JPS6292636U - - Google Patents

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JPS6292636U
JPS6292636U JP18487185U JP18487185U JPS6292636U JP S6292636 U JPS6292636 U JP S6292636U JP 18487185 U JP18487185 U JP 18487185U JP 18487185 U JP18487185 U JP 18487185U JP S6292636 U JPS6292636 U JP S6292636U
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JP
Japan
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cooling
gas
bell gear
vapor phase
phase growth
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JP18487185U
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  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例を示す冷却装置回路
図とそれを適用した気相成長装置の概要断面図、
第2図は本考案の他の実施例を示す図、第3図お
よび第4図は従来の気相成長装置のそれぞれ異な
る例を示す概要断面図である。 1……基台、2,22,29,30……シール
部材、4……気密室(反応室)、5……サセプタ
、6……回転軸、7……基板、8……ノズル、9
……RFコイル、11……排気管、13,21…
…金属ベルジヤ、16,20……石英ベルジヤ、
17……供給口、23,24……冷却ガス流入ま
たは流出口、25……空間、32……ブロワー、
33,34,35……ダクト、36……冷却器、
37,38,47,50,51……切換弁、39
……絞り弁、40……Hガス源、41,42,
43,44……配管、45……安全弁、46……
圧力計、48……酸素濃度検知装置、49……止
め弁、52……Nガス源、54……シール部材
、56……Hガスセンサ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. サセプタ上に載置した複数の基板の表面に半導
    体物質の薄膜を気相成長させるための気密室を基
    台と石英ベルジヤ等とによつて構成すると共に、
    前記石英ベルジヤの外側に前記気密室に対して独
    立し外気に対して気密の空間を形成する金属ベル
    ジヤを被せてなる気相成長装置において、前記石
    英ベルジヤと前記金属ベルジヤの間の前記空間に
    対する冷却用Hガスの供給手段と、吸熱・昇温
    して前記空間から排気される前記冷却用Hガス
    の冷却器とを備え、前記冷却器の冷却用Hガス
    の出口を前記冷却用Hガスの供給手段の吸入口
    に接続する循環型冷却回路を設け、かつ前記循環
    型冷却回路にHガス源から切換バルブを介して
    冷却用Hガスを補給する手段を設けたことを特
    徴とする気相成長装置の冷却装置。
JP18487185U 1985-11-30 1985-11-30 Pending JPS6292636U (ja)

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JP18487185U JPS6292636U (ja) 1985-11-30 1985-11-30

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JPS6292636U true JPS6292636U (ja) 1987-06-13

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