JPS6317050B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6317050B2
JPS6317050B2 JP53101375A JP10137578A JPS6317050B2 JP S6317050 B2 JPS6317050 B2 JP S6317050B2 JP 53101375 A JP53101375 A JP 53101375A JP 10137578 A JP10137578 A JP 10137578A JP S6317050 B2 JPS6317050 B2 JP S6317050B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
hydrogen
group
lower alkyl
compound according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP53101375A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5441855A (en
Inventor
Hanberugaa Herumuuto
Shutefuen Adorian
Suchutsutsu Peetaa
Suchutsutsu Anton
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SANDO AG
Original Assignee
SANDO AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=27429271&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JPS6317050(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Priority claimed from CH1020377A external-priority patent/CH632251A5/de
Application filed by SANDO AG filed Critical SANDO AG
Publication of JPS5441855A publication Critical patent/JPS5441855A/ja
Publication of JPS6317050B2 publication Critical patent/JPS6317050B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D203/00—Heterocyclic compounds containing three-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D203/04—Heterocyclic compounds containing three-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D203/06—Heterocyclic compounds containing three-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D203/08—Heterocyclic compounds containing three-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to the ring nitrogen atom
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/04—Antibacterial agents
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/10—Antimycotics
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D207/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D207/06—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with radicals, containing only hydrogen and carbon atoms, attached to ring carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D207/30—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D207/32—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D207/33—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D207/335—Radicals substituted by nitrogen atoms not forming part of a nitro radical
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
    • C07D209/04—Indoles; Hydrogenated indoles
    • C07D209/10—Indoles; Hydrogenated indoles with substituted hydrocarbon radicals attached to carbon atoms of the hetero ring
    • C07D209/14—Radicals substituted by nitrogen atoms, not forming part of a nitro radical
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
    • C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D211/06—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D211/08—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to ring carbon atoms
    • C07D211/10—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to ring carbon atoms with radicals containing only carbon and hydrogen atoms attached to ring carbon atoms
    • C07D211/14—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to ring carbon atoms with radicals containing only carbon and hydrogen atoms attached to ring carbon atoms with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals attached to the ring nitrogen atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/24—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
    • C07D213/36—Radicals substituted by singly-bound nitrogen atoms
    • C07D213/38—Radicals substituted by singly-bound nitrogen atoms having only hydrogen or hydrocarbon radicals attached to the substituent nitrogen atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
    • C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D215/12—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D223/00—Heterocyclic compounds containing seven-membered rings having one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D223/02—Heterocyclic compounds containing seven-membered rings having one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D223/04—Heterocyclic compounds containing seven-membered rings having one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings with only hydrogen atoms, halogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
    • C07D233/54—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D233/64—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms, e.g. histidine
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D307/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D307/34—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D307/38—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
    • C07D307/52—Radicals substituted by nitrogen atoms not forming part of a nitro radical
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
    • C07D333/06—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D333/14—Radicals substituted by singly bound hetero atoms other than halogen
    • C07D333/20—Radicals substituted by singly bound hetero atoms other than halogen by nitrogen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/50—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D333/52—Benzo[b]thiophenes; Hydrogenated benzo[b]thiophenes
    • C07D333/54—Benzo[b]thiophenes; Hydrogenated benzo[b]thiophenes with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
    • C07D333/58—Radicals substituted by nitrogen atoms

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Pharmacology & Pharmacy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Communicable Diseases (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Oncology (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
  • Quinoline Compounds (AREA)
  • Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
  • Furan Compounds (AREA)
  • Pyridine Compounds (AREA)
  • Pyrrole Compounds (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明はプロペニルアミン誘導体およびその製
法に関する。 本発明は、式 ［式中、
【式】は、 ａ ―（CH＝CH）2― ｂ ―CH＝CH―Ｘ― ｃ ―CH＝CH―CH＝Ｎ―または ｄ ―（CH2）s― ここで、 ａ）R9は水素であるか、または ｄ），ｃ）の場合さらに低級アルキル、 ｄ）の場合さらにベンゼン環上の低級アルキル
であり、 Ｘは硫黄、イミノまたは低級アルキルイミノ、 ｓは３，４または５、 R2は水素または低級アルキル R3は水素または低級アルキル、 R4はアルキル（C1―6）、アルケニル（C3―12）、
アルキニル（C3―12）、 R6は(i)チエニル、低級アルキルチエニル、フ
リル、イミダゾリル、低級アルキルイミダゾリ
ル、ピロリルまたは低級アルキルピロリル、 (ii)式（ａ）の基 （式中、R9は前記の意味） (iii)式（ｂ）の基 ―CO―R10 （ｂ） （式中、R10はフエニルアルコキシ（C7―16）） (iv)式（ｃ）または（ｄ）の基
【式】
【式】 （式中、R11，R12およびR13は独立して水素ま
たは低級アルキル、ｍは０〜３の整数を表わす） (v)式（ｅ）の基 ―（CH＝CH）q―R14 （ｅ） （式中、R14は低級アルキル、アルコキシ（C1
―12）―カルボニル、アルケニル（C3―12）、ア
ルキニル（C3―12）、またはフエニル、ｑは０ま
たは１を表わす） (vi)式（ｆ）の基 （式中、R17GおよびR18は独立して水素または
原子番号９〜53のハロゲンを表わす。ただしR17
およびR18の一つは水素以外である を表わす（ただし、R6が式［ｆ］で示される
基またはフエニル、R2が水素、R3が水素または
低級アルキルである場合は、
【式】は― （CH＝CH）2―で示される基ではない。）］ で示される化合物を提供するものである。 低級アルキルは炭素数１〜４、特に炭素数２ま
たは１が好ましい。フエニルアルコキシは炭素数
７が好ましい。アルケニルまたはアルキニル基の
何れもは炭素数３〜６、特に炭素数３〜４が好ま
しい。多重結合はα，β位以外が好ましく、遠隔
末端位がよい。アルケニル基の例としてはアリル
が挙げられ、アルキニル基の例としてはプロピニ
ル基が挙げられる。R9は水素がよい、式ｂ）お
よびｃ）で、R2およびR3が結合している炭素原
子への結合は、Ｘに対してメタおよび環窒素に対
してパラにそれぞれ結合しているのがよい。Ｘは
硫黄、イミノまたは低級アルキルイミノである。
Ａは式ｂ），ｃ）またはｄ）であり得るが、ａ）
が好ましい。R2は水素が好ましい。R3は水素が
好ましくR4はアルキルがよい。R6は、それが複
素環の場合は、一つの酸素または硫黄原子または
一つまたは二つの窒素原子を含有する。ビニレン
部分へR6をつなぐ結合は環へテロ原子に隣接す
る環上炭素原子に結合するのが好ましい。環は非
置換または低級アルキルで置換されている。R10
はフエニルアルコキシである。［ａ］は必要に
応じて置換されている２または４―ピリジルがよ
い。［ｃ］，［ｄ］において、ビニレン部分へ
R6をつなぐ結合およびR11〜R13をつなぐ結合は
存在する環炭素原子の何れに結合してもよい。
［ｃ］はシクロアルカ―１―エン―１―イル基
が好ましい。R11〜R13は水素が好ましい。ｑは
０または１である。［ｅ］における二重結合は
何れもトランスがよい。R14はアルコキシ（C1〜
８）カルボニル、フエニルまたはアルキルがよい。
R17はハロゲンがよく、R18は水素がよい。R6は
［ｃ］がよい。 ｍ，ｓの値は五または六員環を形成するように
選ばれるのがよい。 R6と窒素原子の間にある二重結合は、トラン
ス配置がよい。 ハロゲンはフツ素がよく、あるいは臭素または
塩素が好ましい。 Ａがｂ）またはｄ）でR6が［ａ］の場合は、
二つのR9基は同一か異なつてもよい。 本発明はまた、 ａ 式： ［式中、Ａ，R9，R2〜R4は前記と同意義。］ で示される化合物を、 式： Ｌ―CH2―CH＝CH―R6 ［Ｖ］ ［式中、Ｌは脱離基で、R6は前記と同意義。］ で示される化合物と反応させるか、 ｂ 式： で示される化合物を還元して、 式： ［式中、Ａ，R9，R2およびR3は前記と同意義
で R〓4およびR〓6は前記R4およびR6とそれぞれ同意
義、ただしこれらはおのおのアルキニル以外で
ある。］ で示される化合物を生成せしめるか、または ｃ 式： で示される化合物を、光化学的に異性化して、 式： ［式中、Ａ，R9，R2〜R6は前記と同意義。］で
示される化合物を生成せしめるか、または ｂ 式： で示される化合物にR〓4基を導入して、 式： ［式中、Ａ，R9，R2，R5およびR6は前記と同
意義、R〓3は水素または低級アルキル、R〓4はア
ルキル（C1〜6）、アルケニル（C3〜12）、アル
キニル（C3〜12）を表わす。］ で示される化合物を生成せしめることを特徴とす
る化合物［］の製法を提供するものである。 方法ａ）は、類似の出発物質からの縮合による
第三級アミンの製造の常套の方法で行うことがで
きる。この反応は、低級アルカノールたとえばエ
タノール、必要に応じて水と混合し、芳香族炭化
水素たとえばベンゼンまたはトルエン、環状エー
テルたとえばジオキサンまたはカルボン酸ジアル
キルアミド溶媒たとえばジメチルホルムアミドの
ような不活性溶媒中で行つてよい。反応温度は室
温から反応混合物の沸騰温度までがよく、室温が
好ましい。反応は炭酸アルカリ金属たとえば炭酸
ナトリウムのような酸結合剤の存在下に行うのが
よい。脱離基Ｌはヨウ素がよく、あるいは塩素ま
たは臭素、または好ましくは炭素数１〜10の有機
スルフオニルオキシ基たとえばアルキルスルフオ
ニルオキシ（好ましくはメシルオキシのような炭
素数１〜４を有するもの）、あるいはトシルオキ
シのような好ましくは炭素数７〜10のアルキルフ
エニルスルフオニルオキシが好ましい。 方法ｂ）は、R〓6に隣接する二重結合がシス配
置である化合物［ａ］を製造するために、接触
水素添加の常套の方法で行うことができる。ある
いは、この方法は二重結合がトランス配置である
化合物［ａ］を製造するために錯水素化金属還
元の常套の方法で行うことができる。 接触水素添加は、たとえばメタノール、エタノ
ール、メチレンクロリド、ピリジンまた酢酸エチ
ルのような溶媒中で行つてよい。触媒は硫酸バリ
ウムまたは炭酸カルシウムのような担体物質上の
パラジウムが好ましい。触媒は部分的に不活性に
するために鉛塩で前処理してもよい（たとえばリ
ンドラー触媒）。水素添加は室温および常圧力で
行なうことができる。 水素化金属還元は水素化アルミニウムリチウム
または水素化ジイソブチルアルミニウム還元の常
套の方法で行なうことができる。還元はトルエン
またはベンゼンのような不活性溶媒中で行うのが
よい。反応は室温で行うのがよい。 方法ｃ）は、シスアルケンの光化学異性化の常
套の方法で行なうことができる。反応はベンゼ
ン、石油エーテル、エタノールまたは好ましくは
シクロヘキサンのような溶媒中で行つてよい。溶
液を水銀高圧また低圧ランプからの光線で照射す
るのがよい。反応は室温で行うのがよい。所望に
より、適当なエオシンのような増感剤またはジフ
エニルジサルフアイドのような触媒を存在させて
もよい。 方法ｄ）は、第二級アミンの「アルキル化」
（ここに用いた「アルキル化」なる語は、ヒドロ
カルビル基R〓4の何れかの導入を意味する。）の常
套の方法、たとえばハロゲン化物または硫酸塩の
ような「アルキル化」剤で直接「アルキル化」に
より、または還元的アルキル化、特に適当なアル
デヒドと反応させ、続いてまたは同時に還元する
ことにより行なうことができる。還元的「アルキ
ル化」は、低級アルカノールたとえばメタノール
のような不活性有機溶媒中で、高温特に反応媒質
の沸騰温度で行うのが適当である。続く還元は、
たとえば水素化ホウ素ナトリウムまたは水素化ア
ルミニウムリチウムのような錯水素化金属還元剤
で行つてよい。還元はまた、たとえば還元剤およ
び反応媒質としての両方の役割を果し得るギ酸を
用いて、アルキル化と同時に行つてよい。 上記反応の何れかで、たとえば方法ｂ）または
還元的アルキル化を用いた場合に方法ｄ）でハロ
ゲンの水素への還元、アルケニル部分のアルキル
部分への還元および／またはケト部分のカルビノ
ール部分への還元、または方法ｃ）を用いた場
合、R4およびR6に存在する何れかの二重結合の
同時シス／トランス異性化のような副反応が起こ
るかもしれない。反応条件をこのような副反応を
避けるように選び、所望の最終生成物を常套の精
製技術、たとえば薄層クロマトグラフイーを用い
て単離しなければならない。 化合物［］の遊離塩基の形は、塩の形におよ
び変換してよく、その逆もできる。酸付加塩生成
に適当な酸は、塩酸、フマル酸およびナフタレン
―１，５―ジスルホン酸を包含する。 出発物質は既知か、常套の方法で製造してよ
い。 たとえば、非環式アミン［］は、 式： で示される化合物または対応するヨウ素化物また
は塩化物を、式：R〓4NH2で示される化合物を縮
合して製造することができる。 化合物［］は新規であつて、適当なアミン
［］を、式：HCHOおよびHC≡CR〓6で示され
る化合物と、マンニツヒ反応条件下で反応させて
製造することができる。 化合物［］はまた新規であつて、次のように
製造することができる。 以下の実施例で、すべての温度は未補正であ
る。 以下の表には次の表示を用いる。 １ すべての二重結合はトランス配置を有し、特
記しなければすべてのアルキル基は分技してい
ない。 ２ 融点の記載がなければ、化合物の遊離塩基形
が得られ、これは油である。融点は特記しなけ
れば遊離塩基形に対するものである。 ３ 一塩酸塩形。 ４ 二塩酸塩形。 実施例 １ ４―［Ｎ―メチル―Ｎ―（１―ナフチルメチ
ル）］アミノクロトン酸エチルエステルの製造
（方法ａ））：― ブロモクロトン酸エチルエステル1.9ｇを、Ｎ
―メチル―Ｎ―（１―ナフチルメチル）アミン
1.7ｇ炭酸カリウム1.4ｇおよびジメチルホルムア
ミド10mlの混合物に滴加する。混合物を室温で18
時間撹拌した語、濾過し、減圧で蒸発させる。残
渣をベンゼン／酢酸エチル（１：１）を溶媒とし
て用い、シリカゲル上でクロマトグラフイーし、
適当な画分を蒸発させた後、標記化合物を油とし
て遊離塩基形で得る。 標記化合物は実施例３，４および５と類似の方
法で製造してよい。 実施例 ２ Ｎ―（３―シクロヘキサ―１―エン―１―イル
―２―シス―プロペニル）―Ｎ―メチル―Ｎ―
（１―ナフチルメチル）アミンの製造（方法
ｂ））：― Ｎ―（３―シクロヘキサ―１―エン―１―イル
―プロピニル）―Ｎ―メチル―Ｎ―（１―ナフチ
ルメチル）アミン５ｇをpd／BaSO4750mgを触媒
として用いて、室温および常圧で、計算量の水素
が吸収されるまで無水ピリジン中で水素添加す
る。反応混合物を濾過し、ピリジンを減圧で除去
する。残渣をベンゼン／酢酸エチル（９：１）を
用いてシリカゲル上でクロマトグラフイーし、適
当な画分を蒸発させた後、標記化合物を油として
遊離塩基形で得、融点（塩酸塩）184〜188℃。 標記化合物はまた実施例１および５と類似の方
法で製造してよい。 実施例 ３ Ｎ―（３―シクロヘキシル―２―トランス―プ
ロペニル）―Ｎ―メチル―Ｎ―（１―ナフチル
メチル）アミンの製造（方法ｂ））：― 水素化ジイソブチルアルミニウムのトルエン中
1.2モル溶液28mlを無水ベンゼン中のＮ―（３―
シクロヘキシル―プロピニル）―Ｎ―メチル―Ｎ
―（１―ナフチルメチル）アミン５ｇに加える。
混合物を40℃で３時間撹拌後、水を注意して加え
る。有機層を分離し、乾燥し蒸発させて標記化合
物を油として遊離塩基形で得る。 標記化合物はまた実施例１，４および５により
製造してよい。 実施例 ４ Ｎ―（３―シクロヘキサ―１―エン―１―イル
―２―トランス―プロペニル）―Ｎ―メチル―
Ｎ―（１―ナフチルメチル）アミンの製造（方
法ｃ））：― Ｎ―（３―シクロヘキサ―１―エン―１―イル
―２―シス―プロペニル）―Ｎ―メチル―Ｎ―
（１―ナフチルメチル）アミン1.2ｇを水銀高圧ラ
ンプ（λ＞300nm）で、不活性ガス雰囲気下、室
温でジフエニルジサルフアイド50mgの存在下シク
ロヘキサン１中で３時間照射する。溶媒を蒸発
させた後、標記化合物を遊離塩基の形で得、塩酸
塩に変換し、融点184〜188℃。 標記化合物はまた実施例１，３および５によつ
て製造してよい。 実施例 ５ Ｎ―メチル―Ｎ―［３―（5′―メチル―2′―チ
エニル）―２―トランス―プロペニル］―Ｎ―
（１―ナフチルメチル）アミンの製造（方法
ｄ））：― ａ ベンゼン350ml中の３―（5′―メチル―2′―
チエニル）プロパー２―エナール15.2ｇおよび
１―アミノメチルナフタレン15.7ｇを、計算量
の水が沸騰し去るまで還流下煮沸する。メタノ
ール100ml中の得られたシツフ塩基3.6ｇを水素
化ホウ素ナトリウム５ｇと、30分間還流下煮沸
し、Ｎ―［３―（5′―メチル―2′―チエニル）
―２―トランス―プロペニル）］―Ｎ―（１―
ナフチルメチル）アミンを得、これを次の段階
に直接用いる。［この中間体を単離するために、
反応混合物を減圧で蒸発させ、残渣を炭酸ナト
リウム水溶液とジエチルエーテル間に分配し、
有機相を蒸発させる。］。 ｂ ａ）段階で得られた粗反応混合物を37％ホル
ムアルデヒド水溶液20mlで処理する。混合物を
60分間還流下に煮沸し、氷冷却に付し、水素化
ホウ素ナトリウム９ｇで処理し、室温で更に60
分間撹拌する。混合物を減圧で蒸発させて残渣
を得、これを炭酸水素ナトリウム水溶液とジエ
チルエーテル間に分配する。有機相を乾燥し、
蒸発させて標記化合物を油として遊離塩基の形
で得、融点（塩酸塩）140〜156℃。 標記化合物はまた実施例１，３および４と類似
の方法で製造してよい。 実施例１，３，４および５に記載したのと類似
の方法で、次のトランス化合物［ｅ］を製造す
る。 式中、 およびR6は次のとおりである。
【表】
【表】 実施例 32 実施例１および２に記載したのと類似のの方法
で、次のシス化合物を製造する。 aa Ｎ―（３―シクロヘキサ―１―エン―１―
イル―２―シス―プロペニル）―２―（1′―ナ
フチル）ピペリジン、遊離塩基―油。 実施例 33 実施例１，３，４および５に記載したのと類似
の方法で次の化合物［］を製造する。 Ｎ―シンナミル―Ｎ―メチル―Ｎ―［２―
（1′―ナフチル）―２―プロピル］アミン、遊離
塩―油。 油として得られた上記化合物［］のNMRの
データを次表に示す。データはCDCl3中で標準と
してTMSに関してのppmでのピークの位置；ピ
ークのタイプ（Ｄ＝ダブレツト；DD＝ダブル・
ダブレツト；DT＝ダブル・トリプレツト；Ｍ＝
マルテイプレツト；Ｑ＝クオーテツト；Ｓ＝シン
グレツト；Ｔ＝トリプレツト）および（ ）内の
水素原子の対応する番号からなつている。
【表】
【表】
【表】 化合物［］は化学療法活性を示す。特に、こ
れらは試験管内でトリコフイトン・キンケアヌム
（Tricophyton quinkeanum）、アスペルギルス・
フミガツス（Aspergillus fumigatus）、マイクロ
スポルム・キヤニス（Microsporum canis）、ス
ボロトリキウム・シエンキイ（Sporotrychium
schenkii）およびキヤンデイダ・アルビカンス
（Candid albicans）を包含する種々の真菌の科
および型で、たとえば0.1〜100μｇ／mlの濃度で、
モルモツトにおける皮膚真菌症モデル試験で生体
内で示されるように抗真菌活性を示す。このモデ
ルでは、モルモツトにトリコフイトン・キンケア
ヌムを皮下適用によつて感染させる。試験物質は
感染後24時間から始めて毎日、７日間、試験物質
（ポリエチレングリコールに取り）を皮膚表面に
こすりつけるか経口または皮下に試験物質を懸濁
液として投与する。活性は、たとえば0.1〜５％、
特に0.1〜0.6％の濃度での局所適用で示される。
経口活性は、たとえば50〜100mg／Kgの服用量で
示される。上記試験に使用した化合物はＮ―（３
―シクロヘキシル―２―トランスプロペニル）―
Ｎ―メチル―Ｎ―（１―ナフチルメチル）アミン
［実施例４の化合物］である。 本発明化合物はそれゆえ抗真菌剤としての使用
が指示される。指示される毎日の服用量は500〜
2000mgである。所望ならば、これは約125mg〜
1000mgを含有する単位服用量で一日２〜４回の分
服または持続除放形で投与してもよい。 本発明化合物は遊離塩基形または化学療法的に
許容される酸付加塩の形で用いてよい。このよう
な塩の形は遊離塩基形と同程度の活性を示す。 本発明化合物は、常套の化学療法的に許容され
る希釈剤および担体ならびに必要に応じ他の賦形
剤と混合し、錠剤またはカプセル剤のような形で
投与してよい。本発明化合物は、あるいは軟膏ま
たはクリームのような常套の形で局所に投与して
もよい。このような局所適用形における活性物質
の濃度は、勿論用いる化合物、所望の治療および
剤形の性質などによる。しかしながら、一般に
0.05〜５、特に0.1〜１重量％の濃度で満足な結
果が得られる。 特に興味ある活性を有する化合物は、実施例４
の化合物である。 化合物の一つのグループは、 式： ［式中、A1はａ）、Ｘが酸素または硫黄である
ｂ）、ｃ）、ｓが３または４であるｄ）で示される
基、R2，R3，R4およびR9は前記同意義であり、
R〓6［］に関して前記R6と同意義であるが、 (i) ―CO―R10は以外であり、 (ii) R1がａ）で示される基である場合は、R〓6は
（ｆ）で示される基またはフエニル以外であ
る。］ を有するものである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 式 ［式中、【式】は、 ａ ―（CH＝CH）2― ｂ ―CH＝CH―Ｘ― ｃ ―CH＝CH―CH＝Ｎ―または ｄ ―（CH2）s― ここで、 ａ）R9は水素であるか、または ｂ），ｃ）の場合さらに低級アルキル、 ｄ）の場合さらにベンゼン環上の低級アルキル
    であり、 Ｘは硫黄、イミノまたは低級アルキルイミノ、 ｓは３，４または５、 R2は水素または低級アルキル、 R3は水素または低級アルキル、 R4はアルキル（C1―6）、アルケニル（C3―12）、
    アルキニル（C3―12）、 R6は（ｉ）チエニル、低級アルキルチエニル、
    フリル、イミダゾリル、低級アルキルイミダゾリ
    ル、ピロリルまたは低級アルキルピロリル、 (ii)式（ａ）の基 （式中、R9は前記の意味） (iii)式（ｂ）の基 ―CO―R10 （ｂ） （式中、R10はフエニルアルコキシ（C7―16）） (iv)式（ｃ）または（ｄ）の基【式】 【式】 （式中、R11，R12およびR13は独立して水素ま
    たは低級アルキル、ｍは０〜３の整数を表わす） (v)式（ｅ）の基 ―（CH＝CH）q―R14 （ｅ） （式中、R14は低級アルキル、アルコキシ（C1
    ―12）―カルボニル、アルケニル（C3―12）、ア
    ルキニル（C3―12）、またはフエニル、ｑは０ま
    たは１を表わす） (vi)式（ｆ）の基 （式中、R17およびR18は独立して水素または
    原子番号９〜53のハロゲンを表わす。ただしR17
    およびR18の一つは水素以外である） を表わす（ただし、R6が式［ｆ］で示される
    基またはフエニル、R2が水素、R3が水素または
    低級アルキルである場合は、【式】は― （CH＝CH）2―で示される基ではない。）］ で示される化合物。 ２ 式： ［式中、A1は式ａ）、ｘが酸素または硫黄であ
    る式ｂ）、式ｃ）、ｓが３または４である式ｄ）で
    示される基、R2，R3，R4およびR9は 特許請求の範囲第１項に記載のとおり、 R〓6は特許請求の範囲第１項記載のR6と同意義
    であるが、 (i) ―CO―R10以外であり、 (ii) R1が式ａ）で示される基である場合は、 R〓6は式（ｆ）で示される基またはフエニル
    以外である。］ で示される特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ３ 化合物名が４―［Ｎ―メチル―Ｎ―（１―ナ
    フチルメチル）］アミノクロトン酸エチルエステ
    ルである特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ４ 化合物名がＮ―（３―シクロヘキサ―１―エ
    ン―１―イル―２―シス―プロペニル）―Ｎ―メ
    チル―Ｎ―（１―ナフチルメチル）アミンである
    特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ５ 化合物名がＮ―（３―シクロヘキシル―２―
    トランス―プロペニル）―Ｎ―メチル―Ｎ―（１
    ―ナフチルメチル）アミンである特許請求の範囲
    第１項記載の化合物。 ６ 化合物名がＮ―（３―シクロヘキサ―１―エ
    ン―１―イル―２―トランス―プロペニル）―Ｎ
    ―メチル―Ｎ―（１―ナフチルメチル）アミンで
    ある特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ７ 化合物名がＮ―メチル―Ｎ―［３―（5′―メ
    チル―2′―チエニル）―２―トランス―プロペニ
    ル］―Ｎ―（１―ナフチルメチル）アミンである
    特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ８ 式： ［式中、Ａ，R9，R6は特許請求の範囲第１項
    記載のとおりで、二重結合はトランス配置を有す
    る。］ で示される特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ９ R1が１―ナフチルである特許請求の範囲第
    ８項記載の化合物。 １０ R6が―COOC5H11である特許請求の範囲
    第９項記載の化合物。 １１ R6が―COOC8H17である特許請求の範囲
    第９項記載の化合物。 １２ R6が―COOCH2C6H5である特許請求の範
    囲第９項記載の化合物。 １３ R6が２―チエニルである特許請求の範囲
    第９項記載の化合物。 １４、R6が２―フリルである特許請求の範囲第
    ９項記載の化合物。 １５ R6が 式： である特許請求の範囲第９項記載の化合物。 １６ R6がシクロヘキサ―３―エン―イルであ
    る特許請求の範囲第９項記載の化合物。 １７ R6が２―ピリジルである特許請求の範囲
    第９項記載の化合物。 １８ R6が３―ピリジルである特許請求の範囲
    第９項記載の化合物。 １９ R6が４―ピリジルである特許請求の範囲
    第９項記載の化合物。 ２０ R6が―CH＝CHC6H5である特許請求の範
    囲第９項記載の化合物。 ２１ R6が―CH＝CHC4H9である特許請求の範
    囲第９項記載の化合物。 ２２ R6が２―ピロリルである特許請求の範囲
    第９項記載の化合物。 ２３ R6がシクロヘプタ―１―エン―１―イル
    である特許請求の範囲第９項記載の化合物。 ２４ R6がシクロペンタ―１―エン―１―イル
    である特許請求の範囲第９項記載の化合物。 ２５ R6が である特許請求の範囲第９項記載の化合物。 ２６ R6が―CH＝CH―COOC2H5である特許請
    求の範囲第９項記載の化合物。 ２７ R6が である特許請求の範囲第９項記載の化合物。 ２８ R6が である特許請求の範囲第９項記載の化合物。 ２９ R1およびR6がそれぞれ１―テトラリニル
    およびC6H5である特許請求の範囲第８項記載の
    化合物。 ３０ R1およびR6がそれぞれ１―テトラリニル
    およびシクロヘキサ―１―エン―１―イルである
    特許請求の範囲第８項記載の化合物。 ３１ R1およびR6がそれぞれ５―テトラリニル
    およびC6H5である特許請求の範囲第８項記載の
    化合物。 ３２ R1およびR6およびそれぞれ４―キノリル
    およびC6H5である特許請求の範囲第８項記載の
    化合物。 ３３ R1およびR16がそれぞれ３―ベンゾ［ｂ］
    チエニルおよびC6H5である特許請求の範囲第８
    項記載の化合物。 ３４ R1およびR6がそれぞれ３―ベンゾ［ｂ］
    チエニルおよびシクロヘキサ―１―エン―イルで
    ある特許請求の範囲第８項記載の化合物。 ３５ R1およびR6がそれぞれ およびC6H5である特許請求の範囲第８項記載の
    化合物。 ３６ 化合物名がＮ―（３―シクロヘキサ―１―
    エン―イル―２―シス―プロペニル）―２―
    （1′―ナフチル）―ピペリジンである特許請求の
    範囲第１項記載の化合物。 ３７ 化合物名がＮ―シンナミル―Ｎ―メチル―
    Ｎ―［２―（1′―ナフチル）―２―プロピル］ア
    ミンである特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ３８ 遊離塩基形の特許請求の範囲第１項〜第３
    ７項の何れか１項に記載の化合物。 ３９ 酸付加塩の形の特許請求の範囲第１項〜第
    ３７項の何れか１項に記載の化合物。 ４０ 式： ［式中、Ａ，R2〜R4は後記のとおり。］ で示される化合物を、 式： Ｌ―CH2―CH＝CH―R6 (v) ［式中、Ｌは脱離基、R6は後記のとおり。］ で示される化合物と反応させることを特徴とす
    る、 式： ［式中、【式】は、 ａ ―（CH＝CH）2― ｂ ―CH＝CH―Ｘ― ｃ ―CH＝CH―CH＝Ｎ―または ｄ ―（CH2）s― ここで、 ａ）R9は水素であるか、または ｂ），ｃ）の場合さらに低級アルキル、 ｄ）の場合さらにベンゼン環上の低級アルキル
    であり、 Ｘは硫黄、イミノまたは低級アルキルイミノ、 ｓは３，４または５、 R2水素または低級アルキル、 R3は水素または低級アルキル、 R4はアルキル（C1―6）、アルケニル（C3―12）、
    アルキニル（C3―12）、 R6は(i)チエニル、低級アルキルチエニル、フ
    リル、イミダゾリル、低級アルキルイミダゾリ
    ル、ピロリルまたは低級アルキルピロリル、 (ii)式（ａ）の基 （式中、R9は前記の意味） (iii)式（ｂ）の基 ―CO―R10 （ｂ） （式中、R10はフエニルアルコキシ（C7―16）） (iv)式（ｃ）または（ｄ）の基【式】 【式】 （式中、R11，R12およびR13は独立して水素ま
    たは低級アルキル、ｍは０〜３の整数を表わす） (v)式（ｅ）の基 ―（CH＝CH）q―R14 （ｅ） （式中、R14は低級アルキル、アルコキシ（C1
    ―12）―カルボニル、アルケニル（C3―12）、ア
    ルキニル（C3―12）、またはフエニル、ｑは０ま
    たは１を表わす） (iv)式（ｆ）の基 （式中、R17およびR18は独立して水素または
    原子番号９〜53のハロゲンを表わす。ただしR17
    およびR18の一つは水素以外である） を表わす（ただし、R6が式［ｆ］で示される
    基またはフエニル、R2が水素、R3が水素または
    低級アルキルである場合は、【式】は― （CH＝CH）2―で示される基ではない。）］ で示される化合物の製法。 ４１ 式： で示される化合物を還元して 式： ［式中、【式】は、 ａ ―（CH＝CH）2― ｂ ―CH＝CH―Ｘ― ｃ ―CH＝CH―CH＝Ｎ―または ｄ ―（CH2）s― ここで、 ａ）R9は水素であるか、または ｂ），ｃ）の場合さらに低級アルキル、 ｄ）の場合さらにベンゼン環上の低級アルキル
    であり、 Ｘは硫黄、イミノまたは低級アルキルイミノ、 ｓは３，４または５、 R2は水素または低級アルキル、 R3は水素または低級アルキル、 R〓4はアルキル（C1〜6）またはアルケニル（C3
    〜12）、で、 R〓6は(i)チエニル、低級アルキルチエニル、フ
    リル、イミダゾリル、低級アルキルイミダゾリ
    ル、ピロリルまたは低級アルキルピロリル、 (ii)式（ａ）の基 （式中、R9は前記の意味） (iii)式（ｂ）ｂの基 ―CO―R10 （ｂ） 式中、R10はフエニルアルコキシ（C7―16）） (iv)式（ｃ）または（ｄ）の基【式】 【式】 （式中、R11，R12およびR13は独立して水素ま
    たは低級アルキル、ｍは０〜３の整数を表わす） (v)式（ｅ）の基 ―（CH＝CH）q―R14 （ｅ） （式中、R14は低級アルキル、アルコキシ（C1
    ―12）―カルボニル、アルケニル（C3―12）、ま
    たはフエニル、ｑは０または１を表わす） (vi)式（ｆ）の基 （式中、R17GおよびR18は独立して水素または
    原子番号９〜53のハロゲンを表わす。ただしR17
    およびR18の一つは水素以外である） を表わす（ただし、R6が式［ｆ］で示される
    基またはフエニル、R2が水素、R3が水素または
    低級アルキルである場合は、【式】は― （CH＝CH）2―示される基ではない。）］ で示される化合物を生成されることを特徴とする
    前記化合物の製法。 ４２ 式： で示される化合物を光化学的に異性化して、 ［式中、Ａは、 ａ ―（CH＝CH）2― ｂ ―CH＝CH―Ｘ― ｃ ―CH＝CH―CH＝Ｎ―または ｄ ―（CH2）s― ここで、 ａ）R9は水素であるか、または ｄ），ｃ）の場合さらに低級アルキル、 ｄ）の場合さらにベンゼン環上の低級アルキル
    であり、 Ｘは硫黄、イミノまたは低級アルキルイミノ、 ｓは３，４または５、 R2は水素または低級アルキル R3は水素または低級アルキル、 R4はアルキル（C1―6）、アルケニル（C3―12）
    アルキニル（C3―12）、 R6は(i)チエニル、低級アルキルチエニル、フ
    リル、イミダゾリル、低級アルキルイミダゾリ
    ル、ピロリルまたは低級アルキルピロリル、 (ii)式（ａ）の基 （式中、R9は前記の意味） (iii)式（ｂ）の基 ―CO―R10 （ｂ） （式中、R10はフエニルアルコキシ（C7―16）） (iv)式（ｃ）または（ｄ）の基 【式】【式】 （式中、R11，R12およびR13は独立して水素ま
    たは低級アルキル、ｍは０〜３の整数を表わす） (v)式（ｅ）の基 ―（CH＝CH）q―R14 （ｅ） （式中、R14は低級アルキル、アルコキシ（C1
    ―12）―カルボニル、アルケニル（C3―12）、ア
    ルキニル（C3―12）、またはフエニル、ｑは０ま
    たは１を表わす） (vi)式（ｆ）の基 （式中、R17およびR18は独立して水素または
    原子番号９〜53のハロゲンを表わす。ただしR17
    およびR18の一つは水素以外である） を表わす（ただし、R6が式［ｆ］で示される
    基またはフエニル、R2が水素、R3が水素または
    低級アルキルである場合は、【式】は― （CH＝CH）2―で示される基ではない。）］ で示される化合物を生成させることを特徴とする
    前記化合物の製法。 ４３ 式： で示される化合物に、R〓4基を導入して、 式： ［式中、【式】は、 ａ ―（CH＝CH）2― ｂ ―CH＝CH―Ｘ― ｃ ―CH＝CH―CH＝Ｎ―または ｄ ―（CH2）s― ここで、 ａ）R9は水素であるか、または ｄ），ｃ）の場合さらに低級アルキル、 ｄ）の場合さらにベンゼン環上の低級アルキル
    であり、 Ｘは硫黄、イミノまたは低級アルキルイミノ、 ｓは３，４または５、 R2は水素または低級アルキル R〓3は水素または低級アルキル、R〓4はアルキル
    （C1〜6）、アルケニル（C3―12）アルキニル（C3
    〜12） R6は(i)チエニル、低級アルキルチエニル、フ
    リル、イミダゾリル、低級アルキルイミダゾリ
    ル、ピロリルまたは低級アルキルピロリル、 (ii)式（ａ）の基 （式中、R9は前記の意味） (iii)式（ｂ）の基 ―CO―R10 （ｂ） （式中、R10はフエニルアルコキシ（C7―16）） (iv)式（ｃ）または（ｄ）の基【式】 【式】 （式中、R11，R12およびR13は独立して水素ま
    たは低級アルキル、ｍは０〜３の整数を表わす） (v)式（ｅ）の基 ―（CH＝CH）q―R14 （ｅ） （式中、R14は低級アルキル、アルコキシ（C1
    ―12）―カルボニル、アルケニル（C3―12）、ア
    ルキニル（C3―12）、またはフエニル、ｑは０ま
    たは１を表わす） (vi)式（ｆ）の基 （式中、R17GおよびR18は独立して水素または
    原子番号９〜53のハロゲンを表わす。ただしR17
    およびR18の一つは水素以外である） を表わす（ただし、R6が式［ｆ］で示される
    基またはフエニル、R2が水素、R3が水素または
    低級アルキルである場合は、【式】は― （CH＝CH）2―で示される基ではない。）］ で示される化合物を生成させることを特徴とする
    前記化合物の製法。
JP10137578A 1977-08-19 1978-08-19 Propenylamine*its manufacture and medical composition containing it Granted JPS5441855A (en)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH1020377A CH632251A5 (en) 1977-08-19 1977-08-19 Process for preparing novel 2-naphthyl-substituted, cyclic, N-allylamine derivatives
CH1020277 1977-08-19
CH1290977 1977-10-24
CH1291077 1977-10-24

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5441855A JPS5441855A (en) 1979-04-03
JPS6317050B2 true JPS6317050B2 (ja) 1988-04-12

Family

ID=27429271

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10137578A Granted JPS5441855A (en) 1977-08-19 1978-08-19 Propenylamine*its manufacture and medical composition containing it

Country Status (14)

Country Link
US (1) US4680291A (ja)
EP (1) EP0000896B1 (ja)
JP (1) JPS5441855A (ja)
CA (1) CA1111852A (ja)
DE (1) DE2862103D1 (ja)
DK (1) DK152114C (ja)
ES (1) ES472641A1 (ja)
FI (1) FI65774C (ja)
IE (1) IE47314B1 (ja)
IL (1) IL55382A (ja)
IT (1) IT1098253B (ja)
MY (1) MY8500040A (ja)
NZ (1) NZ188170A (ja)
PT (1) PT68448A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03105465U (ja) * 1990-02-16 1991-10-31

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3020113A1 (de) * 1979-06-08 1980-12-18 Sandoz Ag 2-(1-naphthyl)piperidin-derivat, dessen herstellung sowie die verwendung als antimykotika
CY1410A (en) * 1979-08-22 1988-04-22 Sandoz Ag Propenylamines, processes for their production, pharmaceutical compositions containing them and their use as pharmaceuticals
NL8003141A (nl) * 1980-05-30 1982-01-04 Akzo Nv Biologisch aktieve tricyclische aminen.
IT1150211B (it) * 1981-03-02 1986-12-10 Abbott Lab 1,2,3,4-tetraidronaftaleni sostituiti con amminoalchili adazione farmaceutica
CH653028A5 (de) * 1982-02-03 1985-12-13 Sandoz Ag Benzthiophenallylamin-verbindungen und verfahren zu ihrer herstellung.
US5334628A (en) * 1984-06-09 1994-08-02 Kaken Pharmaceutical Co., Ltd. Amine derivatives, processes for preparing the same and fungicides containing the same
JPS6145A (ja) * 1984-06-09 1986-01-06 Kaken Pharmaceut Co Ltd Ｎ‐（４‐ｔｅｒｔ‐ブチルベンジル）‐Ｎ‐メチル‐１‐ナフチルメチルアミンおよびそれを有効成分とする抗真菌剤
JPH0676285B2 (ja) * 1985-11-01 1994-09-28 三井東圧化学株式会社 ベンジルアミン誘導体、その製造法およびその用途
EP0254677A1 (en) * 1986-07-08 1988-01-27 Sandoz Ag Antimycotic 6-phenyl-2-hexen-4-ynamines
US5084476A (en) * 1986-07-15 1992-01-28 Hoffmann-La Roche Inc. Tetrahydronaphthalene and indane derivatives
US5234946A (en) * 1987-11-27 1993-08-10 Banyu Pharmaceutical Co., Ltd. Substituted alkylamine derivatives
GB9513750D0 (en) * 1995-07-06 1995-09-06 Sandoz Ltd Use of allylamines
KR20000029694A (ko) * 1996-08-01 2000-05-25 케네쓰 엘. 로에르트셔 살진균활성을갖는4-치환된퀴놀린유도체
US6117884A (en) * 1997-07-31 2000-09-12 Daeuble; John 4-substituted quinoline derivatives having fungicidal activity
JP4509327B2 (ja) * 2000-08-03 2010-07-21 ダイセル化学工業株式会社 Ｎ，ｎ−ジ置換−４−アミノクロトン酸エステルの製造方法
GB0320312D0 (en) 2003-08-29 2003-10-01 Novartis Ag Purification process
US20050197512A1 (en) * 2003-08-29 2005-09-08 Ulrich Beutler Purification process
CA2570245A1 (en) * 2004-07-02 2006-01-12 Warner-Lambert Company Llc Compositions and methods for treating pathological infections
JP2009502258A (ja) * 2005-07-21 2009-01-29 ノミール・メディカル・テクノロジーズ・インコーポレーテッド 標的部位の生物学的汚染物質のレベルを下げる方法
US20090082469A1 (en) * 2007-09-26 2009-03-26 Protia, Llc Deuterium-enriched terbinafine
WO2017132912A1 (zh) * 2016-02-03 2017-08-10 华东理工大学 苯并脂肪环取代烷基胺类化合物及其用途
CN108084125B (zh) 2016-11-23 2020-08-18 华东理工大学 苯并杂环烷基胺类化合物及其用途

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4856614A (ja) * 1971-11-10 1973-08-09
JPS4930346A (ja) * 1972-07-18 1974-03-18
JPS5159843A (en) * 1974-09-25 1976-05-25 Chinoin Gyogyszer Es Vegyeszet Nn * 22 benzuhidoriruechiru * nn * 11 fueniruechiru * amin oyobi sonokogakukatsuseitai narabini sonoennoseiho

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE609151C (de) * 1930-02-01 1935-02-08 I G Farbenindustrie Akt Ges Verfahren zur Darstellung von Aminoalkoholen mit sekundaerer oder tertiaerer Aminogruppe
US2601275A (en) * 1949-10-29 1952-06-24 Givaudan Corp Aromatic chlorethylamines and their salts
DK106378C (da) * 1962-10-19 1967-01-30 Koninklijke Pharma Fab Nv Fremgangsmåde til fremstilling af N-substituerede 1-phenyl-2-aminoalkaner eller syreadditionssalte heraf.
GB1041987A (en) * 1964-09-03 1966-09-07 Beecham Group Ltd Acetylenic compounds
GB1134715A (en) * 1966-02-24 1968-11-27 Geistlich Soehne Ag Bisphenylalkenylamine derivatives
US3784642A (en) * 1967-11-03 1974-01-08 E Jenny 1-amine-cyclobutene
BE786748A (fr) * 1971-07-26 1973-01-26 Basf Ag 1-aminomethyl-indanes-n-substitues
BE791538A (fr) * 1971-11-19 1973-05-17 Basf Ag 1-aminomethyl-acenaphtenes, leur preparation et leurs utillisations therapeutiques
BE794598A (fr) * 1972-01-28 1973-05-16 Richardson Merrell Inc Nouveaux derives olefiniques de piperidines substituees en 4 et leur procede de preparation
US4139560A (en) * 1974-02-22 1979-02-13 Ciba Geigy Corporation Nonylamines
DE2716943C2 (de) * 1976-04-28 1986-08-14 Sandoz-Patent-GmbH, 7850 Lörrach N-(3-Phenyl-2-propenyl)-N-(1-naphthylmethyl)-amine, ihre Verwendung und Herstellung

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4856614A (ja) * 1971-11-10 1973-08-09
JPS4930346A (ja) * 1972-07-18 1974-03-18
JPS5159843A (en) * 1974-09-25 1976-05-25 Chinoin Gyogyszer Es Vegyeszet Nn * 22 benzuhidoriruechiru * nn * 11 fueniruechiru * amin oyobi sonokogakukatsuseitai narabini sonoennoseiho

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03105465U (ja) * 1990-02-16 1991-10-31

Also Published As

Publication number Publication date
FI782446A (fi) 1979-02-20
IT1098253B (it) 1985-09-07
MY8500040A (en) 1985-12-31
DK354678A (da) 1979-02-20
NZ188170A (en) 1981-05-01
US4680291A (en) 1987-07-14
IL55382A (en) 1981-12-31
DE2862103D1 (en) 1982-11-18
FI65774B (fi) 1984-03-30
IE781670L (en) 1979-02-19
IT7826835A0 (it) 1978-08-18
PT68448A (fr) 1978-09-01
DK152114C (da) 1988-06-20
EP0000896A3 (en) 1979-05-30
JPS5441855A (en) 1979-04-03
CA1111852A (en) 1981-11-03
ES472641A1 (es) 1979-10-16
IL55382A0 (en) 1978-10-31
EP0000896B1 (en) 1982-10-13
FI65774C (fi) 1984-07-10
EP0000896A2 (en) 1979-03-07
DK152114B (da) 1988-02-01
IE47314B1 (en) 1984-02-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6317050B2 (ja)
CA1302421C (en) 3-aryloxy-3-substituted propanamines
KR100446893B1 (ko) Ｃｎｓ 장해 치료용 모노아민 재흡수 억제제
JPH04226948A (ja) １−アリール−３−アミノプロパン−１−オール類のキラル合成
CA1338934C (en) 3-aminomethyl derivatives of indane, indoline and ¬dihydro-benzo|-furane and thiophene
JP2001522355A (ja) 新規化合物、それらの使用および調製
JPS6342612B2 (ja)
US6762176B1 (en) 2-aminopyridine derivatives, their use as medicines and pharmaceutical compositions containing them
JPH03503163A (ja) 新規アミン、その使用及び製法
EP0576350A1 (fr) Dérivés alkylamino ramifiés du thiazole, leurs procédés de préparation et les compositions pharmaceutiques qui les contiennent
EP0288188A1 (en) 1-Phenyl-3-naphthalenyloxy-propanamines
CA2541066C (fr) Derives d'indanyl-piperazines, leur procede de preparation et les compositions pharmaceutiques qui les contiennent
JPS6149297B2 (ja)
US5196454A (en) Method of treating disorders of the dopaminergic systems using 2,5-diaminotetralines
NZ200856A (en) Preparation of 2-(thien-(2 or 3)-yl)ethylamines
JPH0154341B2 (ja)
JPH05208973A (ja) 新規なｎ−（イソキノリン−５−イルスルホニル）アザシクロアルカン化合物
AU626906B2 (en) Use of 2,7-diamino-1,2,3,4-tetrahydronaphthalenes as medicaments, new 2,7-diamino-1,2,3,4-tetrahydronaphthalenes, their use and processes for their preparation
WO2000023409A1 (en) Method for synthesizing diaryl-substituted heterocyclic compounds, including tetrahydrofurans
JPH02236A (ja) 選択的セロトニン摂取抑制剤
JP2003522814A (ja) アミノアルコール誘導体
US2615894A (en) N-heterylalkyl-isobutyl-(2-thienyl) acetonitriles and preparation thereof
JPS62240615A (ja) プロペニルアミンを含有する医薬組成物
JP6182183B2 (ja) デュロキセチン塩基及びデュロキセチン塩酸塩の製造方法
JPS6249266B2 (ja)