JPH03150739A - 光ディスクの洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、光ビームの照射によって情報信号を再生でき
る光ディスクに係わり、特に保護膜を塗布する基板面の
洗浄方法に関する。

（従来の技術） 光ディスクの基板の材料としては生産性、コストなどの
面から一般にＰＣ（ポリカーボネート樹脂）、ＰＭＭＡ
（ポリメチルメタクリレート樹脂）などの熱可塑性樹脂
やエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂が用いられている。

このようなプラスチック材料からなる基板、すなわち、
プラスチック基板の一方の面には情報信号を表すビット
列からなるトラックが形成されており、他方の面から光
ビームを照射してトラックを走査することにより、情報
信号を再生することができる。かかる光ディスクにおい
ては、情報信号を良好に再生できるためには、プラスチ
ック基板の光ビームが照射される面、即ち光ビーム照射
面が一様に平坦で傷が付がず、かつ塵あいなどが付着し
ないことが必要である。

一方、プラスチックレンズなど他の光学部品では傷付き
および、塵あい付着を防止するため、従来より帯電防止
機能を有し、且つ傷が付かない表面硬化保護膜がコート
されている。光ディスクにおいても同様に処理すること
ができ従来より数多くの提案がなされている。（特開昭
６１−１３３０６３、特開昭６３−１６００３０．特開
昭６３−６９０４４）光デイスク基板は中心穴を有する
ドーナツ状円盤なので、基板面の保護膜の塗布にはスピ
ンコート法が適している。従来は、光ディスク成形基板
を超音波洗浄などの方法によってディッピング洗浄し、
洗浄された基板をスピンナーに移し、保護膜をスピンコ
ートしていた。

（発明が解決しようとする課題） プラスチックレンズなどの光学部品では洗浄も保護膜の
コーティングもディッピング（浸漬）法で連続してクリ
ーンルーム内で行われているため、保護膜中に混入する
塵あいが少ないのに比べて、光デイスク基板の場合は洗
浄方法と保護膜のコーティング方法が異なっていたので
、洗浄済みの基板を移送する段階で塵あいが付着し、保
護膜をスピンコートすると膜中に塵あいが混入している
という問題が生じていた。本発明の目的は、光デイスク
基板の洗浄方法を改善することによって、保護膜中に塵
あいの混入のない光ディスクを提供しようとするもので
ある。

（課題を解決するための手段） 本発明は、透明なプラスチック基板の光ビーム照射面側
にスピンナーを用いて保護膜を設ける直前に前記基板面
を洗浄溶媒でスピンコート洗浄することを特徴とする光
ディスクの洗浄方法である。

（作用） 本発明の洗浄に用いられる光ディスクとしては、プラス
チック例えばＰＣ（ポリカーボネート樹脂）、ＰＭＭＡ
（ポリメチルメタアクリレート樹脂）、エポキシ樹脂等
からなる片面にトラッキング用案内溝を有するプラスチ
ック成形基板、及び光記録膜、反射膜、オーバーコート
膜などがトラッキング用案内溝の上に設けられている再
生専用型、追記型、相変模型、光磁気型などの光ディス
クがあげられる。

これらの光デイスク基板のトラッキング案内溝（光記録
膜２面とは反対側の光ビーム照射面側に表面硬化（ハー
ドコート）膜、帯電防止膜または帯電防止兼ハードコー
ト膜をスピンコートして保護膜が形成される。保護膜は
平坦で傷が付かず塵あいが付着しないものが要求される
。スピンコートする保護膜の膜厚は１０ｐｍ程度とされ
ているからコートする基板面に塵あいが付着していると
保護膜の形は塵あいを核として丘のように盛り上がる。

保護膜の平坦さが失われると照射した光ビームの反射角
がずれて情報信号エラーとなる。それゆえに保護膜を設
ける直前に基板面に付着している塵あいなどを除去する
本発明の洗浄溶媒によるスピンコート洗浄方法が有効な
手段となる。

本発明に用いられる洗浄溶媒は、スピンコート洗浄中に
、基板の光ビーム照射面側を溶解しないものでスピンコ
ート洗浄後は振り切り乾燥されているものが好ましい。

例えば、メタノール、エタノール、インプロパツール、
ｎ−ブタノールの１種または２種以上の混合溶剤があげ
られる。また、表面張力を調整するために少量の水を添
加してもよい。また、必要に応じて界面活性剤を少量添
加して使用してもよい。

スピンコート洗浄条件は、基板面に付着している塵あい
などを溶剤ごと振り落としてしまうものであるから、光
デイスク基板を３００ｒｐｍ以下の低速回転させながら
、洗浄溶剤を基板全面に滴下し、次いで２００Ｏｒｐｍ
以上の高速回転で洗浄溶媒を付着塵あいごと振り切って
しまうのが好ましい。

それに、引き続いて通常の方法で保護膜をスピンコート
すれば、保護膜中に塵あいなどをほとんど含まない情報
信号エラーの生じない光ディスクが得られる。

（実施例） 以下、本発明の実施例を図面によって説明する。第１図
は本発明による光ディスクの洗浄溶媒によるスピンコー
ト洗浄を行い、引き続いて保護膜をスピンコートした光
ディスクの一実施例を示す断面図であって、１はプラス
チック基板１ａは記録面、１ｂは光ビーム照射面（洗浄
溶媒によるスピンコート洗浄面）、２は記録膜、３はオ
ーバーコート膜、４は保護膜（帯電防止兼表面硬化ハー
ドコート膜）である。

同図において、プラスチック基板１は例えばＰＣ，ＰＭ
ＭＡなとの熱可塑性樹脂もしくはエポキシ樹脂などの熱
硬化性樹脂からなり、その一方の面１ａはビット列から
なるスパイラル状もしくは同心円状のトラックが形成さ
れた記録面である。この記録面１ａには記録膜２および
オーバーコート膜３が設けられている。

プラスチック基板１の他方の面１ｂは光ビームが照射さ
れる面であり、本発明の洗浄溶媒によるスピンコート洗
浄法が適用される面である。スピンコート洗浄に引き続
いて保護膜（帯電防止兼表面硬化ハードコート膜）４が
設けられている。

プラスチック基板１を直径１３０ｍｍ、内径１５ｍｍ。

厚味１．２ｍｍで片面にスパイラル状のトラックが形成
された記録面１ａを有するＰＣ射出成形基板として、記
録面１ａの上に光磁気記録膜２及び紫外線硬化樹脂から
なるオーバーコート膜３を設けた光ディスクを本発明の
溶剤によるスピンコート洗浄のサンプルとした。

まず、光ビームが照射される面１ｂにハロゲンランプを
照射して塵あいの数を目視で数え、次に光ビームが照射
される面１ｂを上にしてスピンナーに載置する。これら
の作業は、クリンルーム内で無塵服を着用して行った。

洗浄溶媒は、エタノールを主成分としスピンコート洗浄
効果を増すために若干量のイソプロピルアルコールおよ
び水を添加した混合溶媒を用いた。スピンコート洗浄は
、光デイスク基板を２０Ｏｒｐｍで回転させながら、洗
浄溶媒を基板の外周部から内周部に向かって約７ｍ１滴
下して、基板全面に広がらせ、次に基板の回転を２５０
０ｒｐｍとして１０秒間を要して基板面の塵あいを溶剤
ごと振り切った。引き続いて常法により、その面ｌｂ上
に保護膜４として紫外線硬化型の帯電防止兼表面硬化ハ
ードコート膜をスピンコートし、紫外線照射して保護膜
４を仕上げた。

このサンプルに再びハロゲンランプを照射して保護膜４
に混入している塵あい（ブッ）を数えた。結果を表１に
示した。表１から明らかなように保護膜４中には目視可
能な塵あい（ブッ）はほとんど見当たらなかった。

（発明の効果） 以上説明したように、本発明によればプラスチック基板
の光ビーム照射面側の洗浄を保護膜のスピンコート直前
に行ったので、特別な洗浄装置を必要とせずに比較的簡
単に保護膜中に塵あいの混入を防止することができ、記
録、再生、信号エラーが少なくなるので光ディスクの得
率向上につながるという効果を有するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明による光ディスクの洗浄溶媒によるス
ピンコート洗浄を行い、引き続いて保護膜をスピンコー
ト す断面図である。 （符号の説明） １、・・・・・・・・ ｌａ、・・・・・・・・ １ｂ、・・・・・・・・ ２、　・・・・・・・・ ３、　・・・・・・・・ ４、　・・・・・・・・ した光ディスクの一実施例を示 プラスチック基板 記録面 光ビーム照射面 （洗浄溶媒によるスピンコート洗浄面）記録膜 オーバーコート膜 保護膜

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　透明なプラスチック基板の光ビーム照射面側にスピン
   ナーを用いて保護膜を設ける直前に、前記基板面を洗浄
   溶媒でスピンコート洗浄することを特徴とする光ディス
   クの洗浄方法。