JPS6257118A - 磁気ギヤツプの製造方法 - Google Patents
磁気ギヤツプの製造方法Info
- Publication number
- JPS6257118A JPS6257118A JP19518385A JP19518385A JPS6257118A JP S6257118 A JPS6257118 A JP S6257118A JP 19518385 A JP19518385 A JP 19518385A JP 19518385 A JP19518385 A JP 19518385A JP S6257118 A JPS6257118 A JP S6257118A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic gap
- heat source
- thin film
- soft magnetic
- amorphous soft
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/23—Gap features
- G11B5/232—Manufacture of gap
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、アモルファス磁気ヘッドの磁気ギャップの製
造方法に関するものである。
造方法に関するものである。
従来の技術
従来のアモルファス磁気ヘッドにおいては、例えば第３
図のように、磁気ギャップの製造法は、アモルファス磁
性薄体又は磁性薄膜１を含んだ２つのヘッドコア２を、
両者の間にガラス等の非磁性のへラドギャップ材料３を
介して突き合わせ、さらに両者を低融点ガラスや樹脂な
どの接着媒体４を用いて接合するのが一般的であった。
図のように、磁気ギャップの製造法は、アモルファス磁
性薄体又は磁性薄膜１を含んだ２つのヘッドコア２を、
両者の間にガラス等の非磁性のへラドギャップ材料３を
介して突き合わせ、さらに両者を低融点ガラスや樹脂な
どの接着媒体４を用いて接合するのが一般的であった。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、上記従来の製造方法では、特に高記録密
度用の磁気ギャップ長ＧＬが小さく、またトラック幅Ｔ
Ｗの小さなヘッド等の加工においては、その寸法及び突
き合わせ精度の上で、充分な歩留りで、精度を再現性よ
く出すことは困難であった。また、ギャップ形成のため
の工数が多く、生産性の点からも問題が大きかった。
度用の磁気ギャップ長ＧＬが小さく、またトラック幅Ｔ
Ｗの小さなヘッド等の加工においては、その寸法及び突
き合わせ精度の上で、充分な歩留りで、精度を再現性よ
く出すことは困難であった。また、ギャップ形成のため
の工数が多く、生産性の点からも問題が大きかった。
本発明は上記従来の欠点を解消するもので、ギャップ形
成のための切断や研磨等の機械加工工程、及び接合工程
に間する工数を一切なくし、すべてへラドコア用のアモ
ルファス磁性薄膜形成と同時に、磁気ギャップを再現性
良く、また生産効率よく形成できる磁気ギャップの製造
方法を提供することを目的とする。
成のための切断や研磨等の機械加工工程、及び接合工程
に間する工数を一切なくし、すべてへラドコア用のアモ
ルファス磁性薄膜形成と同時に、磁気ギャップを再現性
良く、また生産効率よく形成できる磁気ギャップの製造
方法を提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するため、本発明の磁気ギャップの製
造方法は、アモルファス軟磁性薄膜を形成する基板上の
所望の場所に、熱源ビームを線状に照射しながら、前記
アモルファス軟磁性１膜を形成するものである。
造方法は、アモルファス軟磁性薄膜を形成する基板上の
所望の場所に、熱源ビームを線状に照射しながら、前記
アモルファス軟磁性１膜を形成するものである。
作用
上記方法によれば、熱源ビームにより加熱された領域の
みが結晶化されて軟磁気特性を失うため、膜厚方向に形
成されたこの領域がそのまま磁気へッドギゼップを形成
することになる。この線状の加熱箇所を、全膜厚形成路
ｆ−までに、徐々に、適当な速度でずらせてゆけば、結
果的にこの磁気ギャップ自身にアジマスをつけることも
自在にできる。また熱源となるレーザービームや粒子線
などのビーム幅やビームパワーを制御することによって
、それに相当した磁気ギャップ長を選ぶことができる。
みが結晶化されて軟磁気特性を失うため、膜厚方向に形
成されたこの領域がそのまま磁気へッドギゼップを形成
することになる。この線状の加熱箇所を、全膜厚形成路
ｆ−までに、徐々に、適当な速度でずらせてゆけば、結
果的にこの磁気ギャップ自身にアジマスをつけることも
自在にできる。また熱源となるレーザービームや粒子線
などのビーム幅やビームパワーを制御することによって
、それに相当した磁気ギャップ長を選ぶことができる。
またアモルファス軟磁性薄膜のＷ＆看は当然基板内全体
で同時になされるため、適当なピッチで１つの基板内に
多数の熱源ビームを同時に照射することによって、１つ
の基板内に多数の磁気ギャップを同時に形成できる。
で同時になされるため、適当なピッチで１つの基板内に
多数の熱源ビームを同時に照射することによって、１つ
の基板内に多数の磁気ギャップを同時に形成できる。
実施例
以下、本発明の実施例を第１図〜第２図に基づいて説明
する。
する。
第１図は本発明の一実施例における磁気ギャップの製造
方法の工程を説明する斜視図で、１１はアモルファス軟
磁性薄膜１２を蒸着する基板、１３は線状に照射又は走
査される高パワーのレーザービーム、１４は磁気ギャッ
プ層であり、第１図（Ａ＞は蒸着開始、同図（Ｂ）はア
モルファス軟磁性薄膜１２の蒸着中、同図（Ｃ）は蒸着
後の状態を各々示している。第１図（Ｂ）の矢印は蒸着
方向を示す。
方法の工程を説明する斜視図で、１１はアモルファス軟
磁性薄膜１２を蒸着する基板、１３は線状に照射又は走
査される高パワーのレーザービーム、１４は磁気ギャッ
プ層であり、第１図（Ａ＞は蒸着開始、同図（Ｂ）はア
モルファス軟磁性薄膜１２の蒸着中、同図（Ｃ）は蒸着
後の状態を各々示している。第１図（Ｂ）の矢印は蒸着
方向を示す。
製造に際しては、アモルファス軟磁性ｉ１＃１２を形成
する基板１１上の所定の場所に、ギャップ形成幅に対応
する幅のレーザービーム１３による熱源によって線状に
照射して加熱を行いながら、コア材となるアモルファス
軟磁性薄膜１２を蒸着により形成する。これにより、加
熱された領域のみ結晶化されて軟磁気特性を失うため、
膜厚方向に形成されたこの領域がそのまま磁気ギャップ
層１４を形成することになる。この実施例では、レーザ
ービーム１３をごくわずか基板面に平行にシフトされた
ので、第１図（Ｃ）のように、生じた磁気ギャップは、
アジマスが形成された形となった。このアジマス角度は
、全蒸着厚とレーザービーム１３の移動速度とによって
自在に変えることができる。また熱源となるレーザービ
ーム１３のビーム幅やビームパワーを制御することによ
って、それに相当した磁気ギャップ長を任意に選ぶこと
ができる。
する基板１１上の所定の場所に、ギャップ形成幅に対応
する幅のレーザービーム１３による熱源によって線状に
照射して加熱を行いながら、コア材となるアモルファス
軟磁性薄膜１２を蒸着により形成する。これにより、加
熱された領域のみ結晶化されて軟磁気特性を失うため、
膜厚方向に形成されたこの領域がそのまま磁気ギャップ
層１４を形成することになる。この実施例では、レーザ
ービーム１３をごくわずか基板面に平行にシフトされた
ので、第１図（Ｃ）のように、生じた磁気ギャップは、
アジマスが形成された形となった。このアジマス角度は
、全蒸着厚とレーザービーム１３の移動速度とによって
自在に変えることができる。また熱源となるレーザービ
ーム１３のビーム幅やビームパワーを制御することによ
って、それに相当した磁気ギャップ長を任意に選ぶこと
ができる。
第２図は別の実施例を示しており、このように、１つの
基板１１内にレーザービーム１３の照射箇所を複数段け
れば、同時に多数の磁気ギャップ層１４を形成すること
ができる。
基板１１内にレーザービーム１３の照射箇所を複数段け
れば、同時に多数の磁気ギャップ層１４を形成すること
ができる。
なお上記各実施例では、熱源としてレーザービーム１３
を用いたが、これの代りに電子ビーム等の粒子線を用い
ても同様の効果が期待できる。
を用いたが、これの代りに電子ビーム等の粒子線を用い
ても同様の効果が期待できる。
発明の効果
以上述べたごとく本発明によれば、従来の磁気ギャップ
の形成工程と比べ、極めて容易に、精度の良い磁気ギャ
ップを、ばらつきなく形成でき、倒産性に優れている。
の形成工程と比べ、極めて容易に、精度の良い磁気ギャ
ップを、ばらつきなく形成でき、倒産性に優れている。
第１図は本発明の一実施例における磁気ギャップの製造
方法の工程を説明する斜視図、第２図は別の実施例にお
ける磁気ギャップの製造方法を説明する斜視図、第３図
は従来のアモルファス磁性材を用いた磁気ヘッドの斜視
図である。 １１・・・基板、１２・・・アモルファス軟磁性′ａＷ
ｊ！、１３・・・レーザービーム、１４・・・磁気ギャ
ップ層代理人 森 本 義 弘 第１図
方法の工程を説明する斜視図、第２図は別の実施例にお
ける磁気ギャップの製造方法を説明する斜視図、第３図
は従来のアモルファス磁性材を用いた磁気ヘッドの斜視
図である。 １１・・・基板、１２・・・アモルファス軟磁性′ａＷ
ｊ！、１３・・・レーザービーム、１４・・・磁気ギャ
ップ層代理人 森 本 義 弘 第１図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、アモルファス軟磁性薄膜を形成する基板上の所望の
場所に、熱源ビームを線状に照射しながら、前記アモル
ファス軟磁性薄膜を形成する磁気ギャップの製造方法。 ２、アモルファス軟磁性薄膜の蒸着中に、少しずつ熱源
ビームの照射位置をずらせることによって、蒸着基板面
及び磁性層に対してアジマスをもった磁気ギャップを形
成する特許請求の範囲第１項記載の磁気ギャップの製造
方法。 ３、熱源ビームとしてレーザービームを用いる特許請求
の範囲第１項または第２項記載の磁気ギャップの製造方
法。 ４、熱源ビームとして粒子線を用いる特許請求の範囲第
１項または第２項記載の磁気ギャップの製造方法。 ５、熱源ビームの照射を同時に線状に行なう特許請求の
範囲第１項ないし第４項のいずれかに記載の磁気ギャッ
プの製造方法。 ６、熱源ビームを走査することにより線状に照射する特
許請求の範囲第１項ないし第４項のいずれかに記載の磁
気ギャップの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19518385A JPS6257118A (ja) | 1985-09-04 | 1985-09-04 | 磁気ギヤツプの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19518385A JPS6257118A (ja) | 1985-09-04 | 1985-09-04 | 磁気ギヤツプの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6257118A true JPS6257118A (ja) | 1987-03-12 |
Family
ID=16336830
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19518385A Pending JPS6257118A (ja) | 1985-09-04 | 1985-09-04 | 磁気ギヤツプの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6257118A (ja) |
-
1985
- 1985-09-04 JP JP19518385A patent/JPS6257118A/ja active Pending
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