JPS62126827U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS62126827U JPS62126827U JP1277986U JP1277986U JPS62126827U JP S62126827 U JPS62126827 U JP S62126827U JP 1277986 U JP1277986 U JP 1277986U JP 1277986 U JP1277986 U JP 1277986U JP S62126827 U JPS62126827 U JP S62126827U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- bellgear
- vapor phase
- bell gear
- phase growth
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 1
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
第1図は本考案の一実施例を示す概要断面図、
第2図および第3図は従来装置のそれぞれ異なる
例を示す概要断面図である。 1…基台、4…気密室(反応室)、5…サセプ
タ、7…基板、8…ノズル、9…RFコイル、2
0…石英ベルジヤ、21…金属ベルジヤ、25…
空間、32…冷却空気流入口、33…冷却空気流
出口、34…冷却用ブロアー、35…給気ダクト
。
第2図および第3図は従来装置のそれぞれ異なる
例を示す概要断面図である。 1…基台、4…気密室(反応室)、5…サセプ
タ、7…基板、8…ノズル、9…RFコイル、2
0…石英ベルジヤ、21…金属ベルジヤ、25…
空間、32…冷却空気流入口、33…冷却空気流
出口、34…冷却用ブロアー、35…給気ダクト
。
Claims (1)
- サセプタ上に載置した複数の基板の表面に半導
体物質の薄膜を気相成長させるための気密室を基
台と石英ベルジヤ等とによつて構成すると共に、
前記石英ベルジヤの外側に前記気密室に対して独
立した空間を形成する金属ベルジヤを被せてなる
気相成長装置において、前記金属ベルジヤの上部
に冷却用ブロアーを設けると共に該冷却用ブロア
ーが周囲のクリーン環境内の空気を取入れて前記
石英ベルジヤと金属ベルジヤとの間に該空気を圧
送するように構成され、かつ前記の圧送された空
気を前記金属ベルジヤの下部から排出するように
構成したことを特徴とする気相成長装置の冷却装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1277986U JPS62126827U (ja) | 1986-01-31 | 1986-01-31 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1277986U JPS62126827U (ja) | 1986-01-31 | 1986-01-31 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62126827U true JPS62126827U (ja) | 1987-08-12 |
Family
ID=30801224
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1277986U Pending JPS62126827U (ja) | 1986-01-31 | 1986-01-31 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62126827U (ja) |
-
1986
- 1986-01-31 JP JP1277986U patent/JPS62126827U/ja active Pending
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