JPS6310348A - 光デイスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光ディスクの製造方法に関する。

〔発明の背景〕

通常、光ディスクは、ポリカーボネートまたはポリメチ
ルメタクリレート等の透明樹脂板に、記録および／また
は再生が可能なレーザー光の反射性の膜を単独であるい
は他の物質との積層状態とし、膜の形成していない基板
露出面がわからレーザー光を照射し、その反射光により
信号を検出するようにしである。

また、記録層の損傷から保護するために、有機保護膜を
、通常は紫外線硬化樹脂をスピンコード法により形成し
ている。

一方、樹脂基板は、ガラス基板に比較して傷がつき易い
ので、レーザー光が入射する面を傷から保護するために
、ハードコート層を設けることが提案されている。

しかし、記録層側に保護層を、基板側にハードコート層
を形成する場合、スピンコード法では、ディスクを水平
面上に保持しながら鉛直軸周りに回転させながら分数を
図るものであるため、１度に片面のみしか処理できず、
他の面のコートを行なう場合、転倒して再び行うことが
必要となり、工程が２工程となり、製造コストは約２倍
となる。

また、ディスクを樹脂槽中に浸漬した後、引き上げて硬
化させる方法もあるが、これでは保護層とハードコート
層とが同一の材料となり、しかも厚みに差異をもたせる
ことができないなどの難点があった。

そこで、本発明の主たる目的は、記録層の保護層と基板
の保護用ハードコート層を生産性に優れ、しかもそれぞ
れ最適な素材をもって形成できる光ディスクを製造可能
な方法を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的は、透明基板にレーザー光により記録および再
生の少くとも一方ができるよう光反射層を設けた光ディ
スクを、そのディスク面が鉛直面に沿うように水平線周
りに回転自在に保持し、ディスクを回転させている状態
でその両表面にエネルギー線により硬化する樹脂を投射
し、その回転中または回転停止直後にエネルギー線を照
射して前記樹脂を硬化させることで達成される。

〔発明の具体的構成〕

以下本発明をさらに詳説する。

まず、第１図の製造装置を参照しながら本発明の詳細な
説明する。

ｌは透明基板で、その一方の面には光反射層としての記
録膜２が形成されている。この光ディスクを、そのディ
スク面が鉛直面に沿うように水平線周りにモーター等の
回転駆動手段に連続された回転軸３によって回転自在に
保持しておく。この光ディスクの両表面に対して、保護
層用樹脂吹付ノズル４およびオーバーコート内樹脂吹付
ノズル５をそれぞれ一本または複数本配置し、これらノ
ズル４．５からそれぞれ紫外線硬化樹脂を、ディスクを
回転させながら吹付ける。

一方、ディスクを配置した側方周囲にはミラー６が、下
方には余り樹脂用のパンツがそれぞれ配され、さらに上
方にはシャッター８および紫外線ランプ９が配置されて
いる。

かかる装置を用い、ディスクを回転させている状態で、
その記録膜２側および基板１側両表面に、それぞれ保護
層用およびオーバーコート用の紫外線硬化樹脂をそれぞ
れ吹き付け、スピンコードさせる。また、この回転中ま
たは回転停止直後に、紫外線ランプ９から紫外線を投射
させ、樹脂の硬化を図る。この場合、ディスクの両面に
対向的にそれぞれ紫外線ランプを設けてもよいが、図示
例のように、上方−個所のみに紫外線ランプ９を設け、
紫外線をミラー６で反射させて硬化させるのが設備費が
少くて足り好適である。シャッター８は、ディスクの回
転を停止した後、あるいは回転中でも、樹脂が十分に飛
散し、紫外線ランプに樹脂液がかからなくなった時点で
開けられる。勿論、紫外線を十分に透過する材料でシャ
ッターを形成すれば、シャッターを常時閉としておいて
もよい。

本発明において、透明基板としては、ガラスであっても
よいが、オーバーコート層を必要とするものを主に対象
とするので、樹脂基板を主対象としている。樹脂基板の
例としては、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）　
、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポ
リアミド、エポキシ、三酢酸セルロース、ポリエチレン
テレフタレート等を挙げることができる。

光反射層の材質としては、＾７！、Ｃｕ、　Ａｕ等の反
射のみを考えたもののほか、記録を目的とする反射層で
あってもよく、この例としては、Ｔｅ系材料、あるいは
これにＩｎ＋　Ｓｎｔ　Ｐｂ、　Ｓｂ、　Ｂｉ等を添加
したもの、Ｓｓ系材料、Ｒｈ−Ｓｉ共品合金、ＡｓＴｅ
Ｇｅ。

５ｎＴｅＳｅ非晶質膜、５ｂｚＳｅ３＋　ＢｔｇＴｅ３
なども使用できる。追記型の光磁気ディスクであっても
よく、この場合、希土類−遷移金属アモルフプス合金が
一般には好ましいが、結晶体の形式であってもよい。

この例としては、ＧｄＦｅ、　ＴｂＦｅ、　ＧｄＣｏ、
　［１ｙＦｅ。

ＧｄＴｂＦｅ、　ＴｂＤｙＦｅ、　ＴｂＦｅＣｏ、　Ｇ
ｄＴｂＣｏ、　ＧｄＦｅＢ１゜ＧｄＴｂＦｅＣｏ、Ｇｄ
ＴｂＦｅＧｅ　Ｓあるいは８４．　Ｓｎ、Ｇｅ等の添加
元素が添加されたもの：　ＭｎＢ１＋　ＰｔＣｏ、　Ｍ
ｎＣｕＢ１゜ＭｎＡ　Ｉ　Ｇｅ等を挙げることができる
。

この光反射膜の形成法としては、スパッタ法、プラズマ
ＣＶＤ法、真空または反応性蒸着法などを使用できる。

光磁気ディスクの場合、Ａ　ＩＩ　Ｎ＋　５ｉａＮ４＋
　ＳｉＯ□。

Ｓｉｎ、　ＬａＦｓ、　ＣａＰｚ＋　ＴｔＯｚ＋　Ｚｎ
Ｓ等の誘電体膜を形成してもよい。

一方、保護層およびオーバーコート層を形成する場合、
エネルギー線、たとえば紫外線によって硬化する樹脂を
用いるが、この例として、ラジカル重合によるアクリル
系のほか、カチオン重合によるエポキシ系のもの等を用
いることができる。

保護層の厚みとしては、１μ〜１０μが好ましく、また
オーバーコート厚としては、２〜２０μが望ましい。両
者について、厚みを異らせたい場合、樹脂液粘度を変え
ることなどによって可能である。両者の材質は同じであ
ってもよいが、異らせる場合には、上記各ノズル４，５
から吹付ける樹脂液を変えればよいだけである。

スピンコード時のディスクの回転数は、５００〜４００
０ｒｐｍが望ましい。

なお、上記のようにして最終的に得た２枚のディスクを
、保護層がね相互を張り合せてもよい。

〔発明の効果〕

以上の通り、本発明によれば、ディスクの両面について
、保護層およびハードコート層を一度にスピンコードで
きるので生産性に優れるとともに、各層の形成材料を異
らせることもでき、目的に合った層形成材料を選択でき
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明法を実施するための製造装置例を示す概
要図である。 １・・・透明基板、２・・・保護膜（光反射層）、４・
・・樹脂吹付ノズル、９・・・紫外線ランプ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）透明基板にレーザー光により記録および再生の少
   くとも一方ができるよう光反射層を設けた光ディスクを
   、そのディスク面が鉛直面に沿うように水平線周りに回
   転自在に保持し、ディスクを回転させている状態でその
   両表面にエネルギー線により硬化する樹脂を投射し、そ
   の回転中または回転停止直後にエネルギー線を照射して
   前記樹脂を硬化させることを特徴とする光ディスクの製
   造方法。