JP2002539083A - [2+4]ディールス−アルダー反応を使用するシクロヘキサンカルボン酸の製造方法 - Google Patents

[2+4]ディールス−アルダー反応を使用するシクロヘキサンカルボン酸の製造方法

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JP2002539083A
JP2002539083A JP2000597247A JP2000597247A JP2002539083A JP 2002539083 A JP2002539083 A JP 2002539083A JP 2000597247 A JP2000597247 A JP 2000597247A JP 2000597247 A JP2000597247 A JP 2000597247A JP 2002539083 A JP2002539083 A JP 2002539083A
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ジェー.ジョー ヤング
キム ジン−エォク
キム チュン−ミン
ウォン ジェオン−イム
ジョー ヒュン−サング
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コーリア クンホ ペトロケミカル カンパニー リミテッド
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    • C07C51/347Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reactions not involving formation of carboxyl groups
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Abstract

(57)【要約】 【課題】比較的簡単な、容易な工程で、且つ副反応を生じることなく、ファインケミカル製品の原材料として有用なシクロヘキサンカルボン酸を、高い収率で製造する方法の提供。 【解決手段】1,3−ブタジエン及びアクリル酸を[2+4]ディールス−アルダー反応させて3−シクロヘキサン−1−カルボン酸を生成し、その後に水素化するシクロヘキサンカルボン酸の製造方法であって、[2+4]ディールス−アルダー反応は、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素溶媒中で室温乃至200℃の温度で行う。水素化は、プラチナ又はパラジウム触媒の存在下で、10psi乃至150psiの水素圧力下で、室温乃至150℃の温度で行うことによって、シクロヘキサンカルボン酸を製造する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、シクロヘキサンカルボン酸の製法に関し、特に1,3−ブタジエン
及びアクリル酸使用して、[2、4]ディールス−アルダー(Diels−Alder)反
応を生じさせ、次にプラチナ又はパラジウム触媒の存在下で水素化する製造方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】
シクロヘキサンカルボン酸は、合成有機材料、調合薬及びファインケミカルの
原料として使用される。シクロヘキサンカルボン酸誘導体は、殺虫剤、アレルギ
ー抑制剤及びリューマチ抑制剤として使用される。例えば、シクロヘキサンカル
ボン酸は、シクロヘキシル塩化マグネシウムのカルボニル化を使用する合成工程
又は安息香酸の水素化を使用する工業化工程により製造されることが知られてい
る。
【0003】 1,3−ブタジエン及びアクリル酸の[2+4]ディールス−アルダー反応に関
する文献として、日本特開平5−301885号公報、特開昭57−02816
5号公報及び国際特許公開WO86/04602号がある。 これら特許公報において、3−シクロヘキサン−1−カルボン酸の[2+4]
ディールス−アルダー反応による製造及びかかる化合物の他の化合物への応用が
開示されている。
【0004】 シクロヘキサンカルボン酸を3−シクロヘキサン−1−カルボン酸の水素化に
よる製造方法は知られていないが、シクロヘキサンカルボン酸誘導体の水素化に
よる製造に関して、次のことが知られている。 例えば特開平9−40606号公報及び特開昭49−026261号公報は、
アルカリ及び水素化触媒の存在下で、4位置で置換された安息香酸を還元して4
位置で置換するシクロヘキサンカルボン酸の製造方法が開示されている。さらに
、ドイツ特許公開第2349056号(1975年)は、ルテニウム触媒及びア
ルカリを使用してP−アミノメチル安息香酸を還元することによる4−アミノメ
チルシクロヘキサンの製造方法を開示している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
上述した従来技術によるシクロヘキサンカルボン酸の製造方法は、製造工程が
比較的複雑である。従って、本発明は、比較的簡単な工程で、且つ実質的にサイ
ドリアクションを生じることのないシクロヘキサンカルボン酸の製造方法を提供
することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明は、シクロヘキサンカルボン酸の製造方法であって、1,3−ブタジエ
ン及びアクリル酸に[2+4]ディールス−アルダー反応を行い、3−シクロヘ
キサン−1−カルボン酸を得て、次いでPt又はPd触媒及び水素を使用して水
素化することを特徴とする。
【0007】 本発明による[2+4]ディールス−アルダー反応において、使用可能な溶媒
の例は、トルエン、ベンゼン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶媒、アルコール
、エタノール、メタノール及び水等の安価且つ容易に入手可能な溶媒を含んでい
る。 [2+4]ディールス−アルダー反応溶媒は、アクリル酸に対して重量比
100%乃至5000%の量を使用する。さらに、この[2+4]ディースル−
アルダー反応を実行する温度は、室温乃至200℃の範囲である。本発明による
方法の[2+4]ディールス−アルダー反応は、95%以上の収率で、シクロヘ
キサンカルボン酸を得る。
【0008】 反応温度が高ければ高いほど、反応速度は速くなるが、幾らかのポリマー(重
合)が生じる。かかる欠点又は課題を解消するには、[2+4]ディールス−ア
ルダー反応中に重合抑制剤として、4−tert−ブチルカテコール(以下、T
BCという)又はヒドロキノンを使用し、ポリマーの生成を抑止する。
【0009】 [2+4]ディールス−アルダー反応の後で、生成された3−シクロヘキサン
−1−カルボン酸をPd又はPt触媒及び水素の存在下で水素化する。この水素
化は、水素圧10psi乃至150psi、室温乃至100℃の温度及びエタノ
ール、メタノール、水、トルエン及びキシレンよりなるグループから選択された
溶媒中で実行される。この水素化溶媒は、3−シクロヘキサン−1−カルボン酸
に対して体積比100%乃至5000%の量を使用する。
【0010】 その結果、従来のシクロヘキサンカルボン酸の製造方法と異なり、本発明の製
造方法によると、1,3−ブタジエンを使用するファインケミカル製品の製造に
有意義である。加えて、本発明の製造方法は、比較的簡単で、且つ容易にシクロ
ヘキサンカルボン酸の製造が可能であり、さらに反応の副生物は容易に処理可能
である。
【0011】
【発明の実施の形態】
次の各例は、単なる例示に過ぎず、本発明を限定するものではないことに留意
されたい。
【実施例】
次の具体例では、ジエノフィル(dienophile)としてアクリル酸を使用し、且
つジエンとして1,3−ブタジエンを使用して、3−シクロヘキサン−1−カル
ボン酸は、合成される。 [2+4]ディールス−アルダー反応用の溶媒として、トルエン、ベンゼン、
キシレン等の芳香族炭化水素化合物、アルコール又は水を使用する。 ジエノフィルに対する1,3−ブタジエンのモル比は、1乃至1.4の範囲で
ある。重合抑制剤として、TBC又はヒドロキノンを1,3−ブタジエンに対す
る重量比で0乃至10,000ppmの量を使用した。[2+4]ディールス−
アルダー反応生成物である3−シクロヘキサン−1−カルボン酸を生成した後に
、3−シクロヘキサン−1−カルボン酸の水素化を、Pd又はPt触媒を使用し
て実行した。これら各触媒を使用すると、100%の変換を示した。
【0012】 ところで、[2+4]ディールス−アルダー反応は、圧力反応器内で実行し、
且つ水素化は水素反応器又は圧力反応器内で実行した。反応生成物の分析を、核
磁気共鳴(NMR)スペクトラム及びガスクロマトグラフィー質量スペクトロス
コピー検出器(GC−MSD)により実行し、生成物を確認した。 ガスクロマトグラフィーにより反応生成物の定量解析での確認は、次の条件に
より実行した。 キャピラリーカラム HP−20.25mm×0.20mm×0.2μm キャリアガス 窒素 ヘッド圧力 18psig オーブン 80℃(0分)〜190℃、β=10℃/分 検出器及び温度 FID(280℃) スプリット比 40:1 メイクアップガス流速 38ml さらに、コンポネントの比は、ガスクロマトグラフィーの面積比を使用した。
【0013】
【実施例1】 1リットルの圧力反応器内にアクリル酸(72g、1モル)、キシレン288
g及びTBC75mgを入れた。次に、反応器内の内容物を攪拌しながら1,3
−ブタジエン75gを反応器内に注入した。その後に、これらの混合物の温度を
120℃に上げ、この温度に3時間放置した。 その後に、反応物のNMRスペクトルスコピー及びガスクロマトグラフィー分
析により、3−シクロヘキサン−1−カルボン酸を99%の収率で得た。
【0014】
【実施例2】 実施例1の手順を5回、それぞれ下記の表1に説明するように反応温度及びモ
ル比を変えて反復した。 各回において、表1に示す収率で3−シクロヘキサン−1−カルボン酸が得ら
れた。
【0015】
【表1】 3-シクロヘキサンー1ーカルホ゛ン酸を得る反応物の反応温度及びモル比の変化に対する影響 ──────────────────────────── 1,3− 温度(℃) 反応時間 収率(%) BD(g)/AA(g)* (時間) ──────────────────────────── 65/72 90 12 89 65/72 100 9 93 75/72 120 3 99 72/73 140 1.5 99 77/74 200 1 99 ──────────────────────────── *1,3−BD:1,3−ブタジエン、 AA:アクリル酸
【0016】
【実施例3】 1リットルの圧力反応器内にアクリル酸(72g、1モル)及びトルエン28
8gを入れた。次に、1,3−ブタジエン75gを反応器に注いだ。その後、こ
れら混合物の温度を120℃に上げ、この温度で6時間放置して反応させた。 その後、反応物のNMRスペクトロスコピー及びガスクロマトグラフィーによ
る反応物の分析により、3−シクロヘキサン−1−カルボン酸が98%の収率で
得られたことを確認した。
【0017】
【実施例4】 実施例3の手順を4回、下記の表2に示す反応溶媒及び反応温度を変えて反復
した。毎回、3−シクロヘキサン−1−カルボン酸が、表2に示す収率で得られ
た。
【0018】
【表2】 3-シクロヘキサン-1-カルホ゛ン酸の収率に対する溶媒及び反応温度の影響 ────────────────────────── 溶媒 収率(%) 反応時間 反応温度 (時間) (℃) ────────────────────────── キシレン 99 4.5 120 トルエン 98 6 120 エタノール 66 8 100 水 98 8 100 なし 99 7 100 ──────────────────────────
【0019】
【実施例5】 上述の手順を4回、表3に示す異なる反応温度で反復した。 毎回、3−シクロヘキサン−1−カルボン酸が表3に示す収率で得られた。
【0020】
【表3】 3-シクロヘキサンー1-カルホ゛ン酸の収率に対する温度の影響 ──────────────────────── 反応温度(℃) 収率(%) 反応時間(時間) ──────────────────────── 100 85 6 120 98 6 150 100 6 180 100 3 ────────────────────────
【0021】
【実施例6】 実施例3の場合と同じ条件[但し、無水アルミニウムトリクロライド触媒(A
lCl3)使用]で、さらに反応を3時間実行した。 3−シクロヘキサン−1−カルボン酸が94%の収率で得られた。
【0022】
【実施例7】 実施例1で製造した3−シクロヘキサン−1−カルボン酸53gをキシレン1
25g中に溶解した。その混合物を85psiの水素圧力下及び5%Pd/C触媒
(重量比3%)の存在下で室温にて水素化した。 シクロヘキサンカルボン酸が、水素化の開始後、1時間で95%の収率、水素
化開始後、2時間で99%の収率で得られた。
【0023】
【実施例8】 実施例7の手順を4回、下記の表4に示すように毎回の触媒の量を変化して反
復した。毎回、シクロヘキサンカルボン酸が表4に示す収率で得られた。
【0024】
【表4】 シクロヘキサンカルボン酸の収率に対する触媒量の影響 ─────────────────────────────── 反応剤(*)量 溶媒量 触媒量 反応時間(時間) 収率(%) ─────────────────────────────── 53 125 1.6 1 95 (重量比3%) 58 140 1.2 2 95 (重量比2%) 45 105 0.5 3 92 (重量比1%) 43 100 0.2 6 72 (重量比0.5%) ─────────────────────────────── 表中(*) 反応物:3−シクロヘキサン−1−カルボン酸
【0025】
【実施例9】 3−シクロヘキサン−1−カルボン酸10gを例3により製造し、0.5リッ
トルのトルエン中に溶解した。次に、これら混合物を水素圧力10psi下で、
0.2gの5%Pd/C(重量比3%)触媒の存在下で水素化した。 シクロヘキサンカルボン酸を97%の収率で得た。
【0026】
【実施例10】 実施例9の手順を3回、下記の表5に示す如く、毎回水素圧力を変えて反復し
た。毎回、表5に示す収率でシクロヘキサンカルボン酸を得た。
【0027】
【表5】 シクロヘキサンカルボン酸の収率に対する水素圧力の影響 ──────────────────── 水素圧力(psi) 収率(%) ──────────────────── 10 97 20 100 50 100 ────────────────────
【0028】
【実施例11】 実施例10の手順を下記の表6に示す反応溶媒比を変えて3回反復した。 シクロヘキサンカルボン酸が表6に示す収率で得られた。
【0029】
【表6】 シクロヘキサンカルボン酸に対する反応物対溶媒比の影響 ─────────────────── 反応物/溶媒 収率(%) ─────────────────── 1/4 100 1/9 97 1/50 97 ───────────────────
【0030】
【実施例12】 実施例9の手順を、下記の表7に示す如く触媒の量を変えて3回反復した。 表7に示す収率でシクロヘキサンカルボン酸を得た。
【0031】
【表7】 シクロヘキサンカルボン酸の収率に対する触媒の量の影響 ───────────────── 触媒の量 収率(%) ───────────────── 0.1 80 0.2 97 0.5 100 ─────────────────
【0032】
【実施例13】 実施例9の手順を、5%Pd/C触媒の代わりに3%Pd/C触媒を使用して繰り
返した。 その結果、100%の収率でシクロヘキサンカルボン酸を得た。
【0033】
【実施例14】 実施例9の手順を、トルエンの代わりにエタノールを使用して繰り返した。 その結果、100%の収率でシクロヘキサンカルボン酸を得た。
【0034】 以上、本発明によるシクロヘキサンカルボン酸の製造方法の種々の好適実施形
態を説明した。しかし、かかる実施形態は、本発明の単なる例示に過ぎず、何ら
本発明を限定するものではない。本発明の要旨を逸脱することなく、種々の変形
変更、付加又は置換が可能であること当業者には容易に理解できよう。
【0035】
【発明の効果】
本発明は、1,3−ブタジエンとアクリル酸を[2+4]ディールス−アルダ
ー反応させて、3−シクロヘキサン−1−カルボン酸を生成し、さらにこの3−
シクロヘキサン−1−カルボン酸を水素化してシクロヘキサンカルボン酸を製造
する方法であるが、本発明の方法は、反応が比較的簡単に行ることができ、且つ
副反応(サイドリアクション)が生じないという効果を有する。 すなわち、本発明の方法では、1,3−ブタジエンとアクリル酸との[2+4
]ディールス−アドラー反応を、トルエン、ベンゼン又はキシレン等の芳香族炭
化水素溶媒を使用して室温乃至200℃の温度で実行し、さらに、3−シクロヘ
キサン−1−カルボン酸の水素化を、アルコール、エタノール、メタノール、水
等の安価で且つ容易に入手可能な溶媒を使用して、水素圧力10psi乃至15
0psi等の極めて低圧で行うことにより、95%以上の反応収率を得る。 その結果、本発明の製造方法では、従来のシクロヘキサンカルボン酸の製造方
法とは異なり、1,3−ブタジエンを使用してファインケミカル製品の製造を可
能にする。本発明におけるさらなる効果として、反応は比較的簡単であり、且つ
容易な方法で実行でき、しかも副生物は反応後に簡単に処理できる。
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成13年4月1日(2001.4.1)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),AU,BR,C A,CN,CZ,HU,IN,JP,PL,RU,US (72)発明者 チュン−ミン キム コーリア タエジェオン ユセオン−グ シンセオン−ドング 152 タエリムトレ アパート 101−1107 (72)発明者 ジェオン−イム ウォン コーリア タエジェオン ユセオン−グ シンセオン−ドング 152 タエリムトレ アパート 105−1002 (72)発明者 ヒュン−サング ジョー コーリア タエジェオン ユセオン−グ シンセオン−ドング 152 タエリムトレ アパート 110−102 Fターム(参考) 4H006 AA02 AB84 AC11 AC28 BA25 BA26 BA55 BA94 BB11 BB14 BB31 BB70 BC11 BC34 BC35 BD70 BE20 BS20 4H039 CA19 CB10

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 1,3−ブタジエン及びアクリル酸に[2+4]ディールス−
    アルダー反応させて3−シクロヘキサン−1−カルボン酸を合成することと、該
    3−シクロヘキサン−1−カルボン酸を触媒水素化することとよりなることを特
    徴とするシクロヘキサンカルボン酸の製造方法。
  2. 【請求項2】 上記[2+4]ディールス−アルダー反応は、室温乃至200
    ℃で行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 上記[2+4]ディールス−アルダー反応は、水、エタノー
    ル、トルエン、ベンゼン及びキシレンからなる群から選択された溶媒中又は溶媒
    のない状態で行なわれることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  4. 【請求項4】 上記[2+4]ディールス−アルダー反応溶媒は、アクリル
    酸に対して重量比100%乃至5000%の量を使用することを特徴とする請求
    項3に記載の方法。
  5. 【請求項5】 上記[2+4]ディールス−アルダー反応は、重合抑制剤と
    して4−tert−ブチルカテコール又はヒドロキノンの存在下で行うことを特徴と
    する請求項1に記載の方法。
  6. 【請求項6】 上記触媒水素化は、室温乃至100℃の温度で行うことを特
    徴とする請求項1に記載の方法。
  7. 【請求項7】 上記触媒水素化は、Pt(プラチナ)又はPd (パラジウム)触媒
    の存在下で行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  8. 【請求項8】 上記水素化触媒は、3−シクロヘキサン−1−カルボン酸に
    対して重量比0.5乃至5%の量を使用することを特徴とする請求項7に記載の
    方法。
  9. 【請求項9】 上記触媒水素化は、10psi乃至150psiの水素圧下で
    行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  10. 【請求項10】 上記触媒水素化は、エタノール、メタノール、水、トルエン
    及びキシレンよりなるグループから選択された溶媒中又は溶媒を使用しない状態
    下で行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  11. 【請求項11】 上記水素化溶媒は、3−シクロヘキサン−1−カルボン酸の
    体積比100%乃至5000%の量を使用することを特徴とする請求項10に記
    載の方法。
JP2000597247A 1999-02-05 1999-12-04 [2+4]ディールス−アルダー反応を使用するシクロヘキサンカルボン酸の製造方法 Pending JP2002539083A (ja)

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