JPH02212338A - 光ファイバの製造方法 - Google Patents
光ファイバの製造方法Info
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- JPH02212338A JPH02212338A JP1029732A JP2973289A JPH02212338A JP H02212338 A JPH02212338 A JP H02212338A JP 1029732 A JP1029732 A JP 1029732A JP 2973289 A JP2973289 A JP 2973289A JP H02212338 A JPH02212338 A JP H02212338A
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- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 title claims abstract description 41
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 87
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 87
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims abstract description 43
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 42
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 39
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 abstract description 4
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 abstract 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 11
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 9
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 7
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 239000000112 cooling gas Substances 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000005491 wire drawing Methods 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 229920006240 drawn fiber Polymers 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002559 palpation Methods 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- SOGFHWHHBILCSX-UHFFFAOYSA-J prop-2-enoate silicon(4+) Chemical compound [Si+4].[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C SOGFHWHHBILCSX-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/104—Coating to obtain optical fibres
- C03C25/106—Single coatings
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- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光ファイバの製造方法に関し、特に光ファイバ
の保護被覆材樹脂を高速で均一に光ファイバに被覆する
方法に関するものである。
の保護被覆材樹脂を高速で均一に光ファイバに被覆する
方法に関するものである。
第2図に従来の光ファイバの被覆工程を説明する図を示
す。lは光ファイバ母材、2は線引炉、3は光ファイバ
、4は液状樹脂、5は塗布ダイス、6は塗布した液状樹
脂を硬化する硬化装置、7は被覆光ファイバ、8は巻取
機である。光ファイバ3が線引直後の波型を施されてい
ない裸ファイバの場合、または既に被覆されている場合
の何れの場合においても、同様の工程で被覆される。
す。lは光ファイバ母材、2は線引炉、3は光ファイバ
、4は液状樹脂、5は塗布ダイス、6は塗布した液状樹
脂を硬化する硬化装置、7は被覆光ファイバ、8は巻取
機である。光ファイバ3が線引直後の波型を施されてい
ない裸ファイバの場合、または既に被覆されている場合
の何れの場合においても、同様の工程で被覆される。
光ファイバは、通常、機械的強度や伝送特性の観点から
、複数層の被覆が施される。被覆材は硬化の方式による
観点からの分類で、一般に、熱硬化型樹脂と紫外線硬化
型樹脂が主に用いられているが、近年は後者の紫外線硬
化型樹脂が主流になりつつある。その理由は、光硬化反
応を用いるために、光ファイバの製造線引速度の高速化
が可能となり、硬化装置の、例えば硬化炉としても従来
の熱硬化炉に比べ小型の、紫外線硬化炉を用いるので、
設備上の簡易化に併せ、紫外線硬化型樹脂の材料自身も
、原料組成の点から低価格化がはかれ、経済的に有効で
あることによる。
、複数層の被覆が施される。被覆材は硬化の方式による
観点からの分類で、一般に、熱硬化型樹脂と紫外線硬化
型樹脂が主に用いられているが、近年は後者の紫外線硬
化型樹脂が主流になりつつある。その理由は、光硬化反
応を用いるために、光ファイバの製造線引速度の高速化
が可能となり、硬化装置の、例えば硬化炉としても従来
の熱硬化炉に比べ小型の、紫外線硬化炉を用いるので、
設備上の簡易化に併せ、紫外線硬化型樹脂の材料自身も
、原料組成の点から低価格化がはかれ、経済的に有効で
あることによる。
紫外線硬化型樹脂を用いた光ファイバへの塗布工程にお
いて、従来、一般に室温で測定した粘度が1000乃至
10000cps程度のものが用いられている。
いて、従来、一般に室温で測定した粘度が1000乃至
10000cps程度のものが用いられている。
第2図に示すような塗布ダイス5を用いた被覆方法では
、液状樹脂4の粘度は、一般に塗布性の点で経験的に5
00乃至5000cpsの範囲内にする必要があること
がわかっており、室温では粘度が高すぎる場合は若干温
度を上げて、液状樹脂4の粘度を上記の範囲におさまる
ように調整していた。
、液状樹脂4の粘度は、一般に塗布性の点で経験的に5
00乃至5000cpsの範囲内にする必要があること
がわかっており、室温では粘度が高すぎる場合は若干温
度を上げて、液状樹脂4の粘度を上記の範囲におさまる
ように調整していた。
また、光ファイバ3の温度が高すぎると、塗布時に樹脂
が分解したり、被覆径の減少、偏肉の発生など均一に塗
布ができない問題が生ずるため、特に高速で線引した裸
ファイバに樹脂を塗布する場合においては、線引したフ
ァイバを強制的に冷却する装置や方法が工夫さている。
が分解したり、被覆径の減少、偏肉の発生など均一に塗
布ができない問題が生ずるため、特に高速で線引した裸
ファイバに樹脂を塗布する場合においては、線引したフ
ァイバを強制的に冷却する装置や方法が工夫さている。
例え゛ばUSP4、437.870号明細書に記載され
るように、気体をファイバに吹きつけることにより、フ
ァイバの温度を急速に下げる方法があり、高速で樹脂を
塗布することがなされてきた。この種の強制冷却手段を
有する装置構成の一例を第1図に示す。同図において1
3は光ファイバ 9は強制冷却装置であり、第2図と同
符号の部分は第1図と共通部分を表す。
るように、気体をファイバに吹きつけることにより、フ
ァイバの温度を急速に下げる方法があり、高速で樹脂を
塗布することがなされてきた。この種の強制冷却手段を
有する装置構成の一例を第1図に示す。同図において1
3は光ファイバ 9は強制冷却装置であり、第2図と同
符号の部分は第1図と共通部分を表す。
被覆ファイバの樹脂被膜は、ファイバを機械的に保護す
ると同時に光ファイバの微小な曲がりに起因する伝送損
失を極力抑えるための保護を目的とするものであるが、
被膜の中に微小な気泡があると、ファイバに局部的な応
力を発生させ、伝送特性を悪化させる。
ると同時に光ファイバの微小な曲がりに起因する伝送損
失を極力抑えるための保護を目的とするものであるが、
被膜の中に微小な気泡があると、ファイバに局部的な応
力を発生させ、伝送特性を悪化させる。
従来の方法によれば、ファイバの温度を強制冷却等の手
法により低下させることにより、確かに高速で樹脂を塗
布することを可能としたが、線速を上げるに従い、ファ
イバとの界面付近の樹脂被膜中に微小な気泡が入り易く
なるため、特性の良好なファイバを安定して製造できる
線速は、比較的低い速度に抑えていた。そのため、高速
で樹脂被膜の中に気泡を混入させないで樹脂を塗布する
ことが課題であった。
法により低下させることにより、確かに高速で樹脂を塗
布することを可能としたが、線速を上げるに従い、ファ
イバとの界面付近の樹脂被膜中に微小な気泡が入り易く
なるため、特性の良好なファイバを安定して製造できる
線速は、比較的低い速度に抑えていた。そのため、高速
で樹脂被膜の中に気泡を混入させないで樹脂を塗布する
ことが課題であった。
本発明は上記課題を解決した光ファイバの製造方法を提
供することを目的とするものである。
供することを目的とするものである。
本発明は光ファイバ母材から線引きした光ファイバまた
は被覆を施した被覆ファイバに、塗布ダイスにより液状
の紫外線硬化型樹脂を塗布し被覆を施した後、紫外線照
射装置を通過させて前記液状の紫外線硬化型樹脂を硬化
させる光ファイバの製造方法において、塗布時のファイ
バ温度をTf。
は被覆を施した被覆ファイバに、塗布ダイスにより液状
の紫外線硬化型樹脂を塗布し被覆を施した後、紫外線照
射装置を通過させて前記液状の紫外線硬化型樹脂を硬化
させる光ファイバの製造方法において、塗布時のファイ
バ温度をTf。
塗布時の樹脂の温度をTrとし、これらの温度差ΔT=
Tf−Trが0<ΔT<50℃を満たし、かつ、樹脂の
温度TrがTr<100℃で、かつ温度Trにおける樹
脂の粘度が500cpsないし5000cpsであるこ
とを特徴とする光ファイバの製造方法に関し、これによ
り上記した従来の問題点を解決できるものである。前記
光ファイバ母材を練りきしながら前記液状の紫外線硬化
型樹脂を光ファイバに塗布し被覆を施すことを特徴とす
る上記光ファイバの製造方法は本発明の特に好ましい実
施態様である。
Tf−Trが0<ΔT<50℃を満たし、かつ、樹脂の
温度TrがTr<100℃で、かつ温度Trにおける樹
脂の粘度が500cpsないし5000cpsであるこ
とを特徴とする光ファイバの製造方法に関し、これによ
り上記した従来の問題点を解決できるものである。前記
光ファイバ母材を練りきしながら前記液状の紫外線硬化
型樹脂を光ファイバに塗布し被覆を施すことを特徴とす
る上記光ファイバの製造方法は本発明の特に好ましい実
施態様である。
本発明は上記の構成により、従来法による場合の約2倍
の線速での線引、被覆を実現できる。
の線速での線引、被覆を実現できる。
本発明において、Trを調整する具体的手段としては、
線引炉と塗布ダイス間の距離を調整したり、ファイバ強
制冷却装置の能力を調整することにより対応できる。従
って、装置構成については、ファイバ温度と樹脂温度及
びその粘度を本発明の特徴とする範囲内に調整できる構
成をとれば、特に制限されるところはない。例えば、第
2図に示したような従来装置でもよいし、これに強制冷
却装置9を加えた第1図の装置でもよい。
線引炉と塗布ダイス間の距離を調整したり、ファイバ強
制冷却装置の能力を調整することにより対応できる。従
って、装置構成については、ファイバ温度と樹脂温度及
びその粘度を本発明の特徴とする範囲内に調整できる構
成をとれば、特に制限されるところはない。例えば、第
2図に示したような従来装置でもよいし、これに強制冷
却装置9を加えた第1図の装置でもよい。
本発明に用いることのできる紫外線硬化型樹脂としては
、例えばウレタンアクリレート系、エポキシアクリレー
ト系、シリコンアクリレート系。
、例えばウレタンアクリレート系、エポキシアクリレー
ト系、シリコンアクリレート系。
ポリエステルアクリレート系、ポリブタジェンアクリレ
ート系等の通常の紫外線硬化型樹脂が挙げられる。塗布
時の樹脂の温度Trは100℃以下とすることが好まし
い。なお、Trの下限値については特に限定されるとこ
ろはない。これは、次に説明するように樹脂粘度の好ま
しい範囲があるため、これを満足するための下限値が樹
脂毎に存在するからである。即ち塗布時の樹脂粘度は5
00Cpsないし5000cps(25℃)の範囲内が
好ましく、これは前記のように、塗布性の上で経験的に
好ましい範囲だからである。塗布後の紫外線硬化型樹脂
の硬化手段は紫外線照射によるが、この種の目的に一般
的に使用される例えば高圧水銀ランプ、メタルハライド
ランプ等を用いることができる。
ート系等の通常の紫外線硬化型樹脂が挙げられる。塗布
時の樹脂の温度Trは100℃以下とすることが好まし
い。なお、Trの下限値については特に限定されるとこ
ろはない。これは、次に説明するように樹脂粘度の好ま
しい範囲があるため、これを満足するための下限値が樹
脂毎に存在するからである。即ち塗布時の樹脂粘度は5
00Cpsないし5000cps(25℃)の範囲内が
好ましく、これは前記のように、塗布性の上で経験的に
好ましい範囲だからである。塗布後の紫外線硬化型樹脂
の硬化手段は紫外線照射によるが、この種の目的に一般
的に使用される例えば高圧水銀ランプ、メタルハライド
ランプ等を用いることができる。
本発明のファイバの線引温度としては、線引炉では20
00℃〜2200℃程度が普通であるが、樹脂を塗布さ
れる際の温度Tfは、ΔT=1)−TrがO<ΔT<5
0℃を満足するように調整する。前記のように線引炉と
塗布ダイス間の距離を調整するか、線引炉直下に設けた
強制冷却装置から例えば空気、、N、、l−&−等の冷
却用ガスを吹きつけることによりファイバ温度Tfを調
整する。
00℃〜2200℃程度が普通であるが、樹脂を塗布さ
れる際の温度Tfは、ΔT=1)−TrがO<ΔT<5
0℃を満足するように調整する。前記のように線引炉と
塗布ダイス間の距離を調整するか、線引炉直下に設けた
強制冷却装置から例えば空気、、N、、l−&−等の冷
却用ガスを吹きつけることによりファイバ温度Tfを調
整する。
なお、本発明の方法を適用できる光ファイバの組成、フ
ァイバ構造は特に限定されるところはなく、ガラスファ
イバ一般が挙げられるが、石英系ガラスファイバ等は特
に好ましいものとして挙げられる。
ァイバ構造は特に限定されるところはなく、ガラスファ
イバ一般が挙げられるが、石英系ガラスファイバ等は特
に好ましいものとして挙げられる。
樹脂粘度の温度依存性は、樹脂組成例えばプレポリマー
やモノマーの種類や分子量分布、添加剤などにより異な
る。第3図に、3種類の樹脂A。
やモノマーの種類や分子量分布、添加剤などにより異な
る。第3図に、3種類の樹脂A。
B、Cについて、その粘度の温度依存性を測定した結果
を示す。樹脂Aと樹脂Bは共にウレタンアクリレート系
紫外線硬化型樹脂であるが、モノマーの構造、a度とオ
リゴマーの分子量が異なっている。樹脂Cはシリコンア
クリレート系紫外線硬化型樹脂である。このように樹脂
により差はあるが、温度により粘度は大きく変化し、高
温では粘度が低下することが分かる。
を示す。樹脂Aと樹脂Bは共にウレタンアクリレート系
紫外線硬化型樹脂であるが、モノマーの構造、a度とオ
リゴマーの分子量が異なっている。樹脂Cはシリコンア
クリレート系紫外線硬化型樹脂である。このように樹脂
により差はあるが、温度により粘度は大きく変化し、高
温では粘度が低下することが分かる。
一般に、光ファイバは線引しながら1層または多層の被
覆が施される。この場合、被覆されるファイバすなわち
1層目の場合は裸のガラスファイバ、2層目以降は被覆
されたファイバは、線引速度によって温度が変化する。
覆が施される。この場合、被覆されるファイバすなわち
1層目の場合は裸のガラスファイバ、2層目以降は被覆
されたファイバは、線引速度によって温度が変化する。
この温度変化は、裸のガラスファイバはガラスの高温溶
融のためであり、また被覆されたファイバは硬化熱など
のためJこ高温になった後の冷却時間が変化するためで
ある。
融のためであり、また被覆されたファイバは硬化熱など
のためJこ高温になった後の冷却時間が変化するためで
ある。
塗布ダイス内、特にファイバが樹脂液中に入るいわゆる
メニスカスと呼ばれる部分及びダイス出口付近のファイ
バと樹脂の界面付近での樹脂の流れは、樹脂の温度すな
わち粘度は勿論のこと、樹脂とファイバの温度差の影響
を大きく受ける。その理由は、樹脂とファイバの温度差
は、樹脂とファイバの界面付近の樹脂粘度に勾配を生じ
させるためである。 まず、メニスカス部においては、
第4図に示すように、走行するファイバ3に液状樹脂4
0が引きこまれるため、メニスカスの深さhはある値で
バランスしている。この値りが大きいと空気を取り込み
易く、塗布樹脂被膜中への微小気泡の混入の原因となる
ことが観察されている。
メニスカスと呼ばれる部分及びダイス出口付近のファイ
バと樹脂の界面付近での樹脂の流れは、樹脂の温度すな
わち粘度は勿論のこと、樹脂とファイバの温度差の影響
を大きく受ける。その理由は、樹脂とファイバの温度差
は、樹脂とファイバの界面付近の樹脂粘度に勾配を生じ
させるためである。 まず、メニスカス部においては、
第4図に示すように、走行するファイバ3に液状樹脂4
0が引きこまれるため、メニスカスの深さhはある値で
バランスしている。この値りが大きいと空気を取り込み
易く、塗布樹脂被膜中への微小気泡の混入の原因となる
ことが観察されている。
41は樹脂液面を表す。つまり高線速において気泡が混
入しやすいのは、走行するファイバ3に液状゛樹脂が引
き込まれてメニスカスの深さhが大きくなるためで、h
の増大を抑えることが気泡の混入に対して有効である。
入しやすいのは、走行するファイバ3に液状゛樹脂が引
き込まれてメニスカスの深さhが大きくなるためで、h
の増大を抑えることが気泡の混入に対して有効である。
本発明によれば、ΔT>0即ちファイバ温度Tfが樹脂
温度Trより高いため、ファイバ3表面付近の樹脂40
.41の粘度が低下し、ファイバ3が樹脂を引き込む範
囲を小さくでき、その結果メニスカスの深さhを小さく
できるので、気泡の混入防止に対して効果的である。こ
のΔTの下限値の根拠については後の実施例で説明する
。
温度Trより高いため、ファイバ3表面付近の樹脂40
.41の粘度が低下し、ファイバ3が樹脂を引き込む範
囲を小さくでき、その結果メニスカスの深さhを小さく
できるので、気泡の混入防止に対して効果的である。こ
のΔTの下限値の根拠については後の実施例で説明する
。
次にダイス出口付近においては、ΔTが大きすぎると、
ファイバとの界面付近の樹脂の粘度が、周囲の樹脂粘度
に比べ大幅に低下するため、その部分だけ、せん断速度
が非常に大きな領域が生じ、いわゆる“すべり”という
現象が生じ、被覆径の減少や偏肉の発生など均一に塗布
できなくなることが確認された。したがって、“すべり
”を避けるためにはΔTは小さいほうが好ましいわけで
あるが、前記のように気泡発生の問題がある。本発明の
ようにO<ΔT<50℃の範囲とすれば、すべり”を発
生せず、しかも気泡発生のない良好な樹脂被覆が可能で
ある。ΔTの上限の根拠については、後の実施例で説明
する。
ファイバとの界面付近の樹脂の粘度が、周囲の樹脂粘度
に比べ大幅に低下するため、その部分だけ、せん断速度
が非常に大きな領域が生じ、いわゆる“すべり”という
現象が生じ、被覆径の減少や偏肉の発生など均一に塗布
できなくなることが確認された。したがって、“すべり
”を避けるためにはΔTは小さいほうが好ましいわけで
あるが、前記のように気泡発生の問題がある。本発明の
ようにO<ΔT<50℃の範囲とすれば、すべり”を発
生せず、しかも気泡発生のない良好な樹脂被覆が可能で
ある。ΔTの上限の根拠については、後の実施例で説明
する。
塗布時の温度Trの上限は、樹脂の劣化(分解や増粘度
、変質)の点から約100℃である。
、変質)の点から約100℃である。
第1図に示す光ファイバの製造方法工程により、光ファ
イバを数種試作し、比較評価した実施例について示す。
イバを数種試作し、比較評価した実施例について示す。
以下の各実施例の強制冷却は、外周を冷却した円筒状強
制冷却装置内にファイバを通して、該装置内部に冷却ガ
スとして空気を流す方法によった。
制冷却装置内にファイバを通して、該装置内部に冷却ガ
スとして空気を流す方法によった。
実施例1
外径125−φのガラスファイバを第1図のような装置
を用いて、線速800m/分にて線引しながら、前記第
3図及び表1に示す3種類の樹脂A(ウレタンアクリレ
ート系)、B(ウレタンアクリレート系)、C(シリコ
ンアクリレート系)を被覆し、外径200−に仕上げ、
得られた被覆ファイバの被覆について気泡の混入の有無
と均一性、安定性を調べ評価した。表中、気泡無しはO
で、有りは×で示し、未評価とは外径の変動と偏肉状態
があり塗布の均一性が非常に悪いため、気泡の有無の確
認を省略したものを示す。均一性。
を用いて、線速800m/分にて線引しながら、前記第
3図及び表1に示す3種類の樹脂A(ウレタンアクリレ
ート系)、B(ウレタンアクリレート系)、C(シリコ
ンアクリレート系)を被覆し、外径200−に仕上げ、
得られた被覆ファイバの被覆について気泡の混入の有無
と均一性、安定性を調べ評価した。表中、気泡無しはO
で、有りは×で示し、未評価とは外径の変動と偏肉状態
があり塗布の均一性が非常に悪いため、気泡の有無の確
認を省略したものを示す。均一性。
安定性については、目視及び手による触診での外径変動
の確認によった。なお、樹脂Δ、B、Cの粘度の温度特
性は第3図に示したとおりである。
の確認によった。なお、樹脂Δ、B、Cの粘度の温度特
性は第3図に示したとおりである。
ファイバ温度Tfはファイバ強制冷却装r19の中に流
す冷却ガスの温度と流量を制御して調整した。
す冷却ガスの温度と流量を制御して調整した。
Tfの測定は塗布ダイス5の直上で行った。
表1に示した結果から、試料に2,4,7,8゜10、
13.14.16.17が気泡の混入がなく、均一で安
定な塗布を施されていることがわかる。
13.14.16.17が気泡の混入がなく、均一で安
定な塗布を施されていることがわかる。
0<ΔT<50℃を満たし、かッTr < 100℃で
、かつ500cps< q t−< 5000cpsで
あれば、良好な塗布状態であることが確認された。
、かつ500cps< q t−< 5000cpsで
あれば、良好な塗布状態であることが確認された。
表1
実施例2
外径125−φのガラスファイバにウレタンアクリレー
ト樹脂Bで被覆を施した外径2007aφの被覆ファイ
バに、線速600m/分で表2に示す条件でウレタンア
クリレート系樹脂Aを被覆し、外径250−φに仕上げ
、塗布状態を調べ評価した。
ト樹脂Bで被覆を施した外径2007aφの被覆ファイ
バに、線速600m/分で表2に示す条件でウレタンア
クリレート系樹脂Aを被覆し、外径250−φに仕上げ
、塗布状態を調べ評価した。
表2に示すように、試料Nα2,3,4.5は良好な塗
布状態であることがわかった。いずれも0<ΔT<50
℃、Tr<100℃、 500cpS< n t。
布状態であることがわかった。いずれも0<ΔT<50
℃、Tr<100℃、 500cpS< n t。
< 5000cpsを満足するものである。逆にこの条
件からはずれるNa1.6.7.8は塗布状態に何かし
らの問題を有するものであった。
件からはずれるNa1.6.7.8は塗布状態に何かし
らの問題を有するものであった。
表2
以上の実施例の結果からも明らかなように、本発明によ
れば、従来法ではせいぜい4QOm1分程度でしか実現
できなかった気泡発生や“すべり″のない線引・被覆を
、600m/分、800m/分という高速でも均一かつ
安定に可能とできる。
れば、従来法ではせいぜい4QOm1分程度でしか実現
できなかった気泡発生や“すべり″のない線引・被覆を
、600m/分、800m/分という高速でも均一かつ
安定に可能とできる。
また、本発明の限定範囲内で良好な被覆が実現できるこ
とが分かる。
とが分かる。
3゛上述べたように、本発明の光ファイバの製造方法に
よれば、高速の線引においても、紫外線硬化型樹脂の塗
布・被覆工程におけるメニスカスの深さの増大が抑えら
れ、気泡の引き込みがおこりにくく、また、樹脂とファ
イバの界面付近の樹脂の粘度の急激な低下がないので、
“すべり“の現象が生じに<<、高速の線引で均一に安
定した紫外線硬化型樹脂の被覆が可能となり、その効果
は大きい。
よれば、高速の線引においても、紫外線硬化型樹脂の塗
布・被覆工程におけるメニスカスの深さの増大が抑えら
れ、気泡の引き込みがおこりにくく、また、樹脂とファ
イバの界面付近の樹脂の粘度の急激な低下がないので、
“すべり“の現象が生じに<<、高速の線引で均一に安
定した紫外線硬化型樹脂の被覆が可能となり、その効果
は大きい。
第1図及び第2図はいずれも本発明及び従来法に係る光
ファイバの製造方法工程の説明図、第3図は代表的樹脂
の粘度・温度特性を示す図、第4図はメニスカス付近の
ファイバと樹脂界面の状態を示す説明図である。 lは光ファイバ母材、2は線引炉、3,13は光ファイ
バ、4.40は液状樹脂、41は樹脂界面、5は塗布ダ
イス、6は硬化装置、7は被覆光ファイバ、8は巻取機
、9はファイバ強制冷却装置、hはメニスカスの深さ、
A、Bはウレタンアクリレート系紫外線硬化型樹脂の粘
度・温度特性曲線、Cはシリコンアクリレート系紫外線
硬化型樹脂の粘度・温度特性曲線を表す。
ファイバの製造方法工程の説明図、第3図は代表的樹脂
の粘度・温度特性を示す図、第4図はメニスカス付近の
ファイバと樹脂界面の状態を示す説明図である。 lは光ファイバ母材、2は線引炉、3,13は光ファイ
バ、4.40は液状樹脂、41は樹脂界面、5は塗布ダ
イス、6は硬化装置、7は被覆光ファイバ、8は巻取機
、9はファイバ強制冷却装置、hはメニスカスの深さ、
A、Bはウレタンアクリレート系紫外線硬化型樹脂の粘
度・温度特性曲線、Cはシリコンアクリレート系紫外線
硬化型樹脂の粘度・温度特性曲線を表す。
Claims (2)
- (1)光ファイバ母材から線引きした光ファイバまたは
被覆を施した被覆ファイバに、塗布ダイスにより液状の
紫外線硬化型樹脂を塗布し被覆を施した後、紫外線照射
装置を通過させて前記液状の紫外線硬化型樹脂を硬化さ
せる光ファイバの製造方法において、塗布時のファイバ
温度をTf、塗布時の樹脂の温度をTrとし、これらの
温度差ΔT=Tf−Trが0<ΔT<50℃を満たし、
かつ、樹脂の温度TrがTr<100℃で、かつ温度T
rにおける樹脂の粘度が500cpsないし5000c
psであることを特徴とする光ファイバの製造方法。 - (2)前記光ファイバ母材を線引きしながら前記液状の
紫外線硬化型樹脂を光ファイバに塗布し被覆を施すこと
を特徴とする請求項(1)に記載の光ファイバの製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1029732A JPH0699165B2 (ja) | 1989-02-10 | 1989-02-10 | 光ファイバの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1029732A JPH0699165B2 (ja) | 1989-02-10 | 1989-02-10 | 光ファイバの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02212338A true JPH02212338A (ja) | 1990-08-23 |
JPH0699165B2 JPH0699165B2 (ja) | 1994-12-07 |
Family
ID=12284280
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1029732A Expired - Lifetime JPH0699165B2 (ja) | 1989-02-10 | 1989-02-10 | 光ファイバの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0699165B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2727972A1 (fr) * | 1994-12-13 | 1996-06-14 | Vetrotex France Sa | Composition d'ensimage pour fils de verre, procede utilisant cette composition et produits resultants |
EP0900770A1 (de) * | 1997-09-04 | 1999-03-10 | Alcatel | Verfahren zur Beschichtung einer optischen Faser |
JP2011100046A (ja) * | 2009-11-09 | 2011-05-19 | Hitachi Cable Ltd | 光ファイバ、光ファイバの端部加工方法および光ファイバの端部加工装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0251447A (ja) * | 1988-08-11 | 1990-02-21 | Fujikura Ltd | 光ファイバの被覆方法 |
-
1989
- 1989-02-10 JP JP1029732A patent/JPH0699165B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0251447A (ja) * | 1988-08-11 | 1990-02-21 | Fujikura Ltd | 光ファイバの被覆方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2727972A1 (fr) * | 1994-12-13 | 1996-06-14 | Vetrotex France Sa | Composition d'ensimage pour fils de verre, procede utilisant cette composition et produits resultants |
WO1996018683A1 (fr) * | 1994-12-13 | 1996-06-20 | Vetrotex France | Composition d'ensimage pour fils de verre, procede utilisant cette composition et produits resultants |
US5882792A (en) * | 1994-12-13 | 1999-03-16 | Vetrotex France | Sizing composition for glass threads, process using this composition and resulting products |
EP0900770A1 (de) * | 1997-09-04 | 1999-03-10 | Alcatel | Verfahren zur Beschichtung einer optischen Faser |
US6044665A (en) * | 1997-09-04 | 2000-04-04 | Alcatel | Method for coating an optical fiber |
JP2011100046A (ja) * | 2009-11-09 | 2011-05-19 | Hitachi Cable Ltd | 光ファイバ、光ファイバの端部加工方法および光ファイバの端部加工装置 |
US8472769B2 (en) | 2009-11-09 | 2013-06-25 | Hitachi Cable, Ltd. | Optical fiber, end part processing method of optical fiber, and end part processing apparatus of optical fiber |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0699165B2 (ja) | 1994-12-07 |
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