JPS6192410A - 磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気ヘッドに係り、特に耐摩耗性に富んだ磁気
ヘッドに関するものである。

〔従来技術とその問題点〕

従来、例えば２０μｍ程度のトラック幅を有する磁気ヘ
ッドは、第３図に示す如く、磁性体１（例エバ、パーマ
ロイ、センダスト合金）を耐摩耗性に富んだ基板２（例
えば、セラミック）でサンドインチ状に挾んで構成され
ている。

尚、同図中、３は接着層、４は摺接面、５は磁気ギャッ
プ、６は巻線窓である。

上記の様に構成されている磁気ヘッドは磁気記録媒体と
の摺接面４における磁性体１と基板２との摩耗度合が異
なるため、摩耗の早い磁性体１の部分が両側の基板２に
比べ先に削られ、この部分に凹溝が生じ易く、そのため
磁気記録媒体と磁性体１の間に空隙部が生じ、出力低下
を招ねく欠点がある。

特に、上記の構成による磁気ヘッドは、磁性体１の占め
る磁気記録媒体と摺接する露出表面積が広いため、上述
した欠点は顕著に生じる。

また、磁性粉が飛散することによって、磁気ヘッドが汚
れるといった欠点もある。

〔問題点を解決するための手段〕

磁気ヘッドの磁気記録媒体摺接面側を、幅が略トラック
幅に、かつ磁気記録媒体走行方向の長さが磁気ヘッド特
性要因を阻害することのない最小限寸法にした磁性材と
、前記磁性材より耐摩耗性に優れた材料とで構成する。

〔実施例１〕 第１図ａ　−ｅは、本発明に係る磁気ヘッドの第１の実
施例の製造工程説明図である。

まず、第１図ａに示す如く、例えばＭｎ−Ｚｎフェライ
トといった軟磁性の直方体ブロック２１と、後述の充填
用磁性材料と熱膨張率が略等しく、かつ耐摩耗性に優れ
た非磁性の直方体ブロック２２とを、例えば軟化温度が
約８００℃の比較的高軟化点の接合用ガラスで接合し、
一体ブロック片２３を形成する。そして、この一体ブロ
ック片２３の一面、例えば同図の上面を鏡面研磨加工す
る。

次に、第１図すに示す如く、上記一体ブロック片２３の
鏡面研磨面に、その長手方向に沿って巻線窓となる溝２
４を形成し、又、直方体ブロック２２と反対側の直方体
ブロック２１の角、同図中上側の部分を接合補強用溝構
成の為に角取加工する。

そして、この後、一体ブロック片２３の鏡面研磨面のう
ち直方体ブロック２２の鏡面研磨面に、ドライエツチン
グ又はウェットエツチングといったエツチング手段ある
いはレーザー加工手段といった微細加工技術手段によっ
て、深さＤ、トラック幅Ｔの溝２５を形成する。

この溝２５の寸法は、幅はトラック幅Ｔと同じであり、
そして深さＤは、この溝２５に磁性材料を充填して磁気
ヘッドを構成した状態で、２Ｄ長がつ１り磁気記録媒体
が磁気ヘッドの磁性材部分と摺接して記録再生が行なわ
れる場合に、磁気ヘッド特性要因（例えば再生出力）を
低下せしむことのない最小限寸法のものであり、例えば
このＤの寸法は磁気記録媒体の記録に際しての記録波長
の約査〜１波長であるよう構成されるものである。

尚、エツチング手段によって溝２５を形成する場合には
、一体ブロック片２３の鏡面研磨面にレジスト膜を塗布
し、所定のトランク幅のパターンが形成されるよう露光
現像し、これによって形成された所定パターンのレジス
ト膜をマスクとしてドライエツチング、ウェットエツチ
ング等のエツチングを行ない、この後レジスト膜を除去
する。

その後、第１図Ｃに示す如く、一体ブロック片２３の溝
２５に所定の方向よりセンダスト合金、アモルファス合
金等の高磁束密度で高透磁率、かつ抗磁力の小さな磁性
材料を真空蒸着又はスパッタリング等のペーパーデポジ
ション法によって充ポする。この充填磁性材２６は、溝
２５に単に充填されるのみでなく、一体ブロック片２３
の直方体ブロック２１の部分とつながるように、すなわ
ち両者が磁気的接続されているようにしておくことが必
要である。又、同じ磁性材料がａ２４にも付着されて、
薄膜層が形成されるようにしておいてもよい。

尚、磁性材料の充填時には、例えば前記真空蒸着の蒸気
流の方向を溝２４の傾き面に対して直交となるようにし
、磁気的接続部の厚みを一定にする。

又、上記の磁性材料の充填に要する時間が長くかかる場
合には、例えばＭＯｌＣｒ、　Ｔｉ等の金属薄膜を溝２
５の表面部に形成し、そしてメッキ手段によって磁性材
料を充填するようにしてもよい。

そして、溝２５への磁性材料の充填によって磁気ヘッド
複合ブロック半体２７が構成される。

次に、従来の磁気ヘッド製造工程と同様に、上記磁気ヘ
ッド複合ブロック半体２７に対して磁気へラドのギャッ
プ幅となる厚さのギャップスペーサ材である非磁性の薄
膜層を鏡面研磨した後形成し、この薄膜層の形成された
磁気ヘッド複合ブロック半休と前記磁気ヘッド複合ブロ
ック半体２７とを、その充填磁性材２６同士が対向する
よう突き合わせ、ガラス又は有機質系の接着剤２８で両
石移気ヘッド複合ブロック半休を接合する。

尚、ガラス等で接合する場合にはアニール処理を兼ねた
加熱処理がなされるが、加熱処理を伴わない有機質系の
接着剤で接合する場合には、接合前に６９気ヘッド複合
ブロック半休をアニール処理し、充嘆磁性材料の磁気歪
を低減させ、透磁率、抗磁力の回復を行なうことが望ま
しい。

そして、この接合体の磁気記録媒体摺接面となる面に対
して所定の加工を施し、第１図ｄに示すような磁気ヘッ
ド複合ブロック２９を形成する。

尚、前記加工には、磁気ヘッド複合ブロック半休に対し
て第１図Ｃで示すようなマークを磁性材で形成しておけ
ば、ディプス残量のコントロールは簡単に行なえる。

その後、上記磁気ヘッド複合ブロック２９を従来の磁気
ヘッド製造工程と同様に切断すれば、第１図ｅに示すよ
うな磁気ヘッド３０が得られる。尚、第１図ｅ中、３１
．３２は直方体ブロック２１より形成されたコア半休、
３３は溝２４より形成された巻線用窓である。

このような工程を経て磁気ヘッドが製造されると、次の
ような特長を有することになる。

■　トラック幅形成用溝加工を半導体製造プロセスにお
いて用いられているプラズマエツチング等のエツチング
手段あるいはレーザー加工等の微細加工技術で行なうの
で、溝間隔が極めて狭くても可能であり、かつ極めて高
能率で高精度に加工できる。

従って、例えば１〜１５μｍといった狭トラツク幅の磁
気ヘッドを生産性よく作ることができる。

又、磁気ヘッド複合ブロック半休同士の接合に際して、
充填磁性材料同士のずれなく接合でき、すなわちトラッ
クずれかないように磁気ヘッド複合ブロックを作ること
ができるので、高性能で均一な品質の磁気ヘットが得ら
れる。

又、トラック幅形成用溝加工の制御も容易であり、例え
ばエツチング時間あるいはレーザー照射時間の制御で簡
単に行なえ、任意の形状の溝を簡単に形成できる。

■　従来の薄膜タイプの磁気ヘッドと異なり、巻線窓用
の溝を大きくでき、すなわち磁気ヘットの巻線窓を大き
くできるので巻線数を多くでき、従って記録再生能率が
高くなり、又、巻線窓が大きいことよりフロントギャッ
プに磁束が集中しやすいものとなり、磁束損失も少なく
、消費電力が少なくてもすむ。

■　トラック部の磁性材は、機械的歪を受けにくく、す
なわち、磁気歪による磁気特性劣下が少なく、記録再生
特性はよく、耐久性に富む。

■　又、トラック部に充填されている磁性材と磁気ヘッ
ドのコア部を構成する磁性材とが直接接続されているた
め、磁気ヘッドにありがちなバック部での磁気損失が極
めて少なく、電流消費も少ない。

■　又、トラック部の磁性材を耐摩耗性に優れた非磁性
材で囲繞したために、トランク部の磁性材の摩耗を少な
くでき、磁気ヘッドの長寿命化、さらには記録媒体摺接
面の偏摩耗ないし磁性粉の付着を防止することができる
。

■　又、トラック部は耐摩耗性に優れた非磁性材で囲続
しているだめ、トラック部の素材として、耐摩耗性に劣
っていた材料でも耐摩耗性を気にすることなく磁気特性
が優れていれば使用することが可能となり、目的に合う
材料が選択でき、磁気ヘッド性能を充分確保できる。

■　又、磁気記録媒体摺接間における磁気記録媒体走行
方向の磁性材料部分の長さ、つまりトラック部の長さは
短かく最小限のものであるので、磁気記録媒体の記録再
生に際しての磁界は急峻であって磁束密度は高く、記録
再生効率が高く、垂直磁気記録方式に適したものである
。

〔実施例２〕 第２図ａ　−ｄは、本発明に係る磁気ヘッドの第２の実
施例の製造工程説明図である。

まず、第２図ａに示す如く、耐摩耗性に優れた磁性材料
よりなる直方体ブロック４１の一面、例えば同図の上面
を鏡ａ１１研磨加工し、この鏡面研磨面に第１の実施例
と同様にその長手方向に沿って巻線窓となる溝４２と、
この溝４２の１側の部分、すなわち後部ギャップを構成
することになる部分に所定の間隔でもって前記溝４２と
直交する凹部４３を形成する。

そして、この後磁性材料よりなる直方体ブロック４１の
鏡面研磨面おうちの磁気ヘッドのフロントギャップ側の
面に、第２図すに示す如く、所定の間隔でもって耐摩耗
性に優れた非磁性材料を例えば真空蒸着又はスパッタリ
ングあるいは厚膜印刷法等により形成して非磁性部４４
を設け、これら各非磁性部４４間に前記実施例１と同様
な寸法である深さり、）ラック幅Ｔの凹部４５が形成さ
れるようにする。伺、凹部４５の形成手段は、非磁性部
を全面的に設け、その飢定の部分のみをエツチング等の
手段で除去形成するものであってもよい。

尚、前記凹部４５は、前記凹部４３の延長上の位置に対
応するようそれぞれ形成する。

その後、第２図Ｃに示す如く、凹部４３と凹部４５に第
１図Ｃの工程と同様な方法によって前記実施例と同様な
磁性材料を充填して充填磁性材４６部を形成し、磁気ヘ
ッド複合ブロック半体４７を構成する。

そして、同図Ｃの磁気ヘッド複合ブロック半体４７を用
いて第１図ｄの工程と同様にして突き合わせ、その後第
１図ｅの工程と同様にして切断すれば第２図ｄに示すよ
うな磁気ヘッド４８が得られる。

尚、同図ｄ中、４９．５０はコア半休である。

すなわち、第１の実施例の磁気ヘッド３０は、磁気記録
媒体の摺接面の中央位置に露出せしめた充填磁性材２６
を耐摩耗性に富んだ非磁性材で全周を囲むことによって
構成したのに対し、この第２の実施例の磁気ヘッド４８
は、磁気記録媒体の摺接面の中央位置に露出せしめた充
填磁性材４６の左右、すなわち磁気記録媒体の走行方向
と直交する方向の左右位置に耐摩耗性に富んだ非磁性材
料４４を設け、その他の部分を前記充填磁性材４６とは
その耐摩耗性が異なる、つまり耐摩耗性に富んだ磁性材
料で構成したが、記録再生のための磁気回路構成用の磁
気記録媒体との摺接面部である充填磁ｌ生材４６は耐摩
耗性に富んだ材料で囲われており、本実施例の磁気ヘッ
ドも同様に耐摩耗性に優れていて、又出力低下といった
欠点もない。また、磁性材料の摩耗が生じないことから
磁性粉が飛散することもなく、したがって磁気ヘッドが
汚れることもない。

〔効果〕

磁気ヘッドの特性を低下せしむることなく、かつ磁気ヘ
ッドの摩耗の少ないものであり、又学耗に起因していた
出力低下並びに磁性粉による磁勿１ヘッドの汚れが従来
のものよりも著しく少ない。

【図面の簡単な説明】

第１図ａ　−ｅは本発明に係る磁気ヘッドの第１の実施
例の説明図、第２図ａ　−ｄは本発明に係る磁気ヘッド
の第２の実施例の説明図、第３図は従来の磁気ヘッドの
説明図である。 ２６．４６・・・充填磁性材（磁性材）。 第１図 （Ｌ） ２３（ｂ） 第２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 磁気ヘッドの磁気記録媒体摺接面側を、幅が略トラック
   幅に、かつ磁気記録媒体走行方向の長さが磁気ヘッド特
   性要因を阻害することのない最小限寸法にした磁性材と
   、前記磁性材より耐摩耗性に優れた材料とで構成したこ
   とを特徴とする磁気ヘッド。