JPS63115878A - ピロン−3−カルボキサミド誘導体及び除草剤 - Google Patents
ピロン−3−カルボキサミド誘導体及び除草剤Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明はピロン−3−カルボキサミド化合物に属する
新規化合物に関するものである。さらに詳細には、4−
オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミドに総称され
る一群の化合物とそれを含有する除草剤に関するもので
ある。
新規化合物に関するものである。さらに詳細には、4−
オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミドに総称され
る一群の化合物とそれを含有する除草剤に関するもので
ある。
(従来技術)
従来、4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド
に属する化合物は、いくつかの文献に記載されている。
に属する化合物は、いくつかの文献に記載されている。
O−ハロアセトアセトアニリド類(2−クロロ、2−ブ
ロモ、2,4−ジクロロ、2.5−ジクロロの4例)を
、140℃で1時間ポリリン酸と処理することによって
、対応する2、6−ジメチル−4−オキソ−N−フェニ
ル−4H−ピラン−3−カルボキサミドのハロゲン誘導
体が得られることが知られている(A、 K、 Mal
lamsおよび3 、3 、Islaelstam 、
J 、○rg、 Che+++ 、。
ロモ、2,4−ジクロロ、2.5−ジクロロの4例)を
、140℃で1時間ポリリン酸と処理することによって
、対応する2、6−ジメチル−4−オキソ−N−フェニ
ル−4H−ピラン−3−カルボキサミドのハロゲン誘導
体が得られることが知られている(A、 K、 Mal
lamsおよび3 、3 、Islaelstam 、
J 、○rg、 Che+++ 、。
岨、3548(1964) : A、 K、 Mall
ams、 J 、 Org。
ams、 J 、 Org。
(Jera 、、29.3555 (1964) 参照
)。このポリリン酸を用いる方法は、R、G arne
rおよびHoSuschitzky (J、 Ch
em、Soc、 (C)、 186(196G) )
やS、 Benjamin (J、 S、 Afr。
)。このポリリン酸を用いる方法は、R、G arne
rおよびHoSuschitzky (J、 Ch
em、Soc、 (C)、 186(196G) )
やS、 Benjamin (J、 S、 Afr。
Chem、 l nst 、 23.34 (1970
) )によッテ他のアセトアセトアニリド類(2−フル
オロ、2−ピペリジノ、2−へキサヒドロアゼピニル、
2−モルホリノ、2−ピロリジノなど)や、ベンゾイル
アセトアニリド類に適用され、対応する4−オキソ−4
H−ピラン−3−カルボキサミド誘導体が得られている
。
) )によッテ他のアセトアセトアニリド類(2−フル
オロ、2−ピペリジノ、2−へキサヒドロアゼピニル、
2−モルホリノ、2−ピロリジノなど)や、ベンゾイル
アセトアニリド類に適用され、対応する4−オキソ−4
H−ピラン−3−カルボキサミド誘導体が得られている
。
その他、Z ankowska −J asinsca
、 W 、 * (Zesz 、 Nawk 、Un
iW 、Jagiellon、pr。
、 W 、 * (Zesz 、 Nawk 、Un
iW 、Jagiellon、pr。
Chew 、1980.25、7; Zesz 、 N
awk 、 lJniw 。
awk 、 lJniw 。
Jagiellon、、pr、Chem 、1976.
21.141参照)は、ベンゾイルアセトアニリドを、
コハク酸ジクロリドと処理して4−オキソ−N 、2.
6− トリフエニル−4H−ピラン−3−カルボキサミ
ドを合成している。
21.141参照)は、ベンゾイルアセトアニリドを、
コハク酸ジクロリドと処理して4−オキソ−N 、2.
6− トリフエニル−4H−ピラン−3−カルボキサミ
ドを合成している。
加藤及び穿出はp−ニトロアニリンとジケテンとの反応
生成物として、2.6−ジメチル−N−(4−ニトロフ
ェニル)−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサ
ミドを同定している(薬学雑誌、鉦−11212(19
67)参照)。戸田(佐々木)は2.6−ジメチル−4
−オキソ−4H−ピラン−3−カルボン酸を塩化チオニ
ルで処理した後0−クロロアニリンを反応させるか、2
.6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カル
ボンWap−ニトロフェニルエステルと0−クロロアニ
リンとを110℃下、4.3時間加熱するとN−(2−
クロロフェニル)−2,6−ジメチル−4−オキソ−4
H−ピラン−3−カルボキサミドが得られることを報告
しており(薬学雑誌、鉦1.1351 (1967)参
照)、同時に2−アミノトロポンあるいは4−アミノト
ロボロンとジケテンとの反応によって得られるピロン−
3−カルボキサミド化合物について記載している。
生成物として、2.6−ジメチル−N−(4−ニトロフ
ェニル)−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサ
ミドを同定している(薬学雑誌、鉦−11212(19
67)参照)。戸田(佐々木)は2.6−ジメチル−4
−オキソ−4H−ピラン−3−カルボン酸を塩化チオニ
ルで処理した後0−クロロアニリンを反応させるか、2
.6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カル
ボンWap−ニトロフェニルエステルと0−クロロアニ
リンとを110℃下、4.3時間加熱するとN−(2−
クロロフェニル)−2,6−ジメチル−4−オキソ−4
H−ピラン−3−カルボキサミドが得られることを報告
しており(薬学雑誌、鉦1.1351 (1967)参
照)、同時に2−アミノトロポンあるいは4−アミノト
ロボロンとジケテンとの反応によって得られるピロン−
3−カルボキサミド化合物について記載している。
また、特公昭45−31663号公報は、イソシアナー
ト類とジケテンとを酸性触媒の存在下で反応させること
を特徴とする、2.6−ジメチル−4−オキソ−4H−
ピラン−3−カルボキサミド類の製造法について記述し
ており、2.6−ジメチル− 4−オキソ−N−フェニ
ル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、2,6−ジメ
チル−N−(2−メチルフェニル)−4−オキソ−4H
−ピラン−3−カルボキサミド、N−(2−クロロフェ
ニル)=2.6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン
−3−カルボキサミド、2.6−ジメチル−N−(2−
二トロフェニル)−4−オキソ−4H−ピラン−3−カ
ルボキサミド、N−<2.5−ジクロロフェニル)−2
,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カル
ボキサミド、2.6−ジメチル−N−(3−ニトロフェ
ニル)−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミ
ド、2,6−シメチル−N−(4−メチルフェニル)−
4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド等につ
いては実施例によって具体的に開示されている。さらに
加藤鉄三等(薬学雑誌、ユ旺、43 (1981)参照
)は、3−モルホリノクロトンアニリド誘導体とジケテ
ンとの反応成績体として2,6−ジメチル−4−オキソ
−N−フェニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、
N−(4−メトキシフェニル)−2,6−ジメチル−4
−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミドおよびN
−(4−クロロフェニル)−2,6−ジメチル−4−オ
キソ−4H−ピラン−3−カルボキサミドが得られるこ
とを報告している。
ト類とジケテンとを酸性触媒の存在下で反応させること
を特徴とする、2.6−ジメチル−4−オキソ−4H−
ピラン−3−カルボキサミド類の製造法について記述し
ており、2.6−ジメチル− 4−オキソ−N−フェニ
ル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、2,6−ジメ
チル−N−(2−メチルフェニル)−4−オキソ−4H
−ピラン−3−カルボキサミド、N−(2−クロロフェ
ニル)=2.6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン
−3−カルボキサミド、2.6−ジメチル−N−(2−
二トロフェニル)−4−オキソ−4H−ピラン−3−カ
ルボキサミド、N−<2.5−ジクロロフェニル)−2
,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カル
ボキサミド、2.6−ジメチル−N−(3−ニトロフェ
ニル)−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミ
ド、2,6−シメチル−N−(4−メチルフェニル)−
4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド等につ
いては実施例によって具体的に開示されている。さらに
加藤鉄三等(薬学雑誌、ユ旺、43 (1981)参照
)は、3−モルホリノクロトンアニリド誘導体とジケテ
ンとの反応成績体として2,6−ジメチル−4−オキソ
−N−フェニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、
N−(4−メトキシフェニル)−2,6−ジメチル−4
−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミドおよびN
−(4−クロロフェニル)−2,6−ジメチル−4−オ
キソ−4H−ピラン−3−カルボキサミドが得られるこ
とを報告している。
以上に記した例のほかにも、アミノトロボン類(H,T
odaおよびS、 5eto 、 ChelII。
odaおよびS、 5eto 、 ChelII。
Pharm、 Bull、、 19.1477 (19
71)参照)、アミノピリジン類(T 、 K ato
等、Chei 、pharll。
71)参照)、アミノピリジン類(T 、 K ato
等、Chei 、pharll。
Bull、、 20. 133(1972) ; 1b
id 、、 28.2129(1980)およびH,L
、Yale等、J。
id 、、 28.2129(1980)およびH,L
、Yale等、J。
Heterocyclic Chem、、旦、637
(1977)参照)そして2−アミノ−1,3,4−チ
アジアゾール(R。
(1977)参照)そして2−アミノ−1,3,4−チ
アジアゾール(R。
F、1auer等、J 、 +eterocyc+r
c Chem、、 13゜291 (1976)参照
)の対応するピロン−3−カルボキサミド誘導体が記述
されている。
c Chem、、 13゜291 (1976)参照
)の対応するピロン−3−カルボキサミド誘導体が記述
されている。
前述の特公昭45−31663号公報は、2.6−シメ
チル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド
類が、稲紋枯病防除剤、殺線虫剤または殺ダニ剤等の農
薬、あるいは抗ビールス剤等の医薬としての用途をもつ
ことを言及しているが、これらの用途における有用性を
支持する知見は開示されていない。
チル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド
類が、稲紋枯病防除剤、殺線虫剤または殺ダニ剤等の農
薬、あるいは抗ビールス剤等の医薬としての用途をもつ
ことを言及しているが、これらの用途における有用性を
支持する知見は開示されていない。
以上のごとく、この発明における式(I)で表わされる
ピロン−3−カルボキサミド化合物は従来報告されてお
らず、またそれらの除草活性を示唆する知見は開示され
ていなかった。
ピロン−3−カルボキサミド化合物は従来報告されてお
らず、またそれらの除草活性を示唆する知見は開示され
ていなかった。
〈目的と構成)
この発明は下記の式(I>で示される化合物、及びその
化合物を有効成分として含有する除草剤に関するもので
ある。
化合物を有効成分として含有する除草剤に関するもので
ある。
〔式中+i+RtがC2〜C,/のアルキル基、低級ア
ルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基、低
級アルコキシアルキル基、置換されてもよいアラルキル
基、ハロゲン化低級アルキル基、または5もしくは6員
の異項環基である場合には、R2、Rs 、R4は同−
又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、シアン基、ニ
トロ基、アミムL低級アルキル基、ハロゲン化低級アル
キル基、とドロキシ基、低級アルコキシ基、アリールオ
キシ基、カルボキシ基、または低級アルコキシカルボニ
ル基、R5は水素原子、ハロゲン原子、C1〜CI、の
アルキル基、置換されてもよいアリール基または置換さ
れてもよいアラルキル基、R6は01〜Cllのアルキ
ル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロア
ルキル基、低級アルコキシアルキル基、置換されてもよ
いアリール基、置換されてもよいアラルキル基、ハロゲ
ン化アルキル基、あるいは5もしくは6員の異項環基、
またはR5とR6は一緒に−(CH2)尻−(Illは
3もしくは4)をそれぞれ意味し; 0) R1が置換されてもよいアリール基である場合に
は、R2、R3’% R4は同一もしくは異なって、水
素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基
、低級アルキル基、ハロゲン化低級アルキル基、ヒドロ
キシ基、低級アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボ
キシ基、または低級アルコキシカルボニル基、R5は水
素原子、ハロゲン原子、01〜G/7のアルキル基、置
換されてもよいアリール基、あるいは置換されてもよい
アラルキル基、R6はC1〜CIIのアルキル基、低級
アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基、
低級アルコキシアルキル基、置換されてもよいアラルキ
ル基、ハロゲン化アルキル基、あるいは5もしくは6員
の異項環基、またはR5とR6は一緒に−(CH2>7
n −(Illは3または4)をそれぞれ意味し: @ Rtがメチル基である場合には、R2、Rs 、R
4は同一もしくは異なって、水素原子、ハロゲン原子、
シアムLニトロ塞、アミノ基、低級アルキル基、ハロゲ
ン化低級アルキル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基
、アリールオキシ基、カルボキシ基、または低級アルコ
キシカルボニル基、R5は水素原子、ハロゲン原子、0
1〜Cllのアルキル基、置換されてもよいアリール基
、または置換されてもよいアラルキル基、R6は02〜
C1/のアルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニ
ル基、シクロアルキル基、低級アルコキシアルキル基、
置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアラル
キル基、ハロゲン化アルキル基、あるいは5もしくは6
員の異項環基、またはRs 、Reは一緒に−(CH2
)h (IIlは3または4)をそれぞれ意味し; Q’J R7、Rsがともにメチル基である場合には
、R2、R3、R4は同一もしくは異なって、水素原子
、ハロゲン原子、シアン基、ニトロ基、アミノ基、低級
アルキル基、ハロゲン化低級アルキル基、ヒドロキシ基
、低級アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシ基
、あるいは低級アルコキシカルボニル基、R5はハロゲ
ン原子、C1〜CIIのアルキル基、置換されてもよい
アリール基、または置換されてもよいアラルキル基をそ
れぞれ意味する〕 で表わされるピロン−3−カルボキサミド誘導体。
ルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基、低
級アルコキシアルキル基、置換されてもよいアラルキル
基、ハロゲン化低級アルキル基、または5もしくは6員
の異項環基である場合には、R2、Rs 、R4は同−
又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、シアン基、ニ
トロ基、アミムL低級アルキル基、ハロゲン化低級アル
キル基、とドロキシ基、低級アルコキシ基、アリールオ
キシ基、カルボキシ基、または低級アルコキシカルボニ
ル基、R5は水素原子、ハロゲン原子、C1〜CI、の
アルキル基、置換されてもよいアリール基または置換さ
れてもよいアラルキル基、R6は01〜Cllのアルキ
ル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロア
ルキル基、低級アルコキシアルキル基、置換されてもよ
いアリール基、置換されてもよいアラルキル基、ハロゲ
ン化アルキル基、あるいは5もしくは6員の異項環基、
またはR5とR6は一緒に−(CH2)尻−(Illは
3もしくは4)をそれぞれ意味し; 0) R1が置換されてもよいアリール基である場合に
は、R2、R3’% R4は同一もしくは異なって、水
素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基
、低級アルキル基、ハロゲン化低級アルキル基、ヒドロ
キシ基、低級アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボ
キシ基、または低級アルコキシカルボニル基、R5は水
素原子、ハロゲン原子、01〜G/7のアルキル基、置
換されてもよいアリール基、あるいは置換されてもよい
アラルキル基、R6はC1〜CIIのアルキル基、低級
アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基、
低級アルコキシアルキル基、置換されてもよいアラルキ
ル基、ハロゲン化アルキル基、あるいは5もしくは6員
の異項環基、またはR5とR6は一緒に−(CH2>7
n −(Illは3または4)をそれぞれ意味し: @ Rtがメチル基である場合には、R2、Rs 、R
4は同一もしくは異なって、水素原子、ハロゲン原子、
シアムLニトロ塞、アミノ基、低級アルキル基、ハロゲ
ン化低級アルキル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基
、アリールオキシ基、カルボキシ基、または低級アルコ
キシカルボニル基、R5は水素原子、ハロゲン原子、0
1〜Cllのアルキル基、置換されてもよいアリール基
、または置換されてもよいアラルキル基、R6は02〜
C1/のアルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニ
ル基、シクロアルキル基、低級アルコキシアルキル基、
置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアラル
キル基、ハロゲン化アルキル基、あるいは5もしくは6
員の異項環基、またはRs 、Reは一緒に−(CH2
)h (IIlは3または4)をそれぞれ意味し; Q’J R7、Rsがともにメチル基である場合には
、R2、R3、R4は同一もしくは異なって、水素原子
、ハロゲン原子、シアン基、ニトロ基、アミノ基、低級
アルキル基、ハロゲン化低級アルキル基、ヒドロキシ基
、低級アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシ基
、あるいは低級アルコキシカルボニル基、R5はハロゲ
ン原子、C1〜CIIのアルキル基、置換されてもよい
アリール基、または置換されてもよいアラルキル基をそ
れぞれ意味する〕 で表わされるピロン−3−カルボキサミド誘導体。
この発明で、低級アルキル基、低級アルコキシ基などで
用いた用語〈低級〉とは、C1〜C5の炭素原子を含有
する基を意味する。具体的には、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、
イソペンチルのような低級アルキル基:メトキシ、エト
キシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシのような
低級アルコキシ基:メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニルの
ような低級アルコキシカルボニル基が挙げられる。
用いた用語〈低級〉とは、C1〜C5の炭素原子を含有
する基を意味する。具体的には、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、
イソペンチルのような低級アルキル基:メトキシ、エト
キシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシのような
低級アルコキシ基:メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニルの
ような低級アルコキシカルボニル基が挙げられる。
また、低級アルケニル基及び低級アルキニル基には、ビ
ニル、アリル、イソプロペニル、2−ブテニル、1,3
−ブタジェニル、2−ペンテニル、1.4−ペンタジェ
ニル、1.6−へブタジェニル、1−へキセニル、エチ
ニル、2−プロピニルなどが含まれる。
ニル、アリル、イソプロペニル、2−ブテニル、1,3
−ブタジェニル、2−ペンテニル、1.4−ペンタジェ
ニル、1.6−へブタジェニル、1−へキセニル、エチ
ニル、2−プロピニルなどが含まれる。
シクロアルキル基、には、シクロプロピル、シクロペン
チル又はシクロヘキシル基などが含まれる。
チル又はシクロヘキシル基などが含まれる。
ハロゲン化アルキル基には、トリフルオロメチル、クロ
ルメチル基などが含まれる。
ルメチル基などが含まれる。
低級アルコキシアルキル基には、メトキシメチル、エト
キシメチル、プロポキシメチル、ブトキシメチル基など
が含まれる。
キシメチル、プロポキシメチル、ブトキシメチル基など
が含まれる。
ハロゲン原子には塩素、臭素、ヨウ素又はフッ素原子が
挙げられる。
挙げられる。
アラルキル基には、ベンジル、3−フェニルプロピル、
4−フェニルブチル基などが含まれる。
4−フェニルブチル基などが含まれる。
アリールオキシ基には、フェニルオキシ、ナフチルオキ
シ基などが含まれる。
シ基などが含まれる。
5もしくは6員の異項環基には、窒素原子、酸素原子、
硫黄原子から選択されたヘテロ原子を1〜3個含有する
5もしくは6員の異項環基が含まれる。たとえば、フリ
ル、テトラヒドロフリル、チェニル、チアゾリル、イソ
チアゾリル、オキサシリル、イソオキサシリル、ピラゾ
リルなどの5員環の基:ビリジル、ピリミジニル、ピラ
ジニル、ピリダジニルなどの6員環の基が挙げられる。
硫黄原子から選択されたヘテロ原子を1〜3個含有する
5もしくは6員の異項環基が含まれる。たとえば、フリ
ル、テトラヒドロフリル、チェニル、チアゾリル、イソ
チアゾリル、オキサシリル、イソオキサシリル、ピラゾ
リルなどの5員環の基:ビリジル、ピリミジニル、ピラ
ジニル、ピリダジニルなどの6員環の基が挙げられる。
これらの基はメチル又はエチルのようなアルキル基、ハ
ロゲン原子、又はフェニル基で置換されてもよい。フェ
ニル基で置換された場合、環内の2つの炭素原子と結合
して縮合環を形成してもよい。縮合環を形成した場合の
例としては、ベンゾチアゾリル、ベンゾフリル、キナゾ
リニル、キノキサリニル基などが挙げられる。
ロゲン原子、又はフェニル基で置換されてもよい。フェ
ニル基で置換された場合、環内の2つの炭素原子と結合
して縮合環を形成してもよい。縮合環を形成した場合の
例としては、ベンゾチアゾリル、ベンゾフリル、キナゾ
リニル、キノキサリニル基などが挙げられる。
置換されていてもよいアリールもしくはアラルキル基と
は、フェニル基、ナフチル基、ベンジル、3−フェニル
プロピルなどの非置換のアリールもしくはアラルキル基
、並びにこれらの基の核がハロゲン原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基及びシアン基の1〜3個で置換さ
れたものが含まれる。
は、フェニル基、ナフチル基、ベンジル、3−フェニル
プロピルなどの非置換のアリールもしくはアラルキル基
、並びにこれらの基の核がハロゲン原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基及びシアン基の1〜3個で置換さ
れたものが含まれる。
この発明化合物が持つ植物成長調節作用は、水田、畑地
、果樹園、牧草地、芝生地、森林あるいは非農耕地用の
除草剤として有用な性質である。
、果樹園、牧草地、芝生地、森林あるいは非農耕地用の
除草剤として有用な性質である。
この発明化合物を上記除草剤として使用する場合は、そ
のまま使用してもよいが、一般には固体担体、液体担体
、界面活性剤、その他の製剤用補助剤と混合して、水和
剤、粒剤、乳剤等に製剤する。
のまま使用してもよいが、一般には固体担体、液体担体
、界面活性剤、その他の製剤用補助剤と混合して、水和
剤、粒剤、乳剤等に製剤する。
これらの製剤には、この発明化合物を水和剤では10〜
80%、粒剤では2〜20%、乳剤では10〜50%(
いずれも重囲%を示す。)を含有することが好ましい。
80%、粒剤では2〜20%、乳剤では10〜50%(
いずれも重囲%を示す。)を含有することが好ましい。
製剤に使用される固体担体には、カオリン、ベントナイ
ト、クレー類、タルク、珪藻土、ジ−クライト、ゼオラ
イト、パイロフィライト、合成含酸化珪素、炭酸カルシ
ウム等の微粉末あるいは粒状物があり、液体担体には、
キシレン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、エ
タノール、インプロパツール、エチレングリコール、メ
チルセロソルブ等のアルコール類、アセトン、イソホロ
、ン、シクロヘキサノン等のケトン類、大豆油、綿実
油等の植物油、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、アセトニトリル、水等がある。
ト、クレー類、タルク、珪藻土、ジ−クライト、ゼオラ
イト、パイロフィライト、合成含酸化珪素、炭酸カルシ
ウム等の微粉末あるいは粒状物があり、液体担体には、
キシレン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、エ
タノール、インプロパツール、エチレングリコール、メ
チルセロソルブ等のアルコール類、アセトン、イソホロ
、ン、シクロヘキサノン等のケトン類、大豆油、綿実
油等の植物油、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、アセトニトリル、水等がある。
分散、乳化等のために用いられる界面活性剤には、ポリ
オキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン
アルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸
エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチ
レンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンポ
リオキシブロビレンブロツクボリマー等のノニオン性界
面活性剤、アルキル硫酸エステル塩、アルキルスルホン
酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ポリオキシエチ
レンアルキル硫酸エステル塩等のアニオン性界面活性剤
等がある。
オキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン
アルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸
エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチ
レンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンポ
リオキシブロビレンブロツクボリマー等のノニオン性界
面活性剤、アルキル硫酸エステル塩、アルキルスルホン
酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ポリオキシエチ
レンアルキル硫酸エステル塩等のアニオン性界面活性剤
等がある。
製剤用補助剤には、リグニンスルホン酸塩、アルギンi
1m、ポリアクリレート類、ポリビニルアルコール、植
物ガム類、カルボキシメチルセルロース(CMC)、ヒ
ドロキシエチルセルロース(HEC)等がある。
1m、ポリアクリレート類、ポリビニルアルコール、植
物ガム類、カルボキシメチルセルロース(CMC)、ヒ
ドロキシエチルセルロース(HEC)等がある。
また、この発明化合物は、必要に応じて他の殺虫剤、殺
ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、除草剤、植物成長調節剤、
肥料あるいは土壌改良剤と混合使用することもできる。
ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、除草剤、植物成長調節剤、
肥料あるいは土壌改良剤と混合使用することもできる。
この発明の式(I)で示される化合物は次の方法で製造
することができる。
することができる。
(方法A)
(RL 、R2、R3、R4は上記の定義と同じ、R7
はジアルキルアミノ基であり、nはO〜6の整数をあら
れす) この方法は(n)あるいは(■)′で表わされる化合物
とジケテンを適当な溶tS<たとえばトルエン、キシレ
ンなど)中、−20℃〜130℃の範囲で反応させるこ
とにより行なわれる。R5が水素原子でかつR6がメチ
ル基である化合物の合成方法である。
はジアルキルアミノ基であり、nはO〜6の整数をあら
れす) この方法は(n)あるいは(■)′で表わされる化合物
とジケテンを適当な溶tS<たとえばトルエン、キシレ
ンなど)中、−20℃〜130℃の範囲で反応させるこ
とにより行なわれる。R5が水素原子でかつR6がメチ
ル基である化合物の合成方法である。
れるアミンとの脱水縮合によって容易に得られる。
なお、R7、R2、R3、Ra 、R7およびn ハ上
記の定義と同じである。
記の定義と同じである。
(方法B)
(R4、R2、R3、R4は上記の定義と同じ、R8は
アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または異項
環基を表わす) この方法は(I[[)で表わされる化合物とジケテンを
三級塩基存在下、適当な溶媒(たとえばトルエン、キシ
レンなど)中、−20℃〜130℃の範囲で反応させる
ことにより行なわれる。R5が水素原子でかつR6がメ
チル基である化合物の合成力で表わされるアミンとの脱
水縮合によって容易に得られる。なお、R7、R2、R
3、R4およびR8は上記の定義と同じである。
アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または異項
環基を表わす) この方法は(I[[)で表わされる化合物とジケテンを
三級塩基存在下、適当な溶媒(たとえばトルエン、キシ
レンなど)中、−20℃〜130℃の範囲で反応させる
ことにより行なわれる。R5が水素原子でかつR6がメ
チル基である化合物の合成力で表わされるアミンとの脱
水縮合によって容易に得られる。なお、R7、R2、R
3、R4およびR8は上記の定義と同じである。
〜
(R1,R2、R3、R4、Rs 、Rs 、R7
、nは前記の定義に同じ、8日およびRflは水素原子
、アルキル基、あるいはフェニル基またはR8およびR
tlが共にアルキル基のときはシクロアルキル基を形成
してもよい。) この方法は(I)又は(■)′で表わされる化合物と(
rV)で表わされる化合物とを無溶媒下、あるいは適当
な溶媒(トルエン、ベンゼン、メシチレン)中、加熱下
(たとえば100〜170℃)に反応させることにより
おこなわれる。
、nは前記の定義に同じ、8日およびRflは水素原子
、アルキル基、あるいはフェニル基またはR8およびR
tlが共にアルキル基のときはシクロアルキル基を形成
してもよい。) この方法は(I)又は(■)′で表わされる化合物と(
rV)で表わされる化合物とを無溶媒下、あるいは適当
な溶媒(トルエン、ベンゼン、メシチレン)中、加熱下
(たとえば100〜170℃)に反応させることにより
おこなわれる。
(If)、(n)’ の化合物は方法Aで述べた方法に
より、また(IV)の化合物は、従来既知の方法(Ch
em 、 Pharm、 Bull 、、 31.18
96(1983);特開昭54−106478号公報;
同[31−22077号公報参照〕によりそれぞれ製造
することができる。
より、また(IV)の化合物は、従来既知の方法(Ch
em 、 Pharm、 Bull 、、 31.18
96(1983);特開昭54−106478号公報;
同[31−22077号公報参照〕によりそれぞれ製造
することができる。
(方法D)
(Ra 、R2、R3、R4、Rs 、R6、R8、R
s 、Roは前記の定義に同じ) この方法は(I[[)で表わされる化合物と、(IV)
で表わされる化合物とを三級塩基の存在または非存在下
、無溶媒であるいは適当な溶媒(トルエン、ベンゼン、
メシチレン)中、加熱下(たとえば100〜170℃)
に反応させることにより行なわれる。
s 、Roは前記の定義に同じ) この方法は(I[[)で表わされる化合物と、(IV)
で表わされる化合物とを三級塩基の存在または非存在下
、無溶媒であるいは適当な溶媒(トルエン、ベンゼン、
メシチレン)中、加熱下(たとえば100〜170℃)
に反応させることにより行なわれる。
(I[[)および(TV)の化合物はそれぞれ方法Bお
よびCで述べた方法により製造することができ(R7、
R2、R3、Ra 、Rs 、Rs 、R7、n
は前記の定義に同じ、R(lは低級アルキル基)この方
法は(n)又は(■)′で表わされる化合物と、(V)
で表わされる化合物とを不活性溶媒中(たとえばキシレ
ン、メシチレンなど)、モレキュラーシーブの存在下で
加熱することによりおこなわれる。
よびCで述べた方法により製造することができ(R7、
R2、R3、Ra 、Rs 、Rs 、R7、n
は前記の定義に同じ、R(lは低級アルキル基)この方
法は(n)又は(■)′で表わされる化合物と、(V)
で表わされる化合物とを不活性溶媒中(たとえばキシレ
ン、メシチレンなど)、モレキュラーシーブの存在下で
加熱することによりおこなわれる。
(If)、 (II)’の化合物は方法Aで述べた方
法により製造することができる。
法により製造することができる。
次にこの発明を実施例によって説明する。なお実[1を
示した化合物の他にこの発明に含まれる興味ある化合物
の具体名としては次のものがあげられる。
示した化合物の他にこの発明に含まれる興味ある化合物
の具体名としては次のものがあげられる。
N−〈4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル)−6−
メチル−4−オキソ−2−フェニル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 N−(4−クロロ−2,6−ジエチルフェニル)−6−
メチル−4−オキソ−2−フェニル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 2−ブチル−N−(4−クロロ−2,6−ジエチルフェ
ニル)−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−
カルボキサミド、 2−ブチル−N−(4−クロロ−2,6−ジエチルフェ
ニル)−5,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン
−3−カルボキサミド、 2−(3−シアノフェニル)−6−メチル−4−オキソ
−N−フェニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 2−(3−メトキシフェニル)−6−メチル−4−オキ
ソ−N−フェニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド
、 5−ブロモ−N−(2,6−ジエチルフェニル)−6−
メチル−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 5−ブロモ−2−ブチル−N−(2,6−ジエチルフェ
ニル)−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−
カルボキサミド、 5−ブロモ−N−(4−ブロモ−2,6−シエチルフエ
ニル)−6−メチル−4−オキソ−2−プロピル−4H
−ピラン−3−カルボキサミド、5−ブロモ−N−(4
−ブロモー2.6−ジエチルフェニル)−2−ブチル−
6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキ
サミド、5−クロロ−N−<2.6−ジエチルフェニル
)−6−メチル−4−オキソ−2−プロピル−4日−と
ラン−3−カルボキサミド、 2−ブチル−5−クロロ−N−(2,6−ジエチルフェ
ニル)−6−メチル−4−オキソ−4)1−ピラン−3
−カルボキサミド、 5−クロロ−N−(4−クロロ−2,6−ジエチルフェ
ニル)−6−メチル−4−オキソ−2−プロピル−4H
−ピラン−3−カルボキサミド、2−ブチル−5−クロ
ロ−N−(4−クロロ−2,6−ジエチルフェニル)−
6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキ
サミド、N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル
)−5−クロロ−6−メチル−4−オキソ−2−プロピ
ル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、N−(4−ブ
ロモ−2,6−ジエチルフェニル)−2−ブチル−5−
クロロ−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−
カルボキサミド、5−ブロモ−N=(4−クロロ−2,
6−ジエチルフェニル)−6−メチル−4−オキソ−2
−プロごルー4H−ピラン−3−カルボキサミド、5−
ブロモ−2−ブチル−N−(4−クロロ−2,6−ジエ
チルフェニル)−6−メチル−4−オキソ−4日−とラ
ン−3−カルボキサミド、2−(3−トリフルオロメチ
ルフェニル)−N−(2,4−ジフルオロフェニル)−
6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキ
サミド、2−(3−ブロモフェニル)−N−(2,4−
ジフルオロフェニル)−6−メチル−4−オキソ−4H
−ピラン−3−カルボキサミド、 N−(2,4−ジフルオロフェニル)−6−メチル−2
−(3−ニトロフェニル)−4−オキソ−4H−ピラン
−3−カルボキサミド、 2−エトキシメチル−N−(2,6−ジエチルフェニル
)−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カル
ボキサミド、 2−エトキシメチル−N−(2,6−ジエチルフ工二ル
)−5,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル)−2−
エトキシメチル−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラ
ン−3−カルボキサミド、N−(4−ブロモ−2,6−
ジエチルフェニル)−2−エトキシメチル−5,6−ジ
メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミ
ド、N−(2,6−ジエチルフェニル)−6−メチル−
4−オキソ−2−プロポキシメチル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 N−(2,6−ジエチルフェニル)−5,6−ジメチル
−4−オキソ−2−プロポキシメチル−4H−ピラン−
3−カルボキサミド、 N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル)=6−
メチル−4−オキソ−2−プロポキシメチル−4H−ピ
ラン−3−カルボキサミド、N−(4−ブロモ−2,6
−ジエチルフェニル)−5,6−ジメチル−4−オキソ
−2−プロポキシメチル−4H−ピラン−3−カルボキ
サミド、2−(2−エトキシエチル)−N−(2,6−
ジエチルフェニル)−6−メチル−4−オキソ−4H−
ピラン−3−カルボキサミド、 2−(2−エトキシエチル)−N−(2,6−ジエチル
フェニル)−5,6−ジメチル− 4−オキソ−4H−
ピラン−3−カルボキサミド、2−(2−エトキシエチ
ル) −N−(2,6−ジエチルフェニル)−5,6−
ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサ
ミド、N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル)
−2−< 2−エトキシエチル)−6−メチル−4−オ
キソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド、N−(4−
ブロモ−2,6−ジエチルフェニル)−2−(2−エト
キシエチル)−5,6−ジメチル−4−オキソ−4H−
ピラン−3−カルボキサミド、 5−ブロモ−N−(2,6−ジエチルフェニル)−2−
メトキシメチル−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラ
ン−3−カルボキサミド、5−ブロモ−N−(4−ブロ
モ−2,6−ジエチルフェニル)−2−メトキシメチル
−6−メチル。
メチル−4−オキソ−2−フェニル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 N−(4−クロロ−2,6−ジエチルフェニル)−6−
メチル−4−オキソ−2−フェニル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 2−ブチル−N−(4−クロロ−2,6−ジエチルフェ
ニル)−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−
カルボキサミド、 2−ブチル−N−(4−クロロ−2,6−ジエチルフェ
ニル)−5,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン
−3−カルボキサミド、 2−(3−シアノフェニル)−6−メチル−4−オキソ
−N−フェニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 2−(3−メトキシフェニル)−6−メチル−4−オキ
ソ−N−フェニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド
、 5−ブロモ−N−(2,6−ジエチルフェニル)−6−
メチル−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 5−ブロモ−2−ブチル−N−(2,6−ジエチルフェ
ニル)−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−
カルボキサミド、 5−ブロモ−N−(4−ブロモ−2,6−シエチルフエ
ニル)−6−メチル−4−オキソ−2−プロピル−4H
−ピラン−3−カルボキサミド、5−ブロモ−N−(4
−ブロモー2.6−ジエチルフェニル)−2−ブチル−
6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキ
サミド、5−クロロ−N−<2.6−ジエチルフェニル
)−6−メチル−4−オキソ−2−プロピル−4日−と
ラン−3−カルボキサミド、 2−ブチル−5−クロロ−N−(2,6−ジエチルフェ
ニル)−6−メチル−4−オキソ−4)1−ピラン−3
−カルボキサミド、 5−クロロ−N−(4−クロロ−2,6−ジエチルフェ
ニル)−6−メチル−4−オキソ−2−プロピル−4H
−ピラン−3−カルボキサミド、2−ブチル−5−クロ
ロ−N−(4−クロロ−2,6−ジエチルフェニル)−
6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキ
サミド、N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル
)−5−クロロ−6−メチル−4−オキソ−2−プロピ
ル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、N−(4−ブ
ロモ−2,6−ジエチルフェニル)−2−ブチル−5−
クロロ−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−
カルボキサミド、5−ブロモ−N=(4−クロロ−2,
6−ジエチルフェニル)−6−メチル−4−オキソ−2
−プロごルー4H−ピラン−3−カルボキサミド、5−
ブロモ−2−ブチル−N−(4−クロロ−2,6−ジエ
チルフェニル)−6−メチル−4−オキソ−4日−とラ
ン−3−カルボキサミド、2−(3−トリフルオロメチ
ルフェニル)−N−(2,4−ジフルオロフェニル)−
6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキ
サミド、2−(3−ブロモフェニル)−N−(2,4−
ジフルオロフェニル)−6−メチル−4−オキソ−4H
−ピラン−3−カルボキサミド、 N−(2,4−ジフルオロフェニル)−6−メチル−2
−(3−ニトロフェニル)−4−オキソ−4H−ピラン
−3−カルボキサミド、 2−エトキシメチル−N−(2,6−ジエチルフェニル
)−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カル
ボキサミド、 2−エトキシメチル−N−(2,6−ジエチルフ工二ル
)−5,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル)−2−
エトキシメチル−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラ
ン−3−カルボキサミド、N−(4−ブロモ−2,6−
ジエチルフェニル)−2−エトキシメチル−5,6−ジ
メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミ
ド、N−(2,6−ジエチルフェニル)−6−メチル−
4−オキソ−2−プロポキシメチル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 N−(2,6−ジエチルフェニル)−5,6−ジメチル
−4−オキソ−2−プロポキシメチル−4H−ピラン−
3−カルボキサミド、 N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル)=6−
メチル−4−オキソ−2−プロポキシメチル−4H−ピ
ラン−3−カルボキサミド、N−(4−ブロモ−2,6
−ジエチルフェニル)−5,6−ジメチル−4−オキソ
−2−プロポキシメチル−4H−ピラン−3−カルボキ
サミド、2−(2−エトキシエチル)−N−(2,6−
ジエチルフェニル)−6−メチル−4−オキソ−4H−
ピラン−3−カルボキサミド、 2−(2−エトキシエチル)−N−(2,6−ジエチル
フェニル)−5,6−ジメチル− 4−オキソ−4H−
ピラン−3−カルボキサミド、2−(2−エトキシエチ
ル) −N−(2,6−ジエチルフェニル)−5,6−
ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサ
ミド、N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル)
−2−< 2−エトキシエチル)−6−メチル−4−オ
キソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド、N−(4−
ブロモ−2,6−ジエチルフェニル)−2−(2−エト
キシエチル)−5,6−ジメチル−4−オキソ−4H−
ピラン−3−カルボキサミド、 5−ブロモ−N−(2,6−ジエチルフェニル)−2−
メトキシメチル−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラ
ン−3−カルボキサミド、5−ブロモ−N−(4−ブロ
モ−2,6−ジエチルフェニル)−2−メトキシメチル
−6−メチル。
−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド、
5−ブロモ−N−(2,6−ジエチルフェニル)−〇−
メチルー4−オキソー2−プロポキシメチル−4H−ピ
ラン−3−カルボキサミド、5−ブロモ−N=(4−ブ
ロモ−2,6−ジエチルフェニル)−6−メチル−4−
オキソ−2−プロポキシメチル−4H−ピラン−3−カ
ルボキサミド、 5−プロ゛モー2−(2−エトキシエチル)−N−(2
,6−ジエチルフェニル)−6−メチル−4−オキソ−
4H−ピラン−3−カルボキサミド、5−ブロモ−N−
(2,6−ジエチルフェニル)−2−メトキシメチル−
6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキ
サミド、5−ブロモ−N−(4−ブロモ−2,6−ジエ
チルフェニル)−2−(2−エトキシエチル)−6−メ
チル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド
、 N−(4−ブロモー2.6−ジエチルフェニル)−5−
クロロ−2−メトキシメチル−6−メチル−4−オキソ
−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 5−クロロ−N−(2,6−ジエチルフェニル)−6−
メチル−4−オキソ−2−プロポキシメチル−4H−ピ
ラン−3−カルボキサミド、N−(4−ブロモ−2,6
−ジエチルフェニル)−5−りOロー6−メチル−4−
オキソ−2−プロポキシメチル−4H−ピラン−3−カ
ルボキイナミド、 5−クロロ−2−(2−エトキシエチル)−N−(2,
6−ジエチルフェニル)−6−メチル−4−オキソ−4
H−ピラン−3−カルボキサミド、N−(4−ブロモ−
2,6−ジエチルフェニル)−5−クロロ−2−(2−
エトキシエチル)−6−メチル−4−オキソ−4H−ピ
ラン−3−カルボキサミド、 5−ブロモ−N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェ
ニル)−2−エトキシメチル−6−メチル−4−オキソ
−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 5−ブロモ−2−エトキシメチル−N−(2,6−ジエ
チルフェニル)−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラ
ン−3−カルボキサミド、N−(4−ブロモ−2,6−
ジエチルフェニル)−5−クロロ−2−エトキシメチル
−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボ
キサミド、 5−クロロ−2−エトキシメチル−N−(2,6−ジエ
チルフェニル)−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラ
ン−3−カルボキサミド、5−ドデシル−N−(2,6
−ジエチルフェニル)−6−メチル−4−オキソ−2−
プロピル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 2−エチル−4−オキソ−N−フェニル−6−(3−ピ
リジル)−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 N−(2,6−ジエチル−4−トリフルオロメチルフェ
ニル)−5,6−ジメチル−4−オキソ−2−プロピル
−4H−ピラン−3−カルボキサミド、5−ブロモ−N
−(4−シアノフェニル)−4−オキソ−2−フェニル
−6−ブロビルー4H−ピラン−3−カルボキサミド、 2−(3−クロロフェニル)−5−エチル−6−へキシ
ル−N、(3−ニトロフェニル)−4−オキソ−4H−
とラン−3−カルボキサミド、N−(4−アミノフェニ
ル)−5−へキシル−6−ノニル−4−オキソ−2−フ
ェニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 6−ドゾシルーN−(4−ヒドロキシフェニル)−5−
ノニル−4−オキソ−2−フェニル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 6−アリル−5−ドデシル−N−(2,6−ジエチル−
4−メトキシフェニル)−4−オキソ−2−フェニル−
4−ピラン−3−カルボキサミド、4−オキソ−N−4
−フェノキシフェニル)−5,6−シフエニルー6−(
2−プロピニル)−4H−ピラン−3−カルボキサミド
、 N−(2−カルボキシフェニル)−6−シクロブロピル
ー4−オキソ−2−フェニル−5−フェニルメチル−4
H−ピラン−3−カルボキサミド、N−(2−メトキシ
カルボニルフェニル)−6−メドキシメチルー4−オキ
ソ−2−フェニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド
、 N−(2,6−ジエチルフェニル)−4−オキソ−2,
5−ジフェニル−6−フェニルメチル−4H−ピラン−
3−カルボキサミド、 N−(2,6−ジエチルフェニル)−4−オキソ−2−
フェニル−6−トリフルオロメチル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 5.6,7.8−テトラヒドロ−4−オキソ−N−2−
ジフエニル−4H−ベンゾビラン−3−カルボキサミド
、 5−ブロモ−N−(4−シアノ−2,6−ジエチルフェ
ニル)−2−メチル−4−オキソ−6−ブロビルー4H
−ピラン−3−カルボキサミド、5−エチル−6−へブ
チル−N−(4−ニトロフェニル)−2−メチル−4−
オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 N−(4−アミノフェニル)−6−ドデシル−2−メチ
ル−4−オキソ−5−ペンチル−4H−ピラン−3−カ
ルボキサミド、 6−アリル−2−メチル−5−オクチル−4−オキソ−
N−<4−トリフルオロメチルフェニル)−4H−ピラ
ン−3−カルボキサミド、5−ドデシル−N−(4−ヒ
ドロキシフェニル)−2−メチル−4−オキソ−6−(
2−プロピニル)−4H−ピラン−3−カルボキサミド
、6−シクロへキシル−2−メチル−N−<4−メトキ
シフェニル)−4−オキソ−5−フェニル−4H−ピラ
ン−3−カルボキサミド、6−プチルー2−メチル−4
−オキソ−N−(4−フェノキシフェニル)−5−フェ
ニルメチル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、5−
クロロ−N−(4−エトキシカルボニル−2,6−ジエ
チルフェニル)−2−メチル−4−オキソ−6−フェニ
ルメチル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 N−(4−カルボキシフェニル −5−(2−メチルプロピル)−4−オキソ−6−(3
−ピリジル)−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 5−10モー2,6−ジメチル−4−オキソ−N−フェ
ニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、5−クロロ
−N−(4−シアノフェニル)−2,6−ジメチル−4
−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 N−(4−アミノ−2,6−ジエチルフェニル)−5−
へキシル−2,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラ
ン−3−カルボキサミド、 N−(2,6−ジニチルー 4−トリフルオロメチルフ
ェニル)−2,6−ジメチル−5−ノニル−4−オキソ
−4H−ピラン−3−カルボキサミド、5−ドデシル=
N−(2,6−ジエチル−4−ヒドロキシフェニル)−
2,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カ
ルボキサミド、N−(4−エトキシ−2,6−ジエチル
フェニル)−2,6−ジメチル−4−オキソ−5−フェ
ニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 2.6−ジメチル− 4−オキソ−N−(4−フェノキ
シフェニル)−5−(3−トリフルオロメチルフェニル
)−4H−ピラン−3−カルボキサミド 実施例1 2−エチル−6−メチル−4−オキソ−N−フェニル−
4H−ピラン−3−カルボキサミド〈化合物No、1) 3−オキソ−N−フェニル吉草酸アミド1.91(1(
10mmol) 、N 、 N−ジメチルヒドラジン0
,9Q(15rtrmoIンおよびトルエン15 y7
の混合物を60℃で8時間撹拌下に加熱した。その後加
熱昇温し、未反応のN、N−ジメチルヒドラジンおよび
生成した水をトルエン約10釘と共に系外に留去し、引
き続き残渣液を還流下に保ちながら、ジケテン2、10
g < 25a+mo I )を5分間かけて滴下した
。さらに2時間加熱還流を続けた後、反応混合物をV温
まで放冷し、生成した結晶を常法に従ってろ過、洗浄、
乾燥すると、題記化合物0.900(1(収率35%)
が得られた。
メチルー4−オキソー2−プロポキシメチル−4H−ピ
ラン−3−カルボキサミド、5−ブロモ−N=(4−ブ
ロモ−2,6−ジエチルフェニル)−6−メチル−4−
オキソ−2−プロポキシメチル−4H−ピラン−3−カ
ルボキサミド、 5−プロ゛モー2−(2−エトキシエチル)−N−(2
,6−ジエチルフェニル)−6−メチル−4−オキソ−
4H−ピラン−3−カルボキサミド、5−ブロモ−N−
(2,6−ジエチルフェニル)−2−メトキシメチル−
6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキ
サミド、5−ブロモ−N−(4−ブロモ−2,6−ジエ
チルフェニル)−2−(2−エトキシエチル)−6−メ
チル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド
、 N−(4−ブロモー2.6−ジエチルフェニル)−5−
クロロ−2−メトキシメチル−6−メチル−4−オキソ
−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 5−クロロ−N−(2,6−ジエチルフェニル)−6−
メチル−4−オキソ−2−プロポキシメチル−4H−ピ
ラン−3−カルボキサミド、N−(4−ブロモ−2,6
−ジエチルフェニル)−5−りOロー6−メチル−4−
オキソ−2−プロポキシメチル−4H−ピラン−3−カ
ルボキイナミド、 5−クロロ−2−(2−エトキシエチル)−N−(2,
6−ジエチルフェニル)−6−メチル−4−オキソ−4
H−ピラン−3−カルボキサミド、N−(4−ブロモ−
2,6−ジエチルフェニル)−5−クロロ−2−(2−
エトキシエチル)−6−メチル−4−オキソ−4H−ピ
ラン−3−カルボキサミド、 5−ブロモ−N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェ
ニル)−2−エトキシメチル−6−メチル−4−オキソ
−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 5−ブロモ−2−エトキシメチル−N−(2,6−ジエ
チルフェニル)−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラ
ン−3−カルボキサミド、N−(4−ブロモ−2,6−
ジエチルフェニル)−5−クロロ−2−エトキシメチル
−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボ
キサミド、 5−クロロ−2−エトキシメチル−N−(2,6−ジエ
チルフェニル)−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラ
ン−3−カルボキサミド、5−ドデシル−N−(2,6
−ジエチルフェニル)−6−メチル−4−オキソ−2−
プロピル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 2−エチル−4−オキソ−N−フェニル−6−(3−ピ
リジル)−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 N−(2,6−ジエチル−4−トリフルオロメチルフェ
ニル)−5,6−ジメチル−4−オキソ−2−プロピル
−4H−ピラン−3−カルボキサミド、5−ブロモ−N
−(4−シアノフェニル)−4−オキソ−2−フェニル
−6−ブロビルー4H−ピラン−3−カルボキサミド、 2−(3−クロロフェニル)−5−エチル−6−へキシ
ル−N、(3−ニトロフェニル)−4−オキソ−4H−
とラン−3−カルボキサミド、N−(4−アミノフェニ
ル)−5−へキシル−6−ノニル−4−オキソ−2−フ
ェニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 6−ドゾシルーN−(4−ヒドロキシフェニル)−5−
ノニル−4−オキソ−2−フェニル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 6−アリル−5−ドデシル−N−(2,6−ジエチル−
4−メトキシフェニル)−4−オキソ−2−フェニル−
4−ピラン−3−カルボキサミド、4−オキソ−N−4
−フェノキシフェニル)−5,6−シフエニルー6−(
2−プロピニル)−4H−ピラン−3−カルボキサミド
、 N−(2−カルボキシフェニル)−6−シクロブロピル
ー4−オキソ−2−フェニル−5−フェニルメチル−4
H−ピラン−3−カルボキサミド、N−(2−メトキシ
カルボニルフェニル)−6−メドキシメチルー4−オキ
ソ−2−フェニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド
、 N−(2,6−ジエチルフェニル)−4−オキソ−2,
5−ジフェニル−6−フェニルメチル−4H−ピラン−
3−カルボキサミド、 N−(2,6−ジエチルフェニル)−4−オキソ−2−
フェニル−6−トリフルオロメチル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 5.6,7.8−テトラヒドロ−4−オキソ−N−2−
ジフエニル−4H−ベンゾビラン−3−カルボキサミド
、 5−ブロモ−N−(4−シアノ−2,6−ジエチルフェ
ニル)−2−メチル−4−オキソ−6−ブロビルー4H
−ピラン−3−カルボキサミド、5−エチル−6−へブ
チル−N−(4−ニトロフェニル)−2−メチル−4−
オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 N−(4−アミノフェニル)−6−ドデシル−2−メチ
ル−4−オキソ−5−ペンチル−4H−ピラン−3−カ
ルボキサミド、 6−アリル−2−メチル−5−オクチル−4−オキソ−
N−<4−トリフルオロメチルフェニル)−4H−ピラ
ン−3−カルボキサミド、5−ドデシル−N−(4−ヒ
ドロキシフェニル)−2−メチル−4−オキソ−6−(
2−プロピニル)−4H−ピラン−3−カルボキサミド
、6−シクロへキシル−2−メチル−N−<4−メトキ
シフェニル)−4−オキソ−5−フェニル−4H−ピラ
ン−3−カルボキサミド、6−プチルー2−メチル−4
−オキソ−N−(4−フェノキシフェニル)−5−フェ
ニルメチル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、5−
クロロ−N−(4−エトキシカルボニル−2,6−ジエ
チルフェニル)−2−メチル−4−オキソ−6−フェニ
ルメチル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 N−(4−カルボキシフェニル −5−(2−メチルプロピル)−4−オキソ−6−(3
−ピリジル)−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 5−10モー2,6−ジメチル−4−オキソ−N−フェ
ニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、5−クロロ
−N−(4−シアノフェニル)−2,6−ジメチル−4
−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 N−(4−アミノ−2,6−ジエチルフェニル)−5−
へキシル−2,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラ
ン−3−カルボキサミド、 N−(2,6−ジニチルー 4−トリフルオロメチルフ
ェニル)−2,6−ジメチル−5−ノニル−4−オキソ
−4H−ピラン−3−カルボキサミド、5−ドデシル=
N−(2,6−ジエチル−4−ヒドロキシフェニル)−
2,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カ
ルボキサミド、N−(4−エトキシ−2,6−ジエチル
フェニル)−2,6−ジメチル−4−オキソ−5−フェ
ニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 2.6−ジメチル− 4−オキソ−N−(4−フェノキ
シフェニル)−5−(3−トリフルオロメチルフェニル
)−4H−ピラン−3−カルボキサミド 実施例1 2−エチル−6−メチル−4−オキソ−N−フェニル−
4H−ピラン−3−カルボキサミド〈化合物No、1) 3−オキソ−N−フェニル吉草酸アミド1.91(1(
10mmol) 、N 、 N−ジメチルヒドラジン0
,9Q(15rtrmoIンおよびトルエン15 y7
の混合物を60℃で8時間撹拌下に加熱した。その後加
熱昇温し、未反応のN、N−ジメチルヒドラジンおよび
生成した水をトルエン約10釘と共に系外に留去し、引
き続き残渣液を還流下に保ちながら、ジケテン2、10
g < 25a+mo I )を5分間かけて滴下した
。さらに2時間加熱還流を続けた後、反応混合物をV温
まで放冷し、生成した結晶を常法に従ってろ過、洗浄、
乾燥すると、題記化合物0.900(1(収率35%)
が得られた。
実施例2
6−メチル−4−オキソ−N−フェニル−2−プロピル
−4H−ピラン−3−カルボキサミド(化合物No、2
) 3−オキソ−N−フェニルヘキサン酸アミド(融点77
.0〜78.5℃) 2.05G(10mmol)
、N、 N−ジメチルヒドラジン0.9g(15mmo
l )およびトルエン151!の混合物を60℃で8r
f間撹拌下に加熱した。その後加熱昇温し、未反応のN
、N−ジメチルヒドラジンおよび生成した水をトルエン
約211と共に系外に留去し、引き続き残渣液を還流下
に保ちながら、 2−エチル−2,6−ジメチル−4H−1,3−ジオキ
シン−4−オン3.90g(25mmol )のトルエ
ン<811)溶液を30分間かけて滴下し、さらに2.
5時間加熱還流を続け、その間にトルエンを約31!留
去させた。反応混合物を空温まで放冷し、生じた結晶を
濾別洗浄し減圧下に乾燥すると、題記化合物 1.32
1;l(収率49%)が得られた。
−4H−ピラン−3−カルボキサミド(化合物No、2
) 3−オキソ−N−フェニルヘキサン酸アミド(融点77
.0〜78.5℃) 2.05G(10mmol)
、N、 N−ジメチルヒドラジン0.9g(15mmo
l )およびトルエン151!の混合物を60℃で8r
f間撹拌下に加熱した。その後加熱昇温し、未反応のN
、N−ジメチルヒドラジンおよび生成した水をトルエン
約211と共に系外に留去し、引き続き残渣液を還流下
に保ちながら、 2−エチル−2,6−ジメチル−4H−1,3−ジオキ
シン−4−オン3.90g(25mmol )のトルエ
ン<811)溶液を30分間かけて滴下し、さらに2.
5時間加熱還流を続け、その間にトルエンを約31!留
去させた。反応混合物を空温まで放冷し、生じた結晶を
濾別洗浄し減圧下に乾燥すると、題記化合物 1.32
1;l(収率49%)が得られた。
実施例3
N−(2,6−ジエチルフェニル)−5,6−ジメチル
− 4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラン−3−カ
ルボキサミド(化合物No、3>N−(2,6−ジエチ
ルフェニル)−3−オキソ−ヘキサン酸アミド5,22
o (20+++mol) 、 N 、 N −ジメチ
ルヒドラジン2.40g (40mmol )およびト
ルエン401!の混合物を60℃で6時間撹拌下に加熱
した後、反応混合物を昇温しで未反応のN、N−ジメチ
ルヒドラジンおよび生成した水を常圧にて約1211の
トルエンと共に系外に留去し、さらに減圧下口−タリー
エバポレーターを用いて乾固まで溶媒を除去した。得ら
れた残渣に2.2,5.6−チトラメチルー4H−1,
3−ジオキシン−4−オン6.27g (44m1ol
>およびメシチレン201!を加え、生成するアセト
ンを系外に除去しながら、1.5時間穏やかに加熱還流
させた。反応混合物から溶媒を減圧下に留去し、得られ
た残渣をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー
によって処理し、ざらにヘキサンから晶析させることに
よって、題記化合物5.39g(収率78.9%)を得
た。
− 4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラン−3−カ
ルボキサミド(化合物No、3>N−(2,6−ジエチ
ルフェニル)−3−オキソ−ヘキサン酸アミド5,22
o (20+++mol) 、 N 、 N −ジメチ
ルヒドラジン2.40g (40mmol )およびト
ルエン401!の混合物を60℃で6時間撹拌下に加熱
した後、反応混合物を昇温しで未反応のN、N−ジメチ
ルヒドラジンおよび生成した水を常圧にて約1211の
トルエンと共に系外に留去し、さらに減圧下口−タリー
エバポレーターを用いて乾固まで溶媒を除去した。得ら
れた残渣に2.2,5.6−チトラメチルー4H−1,
3−ジオキシン−4−オン6.27g (44m1ol
>およびメシチレン201!を加え、生成するアセト
ンを系外に除去しながら、1.5時間穏やかに加熱還流
させた。反応混合物から溶媒を減圧下に留去し、得られ
た残渣をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー
によって処理し、ざらにヘキサンから晶析させることに
よって、題記化合物5.39g(収率78.9%)を得
た。
実施例4
N−(4−クロロフェニル)−2−メチル−4−オキソ
−6−フェニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド(
化合物No、4) p−クロロアセトアセトアニリド2,121J(10m
mol) 、ベンジルアミン1,07o (10mmo
l)及びトルエン201!の混合物を1時間還流下に保
ち、その間に生成した水をトルエン約1211と共に留
去し、さらに減圧ドロータリーエバポレーターを用いて
乾固まで溶媒を除去した。得られた残渣に2.2−ジメ
チル−6−フェニル−4H−1,3−ジオキシン−4−
オン4.49g (22mmol) 、N 、 N 。
−6−フェニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド(
化合物No、4) p−クロロアセトアセトアニリド2,121J(10m
mol) 、ベンジルアミン1,07o (10mmo
l)及びトルエン201!の混合物を1時間還流下に保
ち、その間に生成した水をトルエン約1211と共に留
去し、さらに減圧ドロータリーエバポレーターを用いて
乾固まで溶媒を除去した。得られた残渣に2.2−ジメ
チル−6−フェニル−4H−1,3−ジオキシン−4−
オン4.49g (22mmol) 、N 、 N 。
N’ 、N’ −テトラメチルエチレンジアミン4.6
5o (40ma+ol)およびキシレン201!を加
え、生成するアセトンを系外に除去しながら 1.5時
間穏やかに加熱熱還流させた。反応混合物を放冷し、析
出した結晶を濾過、乾燥して題記化合物2.63g(収
率77.5%)を得た。
5o (40ma+ol)およびキシレン201!を加
え、生成するアセトンを系外に除去しながら 1.5時
間穏やかに加熱熱還流させた。反応混合物を放冷し、析
出した結晶を濾過、乾燥して題記化合物2.63g(収
率77.5%)を得た。
実施例5
N−(2−エチルフェニル) −2,5,6−ドリメチ
ル− 4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド
(化合物No、5) N−(2−エチルフェニル)−3−オキソ−酪酸アミド
2.21(+ (10,8mmol) 、N 、 N−
ジメチルヒドラジン0.96!It (16,0IO+
n0I)およびトルエン301ノの混合物を60℃で8
時間撹拌下に加熱した後、反応混合物を昇温して未反応
のN、N−ジメチルヒドラジンおよび生成した水を常圧
にて約1211のトルエンと共に系外に留去し、さらに
反応混合物を減圧下口−タリーエバポレーターを用いて
乾固まで溶媒を除去した。得られた残渣に2−メチル−
3−オキソ−酪酸エチル2.10g (14,5imo
l )、モレキュラーシーブSA 10gおよびキシレ
ン301!を加え、8時間還流させた。ざらにモレキュ
ラーシーブ5Aを10g加えて、7時間還流させた。反
応混合物をろ過した後ろ液を約101!まで濃縮し、至
温に放置した。生成した結晶をろ過、洗浄乾燥すると、
題記化合物1.89Q(収率62%)が得られた。
ル− 4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド
(化合物No、5) N−(2−エチルフェニル)−3−オキソ−酪酸アミド
2.21(+ (10,8mmol) 、N 、 N−
ジメチルヒドラジン0.96!It (16,0IO+
n0I)およびトルエン301ノの混合物を60℃で8
時間撹拌下に加熱した後、反応混合物を昇温して未反応
のN、N−ジメチルヒドラジンおよび生成した水を常圧
にて約1211のトルエンと共に系外に留去し、さらに
反応混合物を減圧下口−タリーエバポレーターを用いて
乾固まで溶媒を除去した。得られた残渣に2−メチル−
3−オキソ−酪酸エチル2.10g (14,5imo
l )、モレキュラーシーブSA 10gおよびキシレ
ン301!を加え、8時間還流させた。ざらにモレキュ
ラーシーブ5Aを10g加えて、7時間還流させた。反
応混合物をろ過した後ろ液を約101!まで濃縮し、至
温に放置した。生成した結晶をろ過、洗浄乾燥すると、
題記化合物1.89Q(収率62%)が得られた。
実施例6〜137
表1の製造方法の欄に示した方法に従って、それぞれの
化合物を得た。(化合物N O,6〜131)以上の実
施例により製造した各化合物の物性等を表1及び表2に
まとめた。
化合物を得た。(化合物N O,6〜131)以上の実
施例により製造した各化合物の物性等を表1及び表2に
まとめた。
試験例
(植物生理活性試験)
タルク(50重量部)、ベントナイト(25重量部)、
ソルボ−ルー9047 (東邦化手製、2重囲部)、ソ
ルボ−ルー5039 (同前、3重役部)を混合しキャ
リアーを調製した。試験化合物と比較として公知化合物
(比較化合物1〜3)を、それぞれ50重量部と前記キ
ャリアー200重量部とを混合し、20%水和剤を作っ
た。この水和剤を純粋に分散させ所定濃度の水和剤分散
液を得た。別にイネ、ノビエ、二十日ダイコン種子を催
芽させたシャーレを用意し、上記水和剤分散液を添加し
、25℃の照明付き定温庫で7日間育苗して成長程度を
、以下の基準に従って評価し、その結果を表−3に示す
。
ソルボ−ルー9047 (東邦化手製、2重囲部)、ソ
ルボ−ルー5039 (同前、3重役部)を混合しキャ
リアーを調製した。試験化合物と比較として公知化合物
(比較化合物1〜3)を、それぞれ50重量部と前記キ
ャリアー200重量部とを混合し、20%水和剤を作っ
た。この水和剤を純粋に分散させ所定濃度の水和剤分散
液を得た。別にイネ、ノビエ、二十日ダイコン種子を催
芽させたシャーレを用意し、上記水和剤分散液を添加し
、25℃の照明付き定温庫で7日間育苗して成長程度を
、以下の基準に従って評価し、その結果を表−3に示す
。
1 無 影 響
225%成長抑制
3 50%成長抑制
4 75%成長抑制
5 ”’−遣−Wa−
庄)米比較化合物1:
2,6−ジメチル−4−オキソ−1〜−フェニル−41
(−ピラン−3−カルボキサミド脅比較化含物2: 2.6−ジメチル−N−(3−ニトロフェニル)−4−
オ午ソー4rt−ピランー3−カルボキサミド 泰比較化合vlJ3: 4−オキソ−Nノ 2.6−)ジフェニル−4H−ピラ
ンー3−カルボキサミド 以上のように、公団化合物である比較化合物1〜3は、
本発明化合物が有する顕著な植物生理活任はなく、除草
剤として有用な注気を待た;いことは明ら7:l)であ
る。
(−ピラン−3−カルボキサミド脅比較化含物2: 2.6−ジメチル−N−(3−ニトロフェニル)−4−
オ午ソー4rt−ピランー3−カルボキサミド 泰比較化合vlJ3: 4−オキソ−Nノ 2.6−)ジフェニル−4H−ピラ
ンー3−カルボキサミド 以上のように、公団化合物である比較化合物1〜3は、
本発明化合物が有する顕著な植物生理活任はなく、除草
剤として有用な注気を待た;いことは明ら7:l)であ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中(i)R_1がC_2〜C_1_1のアルキル基
、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキ
ル基、低級アルコキシアルキル基、置換されてもよいア
ラルキル基、ハロゲン化低級アルキル基、または5もし
くは6員の異項環基である場合には、R_2、R_3、
R_4は同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、
シアノ基、ニトロ基、アミノ基、低級アルキル基、ハロ
ゲン化低級アルキル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ
基、アリールオキシ基、カルボキシ基、または低級アル
コキシカルボニル基、R_5は水素原子、ハロゲン原子
、C_1〜C_1_1のアルキル基、置換されてもよい
アリール基または置換されてもよいアラルキル基、R_
6はC_1〜C_1_1のアルキル基、低級アルケニル
基、低級アルキニル基、シクロアルキル基、低級アルコ
キシアルキル基、置換されてもよいアリール基、置換さ
れてもよいアラルキル基、ハロゲン化アルキル基、ある
いは5もしくは6員の異項環基、またはR_5とR_6
は一緒に−(CH_2)_m−(mは3もしくは4)を
それぞれ意味し: (II)R_1が置換されてもよいアリール基である場合
には、R_2、R_3、R_4は同一もしくは異なって
、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミ
ノ基、低級アルキル基、ハロゲン化低級アルキル基、ヒ
ドロキシ基、低級アルコキシ基、アリールオキシ基、カ
ルボキシ基、または低級アルコキシカルボニル基、R_
5は水素原子、ハロゲン原子、C_1〜C_1_1のア
ルキル基、置換されてもよいアリール基、あるいは置換
されてもよいアラルキル基、R_6はC_1〜C_1_
1のアルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基
、シクロアルキル基、低級アルコキシアルキル基、置換
されてもよいアラルキル基、ハロゲン化アルキル基、あ
るいは5もしくは6員の異項環基、またはR_5とR_
6は一緒に−(CH_2)_m−(mは3または4)を
それぞれ意味し; (III)R_1がメチル基である場合には、R_2、R
_3、R_4は同一もしくは異なって、水素原子、ハロ
ゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、低級アルキ
ル基、ハロゲン化低級アルキル基、ヒドロキシ基、低級
アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシ基、また
は低級アルコキシカルボニル基、R_5は水素原子、ハ
ロゲン原子、C_1〜C_1_1のアルキル基、置換さ
れてもよいアリール基、または置換されてもよいアラル
キル基、R_6はC_2〜C_1_1のアルキル基、低
級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基
、低級アルコキシアルキル基、置換されてもよいアリー
ル基、置換されてもよいアラルキル基、ハロゲン化アル
キル基、あるいは5もしくは6員の異項環基、またはR
_5、R_6は一緒に−(CH_2)m−(mは3また
は4)をそれぞれ意味し; (IV)R_1、R_6がともにメチル基である場合には
、R_2、R_3、R_4は同一もしくは異なって、水
素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基
、低級アルキル基、ハロゲン化低級アルキル基、ヒドロ
キシ基、低級アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボ
キシ基、あるいは低級アルコキシカルボニル基、R_5
はハロゲン原子、C_1〜C_1_1のアルキル基、置
換されてもよいアリール基、または置換されてもよいア
ラルキル基をそれぞれ意味する〕 で表わされるビロン−3−カルボキサミド誘導体。 2、式( I )の▲数式、化学式、表等があります▼が
フェニル基である 特許請求の範囲第1項記載の化合物。 3、式( I )の▲数式、化学式、表等があります▼が
4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル、4−クロル−
2,6−ジエチルフェニル、2,6−ジエチルフェニル
、2,3−ジメチルフェニル基である特許請求の範囲第
1項記載の化合物。 4、式( I )のR_1におけるアルキル、低級アルケ
ニル、低級アルキニル基の炭素数が2〜5である特許請
求の範囲第1、2または3項記載の化合物。 5、式( I )のR_1が3−トリフルオロフェニル、
3−クロロフェニル、3−ブロモフェニル、3−ニトロ
フェニル、3−シアノフェニルである特許請求の範囲第
1、2または3項記載の化合物。 6、式( I )のR_5がメチル、エチル基である特許
請求の範囲第1〜5項の何れか1つに記載の化合物。 7、式( I )のR_5がハロゲン原子である特許請求
の範囲第1〜6項の何れか1つに記載の化合物。 8、式( I )のR_6がメチル、エチル基である特許
請求の範囲第1〜5項の何れか1つに記載の化合物。 9、6−メチル−4−オキソ−N−フェニル、2−プロ
ピル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 2−ブチル−6−メチル−4−オキソ−N−フエニル−
4H−ピラン−3−カルボキサミド、6−メチル−4−
オキソ−2−ペンチル−N−フェニル−4H−ピラン−
3−カルボキサミド、N−(2,6−ジエチルフェニル
)−6−メチル−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピ
ラン−3−カルボキサミド、 2−ブチル−N−(2,6−ジエチルフェニル)−6−
メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミ
ド、 N−(2,6−ジエチルフェニル)−6−メチル−2−
(2−メチルプロピル)−4−オキソ−4H−ピラン−
3−カルボキサミド、 N−(2,6−ジエチルフェニル)−6−メチル−4−
オキソ−2−ペンチル−4H−ピラン−3−カルボキサ
ミド、 2−エチル−N−(2,6−ジエチルフェニル)−5,
6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボ
キサミド、 N−(2,6−ジエチルフェニル)−5,6−ジメチル
−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラン−3−カル
ボキサミド、 N−(2,6−ジエチルフェニル)−6−メチル−4−
オキソ−2−フェニル−4H−ピラン−3−カルボキサ
ミド、 2−ブチル−N−(2,6−ジエチルフェニル)−5,
6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボ
キサミド、 N−(2,6−ジエチルフェニル)−5,6−ジメチル
−4−オキソ−2−ペンチル−4H−ピラン−3−カル
ボキサミド、 5−エチル−N−(2,6−ジエチルフェニル)−6−
メチル−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 6−メチル−2−(3−メチルフェニル)−4−オキソ
−N−フェニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 2−(3−クロロフェニル)−6−メチル−4−オキソ
−N−フェニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 6−メチル−N−(2,3−ジメチルフェニル)−4−
オキソ−2−プロピル−4H−ピラン−3−カルボキサ
ミド、 N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル)−6−
メチル−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 2−ブチル−6−メチル−N−(2,3−ジメチルフェ
ニル)−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミ
ド、 2−ブチル−5,6−ジメチル−N−(2,3−ジメチ
ルフェニル)−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボ
キサミド、 N−(2,6−ジエチルフェニル)−4−オキソ−6−
フェニル−2−プロピル−4H−ピラン−3−カルボキ
サミド、 N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル)−5,
6−ジメチル−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラ
ン−3−カルボキサミド、 6−メチル−N−(2,3−ジメチルフェニル)−4−
オキソ−2−ペンチル−4H−ピラン−3−カルボキサ
ミド、 6−メチル−4−オキソ−N−フェニル−2−(3−ト
リフルオロメチルフェニル)−4H−ピラン−3−カル
ボキサミド、 N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル)−2−
ブチル−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−
カルボキサミド、 N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル)−2−
ブチル−5,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン
−3−カルボキサミド、 6−メチル−2−(3−ニトロフェニル)−4−オキソ
−N−フェニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 2−(3−トリフルオロメチルフェニル)−N−(4−
フルオロフェニル)−6−メチル−4−オキソ−4H−
ピラン−3−カルボキサミド、2−(3−ブロモフェニ
ル)−6−メチル−4−オキソ−N−フェニル−4H−
ピラン−3−カルボキサミド、 2−ブチル−N−(4−クロロ−2,6−ジエチルフェ
ニル)−5,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン
−3−カルボキサミド、 2−ブチル−N−(4−クロロ−2,6−ジエチルフェ
ニル)−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−
カルボキサミド、 2−ブチル−N−(2,6−ジエチル−6−メチルフェ
ニル)−5,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン
−3−カルボキサミド、 2−ブチル−N−(2,6−ジエチル−6−メチルフェ
ニル)−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−
カルボキサミド、 2−ブチル−N−(4−カルボキシ−2,6−ジエチル
フェニル)−5,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピ
ラン−3−カルボキサミド、 2−ブチル−N−(4−カルボキシ−2,6−ジエチル
フェニル)−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−
3−カルボキサミド、 2−ブチル−N−(4−シアノ−2,6−ジエチルフェ
ニル)−5,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン
−3−カルボキサミド、 2−ブチル−N−(4−シアノ−2,6−ジエチルフェ
ニル)−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−
カルボキサミド、 N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル)−2−
ブチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−4−オキソ−
4H−ベンゾピラン−3−カルボキサミド、2−ブチル
−N−(4−エトキシカルボニル−2,6−ジエチルフ
ェニル)−5,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラ
ン−3−カルボキサミド、2−ブチル−N−(4−エト
キシカルボニル−2,6−ジエチルフェニル)−6−メ
チル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド
、2−ブチル−N−(2,6−ジエチル−4−メトキシ
フェニル)−5,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピ
ラン−3−カルボキサミド、 2−ブチル−N−(2,6−ジエチル−4−メトキシフ
ェニル)−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 2−アリル−N−(2,6−ジエチルフェニル)−5,
6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボ
キサミド、 N−(2,6−ジエチルフェニル)−5,6−ジメチル
−4−オキソ−2−(2−プロピニル)−4H−ピラン
−3−カルボキサミド、 6−メチル−4−オキソ−5−ペンチル−N−(2−フ
ェノキシフェニル)−2−プロピル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 5−ヘプチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−6−
メチル−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 N−(2,6−ジエチルフェニル)−6−ヘプチル−5
−オクチル−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラン
−3−カルボキサミド、 2−ブチル−N−(2,6−ジエチルフェニル)−4,
5,6,7−テトラヒドロ−2−オキソ−シクロペンタ
〔b〕ピラン−3−カルボキサミド、N−(2,6−ジ
エチルフェニル)−4,5,6,7−テトラヒドロ−4
−オキソ−2−プロピル−シクロペンタ〔b〕ピラン−
3−カルボキサミド、N−(4−ブロモ−2,6−ジエ
チルフェニル)−2−ブチル−4,5,6,7−テトラ
ヒドロ−4−オキソ−シクロペンタ〔b〕ピラン−3−
カルボキサミド、 N−(4−クロロ−2,6−ジエチルフェニル)−6−
メチル−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 N−(4−クロロ−2,6−ジエチルフェニル)−5,
6−ジメチル−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラ
ン−3−カルボキサミド N−(2,6−ジエチル−4−メトキシフェニル)−6
−メチル−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラン−
3−カルボキサミドまたは N−(2,6−ジエチル−4−メトキシフェニル)−5
,6−ジメチル−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピ
ラン−3−カルボキサミド である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 10、▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中(i)R_1がC_2〜C_1_1のアルキル基
、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキ
ル基、低級アルコキシアルキル基、置換されてもよいア
ラルキル基、ハロゲン化低級アルキル基、または5もし
くは6員の異項環基である場合には、R_2、R_3、
R_4は同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、
シアノ基、ニトロ基、アミノ基、低級アルキル基、ハロ
ゲン化低級アルキル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ
基、アリールオキシ基、カルボキシ基、または低級アル
コキシカルボニル基、R_5は水素原子、ハロゲン原子
、C_1〜C_1_1のアルキル基、置換されてもよい
アリール基または置換されてもよいアラルキル基、R_
6はC_1〜C_1_1のアルキル基、低級アルケニル
基、低級アルキニル基、シクロアルキル基、低級アルコ
キシアルキル基、置換されてもよいアリール基、置換さ
れてもよいアラルキル基、ハロゲン化アルキル基、ある
いは5もしくは6員の異項環基、またはR_5とR_6
は一緒に−(CH_2)_m−(mは3もしくは4)を
それぞれ意味し; (ii)R_1が置換されてもよいアリール基である場
合には、R_2、R_3、R_4は同一もしくは異なっ
て、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ア
ミノ基、低級アルキル基、ハロゲン化低級アルキル基、
ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、アリールオキシ基、
カルボキシ基、または低級アルコキシカルボニル基、R
_5は水素原子、ハロゲン原子、C_1〜C_1_1の
アルキル基、置換されてもよいアリール基、あるいは置
換されてもよいアラルキル基、R_6はC_1〜C_1
_1のアルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル
基、シクロアルキル基、低級アルコキシアルキル基、置
換されてもよいアラルキル基、ハロゲン化アルキル基、
あるいは5もしくは6員の異項環基、またはR_5とR
_6は一緒に−(CH_2)_m−(mは3または4)
をそれぞれ意味し; (iii)R_1がメチル基である場合には、R_2、
R_3、R_4は同一もしくは異なって、水素原子、ハ
ロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、低級アル
キル基、ハロゲン化低級アルキル基、ヒドロキシ基、低
級アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシ基、ま
たは低級アルコキシカルボニル基、R_5は水素原子、
ハロゲン原子、C_1〜C_1_1のアルキル基、置換
されてもよいアリール基、または置換されてもよいアラ
ルキル基、R_6はC_2〜C_1_1のアルキル基、
低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル
基、低級アルコキシアルキル基、置換されてもよいアリ
ール基、置換されてもよいアラルキル基、ハロゲン化ア
ルキル基、あるいは5もしくは6員の異項環基またはR
_5、R_6は一緒に−(CH_2)_m−(mは3ま
たは4)をそれぞれ意味し; (iv)R_1、R_6がともにメチル基である場合に
は、R_2、R_3、R_4は同一もしくは異なって、
水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ
基、低級アルキル基、ハロゲン化低級アルキル基、ヒド
ロキシ基、低級アルコキシ基、アリールオキシ基、カル
ボキシ基、あるいは低級アルコキシカルボニル基、R_
5はハロゲン原子、C_1〜C_1_1のアルキル基、
置換されてもよいアリール基、または置換されてもよい
アラルキル基をそれぞれ意味する〕 で表わされるビロン−3−カルボキサミド誘導体の少な
くとも1種を有効成分として含有することを特徴とする
除草剤。 11、ビロン3−カルボキサミド誘導体が、6−メチル
−4−オキソ−N−フェニル−2−プロピル−4H−ピ
ラン−3−カルボキサミド、2−ブチル−6−メチル−
4−オキソ−N−フェニル−4H−ピラン−3−カルボ
キサミド、6−メチル−4−オキソ−2−ペンチル−N
−フェニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、N−
(2,6−ジエチルフェニル)−6−メチル−4−オキ
ソ−2−プロピル−4H−ピラン−3−カルボキサミド
、 2−ブチル−N−(2,6−ジエチルフェニル)−6−
メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミ
ド、 N−(2,6−ジエチルフェニル)−6−メチル−2−
(2−メチルプロピル)−4−オキソ−4H−ピラン−
3−カルボキサミド、 N−(2,6−ジエチルフェニル)−6−メチル−4−
オキソ−2−ペンチル−4H−ピラン−3−カルボキサ
ミド、 2−エチル−N−(2,6−ジエチルフェニル)−5,
6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボ
キサミド、 N−(2,6−ジエチルフェニル)−5,6−ジメチル
−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラン−3−カル
ボキサミド、 N−(2,6−ジエチルフェニル)−6−メチル−4−
オキソ−2−フェニル−4H−ピラン−3−カルボキサ
ミド、 2−ブチル−N−(2,6−ジエチルフェニル)−5,
6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボ
キサミド、 N−(2,6−ジエチルフェニル)−5,6−ジメチル
−4−オキソ−2−ペンチル−4H−ピラン−3−カル
ボキサミド、 5−エチル−N−(2,6−ジエチルフェニル)−6−
メチル−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 6−メチル−2−(3−メチルフェニル)−4−オキソ
−N−フェニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 2−(3−クロロフェニル)−6−メチル−4−オキソ
−N−フェニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 6−メチル−N−(2,3−ジメチルフェニル)−4−
オキソ−2−プロピル−4H−ピラン−3−カルボキサ
ミド、 N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル)−6−
メチル−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 2−ブチル−6−メチル−N−(2,3−ジメチルフェ
ニル)−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミ
ド、 2−ブチル−5,6−ジメチル−N−(2,3−ジメチ
ルフェニル)−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボ
キサミド、 N−(2,6−ジエチルフェニル)−4−オキソ−6−
フェニル−2−プロピル−4H−ピラン−3−カルボキ
サミド、 N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル)−5,
6−ジメチル−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラ
ン−3−カルボキサミド、 6−メチル−N−(2,3−ジメチルフェニル)−4−
オキソ−2−ペンチル−4H−ピラン−3−カルボキサ
ミド、 6−メチル−4−オキソ−N−フェニル−2−(3−ト
リフルオロメチルフェニル)−4H−ピラン−3−カル
ボキサミド、 N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル)−2−
ブチル−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−
カルボキサミド、 N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル)−2−
ブチル−5,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン
−3−カルボキサミド、 6−メチル−2−(3−ニトロフェニル)−4−オキソ
−N−フェニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド、 2−(3−トリフルオロメチルフェニル)−N−(4−
フルオロフェニル)−6−メチル−4−オキソ−4H−
ピラン−3−カルボキサミド、2−(3−ブロモフェニ
ル)−6−メチル−4−オキソ−N−フェニル−4H−
ピラン−3−カルボキサミド、 2−ブチル−N−(4−クロロ−2,6−ジエチルフェ
ニル)−5,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン
−3−カルボキサミド、 2−ブチル−N−(4−クロロ−2,6−ジエチルフェ
ニル)−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−
カルボキサミド、 2−ブチル−N−(2,6−ジエチル−6−メチルフェ
ニル)−5,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン
−3−カルボキサミド、 2−ブチル−N−(2,6−ジエチル−6−メチルフェ
ニル)−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−
カルボキサミド、 2−ブチル−N−(4−カルボキシ−2,6−ジエチル
フェニル)−5,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピ
ラン−3−カルボキサミド、 2−ブチル−N−(4−カルボキシ−2、6−ジエチル
フェニル)−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−
3−カルボキサミド、 2−ブチル−N−(4−シアノ−2,6−ジエチルフェ
ニル)−5,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン
−3−カルボキサミド、 2−ブチル−N−(4−シアノ−2,6−ジエチルフェ
ニル)−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−
カルボキサミド、 N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル)−2−
ブチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−4−オキソ−
4H−ベンゾピラン−3−カルボキサミド、2−ブチル
−N−(4−エトキシカルボニル−2,6−ジエチルフ
ェニル)−5,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラ
ン−3−カルボキサミド、2−ブチル−N−(4−エト
キシカルボニル−2,6−ジエチルフェニル)−6−メ
チル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド
、2−ブチル−N−(2,6−ジエチル−4−メトキシ
フェニル)−5,6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピ
ラン−3−カルボキサミド、 2−ブチル−N−(2,6−ジエチル−4−メトキシフ
ェニル)−6−メチル−4−オキソ−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 2−アリル−N−(2,6−ジエチルフェニル)−5,
6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボ
キサミド、 N−(2,6−ジエチルフェニル)−5,6−ジメチル
−4−オキソ−2−(2−プロピニル)−4H−ピラン
−3−カルボキサミド、 6−メチル−4−オキソ−5−ペンチル−N−(2−フ
ェノシキフェニル)−2−プロピル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 5−へプチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)−6−
メチル−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 N−(2,6−ジエチルフェニル)−6−ヘプチル−5
−オクチル−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラン
−3−カルボキサミド、 2−ブチル−N−(2,6−ジエチルフェニル)−4,
5,6,7−テトラヒドロ−2−オキソ−シクロペンタ
〔b〕ピラン−3−カルボキサミド、N−(2,6−ジ
エチルフェニル)−4,5,6,7−テトラヒドロ−4
−オキソ−2−プロピル−シクロペンタ〔b〕ピラン−
3−カルボキサミド、N−(4−ブロモ−2,6−ジエ
チルフェニル)−2−ブチル−4,5,6,7−テトラ
ヒドロ−4−オキソ−シクロペンタ〔b〕ピラン−3−
カルボキサミド、 N−(4−クロロ−2,6−ジエチルフェニル)−6−
メチル−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド、 N−(4−クロロ−2,6−ジエチルフェニル)−5,
6−ジメチル−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラ
ン−3−カルボキサミド N−(2,6−ジエチル−4−メトキシフェニル)−6
−メチル−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラン−
3−カルボキサミドまたは N−(2,6−ジエチル−4−メトキシフェニル)−5
,6−ジメチル−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピ
ラン−3−カルボキサミド である特許請求の範囲10項記載の除草剤。
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