JPS63103814A - SiO微粉末の製造装置 - Google Patents
SiO微粉末の製造装置Info
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- JPS63103814A JPS63103814A JP24559786A JP24559786A JPS63103814A JP S63103814 A JPS63103814 A JP S63103814A JP 24559786 A JP24559786 A JP 24559786A JP 24559786 A JP24559786 A JP 24559786A JP S63103814 A JPS63103814 A JP S63103814A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、SiO粉末の製造装置に関するもので、とく
に0.1μm以下の微細アモルファス状のSi0粉末を
連続的に製造するための装置に関するものである。
に0.1μm以下の微細アモルファス状のSi0粉末を
連続的に製造するための装置に関するものである。
かかるSiO粉末は、Si3N4. SiCといった近
年非常に注目されているファインセラミックス粉末の原
率斗となり得るものであり、とりわけ本発明の装置で得
られるようなSiO微粉末は0.1μm以下という微細
なもので、極めて活性に富み、セラミックス合成用原料
として工業的利用!1lIi1直は非常に高い。
年非常に注目されているファインセラミックス粉末の原
率斗となり得るものであり、とりわけ本発明の装置で得
られるようなSiO微粉末は0.1μm以下という微細
なもので、極めて活性に富み、セラミックス合成用原料
として工業的利用!1lIi1直は非常に高い。
(従来の技術)
SiO微粉末の製造に関する従来技術として、例えば特
公昭59−506旧号公報に開示されているような、い
わゆるS10□と炭素、あるいは、5in2と全屈S1
の混合物を1500℃以上の高温度の減圧下で反応させ
てSiO蒸気を発生させ、該S10蒸気を還元窒化また
、還元炭化もしくは減圧した酸累雰囲気内に断熱膨張で
噴射させることにより、粒径0.1μm以下のアモルフ
ァス状S IO微粉末を得る方法およびそのための装置
が知られている。
公昭59−506旧号公報に開示されているような、い
わゆるS10□と炭素、あるいは、5in2と全屈S1
の混合物を1500℃以上の高温度の減圧下で反応させ
てSiO蒸気を発生させ、該S10蒸気を還元窒化また
、還元炭化もしくは減圧した酸累雰囲気内に断熱膨張で
噴射させることにより、粒径0.1μm以下のアモルフ
ァス状S IO微粉末を得る方法およびそのための装置
が知られている。
(発明が解決しようとする問題点)
上述したSiO微扮末裂造に関する従来技術は、少量生
産の場合であれば良いが、多量に製造しようとすると、
SiO蒸気を搬送するための搬送用パイプが凝縮したS
iOによって閉塞したりする。しかも、断熱l彩張で噴
射させるためのノズルが810蒸気によって浸食されて
ノズルとしての役割を果たさなくなったり、反応物がノ
ズルの部分に蓄積して閉塞してしまう場合もあり、この
技術は真の意味で工業化・単産化に適した製造装置を提
供するものとは云えない。
産の場合であれば良いが、多量に製造しようとすると、
SiO蒸気を搬送するための搬送用パイプが凝縮したS
iOによって閉塞したりする。しかも、断熱l彩張で噴
射させるためのノズルが810蒸気によって浸食されて
ノズルとしての役割を果たさなくなったり、反応物がノ
ズルの部分に蓄積して閉塞してしまう場合もあり、この
技術は真の意味で工業化・単産化に適した製造装置を提
供するものとは云えない。
そこで、本発明者らは、SiO微粉末を製造する技術に
関しての上記従来技術のもつ問題点が克服できると共に
0.1μm以下という極めて微細なSiO微粉末の量産
化に適した製造技術を、先に特願昭60−165676
号として提案した。この発明の要旨を紹介すると、 第1に、5in2系原料と炭素含有物および/または金
属珪素粉末との混合物を、0.1気圧以下に減圧した非
酸化性雰囲気中の1300〜2000℃の温度域で熱処
理し、SiOの蒸気を発生させ、該S10蒸気を前記非
酸化性ガスにより凝縮させかつ1殻送し、S10粉末と
して回収することにより、0.1 μm以下のSiO微
粉末を製造すること、 第2に、5IO2系原料と炭素含有物および/または金
属珪素粉末との混合物を、0.1気圧以下に減圧した非
酸化性雰囲気中の1300〜2000℃の温度域で熱処
理し、SiOの蒸気を発生させ、該SiO蒸気を前記非
酸化性ガスにより凝縮させかつ搬送し、SiO粉末とし
て回収する一方で、減圧熱処理された原料の残品をも別
に回収すること、 そして第3に、上記各製造方法に適した製凸装置を提供
する点にあった。
関しての上記従来技術のもつ問題点が克服できると共に
0.1μm以下という極めて微細なSiO微粉末の量産
化に適した製造技術を、先に特願昭60−165676
号として提案した。この発明の要旨を紹介すると、 第1に、5in2系原料と炭素含有物および/または金
属珪素粉末との混合物を、0.1気圧以下に減圧した非
酸化性雰囲気中の1300〜2000℃の温度域で熱処
理し、SiOの蒸気を発生させ、該S10蒸気を前記非
酸化性ガスにより凝縮させかつ1殻送し、S10粉末と
して回収することにより、0.1 μm以下のSiO微
粉末を製造すること、 第2に、5IO2系原料と炭素含有物および/または金
属珪素粉末との混合物を、0.1気圧以下に減圧した非
酸化性雰囲気中の1300〜2000℃の温度域で熱処
理し、SiOの蒸気を発生させ、該SiO蒸気を前記非
酸化性ガスにより凝縮させかつ搬送し、SiO粉末とし
て回収する一方で、減圧熱処理された原料の残品をも別
に回収すること、 そして第3に、上記各製造方法に適した製凸装置を提供
する点にあった。
本発明の目的は、かかる本発明者らの提案にかかる特願
昭60−165676号で提案したSiO粉末製造装置
に関して装入から排出までを減圧系で統一された連続化
プロセスを提案することにより、連続的かつ効率的に製
造し得るという要請に応えられる装置を提供することに
ある。
昭60−165676号で提案したSiO粉末製造装置
に関して装入から排出までを減圧系で統一された連続化
プロセスを提案することにより、連続的かつ効率的に製
造し得るという要請に応えられる装置を提供することに
ある。
(問題点を解決するための手段)
上述した要請に応えられる装置の開発を目指し、本発明
者らは、S10゜粉末または、SiO□系酸化物原料と
炭素含有物、および/または金属珪素粉末との原料混合
物からSiO粉末を連続的に効率良(製造するための装
置について挿々倹討した結果、次の事項を要旨構成とす
る手段が有効であることがわかった。
者らは、S10゜粉末または、SiO□系酸化物原料と
炭素含有物、および/または金属珪素粉末との原料混合
物からSiO粉末を連続的に効率良(製造するための装
置について挿々倹討した結果、次の事項を要旨構成とす
る手段が有効であることがわかった。
主として810□系酸化物粉末からなる原料混合物を、
減圧非酸化性雲間気中で熱処理することによりSiO蒸
気を発生させ、その後このSiO蒸気を気ト目中で凝縮
させてS10粉末として回収する装置であって、 熱処理炉本体内に、移動機構を使って自動的に供給され
る原料混合物を収容しておくマツフルを設置し、このマ
ツフルには発生SiO蒸気の搬送用パイプ複数個を接続
すると共にこれらの搬送用パイプに対しては発熱体を付
帯させ、そして各搬送用パイプの他端にSiO粉未回収
室を複数室配設したことを特徴とするSiO粉末の製造
装置。
減圧非酸化性雲間気中で熱処理することによりSiO蒸
気を発生させ、その後このSiO蒸気を気ト目中で凝縮
させてS10粉末として回収する装置であって、 熱処理炉本体内に、移動機構を使って自動的に供給され
る原料混合物を収容しておくマツフルを設置し、このマ
ツフルには発生SiO蒸気の搬送用パイプ複数個を接続
すると共にこれらの搬送用パイプに対しては発熱体を付
帯させ、そして各搬送用パイプの他端にSiO粉未回収
室を複数室配設したことを特徴とするSiO粉末の製造
装置。
次に、」1記装置について具体的に説明する。第1図は
本発明の代表的な装置構成であり、SiO粉未回収系統
が2つあり、原料混合物は移動台車を使って供給する減
圧熱処理炉の例を示す。この図において炉本体内の原料
混合物を収容するマツフル10を取囲むように設けた図
示の1は、発熱体であり、そして、同じく2はS団蒸気
の搬送用バ・イブ11を加熱するための黒鉛質発、熱体
である。3は炉本体を構成する断熱材であり、4は鋼製
を好適例とする炉殻である。5はSiO蒸気あるいはそ
れが気相凝縮したSiO微粉末を順送するための不活性
ガスの注入口である。6は原料混合物を間歇的もしくは
連続的にマツフル10内に導入するための移動台車で、
7はその上に設置しである前記原料混合物を入れるため
の試料容器で、8はその中の原料混合物を示す。9は移
動台車上の断熱材である。10は炉本体(主反応炉)内
に設置したマツフルで、その両側からはS10搬送用パ
イプ11が接続しである。12はSiO搬送用パイプの
遊端に気密接続したSiO回収室で、13は該SiO回
収室からS10微粉末を外に抜き出すための排出用バル
ブである。
本発明の代表的な装置構成であり、SiO粉未回収系統
が2つあり、原料混合物は移動台車を使って供給する減
圧熱処理炉の例を示す。この図において炉本体内の原料
混合物を収容するマツフル10を取囲むように設けた図
示の1は、発熱体であり、そして、同じく2はS団蒸気
の搬送用バ・イブ11を加熱するための黒鉛質発、熱体
である。3は炉本体を構成する断熱材であり、4は鋼製
を好適例とする炉殻である。5はSiO蒸気あるいはそ
れが気相凝縮したSiO微粉末を順送するための不活性
ガスの注入口である。6は原料混合物を間歇的もしくは
連続的にマツフル10内に導入するための移動台車で、
7はその上に設置しである前記原料混合物を入れるため
の試料容器で、8はその中の原料混合物を示す。9は移
動台車上の断熱材である。10は炉本体(主反応炉)内
に設置したマツフルで、その両側からはS10搬送用パ
イプ11が接続しである。12はSiO搬送用パイプの
遊端に気密接続したSiO回収室で、13は該SiO回
収室からS10微粉末を外に抜き出すための排出用バル
ブである。
14はバグフィルタ−で、15は同じく排出用バルブで
ある。16は減圧排気用配管で、ロータリーポンプ等の
真空排気装置に連結されている。なお、17は輻射熱遮
蔽用の反射板である。
ある。16は減圧排気用配管で、ロータリーポンプ等の
真空排気装置に連結されている。なお、17は輻射熱遮
蔽用の反射板である。
次に、第2図および第3図は、予熱室A、主反応室B1
冷却室Cを具え、それらの間を仕切り璧18、19を開
閉させなから気畜雰囲気下に前記移動台車6を順次移動
させて連続化を実現するような例である。特に、この形
式の特徴はマツフル10が第1図のように炉本体に固定
されておらず、移動台車6上に載置され、該マツフル1
0に設けた窓孔10aが複数個の各搬送用パイプ11に
対応している点である。
冷却室Cを具え、それらの間を仕切り璧18、19を開
閉させなから気畜雰囲気下に前記移動台車6を順次移動
させて連続化を実現するような例である。特に、この形
式の特徴はマツフル10が第1図のように炉本体に固定
されておらず、移動台車6上に載置され、該マツフル1
0に設けた窓孔10aが複数個の各搬送用パイプ11に
対応している点である。
なお、上述した説明において、発熱体1.2は黒鉛質の
棒状のものを列設する形式を好適例とし、炉体は水冷ジ
ャケットを設けた形式、マツフル10およびS i O
JM送用パイプ11の材質としては黒鉛系、SiC系の
もの、仕切り壁1B、 19は断熱材を用いるのが好適
である。
棒状のものを列設する形式を好適例とし、炉体は水冷ジ
ャケットを設けた形式、マツフル10およびS i O
JM送用パイプ11の材質としては黒鉛系、SiC系の
もの、仕切り壁1B、 19は断熱材を用いるのが好適
である。
また、図示の20はフィルター、21は予熱室へに設け
た発熱体である。
た発熱体である。
(作 用)
さて、課題解決のために採用した上記製造装置によって
SiO微粉末を製造する方法について、以下にその具体
的内容を説明する。
SiO微粉末を製造する方法について、以下にその具体
的内容を説明する。
本発明製造装置に使用する5102系原IEI扮末は、
特に限定されないが、S10蒸気を効率良く発生させる
ために、微細な粉末の方が望ましい。また、得られるS
10微扮末を高純度に維持するために、使用する5iO
7扮末も高純度のものの方が良い。例えば天然の高純度
石英粉末や水ガラスに酸あるいは炭酸ガスを反応させて
製造される;いわゆる湿式法による5iO7粉末などが
好適である。その他、S10□を含む酸化物粉末も原料
として有効である。
特に限定されないが、S10蒸気を効率良く発生させる
ために、微細な粉末の方が望ましい。また、得られるS
10微扮末を高純度に維持するために、使用する5iO
7扮末も高純度のものの方が良い。例えば天然の高純度
石英粉末や水ガラスに酸あるいは炭酸ガスを反応させて
製造される;いわゆる湿式法による5iO7粉末などが
好適である。その他、S10□を含む酸化物粉末も原料
として有効である。
例えば、SiO□を含む酸化物としては、ジルコン(Z
「0□・5I02) 粉末、ムライト(3A1203
・2SiO3)粉末、ワラストナイト(CaO−5iO
7)粉末などがある。
「0□・5I02) 粉末、ムライト(3A1203
・2SiO3)粉末、ワラストナイト(CaO−5iO
7)粉末などがある。
さらにはこうした成分を含有する酸化物のガラス粉末も
使用可能である。
使用可能である。
上記5IO7系原料に対しては炭素含有物を混合するが
、炭素含有物としては石油コークスや石油ピッチ、カー
ボンブラック、各腫有機樹脂などいずれも使用できる。
、炭素含有物としては石油コークスや石油ピッチ、カー
ボンブラック、各腫有機樹脂などいずれも使用できる。
また、炭素含有物のかわりに金属珪素粉末を用いても同
様であり、そして炭素含有物と金属珪素粉末を同時に混
合しても同ト筆である。
様であり、そして炭素含有物と金属珪素粉末を同時に混
合しても同ト筆である。
これらの原料混合物8はは、移動台車6を使って順次連
続的に主反応室(熱処理炉本体)内に供給する。
続的に主反応室(熱処理炉本体)内に供給する。
次に、移動台車6によって運び込まれたS10□系原料
と炭素含有物および/または金属珪素粉末との混合粉末
、又はそれらの成形体はN2. Ar、 CDを使って
0.1気圧以下の非酸化性雰囲気の減圧下に維持したマ
ツフル10内に保持し、発熱体1の作用により、130
0〜2000℃の温度範囲に加熱して熱処理を行う。マ
ツフル10内雰囲気の圧力は、効率的にSiO蒸気を発
生させるために、0.1気圧以下にするのが好適である
。
と炭素含有物および/または金属珪素粉末との混合粉末
、又はそれらの成形体はN2. Ar、 CDを使って
0.1気圧以下の非酸化性雰囲気の減圧下に維持したマ
ツフル10内に保持し、発熱体1の作用により、130
0〜2000℃の温度範囲に加熱して熱処理を行う。マ
ツフル10内雰囲気の圧力は、効率的にSiO蒸気を発
生させるために、0.1気圧以下にするのが好適である
。
かようにして熱処理を行うと、5102粉末と炭素含有
物、あるいは金属Si粉末とを混合しているため、下記
(1,(2)式により、それぞれ反応が進行し、SiO
蒸気が発生する。
物、あるいは金属Si粉末とを混合しているため、下記
(1,(2)式により、それぞれ反応が進行し、SiO
蒸気が発生する。
SiO□(42,s)+C(s)→Si[](8g+C
O(g) −(1)Sin2(Cs) +5i(s
)−+ 23i[] (8g ”・(2)(+、
)式の反応を1気圧で継続して進行させるために必要な
熱力学的温度は、1750℃以上である。ところが、上
記したように原料の供給から排出までのプロセスを減圧
雰囲気にすれば、(1)式の反応を進行させるために必
要な熱力学的な温度は、例えば0.1気圧下では164
0℃、0.旧気圧下では1540℃となり、圧力を1桁
下れば、反応に必要な熱処理温度は100℃前後低下す
る。このことから(1)、 (2)式の反応を減圧下で
行えば、低温度、短時間で熱処理ができ、S10蒸気を
効率良く発生させることができる。
O(g) −(1)Sin2(Cs) +5i(s
)−+ 23i[] (8g ”・(2)(+、
)式の反応を1気圧で継続して進行させるために必要な
熱力学的温度は、1750℃以上である。ところが、上
記したように原料の供給から排出までのプロセスを減圧
雰囲気にすれば、(1)式の反応を進行させるために必
要な熱力学的な温度は、例えば0.1気圧下では164
0℃、0.旧気圧下では1540℃となり、圧力を1桁
下れば、反応に必要な熱処理温度は100℃前後低下す
る。このことから(1)、 (2)式の反応を減圧下で
行えば、低温度、短時間で熱処理ができ、S10蒸気を
効率良く発生させることができる。
上述の如き減圧熱処理条件で、主反応室B内にSiO蒸
気を発生させるが、さらに本発明装置は、熱処理の際に
、ガス注入口5から非酸化性ガスを減圧熱処理のための
炉の中に導入し、炉内で発生したSiD蒸気を気引目中
で凝縮させると同時に気密下で加熱保温された状態の搬
送用パイプ11・・・を経て、SiO回収室12内へ搬
送し、SiO微粉末として回収する。このときガス注入
口5を通じ、外部より炉内に導入した非酸化性ガスとし
ては、N2. Ar。
気を発生させるが、さらに本発明装置は、熱処理の際に
、ガス注入口5から非酸化性ガスを減圧熱処理のための
炉の中に導入し、炉内で発生したSiD蒸気を気引目中
で凝縮させると同時に気密下で加熱保温された状態の搬
送用パイプ11・・・を経て、SiO回収室12内へ搬
送し、SiO微粉末として回収する。このときガス注入
口5を通じ、外部より炉内に導入した非酸化性ガスとし
ては、N2. Ar。
Co、 N2などのガスが好適である。こうした非酸化
性ガスを外部から導入する理由には以下の三つの[1的
がある。
性ガスを外部から導入する理由には以下の三つの[1的
がある。
■ SiO蒸気を効率良く被熱処理物から搬送除去させ
る。
る。
■ SiO蒸気を急冷することによって気相から急速に
凝縮させてS10を超微粉化させる。
凝縮させてS10を超微粉化させる。
■ 生成したSiO微粉末を気流に乗せて粉末回収装置
まで搬送させる。
まで搬送させる。
この点Sit]微粉末の製造方法に関しての従来技術で
ある特公昭56−50601号公報によれば、SiO蒸
気を先細ノズル、または末広ノズルを用いて0.6〜数
マツハの速度でノズルから噴射し、断熱膨張させること
によって急冷し、SiO微粉末を得るとある。しかし、
本発明装置によると、かような製造技術および製造装置
上の繁雑さなしに、単に外部から炉内に非酸化性ガスを
導入することにより、発生したS10蒸気を気相中でそ
のまま凝縮・搬送させ、容易にSiO微粉末を製造する
ことが可能である。
ある特公昭56−50601号公報によれば、SiO蒸
気を先細ノズル、または末広ノズルを用いて0.6〜数
マツハの速度でノズルから噴射し、断熱膨張させること
によって急冷し、SiO微粉末を得るとある。しかし、
本発明装置によると、かような製造技術および製造装置
上の繁雑さなしに、単に外部から炉内に非酸化性ガスを
導入することにより、発生したS10蒸気を気相中でそ
のまま凝縮・搬送させ、容易にSiO微粉末を製造する
ことが可能である。
なお、非酸化性ガスを注入する目的は、前述の■〜■が
挙げられるが、SiO蒸気からの310粉末の生成の過
程については、SiO蒸気の被熱処理物からの発生と同
時に、注入した非酸化性ガスの急冷作用によりSiO微
粉末が気ト目中凝縮により生成すると考えられる。そし
て以上の過(呈で発生したSiO微粉末は前記非酸化性
ガスの気流に乗せてSiO回収室12まて1般送させた
後、排出用バルブ13. 15から取出し、一方ガスに
ついてはフィルター20およびバグフィルタ−14を経
由させて排気用配管16を通じて排気する。
挙げられるが、SiO蒸気からの310粉末の生成の過
程については、SiO蒸気の被熱処理物からの発生と同
時に、注入した非酸化性ガスの急冷作用によりSiO微
粉末が気ト目中凝縮により生成すると考えられる。そし
て以上の過(呈で発生したSiO微粉末は前記非酸化性
ガスの気流に乗せてSiO回収室12まて1般送させた
後、排出用バルブ13. 15から取出し、一方ガスに
ついてはフィルター20およびバグフィルタ−14を経
由させて排気用配管16を通じて排気する。
(実施例)
Sin、含有量99.5%の5102粉末およびZrO
□と5iO7の合計含有量が99.0%のジルコン粉末
と石炭ピッチとから、SiO,と石炭ピッチ中の固定炭
素量との混合モル比(C/5102)が1.0となるよ
うに均一に混合し、原料混合物を、得た。これらの原料
混合物を第2図、第3図に示した3室炉タイプの台車移
動方式の連続減圧熱処理炉を用いて第5図に示した温度
・圧ツノパターンにて熱処理を行った。その結果、Si
O□粉末と石炭ピッチの混合物からは、粒径が0゜1μ
m以下の310微粉末が収率70%以上で大量に(、j
)、られた。一方、ジルコン粉末と石炭ピッチの混合物
からは、99%以上の高純度ジルコニア粉末とo、tA
tm以下のSiO粉末とが高収率で大量に製造できた。
□と5iO7の合計含有量が99.0%のジルコン粉末
と石炭ピッチとから、SiO,と石炭ピッチ中の固定炭
素量との混合モル比(C/5102)が1.0となるよ
うに均一に混合し、原料混合物を、得た。これらの原料
混合物を第2図、第3図に示した3室炉タイプの台車移
動方式の連続減圧熱処理炉を用いて第5図に示した温度
・圧ツノパターンにて熱処理を行った。その結果、Si
O□粉末と石炭ピッチの混合物からは、粒径が0゜1μ
m以下の310微粉末が収率70%以上で大量に(、j
)、られた。一方、ジルコン粉末と石炭ピッチの混合物
からは、99%以上の高純度ジルコニア粉末とo、tA
tm以下のSiO粉末とが高収率で大量に製造できた。
(発明の効果)
以」二のべたように、本発明製造装置によれば、5i(
1,系原料と、炭素含有物または金属珪累粉末とからな
る原料混合物から、SiO微粉末またはSiO微粉末と
原料中に含まれる成分である酸化物粉末(例えばジルコ
ニア粉末)などを連続的にかつ効率良く製造できる。
1,系原料と、炭素含有物または金属珪累粉末とからな
る原料混合物から、SiO微粉末またはSiO微粉末と
原料中に含まれる成分である酸化物粉末(例えばジルコ
ニア粉末)などを連続的にかつ効率良く製造できる。
第1図は、本発明装置の断面図、
第2図は、本発明装置の別の実施例である3室炉クイズ
の例の断面図、 第3図は、第2図に示す装置についての平面図、第4図
は、実施例で採用した熱処理時の温度と圧力のパターン
説明図である。
の例の断面図、 第3図は、第2図に示す装置についての平面図、第4図
は、実施例で採用した熱処理時の温度と圧力のパターン
説明図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、主としてSiO_2系酸化物粉末からなる原料混合
物を減圧非酸化性雰囲気中で熱処理することによりSi
O蒸気を発生させ、その後このSiO蒸気を気相中で凝
縮させてSiO粉末として回収する装置であって、 熱処理炉本体内に、移動機構を使って自動 的に供給される原料混合物を収容しておくマッフルを設
置し、このマッフルには発生SiO蒸気の搬送用パイプ
複数個を接続すると共にこれらの搬送用パイプに対して
は発熱体を付帯させ、そして各搬送用パイプの他端にS
iO粉末回収室を複数室配設したことを特徴とするSi
O粉末の製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24559786A JPS63103814A (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | SiO微粉末の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24559786A JPS63103814A (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | SiO微粉末の製造装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63103814A true JPS63103814A (ja) | 1988-05-09 |
Family
ID=17136090
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24559786A Pending JPS63103814A (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | SiO微粉末の製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63103814A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002018669A1 (fr) * | 2000-08-31 | 2002-03-07 | Sumitomo Titanium Corporation | Materiau de depot par evaporation sous vide de monoxyde de silicium, son procede de production, la matiere premiere pour sa production et appareil de production |
US6395249B1 (en) | 1997-12-25 | 2002-05-28 | Nippon Steel Corporation | Production process and apparatus for high purity silicon |
JP2009078949A (ja) * | 2007-09-26 | 2009-04-16 | Nippon Steel Materials Co Ltd | SiO粉体の製造方法及び製造装置 |
WO2013141024A1 (en) * | 2012-03-22 | 2013-09-26 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method and system for the production of silicon oxide deposit |
WO2014157154A1 (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-02 | 信越化学工業株式会社 | 酸化珪素の製造装置及び製造方法 |
-
1986
- 1986-10-17 JP JP24559786A patent/JPS63103814A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6395249B1 (en) | 1997-12-25 | 2002-05-28 | Nippon Steel Corporation | Production process and apparatus for high purity silicon |
WO2002018669A1 (fr) * | 2000-08-31 | 2002-03-07 | Sumitomo Titanium Corporation | Materiau de depot par evaporation sous vide de monoxyde de silicium, son procede de production, la matiere premiere pour sa production et appareil de production |
JP2009078949A (ja) * | 2007-09-26 | 2009-04-16 | Nippon Steel Materials Co Ltd | SiO粉体の製造方法及び製造装置 |
WO2013141024A1 (en) * | 2012-03-22 | 2013-09-26 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method and system for the production of silicon oxide deposit |
CN104024160A (zh) * | 2012-03-22 | 2014-09-03 | 信越化学工业株式会社 | 制造氧化硅沉积物的方法和系统 |
TWI561468B (en) * | 2012-03-22 | 2016-12-11 | Shinetsu Chemical Co | Method and system for the production of silicon oxide deposit |
US9790095B2 (en) | 2012-03-22 | 2017-10-17 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method and system for the production of silicon oxide deposit |
WO2014157154A1 (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-02 | 信越化学工業株式会社 | 酸化珪素の製造装置及び製造方法 |
JP5954492B2 (ja) * | 2013-03-29 | 2016-07-20 | 信越化学工業株式会社 | 酸化珪素の製造装置及び製造方法 |
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