JPS63162687A - チオフエン系化合物及びその製造方法 - Google Patents
チオフエン系化合物及びその製造方法Info
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- JPS63162687A JPS63162687A JP30798486A JP30798486A JPS63162687A JP S63162687 A JPS63162687 A JP S63162687A JP 30798486 A JP30798486 A JP 30798486A JP 30798486 A JP30798486 A JP 30798486A JP S63162687 A JPS63162687 A JP S63162687A
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Landscapes
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、新規なチオフェン系化合物、詳しくはそれを
重合体にすることにより有機表示材料として広く利用し
うる新規なチオフェン系化合物およびその製造方法に関
するものである。
重合体にすることにより有機表示材料として広く利用し
うる新規なチオフェン系化合物およびその製造方法に関
するものである。
(従来の技術)
チオフェン等の複素環化合物を電解重合して得られた有
機半導体組成物として、ポリ(3−メチルチェニレン)
、チオフェンと3−メチルチオフェンの共重合体等が知
られている(例えば特開昭60−65062号公報、特
開昭60−120722号公報)。これら組成物は成形
性、可塑性、及び可とう性に優れており高分子半導体と
しであるいはそのエレクトロクロミンク現象を利用した
表示素子として利用しうる物であるが、後者において発
現される色調は、赤、青の2色だけであるので多様性の
点で不十分であり、利用分野が制限されるのを免れなか
った。
機半導体組成物として、ポリ(3−メチルチェニレン)
、チオフェンと3−メチルチオフェンの共重合体等が知
られている(例えば特開昭60−65062号公報、特
開昭60−120722号公報)。これら組成物は成形
性、可塑性、及び可とう性に優れており高分子半導体と
しであるいはそのエレクトロクロミンク現象を利用した
表示素子として利用しうる物であるが、後者において発
現される色調は、赤、青の2色だけであるので多様性の
点で不十分であり、利用分野が制限されるのを免れなか
った。
(解決すべき問題点)
本発明者らは、このような欠点を改良し赤色及び青色に
加えて緑色に発色しうる重合体について鋭意研究を行っ
た結果、ある種のチオフェン系化合物の重合体がその目
的に適合することを見出し。
加えて緑色に発色しうる重合体について鋭意研究を行っ
た結果、ある種のチオフェン系化合物の重合体がその目
的に適合することを見出し。
この知見に基づいて本発明を完成するに至ったもので、
本発明の目的は、従来の赤、青の2色に加えて緑色に発
色しうる重合体を生ずるような新規な単量体化合物であ
るチオフェン系誘導体を提供するにある。
本発明の目的は、従来の赤、青の2色に加えて緑色に発
色しうる重合体を生ずるような新規な単量体化合物であ
るチオフェン系誘導体を提供するにある。
(問題点を解決しようとする手段)
すなわち1本発明は一般式
(式中のRは1,3−フェニレン基、 P、P’−ジフ
ェニレン基または置換基を有してもよい1,3−フェニ
レン基)で示されるチオフェン系化合物であり、また、
フェニル基あるいは置換基を有してもよいフェニル基の
1.3位、ジフェニル基のP、P’位にハロゲンを有す
るハロゲン化芳香族化合物と 一般式 (式中のXはハロゲン原子である。)で示されるチェニ
ルマグネシウムハライドとを反応させることを特徴とす
る (式中のRは1,3−フェニレン基、P,P′−ジフェ
ニレン基または置換基を有してもよい1,3−フェニレ
ン基)で示されるチオフェン系化合物の製造方法である
。具体的に本発明の化合物を列挙すると次のような一般
式を有する化合物であって、これらそして、これらの化
合物の製造方法としてはフェニルあるいは置換基を有し
てもよいフェニルの1.3位、ビフェニルのP,P′位
にハロゲンを有するハロゲン化芳香族化合物と (式中の又はハロゲン原子である。)で示されるチェニ
ルマグネシウムハライドとを反応させることによって得
られる。
ェニレン基または置換基を有してもよい1,3−フェニ
レン基)で示されるチオフェン系化合物であり、また、
フェニル基あるいは置換基を有してもよいフェニル基の
1.3位、ジフェニル基のP、P’位にハロゲンを有す
るハロゲン化芳香族化合物と 一般式 (式中のXはハロゲン原子である。)で示されるチェニ
ルマグネシウムハライドとを反応させることを特徴とす
る (式中のRは1,3−フェニレン基、P,P′−ジフェ
ニレン基または置換基を有してもよい1,3−フェニレ
ン基)で示されるチオフェン系化合物の製造方法である
。具体的に本発明の化合物を列挙すると次のような一般
式を有する化合物であって、これらそして、これらの化
合物の製造方法としてはフェニルあるいは置換基を有し
てもよいフェニルの1.3位、ビフェニルのP,P′位
にハロゲンを有するハロゲン化芳香族化合物と (式中の又はハロゲン原子である。)で示されるチェニ
ルマグネシウムハライドとを反応させることによって得
られる。
すなわち1本発明の化合物を製造するために使用するハ
ロゲン化芳香族化合物としては、1,3−ジグロロベン
ゼン、1,3−ジブロムベンゼン、l、3−ショートベ
ンゼン、3,5−ジクロロトルエン、3,5−ジブロム
トルエン、3.5−ショートトルエン、3,5−ジクロ
ロアソニール、3.5−ジブロムアニソール、3,5−
ショートアニソール、 4.4’−ジクロロビフェニル
、 4.4’−ジブロムビフェニル、 4.4’−ショ
ートビフェニルなどがあげられる。
ロゲン化芳香族化合物としては、1,3−ジグロロベン
ゼン、1,3−ジブロムベンゼン、l、3−ショートベ
ンゼン、3,5−ジクロロトルエン、3,5−ジブロム
トルエン、3.5−ショートトルエン、3,5−ジクロ
ロアソニール、3.5−ジブロムアニソール、3,5−
ショートアニソール、 4.4’−ジクロロビフェニル
、 4.4’−ジブロムビフェニル、 4.4’−ショ
ートビフェニルなどがあげられる。
そして1本発明の製造方法で使用するチェニルマグネシ
ウムハライドは、ジエチルエーテルあるいはテトラヒド
ロフランの溶媒中で、2−ハライドチオフェンと金属マ
グネシウム(2−ハライドチオフェン/金属マグネシウ
ムのモル比は1.0/1.0〜1.0/3.0iましく
は1.0/1.2〜1.0/1.5)とのグリニヤール
反応で製造される。反応温度は0℃〜還流温度、望まし
くは溶媒がエチルエーテルの場合は20〜35℃、テト
ラヒドロフランの場合は20〜66℃である。グリニヤ
ール反応は空気および水に極めて敏感なので、脱水した
溶媒を用いて不活性雰囲気で行なうのが望ましい。不活
性雰囲気としては窒素、アルゴンなどが用いられる。2
−ハライドチオフェンとしては、2−クロロチオフェン
、2−ブロムチオフェン、2−ヨードチオフェン、2−
ブロモ−3−メチルチオフェンなどがあげられる。溶媒
としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
グリムなどが望ましい。
ウムハライドは、ジエチルエーテルあるいはテトラヒド
ロフランの溶媒中で、2−ハライドチオフェンと金属マ
グネシウム(2−ハライドチオフェン/金属マグネシウ
ムのモル比は1.0/1.0〜1.0/3.0iましく
は1.0/1.2〜1.0/1.5)とのグリニヤール
反応で製造される。反応温度は0℃〜還流温度、望まし
くは溶媒がエチルエーテルの場合は20〜35℃、テト
ラヒドロフランの場合は20〜66℃である。グリニヤ
ール反応は空気および水に極めて敏感なので、脱水した
溶媒を用いて不活性雰囲気で行なうのが望ましい。不活
性雰囲気としては窒素、アルゴンなどが用いられる。2
−ハライドチオフェンとしては、2−クロロチオフェン
、2−ブロムチオフェン、2−ヨードチオフェン、2−
ブロモ−3−メチルチオフェンなどがあげられる。溶媒
としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
グリムなどが望ましい。
本発明の化合物を製造するには前記のハロゲン化芳香族
化合物とチェニルマグネシウムハライドとをカップリン
グ反応させるのであるが、この反応は有機金属錯体の存
在で行うのが望ましく、有機金属錯体としてはジクロロ
〔ビス(トリフェニルホスフィン)〕ニッケル、ジクロ
ロ〔ビス(ジメチルホスフィン)エタン〕ニッケル、ジ
クロロ〔ビス(ジフェニルホスフィノ)メタン〕ニッケ
ル、ジクロロ〔ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン〕
ニッケル、ジクロロ〔ビス(ジフェニルホスフィノ)プ
ロパン〕ニッケル、ジクロロ〔ビス(ジフェニルホスフ
ィノ)ブタン〕ニッケル、ジクロロ(2,2’−ジピリ
ジル)ニッケル、ジクロロ(フェナントロリン)ニッケ
ル。
化合物とチェニルマグネシウムハライドとをカップリン
グ反応させるのであるが、この反応は有機金属錯体の存
在で行うのが望ましく、有機金属錯体としてはジクロロ
〔ビス(トリフェニルホスフィン)〕ニッケル、ジクロ
ロ〔ビス(ジメチルホスフィン)エタン〕ニッケル、ジ
クロロ〔ビス(ジフェニルホスフィノ)メタン〕ニッケ
ル、ジクロロ〔ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン〕
ニッケル、ジクロロ〔ビス(ジフェニルホスフィノ)プ
ロパン〕ニッケル、ジクロロ〔ビス(ジフェニルホスフ
ィノ)ブタン〕ニッケル、ジクロロ(2,2’−ジピリ
ジル)ニッケル、ジクロロ(フェナントロリン)ニッケ
ル。
ジクロロ〔ビス(トリフェニルホスフィン)〕パラジウ
ム、ジクロロ〔ビス(ジメチルホスフィン)エタン〕パ
ラジウム、ジクロロ〔ビス(ジフェニルホスフィノ)メ
タン〕パラジウム、ジクロロ〔ビス(ジフェニルホスフ
ィノ)エタン〕パラジウム、ジクロロ〔ビス(ジフェニ
ルホスフィノ)プロパンツパラジウム、ジクロロ(ビス
(ジフェニルホスフィノ)ブタン〕パラジウム、ジクロ
ロ(2,2’−ジピリジル)パラジウム、ジクロロ(フ
ェナントロリン)パラジウムなどがあげられ、その使用
量はハロゲンに対し0゜1〜2.0モル%、好ましくは
0.8〜1.2モル%である。
ム、ジクロロ〔ビス(ジメチルホスフィン)エタン〕パ
ラジウム、ジクロロ〔ビス(ジフェニルホスフィノ)メ
タン〕パラジウム、ジクロロ〔ビス(ジフェニルホスフ
ィノ)エタン〕パラジウム、ジクロロ〔ビス(ジフェニ
ルホスフィノ)プロパンツパラジウム、ジクロロ(ビス
(ジフェニルホスフィノ)ブタン〕パラジウム、ジクロ
ロ(2,2’−ジピリジル)パラジウム、ジクロロ(フ
ェナントロリン)パラジウムなどがあげられ、その使用
量はハロゲンに対し0゜1〜2.0モル%、好ましくは
0.8〜1.2モル%である。
このカップリング反応は空気および水にきわめて敏感な
ので、脱水した溶媒を用い不活性雰囲気下で行なうのが
望ましい。この際の溶媒としては、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジグリム、ベンゼンなどが望まし
い。また不活性雰囲気としては窒素、アルゴンなどが用
いられる。
ので、脱水した溶媒を用い不活性雰囲気下で行なうのが
望ましい。この際の溶媒としては、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジグリム、ベンゼンなどが望まし
い。また不活性雰囲気としては窒素、アルゴンなどが用
いられる。
次に、本発明の化合物の代表的なものの製造方法につい
て述べる。
て述べる。
本発明の化合物(1)は、1,3−シバライドベンゼン
とチェニルマグネシウムハライド(l、3−シバライド
ベンゼン/チェニルマグネシウムハライドのモル比は1
.0/1.8〜1.0/3.0.望ましくは1.0/2
.0〜1゜、0/2.5)とを0.1〜2.0モル%の
有機金属錯体の存在下でカップリング反応により製造さ
れる。反応温度は0℃〜還流温度、望ましくは30℃〜
還流温度である。
とチェニルマグネシウムハライド(l、3−シバライド
ベンゼン/チェニルマグネシウムハライドのモル比は1
.0/1.8〜1.0/3.0.望ましくは1.0/2
.0〜1゜、0/2.5)とを0.1〜2.0モル%の
有機金属錯体の存在下でカップリング反応により製造さ
れる。反応温度は0℃〜還流温度、望ましくは30℃〜
還流温度である。
本発明の化合物(II)は、3,5−シバライドトルエ
ンとチェニルマグネシウムハライド(3,5−シバライ
ドトルエンlチェニルマグネシウムハライドのモル比は
1.0/1.8〜1.0/3.0.望ましくは1.0/
2.0〜1.0/2.5)とを有機金属錯体(0,1〜
2.0モル%、望ましくは0.8〜1.2モル%)の存
在下でのカップリング反応により製造される。反応温度
は0℃〜還流温度、望ましくは30℃〜還流温度である
。 ′本発明の化合物(III)は、3,5−シバラ
イドアニソールとチェニルマグネシウムハライド(3,
5−シバライドアニソールlチェニルマグネシウムハラ
イドのモル比は1.0/1.8〜1.0/3.0望まし
くは1.0/2.0〜1.0/2.5)との有機金属錯
体(0,1〜2.0モル%望ましくは0.8〜1.2モ
ル%)存在下でのカップリング反応により製造される。
ンとチェニルマグネシウムハライド(3,5−シバライ
ドトルエンlチェニルマグネシウムハライドのモル比は
1.0/1.8〜1.0/3.0.望ましくは1.0/
2.0〜1.0/2.5)とを有機金属錯体(0,1〜
2.0モル%、望ましくは0.8〜1.2モル%)の存
在下でのカップリング反応により製造される。反応温度
は0℃〜還流温度、望ましくは30℃〜還流温度である
。 ′本発明の化合物(III)は、3,5−シバラ
イドアニソールとチェニルマグネシウムハライド(3,
5−シバライドアニソールlチェニルマグネシウムハラ
イドのモル比は1.0/1.8〜1.0/3.0望まし
くは1.0/2.0〜1.0/2.5)との有機金属錯
体(0,1〜2.0モル%望ましくは0.8〜1.2モ
ル%)存在下でのカップリング反応により製造される。
反応温度はO℃〜還流温度、望ましくは30℃〜還流温
度である。
度である。
本発明の化合物(rV)は、 4.4’−シバライドビ
フェニルとチェニルマグネシウムハライド(4,4’−
シバライドビフェニル/チェニルマグネシウムハライド
のモル比は1.0/1.8〜1.0/3.0望ましくは
1.0/2゜0〜1.0/2.5)との有機金属錯体(
0,1〜2.0モル%望ましくは0.8〜1.2モル%
)存在下でのカップリング反応により製造される0反応
温度はO℃〜還流温度。
フェニルとチェニルマグネシウムハライド(4,4’−
シバライドビフェニル/チェニルマグネシウムハライド
のモル比は1.0/1.8〜1.0/3.0望ましくは
1.0/2゜0〜1.0/2.5)との有機金属錯体(
0,1〜2.0モル%望ましくは0.8〜1.2モル%
)存在下でのカップリング反応により製造される0反応
温度はO℃〜還流温度。
望ましくは30℃〜還流温度である。
このようにして得られた化合物は赤外吸収スペクトルの
結果及び核磁気共鳴スペクトルより同定した。すなわち
、これらの化合物は赤外吸収スペクトルの結果より2位
置換チオフェンを示す850am−”、705cm’の
吸収がwt測され、核磁気共鳴スペクトルの結果は次の
通りである。
結果及び核磁気共鳴スペクトルより同定した。すなわち
、これらの化合物は赤外吸収スペクトルの結果より2位
置換チオフェンを示す850am−”、705cm’の
吸収がwt測され、核磁気共鳴スペクトルの結果は次の
通りである。
67.08(dd、J(3−4)3.4Hz、 J(4
−5)5.2Hz、 21(、It’)67.29(d
、2)1.H’) : δ7.35(d、211.H
3)67.37(d、J(4’ −5’ )7.7Hz
、Ill、H’)δ7.51(d、211.H’) :
δ 7.83(S、IH,H” ’ )次の実施例
により、本発明を更に詳細に説明する。
−5)5.2Hz、 21(、It’)67.29(d
、2)1.H’) : δ7.35(d、211.H
3)67.37(d、J(4’ −5’ )7.7Hz
、Ill、H’)δ7.51(d、211.H’) :
δ 7.83(S、IH,H” ’ )次の実施例
により、本発明を更に詳細に説明する。
実施例1
1.3−ショートベンゼンとチェニルマグネシウムプロ
ミドとを、ジクロロ〔ビス(ジフェニルホスフィノ)プ
ロパン〕ニッケル存在下で反応させて、1゜3−ジ(2
−チェニル)ベンゼンを製造する。
ミドとを、ジクロロ〔ビス(ジフェニルホスフィノ)プ
ロパン〕ニッケル存在下で反応させて、1゜3−ジ(2
−チェニル)ベンゼンを製造する。
還流冷却器、かきまぜ機、711下漏斗付50m1三頚
フラスコに、アルゴン雰囲気下で金属マグネシウム1.
50 g (61,7ミリモル)と脱水ジエチルエーテ
ル15讃lを入れた0滴下漏斗に2−プロムチオフェン
9.13 g (56,0ミリモル)と脱水ジエチルエ
ーテル25m1を仕込、還流温度を保ちながら滴下した
0滴下後、反応を完結させるため30分間還流温度を保
持し、チェニルマグネシウムプロミドを製造した。
フラスコに、アルゴン雰囲気下で金属マグネシウム1.
50 g (61,7ミリモル)と脱水ジエチルエーテ
ル15讃lを入れた0滴下漏斗に2−プロムチオフェン
9.13 g (56,0ミリモル)と脱水ジエチルエ
ーテル25m1を仕込、還流温度を保ちながら滴下した
0滴下後、反応を完結させるため30分間還流温度を保
持し、チェニルマグネシウムプロミドを製造した。
次に還流冷却器、かきまぜ機、滴下漏斗付200+++
1三頚フラスコに、アルゴン雰囲気下で1.3−ショー
トベンゼン8.40 g (25,5ミリモル)、ジク
ロロ〔ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン〕ニッケ
ル0.14g (0,25ミリモル)、脱水ジエチルエ
ーテル56m1を仕込んだ。滴下漏斗に上記のようにし
て製造したチェニルマグネシウムプロミドを仕込1滴下
した。
1三頚フラスコに、アルゴン雰囲気下で1.3−ショー
トベンゼン8.40 g (25,5ミリモル)、ジク
ロロ〔ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン〕ニッケ
ル0.14g (0,25ミリモル)、脱水ジエチルエ
ーテル56m1を仕込んだ。滴下漏斗に上記のようにし
て製造したチェニルマグネシウムプロミドを仕込1滴下
した。
滴下後還流下20時間かきまぜ、加水分解後エーテル抽
出を行った。エーテル留去後、メタノールで再結晶を行
ない黄色結晶である1、3−ジ(2−チェニル)ベンゼ
ン1.78 g (2g、8ガ)が得られた。融点は8
0〜81℃であり、元素分析の結果は次の通りであった
。
出を行った。エーテル留去後、メタノールで再結晶を行
ない黄色結晶である1、3−ジ(2−チェニル)ベンゼ
ン1.78 g (2g、8ガ)が得られた。融点は8
0〜81℃であり、元素分析の結果は次の通りであった
。
計算値(幻 C;69.38. H;4.16.
S;26.46実測値(%) C;68,99.
H;4.13. S ;26.51赤外吸収スペクト
ルの結果より2位置換チオフェンを示す850al−’
、7050m”の吸収が観測され、核磁気共鳴スペク
トルの結果は次の通りである。
S;26.46実測値(%) C;68,99.
H;4.13. S ;26.51赤外吸収スペクト
ルの結果より2位置換チオフェンを示す850al−’
、7050m”の吸収が観測され、核磁気共鳴スペク
トルの結果は次の通りである。
67.08(dd、J(3−4)3.4Hz、 J(4
−5)5.211z、 2H,11’)δ 7.29(
d、2H,I+’) : δ7,35(d、2)1.
ll3)67.37(d、J(4’ −5’ )7.7
Hz、IH,H〒)δ7.51(d、2+1.I+’)
; δ7.83(S、IH,II” ’ )赤外吸
収スペクトルを第1図に示し、核磁気共鳴スペクトルお
よび核磁気共鳴スペクトルに対応する水素の位置を示す
構造式をそれぞれ第2,3図に示す。
−5)5.211z、 2H,11’)δ 7.29(
d、2H,I+’) : δ7,35(d、2)1.
ll3)67.37(d、J(4’ −5’ )7.7
Hz、IH,H〒)δ7.51(d、2+1.I+’)
; δ7.83(S、IH,II” ’ )赤外吸
収スペクトルを第1図に示し、核磁気共鳴スペクトルお
よび核磁気共鳴スペクトルに対応する水素の位置を示す
構造式をそれぞれ第2,3図に示す。
実施例2
4.4′−ジブロムビフェニルとチェニルマグネシウム
プロミドとをジクロロ〔ビス(ジフェニルホスフィノ)
プロパン〕ニッケル存在下で反応させて、4.4′−ジ
(2−チェニル)ジフェニルを製造する。還流冷却器、
かきまぜ機、滴下漏斗付300m1三顆フラスコに、ア
ルゴン雰囲気下で、4,4′−ジブロムビフェニル7.
53g (24,1ミリモル)、ジクロロ〔ビス(ジフ
ェニルホスフィノ)プロパン〕ニッケル0.15g (
0,28ミリモル)、脱水テトラヒドロフラン110m
1を仕込んだ。滴下漏斗に実施例1において脱水ジエチ
ルエーテルのかわりに脱水テトラヒドロフランで合成し
たチェニルマグネシウムプロミドを仕込9滴下した。滴
下後還流下20時間かきまぜ、加水分解後エーテル抽出
を行なった。抽出時の不溶物をベンゾニトリルで再結晶
を行ない、黄色結晶である4、4′−ジ(2−チェニル
)ジフェニル1.28 g (16゜7%)が得られた
。融点は310〜315℃であり、元素分析の結果は次
の通りであった。
プロミドとをジクロロ〔ビス(ジフェニルホスフィノ)
プロパン〕ニッケル存在下で反応させて、4.4′−ジ
(2−チェニル)ジフェニルを製造する。還流冷却器、
かきまぜ機、滴下漏斗付300m1三顆フラスコに、ア
ルゴン雰囲気下で、4,4′−ジブロムビフェニル7.
53g (24,1ミリモル)、ジクロロ〔ビス(ジフ
ェニルホスフィノ)プロパン〕ニッケル0.15g (
0,28ミリモル)、脱水テトラヒドロフラン110m
1を仕込んだ。滴下漏斗に実施例1において脱水ジエチ
ルエーテルのかわりに脱水テトラヒドロフランで合成し
たチェニルマグネシウムプロミドを仕込9滴下した。滴
下後還流下20時間かきまぜ、加水分解後エーテル抽出
を行なった。抽出時の不溶物をベンゾニトリルで再結晶
を行ない、黄色結晶である4、4′−ジ(2−チェニル
)ジフェニル1.28 g (16゜7%)が得られた
。融点は310〜315℃であり、元素分析の結果は次
の通りであった。
計算値(%) C;75.43. H;4.43.
S;20.14実211g値(%) C;75.
30. H;4.16. S;19.98赤外吸収
スペクトルの結果より2位置換チオフェンを示す850
cm1,705cn−’の吸収がamされた。
S;20.14実211g値(%) C;75.
30. H;4.16. S;19.98赤外吸収
スペクトルの結果より2位置換チオフェンを示す850
cm1,705cn−’の吸収がamされた。
赤外吸収スペクトルを第4図に示す。
(発明の効果)
本発明の化合物をガラス電極上に電解重合して得た薄膜
重合体は、エレクトロクロミンク現象で緑色を示し、従
来のチオフェン系化合物と組み合わせて三原色フルカラ
ーを示すことができる。また空気中に放置しても緑色の
ままで非常に優れたメモリー効果があるので、表示素子
等の電子材料として好適である。
重合体は、エレクトロクロミンク現象で緑色を示し、従
来のチオフェン系化合物と組み合わせて三原色フルカラ
ーを示すことができる。また空気中に放置しても緑色の
ままで非常に優れたメモリー効果があるので、表示素子
等の電子材料として好適である。
第1図は1,3−ジ(2−チェニル)ベンゼンの赤外吸
収スペクトル図、第2図は1,3−ジ(2−チェニル)
ベンゼンの核磁気共鳴スペクトル図、第3図は、1゜3
−ジ(2−チェニル)ベンゼンの核磁気共鳴スペクトル
に対応する水素の位置を示す構造式、第4図は4.4′
−ジ(2−チェニル)ジフェニルの赤外吸収スペクトル
図を示す。
収スペクトル図、第2図は1,3−ジ(2−チェニル)
ベンゼンの核磁気共鳴スペクトル図、第3図は、1゜3
−ジ(2−チェニル)ベンゼンの核磁気共鳴スペクトル
に対応する水素の位置を示す構造式、第4図は4.4′
−ジ(2−チェニル)ジフェニルの赤外吸収スペクトル
図を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のRは1,3−フェニレン基、P,P′−ジフェ
ニレン基または置換基を有してもよい1,3−フェニレ
ン基)で示されるチオフェン系化合物。 2、フェニル基あるいは置換基を有してもよいフェニル
基の1,3位、ビフェニルのP,P′位にハロゲンを有
するハロゲン化芳香族化合物と 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のXはハロゲン原子である。)で示されるチエニ
ルマグネシウムハライドとを反応させることを特徴とす
る 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のRは1,3−フェニレン基、P,P′−ジフェ
ニレン基または置換基を有してもよい1,3−フェニレ
ン基)で示されるチオフェン系化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30798486A JPS63162687A (ja) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | チオフエン系化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30798486A JPS63162687A (ja) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | チオフエン系化合物及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63162687A true JPS63162687A (ja) | 1988-07-06 |
JPH0417955B2 JPH0417955B2 (ja) | 1992-03-26 |
Family
ID=17975503
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30798486A Granted JPS63162687A (ja) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | チオフエン系化合物及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63162687A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04108785A (ja) * | 1990-08-24 | 1992-04-09 | Agency Of Ind Science & Technol | ビチオフェン誘導体及びその製造方法 |
JP2004149514A (ja) * | 2002-09-13 | 2004-05-27 | Hc Starck Gmbh | コアシェル構造を有する有機化合物、その製造方法、その使用およびその化合物を含む電子部品 |
-
1986
- 1986-12-25 JP JP30798486A patent/JPS63162687A/ja active Granted
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
PHOTOCHEMISTRY AND PHOTOBIOLOGY=1986 * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04108785A (ja) * | 1990-08-24 | 1992-04-09 | Agency Of Ind Science & Technol | ビチオフェン誘導体及びその製造方法 |
JP2004149514A (ja) * | 2002-09-13 | 2004-05-27 | Hc Starck Gmbh | コアシェル構造を有する有機化合物、その製造方法、その使用およびその化合物を含む電子部品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0417955B2 (ja) | 1992-03-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |