JP3114556B2 - 2,5−ピロール含有シロール化合物、シロール−ピロール共重合体及びそれらの製造方法 - Google Patents

2,5−ピロール含有シロール化合物、シロール−ピロール共重合体及びそれらの製造方法

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JP3114556B2 JP07079686A JP7968695A JP3114556B2 JP 3114556 B2 JP3114556 B2 JP 3114556B2 JP 07079686 A JP07079686 A JP 07079686A JP 7968695 A JP7968695 A JP 7968695A JP 3114556 B2 JP3114556 B2 JP 3114556B2
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、紫外線領域から可視光
領域に光吸収帯を有する新しいπ電子共役系有機化合物
である2,5−ピロール含有化合物、シロール−ピロー
ル共重合体及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】π電子
共役系有機ポリマーの例としては、ポリアセチレンやポ
リチオフェン、ポリピロールなど安定性のかなり高いポ
リマーが報告されており、有機導電性物質などへの展開
が検討されている。近年では、ホモポリマー以外にもチ
オフェンとピロールとの組み合わせによるなど、共重合
体も各種合成され、電子の分子内供与受容構造の寄与な
どによりその特異な光吸収スペクトルから新たな機能性
材料に成りえるとして注目されている。
【0003】特に、シロール骨格は電子供与体としても
電子受容体としても働きうる構造からポリマー化への展
開が研究されている。本発明者らはシロール骨格とチエ
ニレン骨格の共重合体について提案しているが(特願平
4−196609号)、これは極めて特異な光吸収特性
を示し、光学機能材料への応用が期待できるポリマーが
合成できる。また、2,5−位で結合したポリシロール
は理論的な計算によれば非線形光学特性に優れたポリマ
ーとなる可能性をBartonらは示し、またFrap
perらはバンドギャップが極めて小さく、導電性材料
として可能性の高いことを報告している。かかる点に鑑
み、本発明者らは2,5−反応性置換基含有シロールの
製造方法及びその誘導体(特願平5−345214号)
について提案している。
【0004】しかしながら、シロール化合物の2,5−
位にピロール誘導体基を導入した化合物及び共重合体の
合成は、従来知られていたような2,5−反応性置換基
含有シロール化合物と2,5−反応性置換基含有ピロー
ル化合物のクロスカップリング法では困難であり、これ
までシロール−ピロール誘導体及び共重合体の合成方法
に関しては十分に工業的に有用な研究は行われていなか
った。
【0005】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は、シ
ロール−ピロール誘導体及び共重合体の合成方法に関し
て検討を進めた結果、一般構造式が下記(2)で示され
る2,5−ハロゲン含有シロール化合物と下記(3)で
示されるピロール化合物とをパラジウム触媒を用いて反
応させることにより、まず式(1)で示される2,5−
ピロール含有シロール化合物が得られることを見い出し
た。
【0006】
【化6】 (式中、R1 〜R5 は同一又は異種の炭素数1〜12の
一価炭化水素基を示し、Xはハロゲン原子、Yはトリオ
ルガノシリル基、トリオルガノゲルミル基又はトリオル
ガノスタニル基を示す。)
【0007】また、この式(1)で示されるシロール化
合物から、有機リチウム化合物と一価炭化水素基で置換
されたケイ素、ゲルマン、錫のハロゲン化物(トリオル
ガノシリルハライド、トリオルガノゲルミルハライド、
トリオルガノスタニルハライド)との反応により得られ
た下記一般式(5)で示される一価炭化水素基で置換さ
れたケイ素、ゲルマン、錫を置換基として持つ2,5−
ピロール含有シロール化合物を、酸化剤とパラジウム触
媒を用いて重合させることにより、式(4)のシロール
−ピロール共重合体が得られることを初めて見い出し
た。
【0008】
【化7】 (式中、R1〜R5及びYは上記と同様の意味を示し、Z
はY又は水素原子を示し、nは2以上の整数である。)
【0009】そして、ここで得られたシロール−ピロー
ル誘導体(1)及び共重合体(4)が、導電性有機材
料、非線形光学材料、光応答性材料等の光機能材料とし
て有用であること、あるいは他のπ共役系ポリマーとの
共重合により新たな光電子機能材料を合成する原料とし
て有用であることを知見し、本発明をなすに至った。
【0010】従って、本発明は、(i)上記式(1)で
示される2,5−ピロール含有シロール化合物、(ii)
上記式(2)の2,5−ハロゲン含有シロール化合物
と、上記式(3)のピロール化合物とをパラジウム触媒
の存在下に反応させることを特徴とする式(1)の2,
5−ピロール含有シロール化合物の製造方法、(iii)上
記式(4)で示されるシロール−ピロール共重合体、
(iv)上記式(1)の2,5−ピロール含有シロール化
合物に有機リチウム化合物及びトリオルガノシリルハラ
イド、トリオルガノゲルミルハライド又はトリオルガノ
スタニルハライドを加えて反応させて、上記式(5)の
中間体を得た後、これを酸化剤とパラジウム触媒の存在
下で重合させることを特徴とする式(4)のシロール−
ピロール共重合体の製造方法を提供する。
【0011】以下、本発明につき更に詳しく説明する。
【0012】本発明の第1発明は、下記一般式(1)で
示される2,5−ピロール含有シロール化合物である。
【0013】
【化8】 (式中、R1 〜R5 は同一又は異種の炭素数1〜12の
一価炭化水素基又は水素原子を示す。)
【0014】ここで、R1 〜R5 の一価炭化水素基とし
ては、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数6〜10の
アリール基、炭素数7〜12のアラルキル基などが挙げ
られるが、R1 及びR2 は特に炭素数6〜10のアリー
ル基であることが好ましい。具体的には、メチル基、エ
チル基、プロピル基などのアルキル基、フェニル基、ト
リル基、キシリル基などのアリール基、ベンジル基、フ
ェネチル基などのアラルキル基などを挙げることができ
る。
【0015】また、本発明の第2発明は、この式(1)
の化合物を製造する方法に係り、これは下記一般式
(2)で示される2,5−ハロゲン含有シロール化合物
と下記一般式(3)で示されるピロール化合物とをパラ
ジウム触媒の存在下に反応させるものである。
【0016】
【化9】 (式中、R1 〜R5 は上記と同様の意味を示し、Xはハ
ロゲン原子、Yはトリオルガノシリル基、トリオルガノ
ゲルミル基又はトリオルガノスタニル基を示す。)
【0017】ここで、ハロゲン原子としては塩素、臭
素、ヨウ素などが挙げられ、またトリオルガノシリル基
としてはR3 Si−基、トリオルガノゲルミル基として
はR3Ge−基、トリオルガノスタニル基としてはR3
Sn−基(各Rは炭素数1〜10、特に1〜8の互いに
同一又は異種の一価炭化水素基であり、アルキル基、ア
リール基などが挙げられる)で示されるもので、具体的
には、Yで表される置換基は、トリメチルシリル基、ト
リブチルシリル基、フェニルジメチルシリル基などの置
換シリル基、トリエチルゲルミル基のような置換ゲルミ
ル基、トリメチルスタニル基、トリブチルスタニル基、
フェニルジメチルスタニル基などの置換スタニル基など
を挙げることができる。これらの置換基のなかで、Xに
対応するハロゲン化物として塩化物や臭化物が、またY
に対応する置換基としてトリブチルスタニル基、フェニ
ルジメチルスタニル基などの置換スタニル基が、反応性
あるいは取扱いの容易さから好ましい。
【0018】なお、式(2)のシロールは、特願平5−
345214号明細書に記載の方法により得ることがで
きる。即ち、下記式(A)のビスエチニルシラン1モル
とLi等のアルカリ金属又はリチウムナフタレニド等の
アルカリ金属錯体2〜10モルを非プロトン性極性溶媒
中−76℃〜室温で反応させ、得られた反応混合物に塩
素、臭素、ピリジニウムハイドロブロマイドパーブロマ
イド、ピリジニウムハイドロクロライドパークロライド
などを下記式(A)のシラン1モルに対し2〜10モル
を−76℃〜室温で反応させることにより得ることがで
きる。
【化10】
【0019】また、式(3)で示されるピロール化合物
は、市販され、容易に入手できるN−置換ピロールと等
モルのブチルリチウムのような有機リチウム化合物及び
一価炭化水素基で置換されたケイ素、ゲルマン、錫のハ
ロゲン化物から容易に製造することができる。一価炭化
水素基で置換されたケイ素、ゲルマン、錫のハロゲン化
物としては、トリメチルシリルクロリド、トリブチルシ
リルクロリド、フェニルジメチルシリルクロリドなどの
置換シリルクロリド、トリエチルゲルミルクロリドのよ
うな置換ゲルミルクロリド、トリメチルスタニルクロリ
ド、トリブチルスタニルクロリド、フェニルジメチルス
タニルクロリドなどの置換スタニルクロリドなどを挙げ
ることができる。
【0020】この式(2)のシロールと反応させる式
(3)で示されるピロール化合物の使用量は、式(2)
のシロール1モルに対し2〜6モルとすることが好まし
く、より好ましくは高価な式(2)のシロールに対し最
も式(1)の化合物の収量が多くなるよう4モル程度を
用いるのがよい。
【0021】この反応を速やかに進めるために、触媒と
してパラジウム化合物が用いられる。パラジウム化合物
としては、パラジウムジクロライドのようなパラジウム
とハロゲン類、π−アリルパラジウムのようなパラジウ
ムとオレフィン類、ビスジベンジリデンアセトンパラジ
ウム、トリスジベンジリデンアセトンパラジウムのよう
なパラジウムとケトン類、テトラキストリフェニルホス
フィンパラジウムのようなパラジウムとホスフィン類の
錯体が用いられる。また、必要に応じてこうしたパラジ
ウム化合物と反応中にパラジウムに配位して触媒活性を
安定に保持させる配位化合物、例えばオレフィン類、ケ
トン類、ホスフィン類等や、パラジウムの酸化還元をス
ムーズに促進させ、触媒反応を速やかに進めるパラジウ
ム以外の金属類、例えば銅化合物を共存させてもよい。
なかでもトリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィ
ン、トリ(2−フリル)ホスフィン等のホスフィン類が
好適に用いられる。銅化合物としては、塩化銅、臭化
銅、ヨウ化銅のような銅ハロゲン化物が好適に用いられ
る。
【0022】パラジウム化合物と配位化合物の組み合わ
せとしては様々なものが可能であるが、中でもパラジウ
ムとケトン類の錯体であるビスジベンジリデンアセトン
パラジウム(Pd(dba)2 )とホスフィン類の組み
合わせが好適に用いられる。
【0023】パラジウム化合物の使用量としては、式
(2)のシロール1モルに対し0.001モル〜0.1
モルであることが好ましく、この時配位化合物はシロー
ル1モルに対し0〜0.4モル使用することができる。
【0024】この反応は、ジメチルホルムアミド(DM
F)等の溶媒を使用して0℃〜120℃の温度で行なう
ことができるが、より好ましくは室温〜80℃の温度で
ある。反応時間は通常2時間〜36時間であるが、この
反応が完結するまでの時間は温度によって異なり、例え
ば30℃の温度では13時間〜24時間である。
【0025】次に、本発明の第3発明は、下記一般式
(4)で示されるシロール−ピロール共重合体である。
【0026】
【化11】 (式中、R1〜R5は上記と同様の意味を示す。nは2以
上の整数であり、好ましくはn=2〜1000、より好
ましくは2〜500、更に好ましくは2〜100であ
る。)
【0027】本発明の第4発明は、この式(4)の共重
合体の製造方法に係り、これは、上記式(1)の2,5
−ピロール含有シロール化合物に有機リチウム化合物及
びトリオルガノシリルハライド、トリオルガノゲルミル
ハライド又はトリオルガノスタニルハライドを加えて反
応させて、下記一般式(5)で示される中間体を得た
後、これを酸化剤とパラジウム触媒の存在下で重合させ
るものである。
【0028】
【化12】 (式中、R1〜R5,Y,nは上記と同様の意味を示し、
ZはY又は水素原子を示す。)
【0029】ここで、トリオルガノシリルハライドとし
てはR3 SiX、トリオルガノゲルミルハライドとして
はR3 GeX、トリオルガノスタニルハライドとしては
3SnX(各R及びXは上記と同様の意味を示す)で
示されるもので、このような一価炭化水素基で置換され
たケイ素、ゲルマン、錫のハロゲン化物としては、トリ
メチルシリルクロリド、トリブチルシリルクロリド、フ
ェニルジメチルシリルクロリドなどの置換シリルクロリ
ド、トリエチルゲルミルクロリドのような置換ゲルミル
クロリド、トリメチルスタニルクロリド、トリブチルス
タニルクロリド、フェニルジメチルスタニルクロリドな
どの置換スタニルクロリドなどを挙げることができる。
また、得られる式(5)の一価炭化水素基で置換された
ケイ素、ゲルマン、錫を置換基として持つ2,5−ピロ
ール含有シロール化合物の中でも、特に置換基としてト
リブチルスタニル基、フェニルジメチルスタニル基など
の置換スタニル基が、反応性あるいは取扱いの容易さか
ら好ましい。
【0030】また、上記式(5)の中間体を得るために
用いる有機リチウム化合物としては、メチルリチウム、
ブチルリチウム、フェニルリチウム等が挙げられる。特
に取扱いの容易さから、n−ブチルリチウムを用いるの
がよい。
【0031】この場合、化合物(1)に対する有機リチ
ウム化合物の反応時の使用量により、化合物(4)の重
合度をコントロールすることができる。例えば、理論的
には化合物(1)に対し1当量の有機リチウム化合物と
1当量の一価炭化水素基で置換されたケイ素、ゲルマ
ン、錫のハロゲン化物を用いれば、モノ置換の化合物
(1)のシロール−ピロール(即ち、式(5)において
Zが水素原子であるもの)が得られるはずであるが、実
際は化合物(1)に対するリチオ化が0のものと1のも
のと2のものの混合物となるため、これを酸化すればn
=2とn=3のオリゴマーが得られる。リチオ化が1.
0のものの量をへらすため、上記有機リチウム化合物及
びハロゲン化物をそれぞれ1.0〜1.5当量程度用い
ることが望ましい。また、化合物(1)に対し2当量の
有機リチウム化合物と2当量の一価炭化水素基で置換さ
れたケイ素、ゲルマン、錫のハロゲン化物を用いれば、
ジ置換の化合物(1)のシロール−ピロール(即ち、式
(5)においてZがYであるもの)が得られ、これを酸
化すればn=無限大のシロール−ピロール共重合体が得
られるはずであるが、実際は微量水分による副反応を抑
さえる目的で過剰に用いる。例えば上記有機リチウム化
合物及びハロゲン化物をそれぞれ2〜3当量程度用いる
ことが望ましい。
【0032】上記中間体(5)を得るに際し、反応温度
は−76℃〜120℃で行うが、特に室温〜60℃が望
ましい。また、反応触媒は、化合物(1)を溶解するも
のなら何でもよく、たとえばヘキサン、THF,DME
などの非プロトン性の溶媒を用いればよく、必要に応じ
てテトラメチルエチレンジアミン(TMEDA)のよう
なアミン類を添加してもよい。
【0033】つづいて、ここで得られた式(1)に一価
炭化水素基で置換されたケイ素、ゲルマン、錫を持つ化
合物、即ち中間体(5)に、酸化剤とパラジウム触媒を
用いて酸化重合させることにより、式(4)のシロール
−ピロール共重合体を得ることができる。この中間体
(5)は、溶媒を減圧、除去しただけで単離せず、その
まま酸化剤とパラジウム触媒及びDMFのような溶剤を
添加して酸化重合させることもできるし、GPC等のク
ロマト法で単離精製後、酸化重合させることもできる。
なお、式(5)の中間体は、Zが水素原子のもの、Zが
Yのものの混合物を用いることもできる。
【0034】酸化剤としては、例えば有機ハロゲン化物
が用いられ、なかでもジクロルエチレンやα−クロロア
セトンが好適に用いられる。パラジウム触媒としては、
前述のパラジウム化合物を用いることができる。中でも
ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムジクロリド
が好適に用いられる。
【0035】式(1)に一価炭化水素基で置換されたケ
イ素、ゲルマン、錫を持つ化合物(式(5)の中間体)
に対する酸化剤の使用量は、化合物(1)1モルに対し
1〜5モルであり、過剰に用いてもよい。
【0036】パラジウム化合物の使用量としては、式
(1)のシロール1モルにたいし0.001モル〜0.
1モル必要であり、この時上述したオレフィン、ケト
ン、ホスフィン類などの配位化合物はシロール1モルに
対し0〜0.4モル使用してよい。
【0037】この反応は、ジメチルホルムアミド(DM
F)等の溶媒を使用して0℃〜120℃の温度で行なう
ことができるが、より好ましくは室温〜80℃の温度で
行なう。反応時間は通常0.5時間〜500時間である
が、この反応が完結するまでの時間は温度によって異な
り、例えば50℃の温度では10時間〜100時間であ
る。
【0038】上記式(1)のシロール−ピロール誘導体
及び式(4)の共重合体は、それ自身加工性に優れた導
電性有機材料、非線形光学材料、光応答性材料等の光機
能材料として有用であるばかりでなく、特に機能性材料
として知られる他のπ共役系ポリマーあるいはその原料
と共重合体を形成することが可能であり、こうした共重
合により新たな光電子機能材料を合成する原料として可
能性があり、特に加工性に優れた導電性有機材料、非線
形光学材料、光応答性材料等の光機能材料を合成する原
料としても有用である。
【0039】
【発明の効果】本発明の新規化合物は、紫外線領域から
可視光領域に光吸収帯を有する新規なπ電子共役系有機
化合物であり、それ自体光機能材料として有用であると
共に、他のπ共役系化合物との共重合による光電子機能
材料の合成原料としても有用である。また、本発明の製
造方法によれば、かかる新規化合物を確実に製造するこ
とができる。
【0040】
【実施例】以下、実施例を示し、本発明を具体的に説明
するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではな
い。
【0041】〔実施例1〕1,1−ジエチル−2,5−
ビス(N−メチル−2−ピロリル)−3,4−ジフェニ
ルシロールの合成 下記式(2a)で示される2,5−ジブロモシロール
(448mg,1.0mmol)、下記式(3a)で示
される2−トリブチルスタニルピロール(1.48g、
4.0mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)
二パラジウムクロロホルム錯体〔Pd2 (dba)3
CHCl3 〕(27mg、25μmol)、トリフェニ
ルホスフィン(52mg,0.2mmol)、ヨウ化銅
(19mg,0.1mmol)の乾燥DMF(1ml)
混合溶液をアルゴン雰囲気下で50℃、24時間加熱し
た。TLCで原料の2,5−ジブロモシロールが消失し
たことを確認した後、減圧下で溶媒を留去した。得られ
た混合物をフロリジルカラムクロマトグラフィー(ヘキ
サン/EtOAc=36/1,Rf=0.24)により
精製し、下記式(1a)で示される1,1−ジエチル−
2,5−ビス(N−メチル−2−ピロリル)−3,4−
ジフェニルシロールを黄色結晶として収率76%(34
0mg,0.76mmol)で得た。その特性値を下記
に示す。
【0042】
【化13】
【0043】式(1a)の化合物 Mp.145〜147℃1 HNMR(CDCl3 ,200MHz)δ0.94〜
0.96(m,5H),2.80(s,3H),5.9
0(dd,J=1.6,3.6Hz,1H),5.10
(dd,J=2.6,3.6Hz,1H),6.38
(dd,J=1.6,2.6Hz,1H),6.72〜
6.77(m,2H),6.97−7.03(m,3
H)13 CNMR(CDCl3 ,67.8MHz)δ2.8
6,7.30,34.25,107.82,108.9
3,121.64,126.24,127.24,13
0.05,131.95,132.36,139.6
4,154.90 UV−vis(CHCl3 )λmax(nm)(log
ε);406(3.93),272(4.29),24
2(4.28) 元素分析値C30322 Si 計算値:C 80.31%,H 7.19%,N 6.
24% 実測値:C 80.14%,H 7.11%,N 5.
90%
【0044】〔実施例2〕1,1−ジイソプロピル−
2,5−ビス(N−メチル−2−ピロリル)−3,4−
ジフェニルシロールの合成 下記式(2b)で示される2,5−ジヨード−1,1−
ジイソプロピル−3,4−ジフェニルシロール(1.2
7g,2.2mmol)、下記式(3a)で示される2
−トリブチルスタニルピロール(3.26g,8.8m
mol)の乾燥DMF(2ml)溶液に、ビス(ジベン
ジリデンアセトン)パラジウム錯体(O)〔Pd(db
a)2 〕(63mg,0.11mmol)とトリフリル
ホスフィン(51mg,0.22mmol)の乾燥DM
F(2.4ml)溶液を加え、N2 下で50℃、84時
間加熱した。TLCで2,5−ジヨードシロールの消失
を確認した後、溶媒を減圧下で除去した。得られた混合
物をフロリジルカラムに通した(ヘキサン/EtOAc
=37/l)後、HPLC(シリカゲル、ヘキサン/E
tOAc=60/l)により精製し、下記式(1b)で
示される1,1−ジイソプロピル−2,5−ビス(N−
メチル−2−ピロリル)−3,4−ジフェニルシロール
を黄色結晶として収率77%(814mg,1.7mm
ol)で得た。その特性値を下記に示す。
【0045】
【化14】
【0046】式(1b)の化合物 Mp.130〜131℃1 HNMR(CDCl3 ,270MHz)δ0.91
(t,J=7.3Hz,1H),1.02(d,J=
7.3Hz,6H),2.77(s,3H),5.94
(dd,J=1.9,3.5Hz,1H),6.09
(dd,J=2.7,3.5Hz,1H),6.35
(dd,J=1.9,2.7Hz,1H),6.70〜
6.75(m,2H),6.96〜7.03(m,3
H)13 CNMR(CDCl3 ,67.8MHz)δ10.2
8,17.52,34.32,107,84,109.
13,121.35,126.18,127.22,1
30.15,131.48,132.13,139.7
5,155.26 元素分析値C32362 Si 計算値:C 80.62%,H 7.61%,N 5.
88% 実測値:C 80.40%,H 7.68%,N 5.
89%
【0047】〔実施例3〕1,1−ジヘキシル−2,5
−ビス(N−メチル−2−ピロリル)−3,4−ジフェ
ニルシロールの合成 下記式(2c)で示される2,5−ジブロモ−1,1−
ジヘキシル−3,4−ジフェニルシロール(2.80
g,5.0mmol)、下記式(3a)に示される2−
トリブチルスタニルピロール(3.26g,8.8mm
ol)、Pd(dba)2 (145mg,0.25mm
ol)、トリフェニルホスフィン(117mg,0.5
mmol)を用いて、実施例2と同様の手法により、下
記式(1c)で示される1,1−ジヘキシル−2,5−
ビス(N−メチル−2−ピロリル)−3,4−ジフェニ
ルシロールを黄色結晶として収率76%(2.11g,
3.8mmol)で得た(ヘキサン/EtOAc=83
/l,Rf=0.08)。その特性値を下記に示す。
【0048】
【化15】
【0049】式(1c)の化合物1 HNMR(CDCl3 ,270MHz)δ0.8〜
1.0(m,5H),1.1〜1.4(m,8H),
2.76((s,3H),5.92(dd,J=1.
8,3.6Hz,1H),6.08〜6.12(m,1
H),6.36〜6.38(m,1H),6.70〜
6.76(m,2H),6.86〜7.04(m,3
H)13 CNMR(CDCl3 ,67.8MHz)δ11.0
9,14.11,22.54,23.58,31.4
7,32.99,34.23,107.80,108.
90,121.58,126.18,127.22,1
30.05,131.88,133.26,139.6
8,154.39
【0050】〔実施例4〕実施例1で得た式(1a)の
化合物(112mg,0.25mmol)、テトラメチ
ルエチレンジアミン(45μl,0.30mmol)の
乾燥ヘキサン(5ml)溶液にn−ブチルリチウム
(1.55Mヘキサン溶液、0.2ml、0.30mm
ol)をN2 下、室温で加えた。この混合溶液を2.5
時間還流した後、トリブチルスタニルクロライド(80
μl,0.30mmol)を0℃で加えた。室温まで昇
温した後、減圧下で溶媒を留去した。
【0051】反応容器内を窒素雰囲気で常圧に戻した
後、乾燥DMFを2ml加えた。この混合溶液に、N2
気流下、PdCl2 (PPh3 2 (9.3mg,1
2.5μmmol)、クロロアセトン(20μl,0.
25mmol)を加え、50℃、24時間加熱した。混
合溶液に水を加え、エーテルで5回抽出した。有機層を
水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムを用い
て乾燥した。濾過及び溶媒留去によって得られた混合物
をHPLC(シリカゲル、ヘキサン/EtOAc=10
/l)により精製し、下記式(4a−l)で示されるダ
イマー(Rf=0.50)を橙色粉末として収率25%
(28mg,31μmol)で、下記式(4a−2)で
示されるトリマー(Rf=0.41)を赤色粉末として
収率17%(19mg,14μmol)で得た。その特
性値を下記に示す。
【0052】
【化16】
【0053】式(4a−1)の化合物 Mp.209〜211℃1 HNMR(CDCl3 ,270MHz)δ0.95
(s,10H),2.12(s,3H),2.77
(s,3H),5.90(dd,J=1.6,3.2H
z,1H),5.98(d,J=3.5Hz,1H),
6.06(d,J=3.2Hz,1H),6.08〜
6.10(m,1H),6.35〜6.37(m,1
H),6.65〜6.72(m,4H),6.85〜
6.87(m,3H),6.95〜7.01(m,3
H)13 CNMR(CDCl3 ,67.8MHz)δ2.7
9,7.39,32.44,34.25,107.8
4,108.59,108.95,110.19,12
1.65,126.18,126.22,126.9
4,127.10,127.21,129.88,13
0.06,131.91,132.18,132.5
4,133.57,139.59,139.75,15
4.12,154.86 UV−vis(CHCl3 )λmax(nm)(log
ε):436(4.24),273(4.58),24
2(4.58) MS(FAB)M+ 894(100),M+ +1 89
5(93) 式(4a−2)の化合物 Mp.118〜120℃1 HNMR(CDCl3 ,270MHz)δ0.94
(s,15H),2.09(s,6H),2.76
(s,3H),5.90(dd,J=1.6,3.5H
z,1H),5.98(d,J=3.8Hz,1H),
6.05〜6.09(m,4H),6.35〜6.36
(m,1H),6.60〜6.71(m,7H),6.
84〜6.85(m,5H),6.95〜7.01
(m,3H)13 CNMR(CDCl3 ,67.8MHz)δ2.7
0,2.75,7.37,7.48,32.40,3
4.23,107.82,108.57,108.9
1,110.15,121.64,126.16,12
6.94,127.06,127.19,129.8
7,130.05,131.88,132.15,13
2.26,132.49,133.55,139.5
7,139.68,139.73,154.07,15
4.81 UV−vis(CHCl3 )λmax(nm)(log
ε):447(4.53),273(4.84),24
1(4.84) MS(FAB)M+ 1340(80),M+ +1 13
41(100)
【0054】〔実施例5〕実施例3で得られた式(1
c)で示されるモノマー(113mg,0.2mmo
l)、テトラメチレンジアミン(75μl,0.5mm
ol)の乾燥ヘキサン(1ml)溶液にn−ブチルリチ
ウムのヘキサン溶液(1.55M,0.32ml,0.
5mmol)をN2 下、室温で滴下した。この混合溶液
を65℃、1.5時間加熱した。乾燥ヘキサン1mlを
加えた後、トリブチルスタニルクロライド(135μ
l,0.5mmol)を0℃で加えた。室温まで昇温し
た後、減圧下で溶媒を留去した。混合物に水を加え、エ
ーテルで抽出した。エーテル層を水及び飽和食塩水で洗
浄し、Na2 SO4 を用いて乾燥した。濾過及び溶媒留
去によって得られた混合物を分取GPC(展開溶媒:ジ
クロロエタン)により精製し、下記式(5a)で示され
るジスタニル化物を収率84%(191mg,168μ
mol)で得た。
【0055】得られた式(5)のジスタニル化物(19
1mg,168μmol)、ビス(トリフェニルホスフ
ィン)ジクロロパラジウム(II)〔PdCl2 (PP
32 〕(5.9mg,8.4μmol)の乾燥DM
F(1ml)溶液にクロロアセトン(14μl,168
μmol)を加え、N2 下で50℃、30時間加熱し
た。混合溶液に水を加え、エーテルで抽出した。エーテ
ル層をさらに水及び飽和食塩水で洗浄した後、Na2
4 で乾燥した。Na2 SO4 を濾過して除去し、溶媒
を減圧下で留去した。得られた混合物を分取GPC(展
開溶媒:ジクロロエタン)により精製し、下記式(4
c)で示されるポリマー(67mg)を赤色粉末として
得た。得られたポリマー(4c)についてポリスチレン
換算によるGPC分子量を測定したところ、Mw=78
00,Mn=5700,Mw/Mn=1.36(重合度
n=10)であった。
【0056】
【化17】
【0057】式(5)の化合物〔1,1−ジヘキシル−
2,5−ビス(N−メチル−5−トリブチルスタニル−
2−ピロリル)−3,4−ジフェニルシロール〕1 HNMR(CDCl3 ,270MHz)δ0.75〜
1.55(m,80H),2.69(s,6H),6.
06(d,J=3.2Hz,2H),6.25(d,J
=3.2Hz,2H),6.65〜6.80(m,4
H),6.90〜7.10(m,6H)13 CNMR(CDCl3 ,67.8MHz)δ9.8
3,11.00,13.62,14.13,22.5
7,23.70,27.24,29.02,31.5
4,33.03,35.76,109.34,118.
89,126.04,127.15,130.10,1
32.36,133.98,135.89,139.7
5,153.85 式(4c)の化合物13 CNMR(CDCl3 ,67.8MHz)δ11.0
0,14.13,22.50,23.69,31.4
5,32.31,32.96,108.54,110.
15,126.11,127.03,129.88,1
33.21,133.46,139.69,153.6
6 UV−vis(CHCl3 )λmax(nm)(log
ε):455(3.96),275(4.24),24
2(4.24)
【0058】〔参考例〕まず、乾燥したTHF5ml中
にて室温、アルゴン気流下、ナフタレン256mg(2
mmol)とリチウム14mg(2mmol)とを3時
間撹拌することにより、リチウムナフタレニド270m
gを調製した。得られたリチウムナフタレニドのTHF
溶液にジメチルジ(フェニルエチニル)シラン130m
g(0.5mmol)を室温下に滴下し、15分間混合
して、2,5−ジリチオ−1,1−ジメチル−3,4−
ジフェニルシロールとリチウムナフタレニドとの混合物
のTHF溶液(I)4.8gを得た。次に、この混合物
(I)4.8g(2,5−ジリチオ−1,1−ジメチル
−3,4−ジフェニルシロールとして0.5mmolに
相当する)にトリフェニルシリルクロライド295mg
(1mmol)のTHF溶液を添加し、20分後、ピリ
ジニウムハイドロブロマイドパーブロマイド320mg
(1mmol)のTHF溶液を添加し、室温下で1時間
撹拌し、その後減圧下に濃縮した。反応混合物を液体ク
ロマトグラフィーで精製し、2,5−ジブロム−1,1
−ジイソプロピル−3,4−ジフェニルシロールを得た
(収率44%)。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07F 7/10 C08G 77/60 C07B 61/00 300 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(1)で示される2,5−ピ
    ロール含有シロール化合物。 【化1】 (式中、R1〜R5は同一又は異種の炭素数1〜12の一
    価炭化水素基又は水素原子を示す。)
  2. 【請求項2】 下記一般式(2) 【化2】 (式中、R1,R2,R4,R5は同一又は異種の炭素数1
    〜12の一価炭化水素基又は水素原子を示し、Xはハロ
    ゲン原子を示す。)で示される2,5−ハロゲン含有シ
    ロール化合物と、下記一般式(3) 【化3】 (式中、R3は炭素数1〜12の一価炭化水素基又は水
    素原子を示し、Yはトリオルガノシリル基、トリオルガ
    ノゲルミル基又はトリオルガノスタニル基を示す。)で
    示されるピロール化合物とをパラジウム触媒の存在下に
    反応させることを特徴とする請求項1記載の2,5−ピ
    ロール含有シロール化合物の製造方法。
  3. 【請求項3】 下記一般式(4)で示されるシロール−
    ピロール共重合体。 【化4】 (式中、R1〜R5は同一又は異種の炭素数1〜12の一
    価炭化水素基又は水素原子を示し、nは2以上の整数を
    示す。)
  4. 【請求項4】 請求項1記載の2,5−ピロール含有シ
    ロール化合物に有機リチウム化合物及びトリオルガノシ
    リルハライド、トリオルガノゲルミルハライド又はトリ
    オルガノスタニルハライドを加えて反応させて、下記一
    般式(5) 【化5】 (式中、R1〜R5は同一又は異種の炭素数1〜12の一
    価炭化水素基又は水素原子を示し、Yはトリオルガノシ
    リル基、トリオルガノゲルミル基又はトリオルガノスタ
    ニル基を示し、ZはY又は水素原子を示す。)で示され
    る中間体を得た後、これを酸化剤とパラジウム触媒の存
    在下で重合させることを特徴とする請求項3記載のシロ
    ール−ピロール共重合体の製造方法。
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