JPS63134558A - 磁気ヘツド用非磁性セラミツクス - Google Patents
磁気ヘツド用非磁性セラミツクスInfo
- Publication number
- JPS63134558A JPS63134558A JP61278310A JP27831086A JPS63134558A JP S63134558 A JPS63134558 A JP S63134558A JP 61278310 A JP61278310 A JP 61278310A JP 27831086 A JP27831086 A JP 27831086A JP S63134558 A JPS63134558 A JP S63134558A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mol
- magnetic
- parts
- weight
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims description 19
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 13
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910002971 CaTiO3 Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 6
- 238000001513 hot isostatic pressing Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 5
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000001272 pressureless sintering Methods 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002370 SrTiO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010252 TiO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 description 1
- 239000011268 mixed slurry Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000010587 phase diagram Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- LEDMRZGFZIAGGB-UHFFFAOYSA-L strontium carbonate Chemical compound [Sr+2].[O-]C([O-])=O LEDMRZGFZIAGGB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000018 strontium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
工 発明の背景
技術分野
本発明は、ハードディスクやフロッピーディスク用など
のフェライト磁気ヘッドに使用するスライダー、スペー
サー等に用いる磁気ヘッド用非磁性セラミックスに関す
る。
のフェライト磁気ヘッドに使用するスライダー、スペー
サー等に用いる磁気ヘッド用非磁性セラミックスに関す
る。
先行技術とその問題点
各種フェライト磁気ヘッドは、Mn−Znフェライト、
N 1−Znフェライト等の磁性材料からなるコアと、
非磁性材料からなる構造部分とをガラス溶着処理して組
立てられている。
N 1−Znフェライト等の磁性材料からなるコアと、
非磁性材料からなる構造部分とをガラス溶着処理して組
立てられている。
この場合フェライトと非磁性セラミックスの熱膨張係数
が異なると、磁気ヘッドの組立て時のガラス溶着処理時
において、ガラスのクラックが発生したり、製品に歪が
残ったりして好ましくない。
が異なると、磁気ヘッドの組立て時のガラス溶着処理時
において、ガラスのクラックが発生したり、製品に歪が
残ったりして好ましくない。
また、非磁性セラミックス材料に空孔が多く存在すると
、例えば、磁気ヘッドと磁気記録媒体とが接触して走行
する場合、ディスクにコーティングされた磁性粉が空孔
に付着したり、チッピングが生じて、磁気ヘッドやディ
スクを損傷するため、空孔の小さいことが要求される。
、例えば、磁気ヘッドと磁気記録媒体とが接触して走行
する場合、ディスクにコーティングされた磁性粉が空孔
に付着したり、チッピングが生じて、磁気ヘッドやディ
スクを損傷するため、空孔の小さいことが要求される。
コア材料となるMn−Znフェライトの熱膨張係数は、
100〜500℃で100〜120x 10−’/ ”
Cと言われており、非磁性セラミックスの熱膨張係数も
この範囲で任意に変化させることができ、しかも安定し
て製造できることが要求される。 このような観点から
特公昭60−21940号には、Ti0250〜70モ
ル%、CaO50〜30モル%よりなる主成分100重
量部に対してAJ!2030.2〜4.0重量部を添加
した磁気ヘッド用非磁性セラミックス、およびさらに副
成分として5i02 、MgO,ZrO2,Bad、S
rOのなかから選ばれた少なくとも1種以上で/M!2
03の一部を置換した磁気ヘッド用非磁性セラミックス
が開示されでいる。
100〜500℃で100〜120x 10−’/ ”
Cと言われており、非磁性セラミックスの熱膨張係数も
この範囲で任意に変化させることができ、しかも安定し
て製造できることが要求される。 このような観点から
特公昭60−21940号には、Ti0250〜70モ
ル%、CaO50〜30モル%よりなる主成分100重
量部に対してAJ!2030.2〜4.0重量部を添加
した磁気ヘッド用非磁性セラミックス、およびさらに副
成分として5i02 、MgO,ZrO2,Bad、S
rOのなかから選ばれた少なくとも1種以上で/M!2
03の一部を置換した磁気ヘッド用非磁性セラミックス
が開示されでいる。
しかしながら、最近、ディスクの高保磁力化に伴ない、
磁気ヘッドに使用されるフェライト材料も高飽和−!f
f束密度化が要求され、実際高飽和磁束密度(Bs>5
700)のものが用いられるようになってきている。
このようなフェライト材料の熱膨張係数は、100〜5
00℃で115〜130X10−’/”Cと言われてい
る。 従フて、非磁性セラミックスの熱膨張係数もこの
範囲で変化させることができ、しかも安定して製造する
ことができることが要求される。
磁気ヘッドに使用されるフェライト材料も高飽和−!f
f束密度化が要求され、実際高飽和磁束密度(Bs>5
700)のものが用いられるようになってきている。
このようなフェライト材料の熱膨張係数は、100〜5
00℃で115〜130X10−’/”Cと言われてい
る。 従フて、非磁性セラミックスの熱膨張係数もこの
範囲で変化させることができ、しかも安定して製造する
ことができることが要求される。
また、より高い耐摩耗性や、加工性が要求される。 し
かし、上記公報等に記載の従来の材料ではこれらの要求
を完全に満足できるものはない。
かし、上記公報等に記載の従来の材料ではこれらの要求
を完全に満足できるものはない。
■ 発明の目的
本発明の目的は、高飽和磁束密度化されたフェライトと
熱膨張係数がほぼ一致し、気孔率が少なく、しかも機械
的強度、耐摩耗性、加工性が改善された磁気ヘッド用非
磁性セラミックスを提供することにある。
熱膨張係数がほぼ一致し、気孔率が少なく、しかも機械
的強度、耐摩耗性、加工性が改善された磁気ヘッド用非
磁性セラミックスを提供することにある。
■ 発明の開示
このような目的は、下記の本発明によって達成される。
すなわち、本発明における第1の発明は、TiO250
〜55モル%、CaO47〜25モル%およびSrO3
〜25モル%の計100モル%を含むことを特徴とする
磁気ヘッド用非磁性セラミックスである。
〜55モル%、CaO47〜25モル%およびSrO3
〜25モル%の計100モル%を含むことを特徴とする
磁気ヘッド用非磁性セラミックスである。
第2の発明は、Ti0250〜55モル%、CaO47
〜25モル%およびSrO3〜25モル%の計100モ
ル%を含む主成分100重量部に対してAIl□03を
4,0重量部以下添加することを特徴とする磁気ヘッド
用非磁性セラミックスである。
〜25モル%およびSrO3〜25モル%の計100モ
ル%を含む主成分100重量部に対してAIl□03を
4,0重量部以下添加することを特徴とする磁気ヘッド
用非磁性セラミックスである。
第3の発明は、TiO250〜55モル%、CaO47
〜25モル%および5rO3〜25モル%の計100モ
ル%を含む主成分ioo重量部に対してMgO1+3a
O,5i02およびZrO□のうちから選択された少な
くとも1種以上を4.0重量部以下添加したことを特徴
とする磁気ヘッド用非磁性セラミックスである。
〜25モル%および5rO3〜25モル%の計100モ
ル%を含む主成分ioo重量部に対してMgO1+3a
O,5i02およびZrO□のうちから選択された少な
くとも1種以上を4.0重量部以下添加したことを特徴
とする磁気ヘッド用非磁性セラミックスである。
■ 発明の具体的構成
以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。
本発明の磁気ヘッド用非磁性セラミックスは、Ti02
50〜55モル%、好ましくは50〜53モル%、Ca
O47〜25モル%、好ましくは46〜26モル%およ
びS「03〜25モル%、好ましくは4〜24モル%の
計100モル%含むものである。
50〜55モル%、好ましくは50〜53モル%、Ca
O47〜25モル%、好ましくは46〜26モル%およ
びS「03〜25モル%、好ましくは4〜24モル%の
計100モル%含むものである。
主成分であるTiO2,CaOおよびSrOは、実際C
a T i O3と5rTiO,として配合してもよい
。
a T i O3と5rTiO,として配合してもよい
。
このような割合とするのは、TiO2が50モル%未満
となると、焼結性が著しく悪くなり、55モル%をこえ
ると熱膨張係数が115x −’ / ”C,よりも小
さくなるからであり、CaOが25モル%未満となると
加工性が悪くなり、熱膨張係数が115X 10−’/
”Cよりも小さくなり、47モル%をこえると、浮上型
磁気ヘッドのスライダ等として用いたときのCS/S特
性が悪くなるからであり、またSrOが3モル%未満と
なると上記と同様にC3/S特性が悪くなり、25モル
%をこえると、加工性が悪くなり、上記と同様にC3/
S特性も悪くなるからである。
となると、焼結性が著しく悪くなり、55モル%をこえ
ると熱膨張係数が115x −’ / ”C,よりも小
さくなるからであり、CaOが25モル%未満となると
加工性が悪くなり、熱膨張係数が115X 10−’/
”Cよりも小さくなり、47モル%をこえると、浮上型
磁気ヘッドのスライダ等として用いたときのCS/S特
性が悪くなるからであり、またSrOが3モル%未満と
なると上記と同様にC3/S特性が悪くなり、25モル
%をこえると、加工性が悪くなり、上記と同様にC3/
S特性も悪くなるからである。
そして、このような割合とすることによって、熱膨張係
数は100〜500℃の温度範囲で115〜130X1
0−’/”C2より好ましい範囲では120〜130
X 10−’/”Cとなり、高飽和磁束密度化されたフ
ェライトの熱膨張係数との一致がよい。
数は100〜500℃の温度範囲で115〜130X1
0−’/”C2より好ましい範囲では120〜130
X 10−’/”Cとなり、高飽和磁束密度化されたフ
ェライトの熱膨張係数との一致がよい。
本発明においては上記のような割合の
TiO2、CaOおよびSrOの計100モル%を含む
主成分100重量部に対してさらにAfi20.を4.
0ffi量部以下、特に0.2〜4.0重量部、好まし
くは0.2〜2.0重量部添加してもよい。
主成分100重量部に対してさらにAfi20.を4.
0ffi量部以下、特に0.2〜4.0重量部、好まし
くは0.2〜2.0重量部添加してもよい。
AIL□03の添加量をこのようにするのは、40重量
部をこえると、熱膨張係数の値が変化し、その調整が困
難となる。
部をこえると、熱膨張係数の値が変化し、その調整が困
難となる。
ただし、0.2重量部未満となると、
CaTiO3とS r T i O:Iとの固溶相の結
晶粒径の微細化の効果が期待できなくなる。
晶粒径の微細化の効果が期待できなくなる。
AIL203をこのような割合で添加することにより、
焼結が促進され、気孔率が減少すると同時に、All□
O,はCaOおよびTiO2と化合物を形成して機械的
強度を増加させる。
焼結が促進され、気孔率が減少すると同時に、All□
O,はCaOおよびTiO2と化合物を形成して機械的
強度を増加させる。
すなわち、主成分を前記のような範囲にすると、Ti0
z −5rO−CaOの状態図からCa T i 03
とS rT i 03の固溶相と、CaTi0.、との
2相になることがあるが、このCaTiO3とA1□0
3とが化合物を形成することとなる。
z −5rO−CaOの状態図からCa T i 03
とS rT i 03の固溶相と、CaTi0.、との
2相になることがあるが、このCaTiO3とA1□0
3とが化合物を形成することとなる。
また、本発明においては、前記のような割合の主成分1
00重量部に対してMgO1Bad、5in2およびZ
rO2のうちから選択された少なくとも1種以上を4.
0重量部以下、特に0.2〜4.0重量部添加してもよ
い。
00重量部に対してMgO1Bad、5in2およびZ
rO2のうちから選択された少なくとも1種以上を4.
0重量部以下、特に0.2〜4.0重量部添加してもよ
い。
このような添加割合とするのは4.0重量部をこえると
、A 1.203同様、熱膨張係数の値が変化し、その
調整が困難となる。 ただし0.2重量部未満となると
CaTiO3とS rT i O,との固溶相の結晶粒
径の微細化の効果が期待できなくなる。
、A 1.203同様、熱膨張係数の値が変化し、その
調整が困難となる。 ただし0.2重量部未満となると
CaTiO3とS rT i O,との固溶相の結晶粒
径の微細化の効果が期待できなくなる。
このような成分を添加することにより、Ca T i
O3とS rT i O,の固溶相の結晶粒径が微細化
され、気孔率を減少させることができ、機械的強度が大
きくなる。
O3とS rT i O,の固溶相の結晶粒径が微細化
され、気孔率を減少させることができ、機械的強度が大
きくなる。
本発明の磁気ヘッド用非磁性セラミックスは所定量のC
aTiO3とS r T i O3との粉末を混合し、
必要に応じてAQx 03 、Mgo、Bad、S i
O,、ZrO2の粉末を所定量添加して混合した後、成
形体とし、酸素雰囲気中で常圧焼結法により、この成形
体を焼結し、放冷して得られる。
aTiO3とS r T i O3との粉末を混合し、
必要に応じてAQx 03 、Mgo、Bad、S i
O,、ZrO2の粉末を所定量添加して混合した後、成
形体とし、酸素雰囲気中で常圧焼結法により、この成形
体を焼結し、放冷して得られる。
この場合のCaTiO3,SrTiO3、T 102
、 A I!−203、M g 01BaO1Sin
、、およびZrO□の粒径はそれぞれ1.0〜3.0−
程度とすればよい。
、 A I!−203、M g 01BaO1Sin
、、およびZrO□の粒径はそれぞれ1.0〜3.0−
程度とすればよい。
焼結温度は1250〜1300℃であり、特に1280
〜1290℃とすることが好ましい。
〜1290℃とすることが好ましい。
このような温度とするのは、温度が1250℃より低い
と焼結反応が促進せず、所望の密度が得られなくなり、
1300℃より高いと、結晶粒が成長し、微細な結晶粒
が得られなくなり、また密度も低下するからである。
と焼結反応が促進せず、所望の密度が得られなくなり、
1300℃より高いと、結晶粒が成長し、微細な結晶粒
が得られなくなり、また密度も低下するからである。
焼結時間は、一般に1〜3時間である。
また、焼結に際しては、原料粉末の成形体を酸素雰囲気
中で予備焼結し、次いでHIP炉内でこの予備焼結体を
焼結する熱間等方等加圧(HIP)法を用いてもよい。
中で予備焼結し、次いでHIP炉内でこの予備焼結体を
焼結する熱間等方等加圧(HIP)法を用いてもよい。
予備焼結の温度は1250〜1300℃、その時間は1
〜3時間とするのがよい。 また、HIP法における温
度は1150〜1250℃とすればよく、特に1180
〜1200℃とすることが好ましい。
〜3時間とするのがよい。 また、HIP法における温
度は1150〜1250℃とすればよく、特に1180
〜1200℃とすることが好ましい。
このような温度範囲とするのは、空孔率を0.1%未満
にするためである。
にするためである。
焼結時間は1〜5時間、圧力は1000〜1500にg
/cm2であり、酸化雰囲気中で行うか、あるいはA「
等の不活性雰囲気中で行った後、酸化処理をすればよい
。
/cm2であり、酸化雰囲気中で行うか、あるいはA「
等の不活性雰囲気中で行った後、酸化処理をすればよい
。
この場合、室温で酸素ガス、Arガス等を300〜40
0にg/cm2まで加圧し、その後、上記のように加熱
により圧力をかける。
0にg/cm2まで加圧し、その後、上記のように加熱
により圧力をかける。
このようにして得られた磁気ヘッド用非磁性セラミック
スは、熱膨張係数が100〜500℃の範囲で115〜
130X10−’/l:であり、高飽和磁束密度化され
たフェライト材料の熱膨張係数とほぼ一致する。
スは、熱膨張係数が100〜500℃の範囲で115〜
130X10−’/l:であり、高飽和磁束密度化され
たフェライト材料の熱膨張係数とほぼ一致する。
また、相対密度は常圧焼結法では、96.5〜99.0
%程度とすることができ、さらにHIP法によれば99
.9%程度まで上昇させることができ、気孔率が小さい
。
%程度とすることができ、さらにHIP法によれば99
.9%程度まで上昇させることができ、気孔率が小さい
。
ざらに抗折力は17〜20 にg/−となり、機械的強
度も充2分である。
度も充2分である。
また、耐摩耗性として、C5/S特性等も良好であり、
チッピング特性も少なく加工性の点でも満足できるもの
である。
チッピング特性も少なく加工性の点でも満足できるもの
である。
以上述べてきた本発明の磁気ヘッド用非磁性セラミック
スは、ハードディスクやフロッピーディスク用等のフェ
ライト磁気ヘッドのスライダー、スペーサー等に用いて
よく、特に高密度記録用磁気ヘッドに使用して有効であ
る。
スは、ハードディスクやフロッピーディスク用等のフェ
ライト磁気ヘッドのスライダー、スペーサー等に用いて
よく、特に高密度記録用磁気ヘッドに使用して有効であ
る。
■ 発明の具体的作用効果
本発明によれば、Ti0250〜55モル%、CaO4
7.0〜28%ル%およびSrO3.0〜22モル%の
計100モル%を含むか、またはこのような成分を主成
分とし、主成分100重量部に対してA It 203
を4.0重量部以下添加するか、もしくは主成分100
重量部に対してMgO1BaO1S i O2およびZ
rO2のうちから選択された少なくとも1種以上を4.
0重量部以下添加しているため、高飽和磁束密度化され
たフェライトと熱膨張係数がほぼ一致し、気孔率が少な
く、しかも機械的強度、耐摩耗性、加工性が改善された
磁気ヘッド用非磁性セラミックスが得られる。
7.0〜28%ル%およびSrO3.0〜22モル%の
計100モル%を含むか、またはこのような成分を主成
分とし、主成分100重量部に対してA It 203
を4.0重量部以下添加するか、もしくは主成分100
重量部に対してMgO1BaO1S i O2およびZ
rO2のうちから選択された少なくとも1種以上を4.
0重量部以下添加しているため、高飽和磁束密度化され
たフェライトと熱膨張係数がほぼ一致し、気孔率が少な
く、しかも機械的強度、耐摩耗性、加工性が改善された
磁気ヘッド用非磁性セラミックスが得られる。
■ 発明の具体的実施例
以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。
細に説明する。
実施例l
CaTiO3およびS rT i O3の原料粉末は純
度99.9%のCaC0,、T i O2、SrCO3
を用い、平均粒径は順にそれぞれ8−と6−と8−のも
のを用いた。 CaTiO3および5rTi03につい
てはそれぞれ1150〜1200℃で仮り焼きをした。
度99.9%のCaC0,、T i O2、SrCO3
を用い、平均粒径は順にそれぞれ8−と6−と8−のも
のを用いた。 CaTiO3および5rTi03につい
てはそれぞれ1150〜1200℃で仮り焼きをした。
このような原料粉末を表1に示すような組成比となるよ
うに配合し、ボールミルにより20時時間式混合を行っ
た。
うに配合し、ボールミルにより20時時間式混合を行っ
た。
混合したスラリーを乾燥造粒し、成型した。
これを酸化雰囲気中で2時間、焼結温度1250〜13
00℃で常圧焼結を行った。
00℃で常圧焼結を行った。
冷却後、それぞれの焼結体から、試料(表1)を作成し
た。
た。
これらの試料について、熱膨張係数、相対密度および抗
折力を測定した。 また、試料をスライダ形状に加工し
、これにMn−Znフェライトコアをガラス溶着して得
た磁気ヘッドについてコンタクトスタート/ストップを
2万回繰り返した時の摩耗の程度(C3/S特性の耐摩
耗性)を調べた。
折力を測定した。 また、試料をスライダ形状に加工し
、これにMn−Znフェライトコアをガラス溶着して得
た磁気ヘッドについてコンタクトスタート/ストップを
2万回繰り返した時の摩耗の程度(C3/S特性の耐摩
耗性)を調べた。
なお、表中、耐摩耗性の評価は下記のとおりである。
◎・・・摩耗量0.5−未満
O・・・摩耗ff10.5−以上1.0−未満△・・・
摩耗量1.0−以上1.54未満×・−摩耗量1.5−
以上2.o、a未満x x−・・摩耗量2.0−以上 さらに、これらの試料(長さ3011m、幅10III
11、厚さ4mm)について、定速送り(25mm/m
1n)により、ダイヤモンド切断砥石で切断加工したと
き、切断面からl〇−以上の深さのチッピングの発生率
(切断加工性)を顕微鏡(200倍)で調べた。
摩耗量1.0−以上1.54未満×・−摩耗量1.5−
以上2.o、a未満x x−・・摩耗量2.0−以上 さらに、これらの試料(長さ3011m、幅10III
11、厚さ4mm)について、定速送り(25mm/m
1n)により、ダイヤモンド切断砥石で切断加工したと
き、切断面からl〇−以上の深さのチッピングの発生率
(切断加工性)を顕微鏡(200倍)で調べた。
なお、表中、10個未満を○、10〜20個を△、それ
以上を×で表わす。
以上を×で表わす。
結果を表1に示す。
実施例2
実施例1の原料粉末を用いて、表2に示すような割合で
配合したもの(主成分)100重量部にAn203を表
2に示すような割合で添加し、実施例1と同様の処理を
して試料(表2)を作成し、同様の測定を行った。
配合したもの(主成分)100重量部にAn203を表
2に示すような割合で添加し、実施例1と同様の処理を
して試料(表2)を作成し、同様の測定を行った。
なお、AR,□o3の粒径は2.OPのものである。
また、特公昭60−21940号に記載のものを試料2
20,221 (比較)として挙げる。
20,221 (比較)として挙げる。
結果を表2に示す。
実施例3
実施例2においてAfl、20.のがゎり、表3に示す
ような添加物を表3に示すような割合で添加し、実施例
1と同様の処理をして試料(表3)を作成し、同様の測
定を行った。 なお、Mgo% BaO1Sin2.Z
rO2は粒径がそれぞれ3.0−13.OP、2.o、
a、2、0JJI11のものを用いた。
ような添加物を表3に示すような割合で添加し、実施例
1と同様の処理をして試料(表3)を作成し、同様の測
定を行った。 なお、Mgo% BaO1Sin2.Z
rO2は粒径がそれぞれ3.0−13.OP、2.o、
a、2、0JJI11のものを用いた。
結果を表3に示す。
以上の実施例より、本発明の効果は明らかである。
なお、本実施例においては常圧焼結法によって作成した
試料を用いているが、HIP法により作成した試料を用
いても同様の結果が得られた。
試料を用いているが、HIP法により作成した試料を用
いても同様の結果が得られた。
Claims (4)
- (1)TiO_250〜55モル%、CaO47〜25
モル%およびSrO3〜25モル%の計100モル%を
含むことを特徴とする磁気ヘッド用非磁性セラミックス
。 - (2)TiO_250〜55モル%、CaO47〜25
モル%およびSrO3〜25モル%の計100モル%を
含む主成分100重量部に対してAl_2O_3を4.
0重量部以下添加することを特徴とする磁気ヘッド用非
磁性セラミックス。 - (3)TiO_250〜55モル%、CaO47〜25
モル%およびSrO3〜25モル%の計100モル%を
含む主成分100重量部に対してMgO、BaO、Si
O_2およびZrO_2のうちから選択された少なくと
も1種以上を - 4.0重量部以下添加したことを特徴とする磁気ヘッド
用非磁性セラミックス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61278310A JPS63134558A (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | 磁気ヘツド用非磁性セラミツクス |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61278310A JPS63134558A (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | 磁気ヘツド用非磁性セラミツクス |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63134558A true JPS63134558A (ja) | 1988-06-07 |
Family
ID=17595556
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61278310A Pending JPS63134558A (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | 磁気ヘツド用非磁性セラミツクス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63134558A (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS529688A (en) * | 1975-07-14 | 1977-01-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Ion plating process |
JPS5230162A (en) * | 1975-09-03 | 1977-03-07 | Hitachi Ltd | Semiconductor device |
JPS57196765A (en) * | 1981-05-28 | 1982-12-02 | Tdk Electronics Co Ltd | Magnetic head reinforcing material |
JPS5919209A (ja) * | 1982-07-21 | 1984-01-31 | Tdk Corp | 磁気ヘツド用補強材 |
JPS62143870A (ja) * | 1985-12-16 | 1987-06-27 | 松下電器産業株式会社 | 非磁性セラミックスの製造方法 |
-
1986
- 1986-11-21 JP JP61278310A patent/JPS63134558A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS529688A (en) * | 1975-07-14 | 1977-01-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Ion plating process |
JPS5230162A (en) * | 1975-09-03 | 1977-03-07 | Hitachi Ltd | Semiconductor device |
JPS57196765A (en) * | 1981-05-28 | 1982-12-02 | Tdk Electronics Co Ltd | Magnetic head reinforcing material |
JPS5919209A (ja) * | 1982-07-21 | 1984-01-31 | Tdk Corp | 磁気ヘツド用補強材 |
JPS62143870A (ja) * | 1985-12-16 | 1987-06-27 | 松下電器産業株式会社 | 非磁性セラミックスの製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH062615B2 (ja) | 磁気ヘツドスライダ材料 | |
JPS6323643B2 (ja) | ||
JPH0622053B2 (ja) | 基板材料 | |
JPH046083B2 (ja) | ||
US5302560A (en) | Process for the production of magnetic head sliders | |
JPS63134558A (ja) | 磁気ヘツド用非磁性セラミツクス | |
JPS63134559A (ja) | 磁気ヘツド用非磁性セラミツクス | |
JPS6224380B2 (ja) | ||
JPS62143857A (ja) | 磁気ヘツド用非磁性材料 | |
JPS63100054A (ja) | 磁気ヘツド基板用材料 | |
JP2949297B2 (ja) | 磁気ヘッド用磁器組成物 | |
JP2968736B2 (ja) | 磁気ヘッドスライダ用セラミック材料 | |
JP2554604B2 (ja) | 磁気ヘッドスライダ用セラミック材料 | |
JPS6339115A (ja) | 薄膜磁気ヘツド用基板材料 | |
JPH05319896A (ja) | 非磁性セラミックス | |
JPS6029669B2 (ja) | 磁気ヘッド用非磁性セラミックス | |
JPS60103076A (ja) | 磁気ヘツド用磁器組成物 | |
JP2832863B2 (ja) | 磁気ヘッド用非磁性セラミックス | |
JP2917527B2 (ja) | 非磁性セラミックス材およびその製造方法 | |
JPS638257A (ja) | 磁気ヘッドスライダ用セラミック材料 | |
JPS62137709A (ja) | 磁気ヘツド用非磁性セラミツクス | |
JPH01252565A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性磁器材料及びその製造方法 | |
JPS59213670A (ja) | 磁気ヘツド用磁器組成物 | |
JPH0798687B2 (ja) | 磁気ヘッド用非磁性セラミックス | |
JPH01253210A (ja) | 多結晶フェライト材料及びその製造法 |