JPS6299335A - シクロヘキシル化合物の製法 - Google Patents

シクロヘキシル化合物の製法

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JPS6299335A
JPS6299335A JP61245623A JP24562386A JPS6299335A JP S6299335 A JPS6299335 A JP S6299335A JP 61245623 A JP61245623 A JP 61245623A JP 24562386 A JP24562386 A JP 24562386A JP S6299335 A JPS6299335 A JP S6299335A
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JP
Japan
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acetophenone
distillate
bar
carried out
catalyst
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JP61245623A
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English (en)
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ウエルネル・オツテ
ルードルフ・ネーリング
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Huels AG
Original Assignee
Huels AG
Chemische Werke Huels AG
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C29/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
    • C07C29/17—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by hydrogenation of carbon-to-carbon double or triple bonds
    • C07C29/19—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by hydrogenation of carbon-to-carbon double or triple bonds in six-membered aromatic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C31/00—Saturated compounds having hydroxy or O-metal groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C31/13—Monohydroxylic alcohols containing saturated rings
    • C07C31/133—Monohydroxylic alcohols containing saturated rings monocyclic
    • C07C31/135—Monohydroxylic alcohols containing saturated rings monocyclic with a five or six-membered rings; Naphthenic alcohols
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
    • C07C2601/14—The ring being saturated

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はＲｕ−触媒の存在下でヘンシル化合物特にアセ
トフェノンを、相当る、シクロヘキシル化合物に水素添
加る、方法に関る、。
本発明による方法は、シクロヘキシル化合物を簡単な経
済的な操作の仕方で高い純度および収率で製造る、こと
を目ざしている。
１−シクロヘキシルエタノール−１は、高分子化学で使
用されるビニルシクロヘキサンの製造用出発物質として
重要である。
Ｒｕ−、Ｒｂ−およびＰｄ−触媒を使用してベンジル化
合物を相当る、飽和シクロヘキシル化合物に水素添加る
、ことは既に知られているが、既知の方法の特徴は収率
が低いこと、特にシクロパラフインが生じることである
。
従ってこの障害を除くために、主にソ連特許第７３３．
７１０号明細書（Ａｂｅｔ上のＲｕ　＋　Ｃｒ）　、ソ
連特許第４０５，３２３号明細書（ＡｌｔＯｉ上のＲｈ
＋Ｒｕ）、ソ連特許第４４８．７０３号明細ｇ（ｔｆｉ
＋ｃｒ）、テトラヘドロンレターズ第１７巻第１６６３
〜１６６４頁（１９６７年）（炭上のＰｄ、　Ｐｄ＋Ｒ
ｈ、　Ｐｄ＋Ｒｕ）に記載されているような触媒の組み
合わせ又は例えば米国特許第３，３６６．６９５号明細
書に記載されているようなアルカリの添加剤が使用され
る。酸の添加剤も知られている。これらの処置によって
収率が改善されるが、その代わりに追加の処理工程が必
要である。応用化学雑誌（Ｚｈ、　Ｐｒ１ｋｌ。
Ｋｈｉｍ、）第４２巻第１１号、第２６１３〜２６１４
頁（１９６９年）によれば、Ｒｈ触媒が特に適している
ということである。Ｐｄ触媒は特に高い圧力の場合には
余り有効でない。
驚くべきことに、高い圧力の場合にアセトフェノンを１
−シクロヘキサン−エタノール−１に水素添加る、こと
が、Ｒｕを不活性な担体例えばＡｌｔ（ｈまたは例えば
５ｉｆｔ等に塗布した市販の（例えばエンゲルハルト（
ＥＮＧＥＬＨＡＲＤ　）　）　Ｒｕ触媒によって、はぼ
定量的な収率でうまく行くということが見出された。
従って本発明は、ベンジル化合物をＲｕ−担体触媒の存
在の下で底部相または流動相で２００〜３５０　ｂａｒ
の水素圧および８０ないし約１６０℃の温度で水素添加
る、ことを特徴とる、、ベンジル化合物の接触還元によ
ってシクロヘキシル化合物を製造る、方法に関る、。
この処理は連続的にも回分的にも行うことができるが、
−隈に連続的に行うのが好ましい。
本発明による方法に必要な装置は、当該技術水準例えば
かきまぜオートクレーブまたは反応管に属る、０本発明
による方法は、底部相または流動相で行うことができる
。回分的な作業方法の場合には通常、オートクレーブの
底部相で粉末状触媒の存在下で行う。
本発明による方法は特に有利に連続的に行うことができ
る。このことは、塊（球、ベレット等）の状態で配置し
た触媒を使用して例えば流動相の原理に従って通常の方
法で行われ、水素が１ｌｌｉ流または逆流に反応管に導
かれる間、出発物質は反応管中に存在る、触媒の上へ液
体の形または広気の形で流れる。この場合、過剰の水素
を循環させるのが有利である。
−ｌ’Ｇに、本発明による方法は溶剤の添加なしで行わ
れるが、溶剤の使用は存置ではない。
更に、本発明による方法は１００　ｂａｒ以上、特に２
００　ｂａｒ以上または２５０　ｂａｒないし約３２０
ｂａｒの圧力および８０℃から約１６０℃までの開時に
１００℃から約１３０℃までの間の温度でおこなわれる
。空間速度は約０．２５になる。
本発明による方法で使用る、Ｒｕ触媒は、Ｒｕを不活性
な担体例えばＡ１□０．または５ｉ０２等に０．１ナイ
シＩＮ、殊ｃ０．３〜ＬＸ、特ニ０．５　Ｘノｔａ度で
塗布した市販の（例えばエンゲルハルト）Ｒｕ触媒であ
る。
既知の水素添加方法と比較した本発明による方法の特別
の長所は、当該技術水準〔米国特許第３．３６６、６９
５号明細書、応用化学雑誌（Ｚｈ。
Ｐｒ１ｋ１．　Ｋｈｉｓ、）第３９巻第１１号第２５９
９ないし２６０１頁（１９６６年）〕に相当る、よりも
少量のルテニウムで行うことができるか又は貴金属合金
の使用〔ソ連特許第７３３，７１０号明細書、ソ連特許
第４０５．３２３号明細書、テトラヘドロンレターズ第
１７巻第１６６３〜１６６４頁（１９６７）　）をやめ
ることができるという点である。更に、貴金属の値段は
Ｒｕの場合には、今までに好まれたロジウムの場合より
も非常に安い〔ケミカルレターズ（Ｃｈｅｗ、　Ｌｅｔ
ｔ、）第５Ｓ第６０３〜６０６頁（１９８２年）、ソ連
特許第４４８，７０３号明細書、応用化学雑誌（Ｚｈ、
　Ｐｒ１ｋ１．　ＣｈｉＩｌ、　）第１Ｏ巻第２３９８
〜２４００頁（１９６９年）および同雑誌第１１巻第２
６１３〜２６１４頁（１９６９年）〕。
その外に、通常よりも約１０倍またはもっと少なく低い
貴金属淵度即らアセトフェノン１を当たり２．５ないし
５ｇのＲｕ金属で非常に良い結果かえられる。
本発明による方法では、経済的にそして高収率でシクロ
ヘキシル化合物が得られる。
以下、例を挙げて本発明による方法を更に詳しく説明る
、。
引 ０．５χのＲｕ／＾１ｔＯ１−触媒（ＥＮＧＥＬ）ＩＡ
Ｉ？Ｔ）を入れた４００　ｍｌの管形反応器に、１００
　ｍｌ／ｈのアセトフェノン（約０．３　　Ｍｏ１）と
４００　Ｎｌ／ｈのＬ　（約１８　Ｍｏ１）とを３００
　ｂａｒの全圧および１１０℃の温度で供給る、。水素
添加排出物は次の組成を有る、（ガスクロマトグラフィ
ーによる）：前留出物　　　　　　　　　　　０．３χ
シクロヘキシルエタン　　　　　　１．７χ中間留出物
　　　　　　　　　　０．２χアセトフエノン １−シクロヘキシルエタノール　　９６．４χ後留出物
　　　　　　　　　　　１．４ズ使用したアセトフェノ
ンの純度は９６，７χであった。
２２００　ｈの運転時間の後に試験の期間を中断したが
、選択性の損失も活性の損失も事実上止じなかった。
例２ 例１と同様に行うがしかし同じ重量部のアセトフェノン
および１−シクロヘキシルエタノールから成る溶液を供
給物として使用る、。水素添加排出物は次の物から成っ
ている： 前留出物　　　　　　　　　　　０．５χシクロヘキシ
ルエタン　　　　　　１．９χ中間留出物　　　　　　
　　　　０．３χ７セトフエノン １−シクロヘキシルエタノール　　９５．８χ後留出物
　　　　　　　　　　　１，５χ供給物は４８．４χの
アセトフェノンおよび４８．２χの１−シクロヘキシル
エタノールから成っていた：残余は前留出物、中間留出
物および後留出物である。
例３ 例１と同様に行うがしかし温度を９０℃に下げる。水素
添加排出物は次の物から成っている：前留出物　　　　
　　　　　　　０．１！シクロヘキシルエタン　　　　
　　０．８χ中間留出物　　　　　　　　　　０．５χ
アセトフエノン　　　　　　　　　６．１！ｌ−シクロ
ヘキシルエタノール　　９１．０χ後留出物　　　　　
　　　　　　　１．５χ使用したアセトフェノンの純度
は９７，４χであった。
例４ 例１と同様に行うがしかし温度を１５０℃に上げる。水
素添加排出物は次の物から成っている前留出物　　　　
　　　　　　　０．２χシクロヘキシルエタン　　　　
　　４．１χ中間留出物　　　　　　　　　　０．３ｚ
アセトフエノン １〜シクロヘキシルエタノール　　９２．９　Ｘ後留出
物　　　　　　　　　　　１．５χ使用したアセトフェ
ノンの純度は９７．４　％であった・ 例５ 例１と同様に行うがしかし圧力を２００　ｂａｒに下げ
る。水素添加排出物は次の組成を有る、：前留出物　　
　　　　　　　　　０．２χシクロヘキシルエタン　　
　　　　１．２χ中間留出物　　　　　　　　　　０．
２χアセトフエノン　　　　　　　　０．９χ１−シク
ロヘキシルエタノール　　９６．１χ後留出物　　　　
　　　　　　　１．４ｚ使用したアセトフェノンの純度
は９７．４χであった。
比較例１ 例１と同様に行うがしかしＡｈ（ｈ上に０．５χのＰｄ
を含む触媒（ＥＮＧＥＬＨＡＲＴ）を使用る、。水素添
加排出物は次の組成を有る、： 前留出物　　　　　　　　　　　　０．４χアセトフエ
ノン　　　　　　　　　痕跡エチルシクロヘキサン　　
　　　６５．２χ中間留出物　　　　　　　　　　２．
６χｌ−シクロヘキシルエタノール　　２９．５χ後留
出物　　　　　　　　　　　　２．３ｚ比較例２ 例１と同様に行うがしかしＡｈＯｓ上に０．５χのＰｄ
を含む触媒（ＥＮＧＥＬＨＡＲＴ）を使用し、圧力を１
５　ｂａｒにそして温度を９０℃にさげる。水素添加排
出物は次の組成を有る、：

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）ベンジル化合物をＲｕ−担体触媒の存在の下で底
    部相または流動相で２００〜３５０ｂａｒの水素圧およ
    び８０ないし約１６０℃の温度で水素添加することを特
    徴とする、ベンジル化合物の接触還元によってシクロヘ
    キシル化合物を製造する方法。
  2. （２）ベンジル化合物としてアセトフェノンを使用する
    、特許請求の範囲第１項記載の方法。
  3. （３）触媒が０．１ないし１重量％のＲｕを含有する、
    特許請求の範囲第１項または第２項記載の方法。
  4. （４）触媒が０．５重量％のＲｕを含有する、特許請求
    の範囲第３項記載の方法。
  5. （５）担体としてＡｌ＿２Ｏ＿３を使用する特許請求の
    範囲第１項から第４項までのいずれかに記載の方法。
  6. （６）２５０ないし３２０ｂａｒの水素圧で水素添加す
    る、特許請求の範囲第１項から第５項までのいずれかに
    記載の方法。
  7. （７）１００ないし１３０℃の温度で水素添加する、特
    許請求の範囲第１項から第６項までのいずれかに記載の
    方法。
JP61245623A 1985-10-19 1986-10-17 シクロヘキシル化合物の製法 Pending JPS6299335A (ja)

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ES2002534A6 (es) 1991-03-16
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