
移動は、線引速度もしくは高分子材料の塗布径に
応じて制御して行なう、又は高分子材料を塗布す
るための塗布装置内を挿通する光フアイバガラス
の温度を一定に保持するように制御して行なうこ
とが特に好ましい。
移動は、線引速度もしくは高分子材料の塗布径に
応じて制御して行なう、又は高分子材料を塗布す
るための塗布装置内を挿通する光フアイバガラス
の温度を一定に保持するように制御して行なうこ
とが特に好ましい。
本発明はさらに、光フアイバ母材を加熱溶融し
て線引する加熱炉、線引形成した光フアイバを冷
却する強制冷却装置、冷却した光フアイバガラス
の外周表面に高分子材料を塗布する塗布装置及び
塗布された高分子材料を硬化させて光フアイバガ
ラス外周に被覆を形成する硬化装置とを鉛直方向
に直列に配置してなり、該強制冷却装置は上昇又
は下降運動を制御するための制御部を有する昇降
機と連結されて、該強制冷却装置内を挿通する光
フアイバガラスに沿つて上下方向に移動可能であ
ることを特徴とする光フアイバの製造装置に関す
る。
て線引する加熱炉、線引形成した光フアイバを冷
却する強制冷却装置、冷却した光フアイバガラス
の外周表面に高分子材料を塗布する塗布装置及び
塗布された高分子材料を硬化させて光フアイバガ
ラス外周に被覆を形成する硬化装置とを鉛直方向
に直列に配置してなり、該強制冷却装置は上昇又
は下降運動を制御するための制御部を有する昇降
機と連結されて、該強制冷却装置内を挿通する光
フアイバガラスに沿つて上下方向に移動可能であ
ることを特徴とする光フアイバの製造装置に関す
る。
制御部は塗布装置の光フアイバガラス入口側に
設けた非接触型光フアイバガラス温度測定器と、
該温度測定器の温度測定信号を入力して演算する
ことにより、該温度が設定温度となるように強制
冷却装置の位置設定信号を出して昇降機を上昇又
は下降させる演算機とを有するものである上記装
置、制御部は高分子材料塗布径測定装置と、該塗
布径測定装置からの塗布径測定信号を入力し、こ
れに基き演算することにより、該塗布径が均一と
なるように強制冷却装置の位置設定信号を出して
昇降機を上昇又は下降させる演算機とを有するも
のである上記装置は本発明の特に好ましい実施態
様である。
設けた非接触型光フアイバガラス温度測定器と、
該温度測定器の温度測定信号を入力して演算する
ことにより、該温度が設定温度となるように強制
冷却装置の位置設定信号を出して昇降機を上昇又
は下降させる演算機とを有するものである上記装
置、制御部は高分子材料塗布径測定装置と、該塗
布径測定装置からの塗布径測定信号を入力し、こ
れに基き演算することにより、該塗布径が均一と
なるように強制冷却装置の位置設定信号を出して
昇降機を上昇又は下降させる演算機とを有するも
のである上記装置は本発明の特に好ましい実施態
様である。
本発明者らは、第９−Ｂ図のような従来の製造
方法において同一線速であつても加熱炉２と塗布
装置４の間にある光フアイバ強制冷却装置９の鉛
直方向での位置を変えることにより、光フアイバ
ガラスの冷却効率を変えることができ、その結果
として塗布装置を通過する光フアイバガラス３の
温度を変えることができることを見出した。上記
の知見によれば、光フアイバ強制冷却装置の鉛直
方向での位置を、線速、塗布径変化、又は光フア
イバガラス温度に対応して変化させるより、線速
の変化に拘らず塗布径を均一とすることが実現で
きることになるわけであり、本発明者らは実験に
よりこれを確認して本発明に到達したのである。
方法において同一線速であつても加熱炉２と塗布
装置４の間にある光フアイバ強制冷却装置９の鉛
直方向での位置を変えることにより、光フアイバ
ガラスの冷却効率を変えることができ、その結果
として塗布装置を通過する光フアイバガラス３の
温度を変えることができることを見出した。上記
の知見によれば、光フアイバ強制冷却装置の鉛直
方向での位置を、線速、塗布径変化、又は光フア
イバガラス温度に対応して変化させるより、線速
の変化に拘らず塗布径を均一とすることが実現で
きることになるわけであり、本発明者らは実験に
よりこれを確認して本発明に到達したのである。
まず、上記の知見の根拠から説明する。塗布装
置において光フアイバガラスに高分子樹脂の塗布
を行なう場合、一般に塗布径Ｄは次の(1)式で近似
できることを、本発明者らは本発明の研究途上、
実験的に見出した。
置において光フアイバガラスに高分子樹脂の塗布
を行なう場合、一般に塗布径Ｄは次の(1)式で近似
できることを、本発明者らは本発明の研究途上、
実験的に見出した。
Ｄ＝−aTf＋ｂ …(1)
ここでTfは塗布装置を通過する光フアイバガ
ラスの温度であり、ａ，ｂは正の定数である。(1)
式は光フアイバガラスの温度が上昇すると塗布径
が減少し、逆に光フアイバガラスの温度が下降す
ると塗布径が増大することを意味している。
ラスの温度であり、ａ，ｂは正の定数である。(1)
式は光フアイバガラスの温度が上昇すると塗布径
が減少し、逆に光フアイバガラスの温度が下降す
ると塗布径が増大することを意味している。
第３図に示すように加熱炉２と光フアイバ強制
冷却装置９入口の距離をl1、光フアイバ強制冷却
装置９の長さをl2、光フアイバ強制冷却装置９の
出口から塗布装置４までの距離をl3とし、加熱炉
２出口での光フアイバガラス３の温度をTs、塗
布装置４入口での光フアイバガラス３の温度を
Tf、光フアイバ強制冷却装置９内の冷却気体あ
るいは冷却液体の温度をTc、光フアイバ強制冷
却装置９内での熱伝達率をhc、該装置外での雰
囲気温度と熱伝達率をTo，hoとしたとき、Tfは
(2)式で表わせる。
冷却装置９入口の距離をl1、光フアイバ強制冷却
装置９の長さをl2、光フアイバ強制冷却装置９の
出口から塗布装置４までの距離をl3とし、加熱炉
２出口での光フアイバガラス３の温度をTs、塗
布装置４入口での光フアイバガラス３の温度を
Tf、光フアイバ強制冷却装置９内の冷却気体あ
るいは冷却液体の温度をTc、光フアイバ強制冷
却装置９内での熱伝達率をhc、該装置外での雰
囲気温度と熱伝達率をTo，hoとしたとき、Tfは
(2)式で表わせる。
Tf＝（Ts−To）exp〔−α｛ho（ｌ−l2）＋hcl2
｝〕＋（To−Tc）exp ｛−α（hcl2−hol3｝＋（Tc−To）exp（
−αhol3）＋To…(2) ただし、Ｌ＝l1＋l2＋l3 α＝４／ρCpdVf ρ：ガラス密度、Cp：ガラス比熱、 ｄ：光フアイバガラス径、Vf：線速 ここで光フアイバの自然空冷につき、第４図の
ようなモデルに対して炉よりＺの点でのフアイバ
温度Tfについては(i)式が成立することはすでに
報告されている（文献：U.C.Peak他、「紫外線硬
化材料による光フアイバの5m／秒以上の高速被
覆」“High speed coating of oplical fibres
with UV curable materials at ａ rate of
greater than 5m／sec，”Appl.Opt.，vol.20、No.
23.pp4028−4033、Dec.1981”）。
｝〕＋（To−Tc）exp ｛−α（hcl2−hol3｝＋（Tc−To）exp（
−αhol3）＋To…(2) ただし、Ｌ＝l1＋l2＋l3 α＝４／ρCpdVf ρ：ガラス密度、Cp：ガラス比熱、 ｄ：光フアイバガラス径、Vf：線速 ここで光フアイバの自然空冷につき、第４図の
ようなモデルに対して炉よりＺの点でのフアイバ
温度Tfについては(i)式が成立することはすでに
報告されている（文献：U.C.Peak他、「紫外線硬
化材料による光フアイバの5m／秒以上の高速被
覆」“High speed coating of oplical fibres
with UV curable materials at ａ rate of
greater than 5m／sec，”Appl.Opt.，vol.20、No.
23.pp4028−4033、Dec.1981”）。
Tf＝（Ts−To）exp（−4hz／ρCpdVf）＋To …(i)式
なお、ρ、Cp、ｄ、To、Vfは(2)式と同じを意
味し、Tsは炉出口フアイバ温度、ｈは熱伝導率
である。
味し、Tsは炉出口フアイバ温度、ｈは熱伝導率
である。
そして上記(i)式は実験的にもTfの実測値とよ
く一致することは、本発明者によつても確認され
ている。この(i)式をもとにして、冷却装置を途中
に入れたモデルについて導出したのが(2)式であ
り、(2)式も実測値Tfとよく一致することが確認
できた。
く一致することは、本発明者によつても確認され
ている。この(i)式をもとにして、冷却装置を途中
に入れたモデルについて導出したのが(2)式であ
り、(2)式も実測値Tfとよく一致することが確認
できた。
(1)式および(2)式より線速Ｖの変化に対して塗布
径Ｄを一定に保つためには、塗布装置を通過する
光フアイバガラスの温度Tfを一定に保つことが
重要であり、さらに光フアイバガラスの温度Tf
を一定に保つには(2)式においてTfが線速Ｖの変
化に対して一定となるようにl3の値即ち光フアイ
バ強制冷却装置の上下方向の位置を変化させてや
ればよい。
径Ｄを一定に保つためには、塗布装置を通過する
光フアイバガラスの温度Tfを一定に保つことが
重要であり、さらに光フアイバガラスの温度Tf
を一定に保つには(2)式においてTfが線速Ｖの変
化に対して一定となるようにl3の値即ち光フアイ
バ強制冷却装置の上下方向の位置を変化させてや
ればよい。
本発明は光フアイバガラス温度Tfを一定とす
るため、 線速VVf変化に応じて(2)式にもとづいてTf
が一定となるよう光フアイバ強制冷却装置９の
位置を制御する、 (1)式の関係から、塗布径Ｄを測定し、その測
定結果により、光フアイバ強制冷却装置９の位
置を制御する、 (1)式及び(2)式の関係から、塗布装置４を通過
する光フアイバガラスの温度Tfを測定し、そ
の測定結果より塗布装置４の位置を制御する、 以上の３通りの態様を含む光フアイバ強制冷却
装置９の位置の上下移動構成を備えていることに
より、光フアイバガラスへの高分子被覆材料の均
一塗布を行うことを特徴としている。
るため、 線速VVf変化に応じて(2)式にもとづいてTf
が一定となるよう光フアイバ強制冷却装置９の
位置を制御する、 (1)式の関係から、塗布径Ｄを測定し、その測
定結果により、光フアイバ強制冷却装置９の位
置を制御する、 (1)式及び(2)式の関係から、塗布装置４を通過
する光フアイバガラスの温度Tfを測定し、そ
の測定結果より塗布装置４の位置を制御する、 以上の３通りの態様を含む光フアイバ強制冷却
装置９の位置の上下移動構成を備えていることに
より、光フアイバガラスへの高分子被覆材料の均
一塗布を行うことを特徴としている。
以下図面にもとづき実施例により本発明を具体
的に説明する。
的に説明する。
第５図及び第６図は本発明に用いる冷却装置の
例である。第５図の冷却装置９ではガス導入口１
４より導入した冷却用ガス例えば空気、He、N2
等を光フアイバ３に吹きつけて冷却する。なお冷
却用ガスは冷却器及びポンプ１５により循環され
る不凍液、水等の冷媒１６により冷却されてい
る。第６図は光フアイバ３を液冷用の冷却液で冷
却する装置の例である。ただし、第５図、第６図
のものはあくまでも例示であつて、これに限定さ
れるところはない。
例である。第５図の冷却装置９ではガス導入口１
４より導入した冷却用ガス例えば空気、He、N2
等を光フアイバ３に吹きつけて冷却する。なお冷
却用ガスは冷却器及びポンプ１５により循環され
る不凍液、水等の冷媒１６により冷却されてい
る。第６図は光フアイバ３を液冷用の冷却液で冷
却する装置の例である。ただし、第５図、第６図
のものはあくまでも例示であつて、これに限定さ
れるところはない。
なお、本発明において光フアイバガラスに被覆
する高分子材料については特に限定されるところ
はなく、一般的に用いられる熱硬化型樹脂例えば
熱硬化型シリコーン樹脂等又は紫外線硬化型樹脂
例えば紫外線硬化型アクリレート樹脂等を用いる
ことができる。前者の硬化は光フアイバガラスに
塗布後、熱硬化炉で行ない、後者の硬化は紫外線
照射炉によればよい。
する高分子材料については特に限定されるところ
はなく、一般的に用いられる熱硬化型樹脂例えば
熱硬化型シリコーン樹脂等又は紫外線硬化型樹脂
例えば紫外線硬化型アクリレート樹脂等を用いる
ことができる。前者の硬化は光フアイバガラスに
塗布後、熱硬化炉で行ない、後者の硬化は紫外線
照射炉によればよい。
第１図は本発明の光フアイバ製造方法の一実施
例の構成概要を示す図である。光フアイバ母材１
を加熱炉２で加熱溶融して線引した光フアイバガ
ラス３は光フアイバ強制冷却装置９中を通過し、
高分子樹脂を塗布する塗布装置４の前位置に配置
した非接触温度測定器１０により、塗布装置４に
挿通する直前の光フアイバガラス３の温度を測定
し、この測定結果をもとに前記(1)、(2)式の演算を
行う演算機１１を介して、温度が均一となるよう
に昇降機１２を作動させ、光フアイバ強制冷却装
置９を上方または下方に移動することにより光フ
アイバガラス３の温度の制御を行う。温度制御を
行つた光フアイバガラス３に塗布装置４により高
分子樹脂を塗布した後硬化炉５により塗布した高
分子樹脂を硬化し、高分子樹脂被覆を施した光フ
アイバ素線６をキヤプスタン７を介して巻取機８
に巻取る。
例の構成概要を示す図である。光フアイバ母材１
を加熱炉２で加熱溶融して線引した光フアイバガ
ラス３は光フアイバ強制冷却装置９中を通過し、
高分子樹脂を塗布する塗布装置４の前位置に配置
した非接触温度測定器１０により、塗布装置４に
挿通する直前の光フアイバガラス３の温度を測定
し、この測定結果をもとに前記(1)、(2)式の演算を
行う演算機１１を介して、温度が均一となるよう
に昇降機１２を作動させ、光フアイバ強制冷却装
置９を上方または下方に移動することにより光フ
アイバガラス３の温度の制御を行う。温度制御を
行つた光フアイバガラス３に塗布装置４により高
分子樹脂を塗布した後硬化炉５により塗布した高
分子樹脂を硬化し、高分子樹脂被覆を施した光フ
アイバ素線６をキヤプスタン７を介して巻取機８
に巻取る。
第２図は本発明の光フアイバ製造方法の他の実
施例の構成概要図である。第１図と同じ符号は同
じ部分を示す。本実施例では、線引した光フアイ
バガラス３は光フアイバ強制冷却装置９中を通過
し、塗布装置４により高分子樹脂を塗布し、その
塗布径を塗布径測定装置１３により測定し、この
測定結果をもとに前記(1)、(2)式の演算を行い塗布
径が均一となるように最適な位置を求めて昇降機
１２を作動させ光フアイバ強制冷却装置９を上方
または下方に移動することにより、塗布径の制御
を行う。塗布径を均一に制御した後は、第１図の
実施例と同様に行なう。
施例の構成概要図である。第１図と同じ符号は同
じ部分を示す。本実施例では、線引した光フアイ
バガラス３は光フアイバ強制冷却装置９中を通過
し、塗布装置４により高分子樹脂を塗布し、その
塗布径を塗布径測定装置１３により測定し、この
測定結果をもとに前記(1)、(2)式の演算を行い塗布
径が均一となるように最適な位置を求めて昇降機
１２を作動させ光フアイバ強制冷却装置９を上方
または下方に移動することにより、塗布径の制御
を行う。塗布径を均一に制御した後は、第１図の
実施例と同様に行なう。
また本発明は、上述の第１図および第２図で例
示した実施例に限定されるものではなく、たとえ
ば線速と光フアイバ強制冷却装置の位置、塗布径
または光フアイバガラスの温度との関係があらか
じめ判つている場合には、線速信号を演算機で処
理して、光フアイバ強制冷却装置を昇降機によ
り、上方または下方へ移動させる方法によつても
よく、これも本発明の態様に含まれる。
示した実施例に限定されるものではなく、たとえ
ば線速と光フアイバ強制冷却装置の位置、塗布径
または光フアイバガラスの温度との関係があらか
じめ判つている場合には、線速信号を演算機で処
理して、光フアイバ強制冷却装置を昇降機によ
り、上方または下方へ移動させる方法によつても
よく、これも本発明の態様に含まれる。
実施例
第２図に例示した構成の製造装置を用いて、本
発明により光フアイバ素線を製造した。直径25mm
φの石英系光フアイバ母材を約2000℃の加熱炉に
より溶融し、直径125μmφの光フアイバガラスに
線引して、強制冷却装置を挿通させた後外周表面
に紫外線硬化型アクリレート樹脂を塗布装置によ
り塗布し、紫外線照射硬化炉により硬化させるこ
とにより、外径250μmφの光フアイバ素線を線速
１〜8m／secの範囲で変化させて作製した。
発明により光フアイバ素線を製造した。直径25mm
φの石英系光フアイバ母材を約2000℃の加熱炉に
より溶融し、直径125μmφの光フアイバガラスに
線引して、強制冷却装置を挿通させた後外周表面
に紫外線硬化型アクリレート樹脂を塗布装置によ
り塗布し、紫外線照射硬化炉により硬化させるこ
とにより、外径250μmφの光フアイバ素線を線速
１〜8m／secの範囲で変化させて作製した。
このとき塗布径測定装置により塗布径を測定
し、塗布径が一定となるように強制冷却装置を昇
降機により移動制御した。
し、塗布径が一定となるように強制冷却装置を昇
降機により移動制御した。
強制冷却装置としては第５図に例示したような
構成の装置を用い、冷却用ガスとしてHeを使用
した。Heは第５図中の冷媒１６により−10℃に
冷却された後光フアイバガラスを冷却する。He
の流量は10／minとした。強制冷却装置の長さ
は1mであり上下移動は第７図に示す範囲Ａで行
つた。
構成の装置を用い、冷却用ガスとしてHeを使用
した。Heは第５図中の冷媒１６により−10℃に
冷却された後光フアイバガラスを冷却する。He
の流量は10／minとした。強制冷却装置の長さ
は1mであり上下移動は第７図に示す範囲Ａで行
つた。
本具体例と従来法とを比較するため、(イ)強制冷
却装置を使用しない場合、(ロ)強制冷却装置を塗布
装置の上0.2mのところに固定した場合、につい
て本具体例と同様の線速条件にて光フアイバ素線
を作製し、塗布径を調べた。
却装置を使用しない場合、(ロ)強制冷却装置を塗布
装置の上0.2mのところに固定した場合、につい
て本具体例と同様の線速条件にて光フアイバ素線
を作製し、塗布径を調べた。
第８図は本発明の具体例と前記(イ)、(ロ)の条件に
より作製した光フアイバ素線（比較例）の線速の
変化と塗布径の安定性の関係について調べた結果
であり、は本発明によるもの、は(イ)によるも
の、は(ロ)によるものを示す。
より作製した光フアイバ素線（比較例）の線速の
変化と塗布径の安定性の関係について調べた結果
であり、は本発明によるもの、は(イ)によるも
の、は(ロ)によるものを示す。
第８図から明らかなように、本発明による場合
線速の変化によらず塗布径は均一であつたが、(イ)
の場合には線速上昇に伴い塗布径が急速に細径化
して途中から塗布が不可能となつた。また(ロ)の場
合については低線速時いわゆる過冷却の状態とな
つてしまい、結果として線速の変化により塗布径
も変化してしまつた。
線速の変化によらず塗布径は均一であつたが、(イ)
の場合には線速上昇に伴い塗布径が急速に細径化
して途中から塗布が不可能となつた。また(ロ)の場
合については低線速時いわゆる過冷却の状態とな
つてしまい、結果として線速の変化により塗布径
も変化してしまつた。
以上説明したように、本発明は光フアイバ母材
を加熱炉で溶融し、線引した光フアイバガラスを
光フアイバ強制冷却装置により冷却する際、光フ
アイバ強制冷却装置に結合した昇降機を線速、塗
布径変化または光フアイバガラス温度に応じて作
動させ、光フアイバ強制冷却装置の位置を上下方
向に移動制御することにより、塗布装置により塗
布される被覆材としての高分子樹脂の塗布径を線
速に拘らず均一に保持することができ、これによ
り光フアイバの品質向上に顕著な効果を奏する優
れたかつ新規な光フアイバの製造方法であり、本
発明の製造装置は上記方法を実現して均一な塗布
径の光フアイバを製造できる装置である。
を加熱炉で溶融し、線引した光フアイバガラスを
光フアイバ強制冷却装置により冷却する際、光フ
アイバ強制冷却装置に結合した昇降機を線速、塗
布径変化または光フアイバガラス温度に応じて作
動させ、光フアイバ強制冷却装置の位置を上下方
向に移動制御することにより、塗布装置により塗
布される被覆材としての高分子樹脂の塗布径を線
速に拘らず均一に保持することができ、これによ
り光フアイバの品質向上に顕著な効果を奏する優
れたかつ新規な光フアイバの製造方法であり、本
発明の製造装置は上記方法を実現して均一な塗布
径の光フアイバを製造できる装置である。
第１図および第２図はそれぞれ本発明の実施態
様を説明する構成概要図、第３図は塗布装置を通
過する光フアイバガラスの温度を推定する際のモ
デルを示す図、第４図は光フアイバの自然空冷の
場合のモデル図、第５図及び第６図は本発明に用
いることのできる強制冷却装置の例を示す図、第
７図は本発明の実施例を説明する部分図、第８図
は本発明の実施例及び比較例における線速と塗布
径の関係を示す図、第９−Ａ及び９−Ｂ図は従来
法を説明する構成概要図である。
様を説明する構成概要図、第３図は塗布装置を通
過する光フアイバガラスの温度を推定する際のモ
デルを示す図、第４図は光フアイバの自然空冷の
場合のモデル図、第５図及び第６図は本発明に用
いることのできる強制冷却装置の例を示す図、第
７図は本発明の実施例を説明する部分図、第８図
は本発明の実施例及び比較例における線速と塗布
径の関係を示す図、第９−Ａ及び９−Ｂ図は従来
法を説明する構成概要図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 光フアイバ母材を加熱溶融して線引きして光
フアイバガラスとし、続いて該光フアイバガラス
を強制冷却装置内を挿通させて冷却した後に、該
光フアイバガラスの外周表面に高分子材料を塗布
して硬化炉中を挿通させることにより該高分子材
料を硬化させて、高分子材料被覆を有する光フア
イバ素線とする方法において、上記強制冷却装置
を光フアイバガラスに沿つて上下方向に移動させ
ながら冷却を行なうことにより高分子材料の塗布
径を一定とすることを特徴とする光フアイバの製
造方法。 ２ 強制冷却装置の上下方向への移動を線引速度
に応じて制御して行なう特許請求の範囲第１項に
記載の光フアイバの製造方法。 ３ 強制冷却装置の上下方向への移動を、高分子
材料の塗布径に応じて制御して行なう特許請求の
範囲第１項に記載の光フアイバの製造方法。 ４ 強制冷却装置の上下方向への移動を、高分子
材料を塗布するための塗布装置内を挿通する光フ
アイバガラスの温度を一定に保持するように制御
して行なう特許請求の範囲第１項に記載の光フア
イバの製造方法。 ５ 光フアイバ母材を加熱溶融して線引する加熱
炉、線引形成した光フアイバを冷却する強制冷却
装置、冷却した光フアイバガラスの外周表面に高
分子材料を塗布する塗布装置及び塗布された高分
子材料を硬化させて光フアイバガラス外周に被覆
を形成する硬化装置とを鉛直方向に直列に配置し
てなり、該強制冷却装置は上昇又は下降運動を制
御するための制御部を有する昇降機と連結され
て、該強制冷却装置内を挿通する光フアイバガラ
スに沿つて上下方向に移動可能であることを特徴
とする光フアイバの製造装置。 ６ 制御部は塗布装置の光フアイバガラス入口側
に設けた非接触型光フアイバガラス温度測定器
と、該温度測定器の温度測定信号を入力して演算
することにより該温度が設定温度となるように強
制冷却装置の位置設定信号を出して昇降機を上昇
又は下降させる演算機とを有するものである特許
請求の範囲第５項に記載される光フアイバの製造
装置。 ７ 制御部は高分子材料塗布径測定装置と、該塗
布径測定装置からの塗布径測定信号を入力し、こ
れに基き演算することにより、該塗布径が均一と
なるように強制冷却装置の位置設定信号を出して
昇降機を上昇又は下降させる演算機とを有するも
のである特許請求の範囲第６項に記載される光フ
アイバの製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62220374A JPS6465048A (en) | 1987-09-04 | 1987-09-04 | Method and apparatus for producing optical fiber |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62220374A JPS6465048A (en) | 1987-09-04 | 1987-09-04 | Method and apparatus for producing optical fiber |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6465048A JPS6465048A (en) | 1989-03-10 |
| JPH0380743B2 true JPH0380743B2 (ja) | 1991-12-25 |
Family
ID=16750121
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62220374A Granted JPS6465048A (en) | 1987-09-04 | 1987-09-04 | Method and apparatus for producing optical fiber |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6465048A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2633034B2 (ja) * | 1989-09-19 | 1997-07-23 | 三菱電線工業株式会社 | 金属被覆光ファイバの製造法 |
| US20030205066A1 (en) * | 2002-03-25 | 2003-11-06 | Ghani M. Usman | Method and apparatus for efficient cooling of optical fiber during its manufacture |
| EP3282023A1 (de) * | 2016-08-11 | 2018-02-14 | Linde Aktiengesellschaft | Kühlvorrichtung und verfahren zum kühlen durchlaufender elemente |
-
1987
- 1987-09-04 JP JP62220374A patent/JPS6465048A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6465048A (en) | 1989-03-10 |
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