JP2968736B2 - 磁気ヘッドスライダ用セラミック材料 - Google Patents
磁気ヘッドスライダ用セラミック材料Info
- Publication number
- JP2968736B2 JP2968736B2 JP8277117A JP27711796A JP2968736B2 JP 2968736 B2 JP2968736 B2 JP 2968736B2 JP 8277117 A JP8277117 A JP 8277117A JP 27711796 A JP27711796 A JP 27711796A JP 2968736 B2 JP2968736 B2 JP 2968736B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- tic
- particle size
- titanium carbide
- ceramic material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特に磁気ヘッドス
ライダ用に用いるセラミック材料に関する。 【０００２】 【従来の技術とその問題点】最近、高密度記録用磁気ヘ
ッドのヘッド磁気回路構成材料として、高透磁率を有す
るパーマロイ薄膜が使用されている。このような磁気ヘ
ッドのスライダ材料としてはセラミック材料が一般に用
いられているが、その場合、ＣＳ／Ｓ特性（スライダ摺
動面の耐摩耗性等）が良好なこと、緻密な構造で硬度が
大きく、かつ切断、溝入れ、鏡面加工等の各工程におい
て、加工性に優れていることなどが要求される。 この
ような要求を満たすものとして、アルミナー炭化チタン
（Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ）焼結体が挙げられる。 【０００３】例えば、特開昭５５−１６３６６５号に記
載のＡｌ2 Ｏ3 とＴｉＣとの混合物をホットプレス法に
よって焼成して得られるもので、飛行磁気ヘッドのスラ
イダ要素に用いられるもの、 【０００４】特開昭５６−１４００６６号に記載のＡｌ
2 Ｏ3 とＴｉＣに、酸化イットリウム（固溶体あるいは
複合物の構成成分として含まれる場合もある）または炭
化イットリウム（ダブルカーバイドあるいは複合物の構
成成分として含まれる場合もある）の形でイットリウム
を添加して、熱間等方等圧加圧（ＨＩＰ）法によって得
られるもの、 【０００５】特開昭５７−１３５７７２号に記載のＡｌ
2 Ｏ3 、ＴｉＣおよびＴｉＯ2 に、ＭｇＯ、ＮｉＯ、Ｃ
ｒ2 Ｏ3 、ＺｒＯ2 から選ばれる少なくとも１つの快削
性付与剤とＹ2 Ｏ3 とを添加して、ＨＩＰ法によって得
られるものなどである。 【０００６】この他に、ＭｏあるいはＷを単体もしくは
炭化物の形で添加して焼成し、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ焼結
体を得る方法も挙げられる。 【０００７】さらには、特公昭６０−５４２６６号に記
載のＭｇＯ，Ｙ2 Ｏ3 ，ＣｒＯ3 ，ＮｉＯのうちの少な
くとも１種以上およびＺｒＯ2 を含む酸化アルミニウム
（粉末の平均粒径１μm 以下）と炭酸化チタン粉末を含
む炭化チタン粉末（粉末の平均粒径１μm 以下）とを混
合して還元性の雰囲気で焼結して得られるもの、特公昭
５１−５６９号および同５３ー１４５６８号に記載の炭
化チタン粉末、酸化チタン粉末、アルミナ粉末の混合粉
末をホットプレスして得られるものなどが挙げられる。 【０００８】しかし、以上のような方法で得られたＡｌ
2 Ｏ3 −ＴｉＣ焼結体は、いずれも切断加工速度を大き
くすると、チッピング発生率が高く、粒脱落しやすくな
ること、また、鏡面加工時にも粒脱落しやすいこと等の
加工性に問題を残している。 【０００９】チッピング発生率を低下させるために、セ
ラミック工具材料用のセラミック焼結体では、Ｆｅ族の
金属が単体もしくは酸化物の形で添加されているが、非
磁性でなくなり、磁気ヘッドスライダ材料として用いる
場合に好ましくない事態が生ずる。 【００１０】そこで、このような問題を解消した、Ａｌ
2 Ｏ3 −ＴｉＣ焼結体として、本発明者等は、Ｇａ，Ｂ
ａ，ＣｅおよびＮｂの酸化物の少なくとも１種を添加し
たものを提案している（特願昭５９−２７８８１０
号）。 【００１１】しかし、このものでも、特に磁気ヘッドス
ライダを製造する上で加工性、信頼性、ＣＳ／Ｓ特性の
上で充分ではなく、この点の改善が望まれている。 【００１２】 【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、特に
粒脱落がなく、加工性が非常によく、緻密な構造を有
し、硬度が大きく、非磁性であり、信頼性およびＣＳ／
Ｓ特性が高い磁気ヘッドスライダ用として有用なセラミ
ック材料を提供することにある。 【００１３】 【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（５）の本発明により達成される。 （１）炭化チタンとアルミナとを含む混合物中に炭化チ
タンを３０〜４０重量％含むセラミック材料であって、
焼結体中の炭化チタンの平均粒径が１．０〜２．５μｍ
であり、炭化チタンのうち粒径が０．１μｍ以下のもの
が１０重量％以下であることを特徴とする磁気ヘッドス
ライダ用セラミック材料。 （２）３０〜４０重量％の炭化チタンとアルミナとを含
む混合物１００重量部に対し、Ｇａ，Ｂａ，Ｃｅ，Ｎｂ
およびＴｉの酸化物の少なくとも１種を０．０１〜１０
重量部含むセラミック材料であって、焼結体中の炭化チ
タンの平均粒径が１．０〜２．５μｍであり、炭化チタ
ンのうち粒径が０．１μｍ以下のものが１０重量％以下
であることを特徴とする磁気ヘッドスライダ用セラミッ
ク材料。 （３）炭化チタンとアルミナとを含む混合物中に炭化チ
タンを５〜４０重量％含むセラミック材料であって、焼
結体中の炭化チタンの平均粒径が１．５〜２．５μｍで
あり、炭化チタンのうち粒径が０．１μｍ以下のものが
１０重量％以下であることを特徴とする磁気ヘッドスラ
イダ用セラミック材料。 （４）５〜４０重量％の炭化チタンとアルミナとを含む
混合物１００重量部に対し、Ｇａ，Ｂａ，Ｃｅ，Ｎｂお
よびＴｉの酸化物の少なくとも１種を０．０１〜１０重
量部含むセラミック材料であって、焼結体中の炭化チタ
ンの平均粒径が１．５〜２．５μｍであり、炭化チタン
のうち粒径が０．１μｍ以下のものが１０重量％以下で
あることを特徴とする磁気ヘッドスライダ用セラミック
材料。 （５）炭化チタンを３０〜４０重量％含む上記（３）ま
たは（４）の磁気ヘッドスライダ用セラミック材料。 【００１４】 【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的構成につい
て詳細に説明する。本発明のセラミック材料は、アルミ
ナ−炭化チタン焼結体である。そして、焼結体中での炭
化チタン（ＴｉＣ）の平均粒径は、１．０〜２．５μ
ｍ、好ましくは１．５〜２．０μｍである。 【００１５】ＴｉＣの焼結体中での平均粒径が１．０μ
ｍ未満では加工性が非常に悪く、２．５μｍをこえると
強度の低下がみられるからである。 【００１６】ＴｉＣの粒度分布としては、粒径０．５〜
２．０μｍのＴｉＣがＴｉＣ粒子の総数の８０％以上と
なるようなものである。この測定は電子顕微鏡写真等に
より行なえばよい。 【００１７】また、焼結体中でのＴｉＣのうち０．１μ
ｍ以下の粒径のものが１０重量％以下、より好ましくは
総数の１０％以下ないし０であることが好ましい。０．
１μｍ以下の粒径のＴｉＣは、表面の活性が高く、特に
スライダとして用いた時の信頼性試験およびＣＳ／Ｓ特
性上、欠陥の原因となるからである。 【００１８】アルミナ−炭化チタン焼結体は、アルミナ
（Ａｌ2 Ｏ3 ）の粉末と炭化チタン（ＴｉＣ）の粉末の
混合物を含有するものであり、好ましくは、さらに、Ｇ
ａ、Ｂａ、Ｃｅ、Ｎｂ、およびＴｉの酸化物から選ばれ
た少なくとも１種を含有するものである。 【００１９】そして、このようなアルミナ−炭化チタン
焼結体は、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）の粉末と炭化チタン
（ＴｉＣ）の粉末の混合物に、一般に、好ましくは、さ
らに、Ｇａ，Ｂａ，Ｃｅ，Ｎｂの酸化物（例えば、Ｇａ
Ｏ、ＣｅＯ2 、Ｎｂ2 Ｏ5 等）または焼成により酸化物
となる化合物、例えば、炭酸化合物（例えば、ＢａＣＯ
3 、ＣａＣｏ3 、ＳｒＣＯ3 等）の化合物の粉末、なら
びにＴｉの酸化物から選ばれた少なくとも１種を添加し
て、焼成してなるものである。 【００２０】Ｔｉの酸化物等の添加方法としては、
（１）Ｔｉの酸化物（ＴｉＯ2 、ＴｉＯ、Ｔｉ2 Ｏ3
等）の粉末あるいは少なくとも表面がＴｉの酸化物であ
る粉末または焼成により酸化物となる化合物、例えば、
Ｔｉのアルコキシド（［（ＣＨ3 ）2 ＣＨＯ］4 Ｔｉ
等）の粉末を直接添加する方法、（２）アルミナ−炭化
チタン焼結体をホットプレス法、熱間等方等圧加圧（Ｈ
ＩＰ）法等により焼成する際、酸素雰囲気を用いること
により炭化チタンの一部をＴｉの酸化物、ＴｉＯ2 とす
る方法などが挙げられる。これらの方法は単独で用いて
も併用してもよい。 【００２１】Ｔｉの酸化物、ＴｉＯ2 はＡｌ2 Ｏ3 −Ｔ
ｉＣ焼結体においてＡｌ2 Ｏ3 とＴｉＣとの間に介在し
てＡｌ2 Ｏ3 とＴｉＣとの粒結合を強固にする役目を果
たすと考えられる。 【００２２】Ａｌ2 Ｏ3 粉末は微粉化することが好まし
く、平均粒子径が０．１〜１μm 、特に０．４〜０．６
μm であることが好ましい。 【００２３】ＴｉＣ粉末は微粉化することが好ましく、
平均粒子径が０．１〜３μm 、特に０．５〜１．５μm
であることが好ましい。 【００２４】Ａｌ２Ｏ３とＴｉＣとの混合比率は、Ａｌ
２Ｏ３が６０〜９５重量％、好ましくは６０〜７０重量
％を占め、これに対応して残りの４０〜５重量％、好ま
しくは４０〜３０重量％をＴｉＣが占める。 【００２５】ＴｉＣが５重量％より少ないと、ＴｉＣの
添加効果が小さく、Ａｌ2 Ｏ3 も粒成長しやすくなり、
４０重量％を超えると、加工性が急激に悪化するからで
ある。 【００２６】Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ混合物に添加するＧ
ａ，Ｂａ，Ｃｅ，Ｎｂの酸化物や炭酸化合物等の粉末の
平均粒子径は０．１〜３μm 、特に０．５〜１μm であ
ることが好ましい。 【００２７】また、添加量はＡｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ混合物
１００重量部に対して０．０１〜１０重量部、特に１〜
７重量部であることが好ましい。 【００２８】これらの添加量が０．０１重量部より少な
いと、本発明の効果の実効がなくなり、１０重量部をこ
えると、添加物の焼結体内における偏在が急激に増すか
らである。 【００２９】この場合、Ｇａ、Ｂａ、ＣｅおよびＮｂの
酸化物の少なくとも１種を０．０１〜５重量部、あるい
はまたＴｉの酸化物を０．０１〜５重量部含有させれば
よいが、両者をそれぞれ０．０１〜５重量部含有させる
ことが望ましい。 【００３０】また、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ混合物にＴｉの
酸化物またはアルコキシドを粉末として直接添加する場
合、Ｔｉの酸化物またはアルコキシドの粉末の平均粒子
径は０．１〜３μm 、特に０．５〜１．０μm であるこ
とが好ましい。 【００３１】上記における各酸化物の同定および定量に
は、ＩＣＰ発光分光分析法および酸素気流中の燃焼赤外
吸収法を用いればよい。 【００３２】Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ焼結体は、通常、Ａｌ
2 Ｏ3 粉末およびＴｉＣ粉末の混合物に、好ましくは、
さらに、Ｇａ，Ｂａ，Ｃｅ，Ｎｂの酸化物や炭酸化合物
等の粉末、またはＴｉの酸化物やアルコキシド等の粉末
を添加混合した後、成形体とし、酸素雰囲気中あるいは
非酸化性雰囲気中でのホットプレス焼結法により、この
成形体を焼結し、放冷して得られる。 【００３３】この場合の焼結温度は１５００〜１８００
℃、特に１６５０〜１７５０℃が好ましい。 【００３４】温度が１５００℃より低いと、緻密な焼結
体が得られず、１８００℃より高いと、添加物の昇華が
増し、表面層と内部が異構造になるからである。また、
プレス圧力は２００〜３００Ｋｇ／ｃｍ2 程度である。 【００３５】非酸化性雰囲気としては、Ｎ2 、Ａｒ、Ｈ
ｅ等の不活性ガス、Ｈ2 、ＣＯ、各種炭化水素等、ある
いはこれらの混合雰囲気、さらには真空等種々のもので
あってよい。 【００３６】焼結時間は、一般に１〜３時間である。 【００３７】なお、焼結に際しては、原料粉末の成形体
を酸素雰囲気中あるいは非酸化性雰囲気中（例えば、１
２００℃まで真空中、その後はＡｒ雰囲気中等が好まし
い）で予備焼結し、次いでＨＩＰ炉内でこの予備焼結体
を焼結する熱間等方等圧加圧（ＨＩＰ）法を用いてもよ
い。予備焼結の温度は１４００〜１６５０℃、その時間
は１〜３時間とするのがよい。また、ＨＩＰ法における
温度は１３００〜１５００℃、焼結時間は１〜５時間、
圧力は１０００〜１５００Ｋｇ／ｃｍ2 であり、酸素雰
囲気中あるいはＡｒ等の不活性雰囲気中で行えばよい。 【００３８】この場合、室温で酸素ガス、Ａｒガス等を
３００〜４００ｋｇ／ｃｍ2 まで加圧し、その後、上記
のように加熱により圧力をかける。 【００３９】ホットプレス法、ＨＩＰ法を行なう際、酸
素雰囲気、非酸化性雰囲気のいずれを選択するかについ
ては、Ｔｉの酸化物の添加方法に主に依存する。 【００４０】Ｔｉの酸化物やアルコキシド等の粉末を直
接添加する場合は非酸化性雰囲気とすることが好まし
い。非酸化性雰囲気にするのは、ＴｉＣの酸化を防止す
るためである。 【００４１】一方、焼成中にＴｉＣをＴｉの酸化物とす
る必要がある場合は酸素雰囲気とすることが好ましい。 【００４２】添加したＴｉの酸化物やアルコキシド等は
いずれの添加方法によらず、焼結後、ほとんど酸化物と
して残存し、前記したように粒結合を強固にしている。 【００４３】また、添加したＧａ，Ｂａ，Ｃｅ，Ｎｂの
酸化物や炭酸化合物も、焼結後、ほとんど酸化物として
残存し、Ｔｉ化合物同様、粒結合を強固にする働きをす
ると考えられる。 【００４４】いずれの化合物も金属の状態で残るのは、
結合状態が悪く粒脱落の原因となり、好結果を得ない
が、本発明の焼結体には金属状態で残らないことがＸ線
分析により確認されている。 【００４５】このようにして得られたＡｌ2 Ｏ3 −Ｔｉ
Ｃ焼結体は、ビッカース硬度の高い水準を保持したまま
で、強度を９５Ｋｇ／ｍｍ2 から７０〜８０Ｋｇ／ｍｍ
2 に下げることができ、切断加工性を２倍程度に挙げる
ことが可能となる。 【００４６】また、鏡面加工の際、生ずる粒脱落もおこ
りにくい。 【００４７】以上述べてきた本発明のセラミック材料は
種々の用途に有用である。 特に磁気ヘッドスライダ材
料としてのＡｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ焼結体は、いわゆる飛行
型の磁気ヘッドの基体ないしスライダのみならず、フロ
ッピーヘッドなどのスライダや各種ダミーブロック等に
適用することができる。 【００４８】 【発明の具体的作用効果】本発明によれば、炭化チタン
５〜４０重量％と、アルミナとを含む混合物またはこの
混合物１００重量部に対し、好ましくは、さらにＧａ，
Ｂａ，Ｃｅ，Ｎｂの酸化物や炭酸化合物等の少なくとも
１種ならびにＴｉの酸化物やアルコキシド等を酸化物の
形で０．０１〜１０重量部含有するように添加したもの
（この場合Ｇａ，Ｂａ，Ｃｅ，Ｎｂの酸化物の少なくと
も１種を０．０１〜５重量部、あるいはまたＴｉの酸化
物を０．０１〜５重量部含有すればよいが、両者をそれ
ぞれ０．０１〜５重量部含有することが望ましい。）か
ら焼結体を作成しており、焼結体での炭化チタンの中心
粒径が１．０〜２．５μm であり、０．１μm 以下の粒
径のものを１０重量％以下に規制するため、加工性が非
常によく、緻密な構造を有し、硬度が大きく、非磁性で
あり、信頼性が高く、粒脱落がないセラミック材料が得
られる。そして、磁気ヘッドスライダ材料として、ＣＳ
／Ｓ特性も極めて良好である。従って、高密度記録用磁
気ヘッドスライダ材料としての使用が期待される。 【００４９】 【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
の効果をさらに詳細に説明する。 実施例１ 平均粒径０．５μm のＡｌ2 Ｏ3 （純度９９．９％）粉
末と平均粒径０．７μm のＴｉＣ（純度９９％、炭素含
有量１９％以上でその１％以下は遊離コクエンである）
とを重量比で７：３の割合で混合したものにＢａＯを２
重量％添加し、ボールミルにより２０時間湿式混合を行
った。 【００５０】混合したスラリーを乾燥造粒し、内径７７
ｍｍの黒鉛型に充填した。これを真空雰囲気中で１時
間、焼結温度１５００〜１８００℃、プレス圧力２００
〜３００Ｋｇ／ｃｍ2 でホットプレス焼結を行った。 【００５１】冷却後、焼結体を型から取り出し、＃２０
０ダイヤモンド砥石にて加工し、３インチφ、４ｍｍ厚
の試料１００を作製した。 【００５２】このように作製した焼結体中でのＴｉＣの
平均粒径は１．５μm であり、粒度分布は電子顕微鏡写
真で観察したところ、粒径０．５〜２．０μm のＴｉＣ
がＴｉＣ粒子の総数の９２％であった。また、０．１μ
m 以下の粒径を有するＴｉＣは５％であった。 【００５３】上記において、焼結体を作製する際原料と
なるＴｉＣの粒径を０．３μm とする他は、同様にして
試料２００を作製した。 【００５４】このように作製した焼結体中でのＴｉＣの
平均粒径は０．８μm であり、粒度分布は電子顕微鏡写
真で観察したところ、粒径０．５〜１．５μm のＴｉＣ
がＴｉＣ粒子の総数の８０％であった。また、０．１μ
m 以下の粒径を有するＴｉＣは１５％であった。 【００５５】上記の試料１００，２００について、特性
を以下に示す。なお特性の評価方法は下記のとおりであ
る。 【００５６】（１）鏡面加工性 各試料をグリーンカーバイド（ＧＣ）砥粒でラップ加工
した後、ダイヤモンド砥粒でポリシング加工し、２次電
子像の回折および表面あらさ計により粒脱落の有無を調
べた。 【００５７】また、Ｘ線マイクロアナライザーを用いて
Ｘ線像を得、表面の分析を行い、脱落部の組成を調べ
た。 【００５８】（２）磁性 試料振動型マグネトメータ（ＶＳＭ）により磁性の有無
を調べた。 【００５９】（３）切断加工性 （ａ）切断性（定圧切断実験） １軸スラストベアリングの上にガラスを接着し、その上
に試料（幅３０ｍｍ、厚さ４ｍｍ）を接着し、この試料
を５００ｇおよび１０００ｇのおもりで引っぱり、ダイ
ヤモンド切断砥石で切断加工したときの切断速度を測定
した。 【００６０】（ｂ）チッピング発生（定速切断実験） 定速送り（２５ｍｍ／ｍｉｎ）により、ダイヤモンド切
断砥石で切断加工したとき、切断面から１０μm 以上の
深さのチッピングの発生率（幅３０ｍｍ、厚さ４ｍｍの
試料について３０ｍｍあたりの発生率）を顕微鏡（２０
０倍）で調べた。 【００６１】（４）ＣＳ／Ｓ特性 （ａ）耐摩耗性 試料の薄膜素子を一括形成してスライダ形状に加工し、
磁気ヘッドについてコンタクトスタート／ストップを２
万回繰り返した時の摩耗の程度（μm ）を調べた。 【００６２】（ｂ）粒脱落（電解評価） 白金と試料との間に１Ｖの電圧を印加し、電解作用によ
るＴｉＣの粒脱落の程度を調べた。 【００６３】表面粗さの指標であるＲmax で表わす。 【００６４】 試 料 Ｎｏ 100 （本発明） 200 （比較） 鏡面加工性（粒脱落） 無 有 磁 性 無 無 切断加工性 切断加工速度(mm/min) ４２ ２５ チッピング発生 ５個以内 ５〜１０個 CS／S 特性 耐摩耗性( μm /2万回) ＜０．５ １．０ 粒脱落 Rmax≦100 Ａ Rmax＞1000Ａ 【００６５】以上の結果より、本発明の試料は、鏡面加
工性、切断加工性およびＣＳ／Ｓ特性のいずれについて
も優れていることがわかる。また、非磁性であり、鏡面
加工性が良好なことからスライダ摺動面の鏡面加工が容
易となり、信頼性もよく磁気ヘッドスライダ材料として
適していることもわかる。なお、本発明の試料はビッカ
ース硬度も高い値であった。 【００６６】実施例２ 実施例１の試料１００を作製する際用いたＡｌ2 Ｏ3 ：
ＴｉＣ＝７：３（重量比）の割合で混合したもの１００
重量部に対して、各種添加物（表１）を、表１に示すよ
うな割合で添加したほかは試料１００と同様に、試料１
０１〜１０９（表１）を作製した。 【００６７】また、実施例１の試料２００を作製する際
用いたＡｌ2 Ｏ3 ：ＴｉＣ＝７：３（重量比）の割合で
混合したもの１００重量部に対して、各種添加物（表
１）を、表１に示すような割合で添加したほかは試料２
００と同様に、試料２０１〜２０３（表１）を作製し
た。 【００６８】これらの試料について実施例１と同様に特
性を評価した。結果を表１に示す。 【００６９】ただし、チッピング発生については、５個
以内を○、５〜１０個を△、それ以上を×で表わす。ま
た、粒脱落については、Ｒmax が１００Ａ以下であるも
のを○、１００〜１０００Ａであるものを△、１０００
Ａをこえるものを×で表わす。 【００７０】粒度分布については９２％を占める粒径の
範囲を示した。 【００７１】 【表１】【００７２】表１より本発明の効果は明らかである。そ
して、添加物を含有させることにより、特性、特に粒脱
落が改善される。 【００７３】実施例３ 実施例１で用いたＡｌ2 Ｏ3 粉末とＴｉＣ粉末（粒径
０．７μm ）とを重量比で６５：３５の割合で混合した
ものに、ＢａＯを２重量％添加し、実施例１と同様の処
理をし、本発明の試料Ａを作製した。ただし、焼成雰囲
気は酸素雰囲気とした。この場合ＴｉＣの１０重量％が
Ｔｉの酸化物へと変化した。 【００７４】また、焼結体中でのＴｉＣの平均粒径は
１．５μm であり、粒度分布は電子顕微鏡写真で観察し
たところ、粒径０．５〜２．０μm の粒子の占める割合
が９２％であり、０．１μm 以下の粒径を有するＴｉＣ
は５％であった。 【００７５】上記において、焼結体を作製する際原料と
なるＴｉＣの粒径が０．３μm のもの（実施例１で使用
したもの）を用いた他は同様の処理をし、比較の試料Ｂ
を作製した。この場合ＴｉＣの１１重量％がＴｉの酸化
物へと変化した。 【００７６】また、焼結体中でのＴｉＣの平均粒径は
０．８μm であり、粒度分布は粒径０．５〜１．５μm
の粒子が占める割合が８０％であり、０．１μm 以下の
粒径を有するＴｉＣは１５％であった。 【００７７】この試料について実施例１と同様に特性を
評価した。結果を以下に示す。 【００７８】 試 料 Ａ Ｂ 鏡面加工性（粒脱落） 無 有 磁 性 無 無 切断加工性 切断加工速度(mm/min) ４２ ２３ チッピング発生 ５個以内 ５〜１０個 CS／S 特性 耐摩耗性( μm /2万回） ＜０．５ １．１ 粒脱落 Rmax≦100 Ａ Rmax＞1000Ａ 【００７９】結果より本発明の効果は明らかである。
ライダ用に用いるセラミック材料に関する。 【０００２】 【従来の技術とその問題点】最近、高密度記録用磁気ヘ
ッドのヘッド磁気回路構成材料として、高透磁率を有す
るパーマロイ薄膜が使用されている。このような磁気ヘ
ッドのスライダ材料としてはセラミック材料が一般に用
いられているが、その場合、ＣＳ／Ｓ特性（スライダ摺
動面の耐摩耗性等）が良好なこと、緻密な構造で硬度が
大きく、かつ切断、溝入れ、鏡面加工等の各工程におい
て、加工性に優れていることなどが要求される。 この
ような要求を満たすものとして、アルミナー炭化チタン
（Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ）焼結体が挙げられる。 【０００３】例えば、特開昭５５−１６３６６５号に記
載のＡｌ2 Ｏ3 とＴｉＣとの混合物をホットプレス法に
よって焼成して得られるもので、飛行磁気ヘッドのスラ
イダ要素に用いられるもの、 【０００４】特開昭５６−１４００６６号に記載のＡｌ
2 Ｏ3 とＴｉＣに、酸化イットリウム（固溶体あるいは
複合物の構成成分として含まれる場合もある）または炭
化イットリウム（ダブルカーバイドあるいは複合物の構
成成分として含まれる場合もある）の形でイットリウム
を添加して、熱間等方等圧加圧（ＨＩＰ）法によって得
られるもの、 【０００５】特開昭５７−１３５７７２号に記載のＡｌ
2 Ｏ3 、ＴｉＣおよびＴｉＯ2 に、ＭｇＯ、ＮｉＯ、Ｃ
ｒ2 Ｏ3 、ＺｒＯ2 から選ばれる少なくとも１つの快削
性付与剤とＹ2 Ｏ3 とを添加して、ＨＩＰ法によって得
られるものなどである。 【０００６】この他に、ＭｏあるいはＷを単体もしくは
炭化物の形で添加して焼成し、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ焼結
体を得る方法も挙げられる。 【０００７】さらには、特公昭６０−５４２６６号に記
載のＭｇＯ，Ｙ2 Ｏ3 ，ＣｒＯ3 ，ＮｉＯのうちの少な
くとも１種以上およびＺｒＯ2 を含む酸化アルミニウム
（粉末の平均粒径１μm 以下）と炭酸化チタン粉末を含
む炭化チタン粉末（粉末の平均粒径１μm 以下）とを混
合して還元性の雰囲気で焼結して得られるもの、特公昭
５１−５６９号および同５３ー１４５６８号に記載の炭
化チタン粉末、酸化チタン粉末、アルミナ粉末の混合粉
末をホットプレスして得られるものなどが挙げられる。 【０００８】しかし、以上のような方法で得られたＡｌ
2 Ｏ3 −ＴｉＣ焼結体は、いずれも切断加工速度を大き
くすると、チッピング発生率が高く、粒脱落しやすくな
ること、また、鏡面加工時にも粒脱落しやすいこと等の
加工性に問題を残している。 【０００９】チッピング発生率を低下させるために、セ
ラミック工具材料用のセラミック焼結体では、Ｆｅ族の
金属が単体もしくは酸化物の形で添加されているが、非
磁性でなくなり、磁気ヘッドスライダ材料として用いる
場合に好ましくない事態が生ずる。 【００１０】そこで、このような問題を解消した、Ａｌ
2 Ｏ3 −ＴｉＣ焼結体として、本発明者等は、Ｇａ，Ｂ
ａ，ＣｅおよびＮｂの酸化物の少なくとも１種を添加し
たものを提案している（特願昭５９−２７８８１０
号）。 【００１１】しかし、このものでも、特に磁気ヘッドス
ライダを製造する上で加工性、信頼性、ＣＳ／Ｓ特性の
上で充分ではなく、この点の改善が望まれている。 【００１２】 【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、特に
粒脱落がなく、加工性が非常によく、緻密な構造を有
し、硬度が大きく、非磁性であり、信頼性およびＣＳ／
Ｓ特性が高い磁気ヘッドスライダ用として有用なセラミ
ック材料を提供することにある。 【００１３】 【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（５）の本発明により達成される。 （１）炭化チタンとアルミナとを含む混合物中に炭化チ
タンを３０〜４０重量％含むセラミック材料であって、
焼結体中の炭化チタンの平均粒径が１．０〜２．５μｍ
であり、炭化チタンのうち粒径が０．１μｍ以下のもの
が１０重量％以下であることを特徴とする磁気ヘッドス
ライダ用セラミック材料。 （２）３０〜４０重量％の炭化チタンとアルミナとを含
む混合物１００重量部に対し、Ｇａ，Ｂａ，Ｃｅ，Ｎｂ
およびＴｉの酸化物の少なくとも１種を０．０１〜１０
重量部含むセラミック材料であって、焼結体中の炭化チ
タンの平均粒径が１．０〜２．５μｍであり、炭化チタ
ンのうち粒径が０．１μｍ以下のものが１０重量％以下
であることを特徴とする磁気ヘッドスライダ用セラミッ
ク材料。 （３）炭化チタンとアルミナとを含む混合物中に炭化チ
タンを５〜４０重量％含むセラミック材料であって、焼
結体中の炭化チタンの平均粒径が１．５〜２．５μｍで
あり、炭化チタンのうち粒径が０．１μｍ以下のものが
１０重量％以下であることを特徴とする磁気ヘッドスラ
イダ用セラミック材料。 （４）５〜４０重量％の炭化チタンとアルミナとを含む
混合物１００重量部に対し、Ｇａ，Ｂａ，Ｃｅ，Ｎｂお
よびＴｉの酸化物の少なくとも１種を０．０１〜１０重
量部含むセラミック材料であって、焼結体中の炭化チタ
ンの平均粒径が１．５〜２．５μｍであり、炭化チタン
のうち粒径が０．１μｍ以下のものが１０重量％以下で
あることを特徴とする磁気ヘッドスライダ用セラミック
材料。 （５）炭化チタンを３０〜４０重量％含む上記（３）ま
たは（４）の磁気ヘッドスライダ用セラミック材料。 【００１４】 【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的構成につい
て詳細に説明する。本発明のセラミック材料は、アルミ
ナ−炭化チタン焼結体である。そして、焼結体中での炭
化チタン（ＴｉＣ）の平均粒径は、１．０〜２．５μ
ｍ、好ましくは１．５〜２．０μｍである。 【００１５】ＴｉＣの焼結体中での平均粒径が１．０μ
ｍ未満では加工性が非常に悪く、２．５μｍをこえると
強度の低下がみられるからである。 【００１６】ＴｉＣの粒度分布としては、粒径０．５〜
２．０μｍのＴｉＣがＴｉＣ粒子の総数の８０％以上と
なるようなものである。この測定は電子顕微鏡写真等に
より行なえばよい。 【００１７】また、焼結体中でのＴｉＣのうち０．１μ
ｍ以下の粒径のものが１０重量％以下、より好ましくは
総数の１０％以下ないし０であることが好ましい。０．
１μｍ以下の粒径のＴｉＣは、表面の活性が高く、特に
スライダとして用いた時の信頼性試験およびＣＳ／Ｓ特
性上、欠陥の原因となるからである。 【００１８】アルミナ−炭化チタン焼結体は、アルミナ
（Ａｌ2 Ｏ3 ）の粉末と炭化チタン（ＴｉＣ）の粉末の
混合物を含有するものであり、好ましくは、さらに、Ｇ
ａ、Ｂａ、Ｃｅ、Ｎｂ、およびＴｉの酸化物から選ばれ
た少なくとも１種を含有するものである。 【００１９】そして、このようなアルミナ−炭化チタン
焼結体は、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）の粉末と炭化チタン
（ＴｉＣ）の粉末の混合物に、一般に、好ましくは、さ
らに、Ｇａ，Ｂａ，Ｃｅ，Ｎｂの酸化物（例えば、Ｇａ
Ｏ、ＣｅＯ2 、Ｎｂ2 Ｏ5 等）または焼成により酸化物
となる化合物、例えば、炭酸化合物（例えば、ＢａＣＯ
3 、ＣａＣｏ3 、ＳｒＣＯ3 等）の化合物の粉末、なら
びにＴｉの酸化物から選ばれた少なくとも１種を添加し
て、焼成してなるものである。 【００２０】Ｔｉの酸化物等の添加方法としては、
（１）Ｔｉの酸化物（ＴｉＯ2 、ＴｉＯ、Ｔｉ2 Ｏ3
等）の粉末あるいは少なくとも表面がＴｉの酸化物であ
る粉末または焼成により酸化物となる化合物、例えば、
Ｔｉのアルコキシド（［（ＣＨ3 ）2 ＣＨＯ］4 Ｔｉ
等）の粉末を直接添加する方法、（２）アルミナ−炭化
チタン焼結体をホットプレス法、熱間等方等圧加圧（Ｈ
ＩＰ）法等により焼成する際、酸素雰囲気を用いること
により炭化チタンの一部をＴｉの酸化物、ＴｉＯ2 とす
る方法などが挙げられる。これらの方法は単独で用いて
も併用してもよい。 【００２１】Ｔｉの酸化物、ＴｉＯ2 はＡｌ2 Ｏ3 −Ｔ
ｉＣ焼結体においてＡｌ2 Ｏ3 とＴｉＣとの間に介在し
てＡｌ2 Ｏ3 とＴｉＣとの粒結合を強固にする役目を果
たすと考えられる。 【００２２】Ａｌ2 Ｏ3 粉末は微粉化することが好まし
く、平均粒子径が０．１〜１μm 、特に０．４〜０．６
μm であることが好ましい。 【００２３】ＴｉＣ粉末は微粉化することが好ましく、
平均粒子径が０．１〜３μm 、特に０．５〜１．５μm
であることが好ましい。 【００２４】Ａｌ２Ｏ３とＴｉＣとの混合比率は、Ａｌ
２Ｏ３が６０〜９５重量％、好ましくは６０〜７０重量
％を占め、これに対応して残りの４０〜５重量％、好ま
しくは４０〜３０重量％をＴｉＣが占める。 【００２５】ＴｉＣが５重量％より少ないと、ＴｉＣの
添加効果が小さく、Ａｌ2 Ｏ3 も粒成長しやすくなり、
４０重量％を超えると、加工性が急激に悪化するからで
ある。 【００２６】Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ混合物に添加するＧ
ａ，Ｂａ，Ｃｅ，Ｎｂの酸化物や炭酸化合物等の粉末の
平均粒子径は０．１〜３μm 、特に０．５〜１μm であ
ることが好ましい。 【００２７】また、添加量はＡｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ混合物
１００重量部に対して０．０１〜１０重量部、特に１〜
７重量部であることが好ましい。 【００２８】これらの添加量が０．０１重量部より少な
いと、本発明の効果の実効がなくなり、１０重量部をこ
えると、添加物の焼結体内における偏在が急激に増すか
らである。 【００２９】この場合、Ｇａ、Ｂａ、ＣｅおよびＮｂの
酸化物の少なくとも１種を０．０１〜５重量部、あるい
はまたＴｉの酸化物を０．０１〜５重量部含有させれば
よいが、両者をそれぞれ０．０１〜５重量部含有させる
ことが望ましい。 【００３０】また、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ混合物にＴｉの
酸化物またはアルコキシドを粉末として直接添加する場
合、Ｔｉの酸化物またはアルコキシドの粉末の平均粒子
径は０．１〜３μm 、特に０．５〜１．０μm であるこ
とが好ましい。 【００３１】上記における各酸化物の同定および定量に
は、ＩＣＰ発光分光分析法および酸素気流中の燃焼赤外
吸収法を用いればよい。 【００３２】Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ焼結体は、通常、Ａｌ
2 Ｏ3 粉末およびＴｉＣ粉末の混合物に、好ましくは、
さらに、Ｇａ，Ｂａ，Ｃｅ，Ｎｂの酸化物や炭酸化合物
等の粉末、またはＴｉの酸化物やアルコキシド等の粉末
を添加混合した後、成形体とし、酸素雰囲気中あるいは
非酸化性雰囲気中でのホットプレス焼結法により、この
成形体を焼結し、放冷して得られる。 【００３３】この場合の焼結温度は１５００〜１８００
℃、特に１６５０〜１７５０℃が好ましい。 【００３４】温度が１５００℃より低いと、緻密な焼結
体が得られず、１８００℃より高いと、添加物の昇華が
増し、表面層と内部が異構造になるからである。また、
プレス圧力は２００〜３００Ｋｇ／ｃｍ2 程度である。 【００３５】非酸化性雰囲気としては、Ｎ2 、Ａｒ、Ｈ
ｅ等の不活性ガス、Ｈ2 、ＣＯ、各種炭化水素等、ある
いはこれらの混合雰囲気、さらには真空等種々のもので
あってよい。 【００３６】焼結時間は、一般に１〜３時間である。 【００３７】なお、焼結に際しては、原料粉末の成形体
を酸素雰囲気中あるいは非酸化性雰囲気中（例えば、１
２００℃まで真空中、その後はＡｒ雰囲気中等が好まし
い）で予備焼結し、次いでＨＩＰ炉内でこの予備焼結体
を焼結する熱間等方等圧加圧（ＨＩＰ）法を用いてもよ
い。予備焼結の温度は１４００〜１６５０℃、その時間
は１〜３時間とするのがよい。また、ＨＩＰ法における
温度は１３００〜１５００℃、焼結時間は１〜５時間、
圧力は１０００〜１５００Ｋｇ／ｃｍ2 であり、酸素雰
囲気中あるいはＡｒ等の不活性雰囲気中で行えばよい。 【００３８】この場合、室温で酸素ガス、Ａｒガス等を
３００〜４００ｋｇ／ｃｍ2 まで加圧し、その後、上記
のように加熱により圧力をかける。 【００３９】ホットプレス法、ＨＩＰ法を行なう際、酸
素雰囲気、非酸化性雰囲気のいずれを選択するかについ
ては、Ｔｉの酸化物の添加方法に主に依存する。 【００４０】Ｔｉの酸化物やアルコキシド等の粉末を直
接添加する場合は非酸化性雰囲気とすることが好まし
い。非酸化性雰囲気にするのは、ＴｉＣの酸化を防止す
るためである。 【００４１】一方、焼成中にＴｉＣをＴｉの酸化物とす
る必要がある場合は酸素雰囲気とすることが好ましい。 【００４２】添加したＴｉの酸化物やアルコキシド等は
いずれの添加方法によらず、焼結後、ほとんど酸化物と
して残存し、前記したように粒結合を強固にしている。 【００４３】また、添加したＧａ，Ｂａ，Ｃｅ，Ｎｂの
酸化物や炭酸化合物も、焼結後、ほとんど酸化物として
残存し、Ｔｉ化合物同様、粒結合を強固にする働きをす
ると考えられる。 【００４４】いずれの化合物も金属の状態で残るのは、
結合状態が悪く粒脱落の原因となり、好結果を得ない
が、本発明の焼結体には金属状態で残らないことがＸ線
分析により確認されている。 【００４５】このようにして得られたＡｌ2 Ｏ3 −Ｔｉ
Ｃ焼結体は、ビッカース硬度の高い水準を保持したまま
で、強度を９５Ｋｇ／ｍｍ2 から７０〜８０Ｋｇ／ｍｍ
2 に下げることができ、切断加工性を２倍程度に挙げる
ことが可能となる。 【００４６】また、鏡面加工の際、生ずる粒脱落もおこ
りにくい。 【００４７】以上述べてきた本発明のセラミック材料は
種々の用途に有用である。 特に磁気ヘッドスライダ材
料としてのＡｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ焼結体は、いわゆる飛行
型の磁気ヘッドの基体ないしスライダのみならず、フロ
ッピーヘッドなどのスライダや各種ダミーブロック等に
適用することができる。 【００４８】 【発明の具体的作用効果】本発明によれば、炭化チタン
５〜４０重量％と、アルミナとを含む混合物またはこの
混合物１００重量部に対し、好ましくは、さらにＧａ，
Ｂａ，Ｃｅ，Ｎｂの酸化物や炭酸化合物等の少なくとも
１種ならびにＴｉの酸化物やアルコキシド等を酸化物の
形で０．０１〜１０重量部含有するように添加したもの
（この場合Ｇａ，Ｂａ，Ｃｅ，Ｎｂの酸化物の少なくと
も１種を０．０１〜５重量部、あるいはまたＴｉの酸化
物を０．０１〜５重量部含有すればよいが、両者をそれ
ぞれ０．０１〜５重量部含有することが望ましい。）か
ら焼結体を作成しており、焼結体での炭化チタンの中心
粒径が１．０〜２．５μm であり、０．１μm 以下の粒
径のものを１０重量％以下に規制するため、加工性が非
常によく、緻密な構造を有し、硬度が大きく、非磁性で
あり、信頼性が高く、粒脱落がないセラミック材料が得
られる。そして、磁気ヘッドスライダ材料として、ＣＳ
／Ｓ特性も極めて良好である。従って、高密度記録用磁
気ヘッドスライダ材料としての使用が期待される。 【００４９】 【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
の効果をさらに詳細に説明する。 実施例１ 平均粒径０．５μm のＡｌ2 Ｏ3 （純度９９．９％）粉
末と平均粒径０．７μm のＴｉＣ（純度９９％、炭素含
有量１９％以上でその１％以下は遊離コクエンである）
とを重量比で７：３の割合で混合したものにＢａＯを２
重量％添加し、ボールミルにより２０時間湿式混合を行
った。 【００５０】混合したスラリーを乾燥造粒し、内径７７
ｍｍの黒鉛型に充填した。これを真空雰囲気中で１時
間、焼結温度１５００〜１８００℃、プレス圧力２００
〜３００Ｋｇ／ｃｍ2 でホットプレス焼結を行った。 【００５１】冷却後、焼結体を型から取り出し、＃２０
０ダイヤモンド砥石にて加工し、３インチφ、４ｍｍ厚
の試料１００を作製した。 【００５２】このように作製した焼結体中でのＴｉＣの
平均粒径は１．５μm であり、粒度分布は電子顕微鏡写
真で観察したところ、粒径０．５〜２．０μm のＴｉＣ
がＴｉＣ粒子の総数の９２％であった。また、０．１μ
m 以下の粒径を有するＴｉＣは５％であった。 【００５３】上記において、焼結体を作製する際原料と
なるＴｉＣの粒径を０．３μm とする他は、同様にして
試料２００を作製した。 【００５４】このように作製した焼結体中でのＴｉＣの
平均粒径は０．８μm であり、粒度分布は電子顕微鏡写
真で観察したところ、粒径０．５〜１．５μm のＴｉＣ
がＴｉＣ粒子の総数の８０％であった。また、０．１μ
m 以下の粒径を有するＴｉＣは１５％であった。 【００５５】上記の試料１００，２００について、特性
を以下に示す。なお特性の評価方法は下記のとおりであ
る。 【００５６】（１）鏡面加工性 各試料をグリーンカーバイド（ＧＣ）砥粒でラップ加工
した後、ダイヤモンド砥粒でポリシング加工し、２次電
子像の回折および表面あらさ計により粒脱落の有無を調
べた。 【００５７】また、Ｘ線マイクロアナライザーを用いて
Ｘ線像を得、表面の分析を行い、脱落部の組成を調べ
た。 【００５８】（２）磁性 試料振動型マグネトメータ（ＶＳＭ）により磁性の有無
を調べた。 【００５９】（３）切断加工性 （ａ）切断性（定圧切断実験） １軸スラストベアリングの上にガラスを接着し、その上
に試料（幅３０ｍｍ、厚さ４ｍｍ）を接着し、この試料
を５００ｇおよび１０００ｇのおもりで引っぱり、ダイ
ヤモンド切断砥石で切断加工したときの切断速度を測定
した。 【００６０】（ｂ）チッピング発生（定速切断実験） 定速送り（２５ｍｍ／ｍｉｎ）により、ダイヤモンド切
断砥石で切断加工したとき、切断面から１０μm 以上の
深さのチッピングの発生率（幅３０ｍｍ、厚さ４ｍｍの
試料について３０ｍｍあたりの発生率）を顕微鏡（２０
０倍）で調べた。 【００６１】（４）ＣＳ／Ｓ特性 （ａ）耐摩耗性 試料の薄膜素子を一括形成してスライダ形状に加工し、
磁気ヘッドについてコンタクトスタート／ストップを２
万回繰り返した時の摩耗の程度（μm ）を調べた。 【００６２】（ｂ）粒脱落（電解評価） 白金と試料との間に１Ｖの電圧を印加し、電解作用によ
るＴｉＣの粒脱落の程度を調べた。 【００６３】表面粗さの指標であるＲmax で表わす。 【００６４】 試 料 Ｎｏ 100 （本発明） 200 （比較） 鏡面加工性（粒脱落） 無 有 磁 性 無 無 切断加工性 切断加工速度(mm/min) ４２ ２５ チッピング発生 ５個以内 ５〜１０個 CS／S 特性 耐摩耗性( μm /2万回) ＜０．５ １．０ 粒脱落 Rmax≦100 Ａ Rmax＞1000Ａ 【００６５】以上の結果より、本発明の試料は、鏡面加
工性、切断加工性およびＣＳ／Ｓ特性のいずれについて
も優れていることがわかる。また、非磁性であり、鏡面
加工性が良好なことからスライダ摺動面の鏡面加工が容
易となり、信頼性もよく磁気ヘッドスライダ材料として
適していることもわかる。なお、本発明の試料はビッカ
ース硬度も高い値であった。 【００６６】実施例２ 実施例１の試料１００を作製する際用いたＡｌ2 Ｏ3 ：
ＴｉＣ＝７：３（重量比）の割合で混合したもの１００
重量部に対して、各種添加物（表１）を、表１に示すよ
うな割合で添加したほかは試料１００と同様に、試料１
０１〜１０９（表１）を作製した。 【００６７】また、実施例１の試料２００を作製する際
用いたＡｌ2 Ｏ3 ：ＴｉＣ＝７：３（重量比）の割合で
混合したもの１００重量部に対して、各種添加物（表
１）を、表１に示すような割合で添加したほかは試料２
００と同様に、試料２０１〜２０３（表１）を作製し
た。 【００６８】これらの試料について実施例１と同様に特
性を評価した。結果を表１に示す。 【００６９】ただし、チッピング発生については、５個
以内を○、５〜１０個を△、それ以上を×で表わす。ま
た、粒脱落については、Ｒmax が１００Ａ以下であるも
のを○、１００〜１０００Ａであるものを△、１０００
Ａをこえるものを×で表わす。 【００７０】粒度分布については９２％を占める粒径の
範囲を示した。 【００７１】 【表１】【００７２】表１より本発明の効果は明らかである。そ
して、添加物を含有させることにより、特性、特に粒脱
落が改善される。 【００７３】実施例３ 実施例１で用いたＡｌ2 Ｏ3 粉末とＴｉＣ粉末（粒径
０．７μm ）とを重量比で６５：３５の割合で混合した
ものに、ＢａＯを２重量％添加し、実施例１と同様の処
理をし、本発明の試料Ａを作製した。ただし、焼成雰囲
気は酸素雰囲気とした。この場合ＴｉＣの１０重量％が
Ｔｉの酸化物へと変化した。 【００７４】また、焼結体中でのＴｉＣの平均粒径は
１．５μm であり、粒度分布は電子顕微鏡写真で観察し
たところ、粒径０．５〜２．０μm の粒子の占める割合
が９２％であり、０．１μm 以下の粒径を有するＴｉＣ
は５％であった。 【００７５】上記において、焼結体を作製する際原料と
なるＴｉＣの粒径が０．３μm のもの（実施例１で使用
したもの）を用いた他は同様の処理をし、比較の試料Ｂ
を作製した。この場合ＴｉＣの１１重量％がＴｉの酸化
物へと変化した。 【００７６】また、焼結体中でのＴｉＣの平均粒径は
０．８μm であり、粒度分布は粒径０．５〜１．５μm
の粒子が占める割合が８０％であり、０．１μm 以下の
粒径を有するＴｉＣは１５％であった。 【００７７】この試料について実施例１と同様に特性を
評価した。結果を以下に示す。 【００７８】 試 料 Ａ Ｂ 鏡面加工性（粒脱落） 無 有 磁 性 無 無 切断加工性 切断加工速度(mm/min) ４２ ２３ チッピング発生 ５個以内 ５〜１０個 CS／S 特性 耐摩耗性( μm /2万回） ＜０．５ １．１ 粒脱落 Rmax≦100 Ａ Rmax＞1000Ａ 【００７９】結果より本発明の効果は明らかである。
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 １．炭化チタンとアルミナとを含む混合物中に炭化チタ
ンを３０〜４０重量％含むセラミック材料であって、焼
結体中の炭化チタンの平均粒径が１．０〜２．５μｍで
あり、炭化チタンのうち粒径が０．１μｍ以下のものが
１０重量％以下であることを特徴とする磁気ヘッドスラ
イダ用セラミック材料。 ２．３０〜４０重量％の炭化チタンとアルミナとを含む
混合物１００重量部に対し、Ｇａ，Ｂａ，Ｃｅ，Ｎｂお
よびＴｉの酸化物の少なくとも１種を０．０１〜１０重
量部含むセラミック材料であって、焼結体中の炭化チタ
ンの平均粒径が１．０〜２．５μｍであり、炭化チタン
のうち粒径が０．１μｍ以下のものが１０重量％以下で
あることを特徴とする磁気ヘッドスライダ用セラミック
材料。 ３．炭化チタンとアルミナとを含む混合物中に炭化チタ
ンを５〜４０重量％含むセラミック材料であって、焼結
体中の炭化チタンの平均粒径が１．５〜２．５μｍであ
り、炭化チタンのうち粒径が０．１μｍ以下のものが１
０重量％以下であることを特徴とする磁気ヘッドスライ
ダ用セラミック材料。 ４．５〜４０重量％の炭化チタンとアルミナとを含む混
合物１００重量部に対し、Ｇａ，Ｂａ，Ｃｅ，Ｎｂおよ
びＴｉの酸化物の少なくとも１種を０．０１〜１０重量
部含むセラミック材料であって、焼結体中の炭化チタン
の平均粒径が１．５〜２．５μｍであり、炭化チタンの
うち粒径が０．１μｍ以下のものが１０重量％以下であ
ることを特徴とする磁気ヘッドスライダ用セラミック材
料。 ５．炭化チタンを３０〜４０重量％含む請求項３または
４の磁気ヘッドスライダ用セラミック材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8277117A JP2968736B2 (ja) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | 磁気ヘッドスライダ用セラミック材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8277117A JP2968736B2 (ja) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | 磁気ヘッドスライダ用セラミック材料 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61149225A Division JPH062617B2 (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | 磁気ヘッドスライダ用セラミック材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09315848A JPH09315848A (ja) | 1997-12-09 |
| JP2968736B2 true JP2968736B2 (ja) | 1999-11-02 |
Family
ID=17579028
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8277117A Expired - Lifetime JP2968736B2 (ja) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | 磁気ヘッドスライダ用セラミック材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2968736B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4009292B2 (ja) * | 2005-01-06 | 2007-11-14 | Ｔｄｋ株式会社 | 磁気ヘッドスライダ用材料、磁気ヘッドスライダ、及び磁気ヘッドスライダ用材料の製造方法 |
-
1996
- 1996-09-27 JP JP8277117A patent/JP2968736B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09315848A (ja) | 1997-12-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4650774A (en) | Magnetic head slider material | |
| US4598052A (en) | Alumina base substrate of recording head and process for the production thereof | |
| JPH0622053B2 (ja) | 基板材料 | |
| JP3933523B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド用セラミックス基板材料 | |
| US4859638A (en) | Magnetic head sliders, materials therefor, and the process for the production thereof | |
| JP3039908B2 (ja) | 低浮上性を有する磁気ヘッド用基板材料 | |
| JP2968736B2 (ja) | 磁気ヘッドスライダ用セラミック材料 | |
| JP2554604B2 (ja) | 磁気ヘッドスライダ用セラミック材料 | |
| JP3039909B2 (ja) | 磁気ヘッド用基板材料 | |
| JPH062617B2 (ja) | 磁気ヘッドスライダ用セラミック材料 | |
| US5648303A (en) | Non-magnetic ceramics for recording/reproducing heads and method of producing the same | |
| JP2699104B2 (ja) | Ａ１▲下２▼Ｏ▲下３▼‐ＴｉＣ系セラミック材料 | |
| JPH062616B2 (ja) | 磁気ヘッドスライダ用セラミック材料 | |
| JPH062618B2 (ja) | 磁気ヘッドスライダ用セラミック材料 | |
| JP2699093B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド用セラミック材料 | |
| JPS63134559A (ja) | 磁気ヘツド用非磁性セラミツクス | |
| JP2511700B2 (ja) | 切削工具用セラミックス焼結体 | |
| JPS6066361A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH05246763A (ja) | セラミックス焼結体 | |
| JPH04321555A (ja) | セラミックス材料及びその製造方法 | |
| JPH0262511B2 (ja) | ||
| JP2949297B2 (ja) | 磁気ヘッド用磁器組成物 | |
| JP3085619B2 (ja) | 非磁性セラミックス | |
| JP3591791B2 (ja) | 磁気ヘッド用非磁性セラミックスの製造方法 | |
| KR940011080B1 (ko) | Al₂O₃-TiC계 박막자기헤드용 기판 소결체의 제조방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19990721 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |