JPS60119612A - ダブルアジマス薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
ダブルアジマス薄膜磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPS60119612A JPS60119612A JP22686683A JP22686683A JPS60119612A JP S60119612 A JPS60119612 A JP S60119612A JP 22686683 A JP22686683 A JP 22686683A JP 22686683 A JP22686683 A JP 22686683A JP S60119612 A JPS60119612 A JP S60119612A
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明はダブルアジマス薄膜磁気ヘッドの製造方法に係
り、％に量産性を向上するのに好適な製造方法に関する
ものである。
り、％に量産性を向上するのに好適な製造方法に関する
ものである。
記録密度の向上にともない、ヘッドギャップ長の狭小化
が必要とされてきているが、従来の磁気ヘッドで用いら
れていた左右の磁気コアなギャップスペーサを挟んで機
械的に突き合せ接合するギャップボンディング法では、
突き合せ接合時におけるギャップ長制御が困難であり。
が必要とされてきているが、従来の磁気ヘッドで用いら
れていた左右の磁気コアなギャップスペーサを挟んで機
械的に突き合せ接合するギャップボンディング法では、
突き合せ接合時におけるギャップ長制御が困難であり。
歩留まりが低下するという欠点があった。その上、ダブ
ルアジマスベッドにおいては、ギヤツブボンティングを
１チツプにつき２回行わなければならず１歩留まりがさ
らに低下していた。
ルアジマスベッドにおいては、ギヤツブボンティングを
１チツプにつき２回行わなければならず１歩留まりがさ
らに低下していた。
そこで、薄膜技術を用いた磁気ヘッドが提案される至っ
た。第１図は従来の薄膜磁気ヘッドの製造工程図で、以
下、第１図の各工程の内容について第１図の（α）〜Ｖ
）の順に説明する。
た。第１図は従来の薄膜磁気ヘッドの製造工程図で、以
下、第１図の各工程の内容について第１図の（α）〜Ｖ
）の順に説明する。
（α）ガラス等の非磁性基板−１上に切削容易なステン
レス等の非磁性膜２１蒸着、スパッタリング等により被
着し、その上にセンダスト。
レス等の非磁性膜２１蒸着、スパッタリング等により被
着し、その上にセンダスト。
アモルファス等の藁１の軟磁性膜３をスパッタリング等
によりトラック幅相当分まで一層もしくはめＱ等の非磁
性層間膜４を介して多層積層する。
によりトラック幅相当分まで一層もしくはめＱ等の非磁
性層間膜４を介して多層積層する。
（，６＋ 軟磁性膜３の一部？１１′Ｖ字状バイトによ
り除去する。
り除去する。
（Ｃ）軟磁性膜３のＶ字状溝の斜面ＪｔｃＳｉへ等の非
磁性膜をスパッタリングしてギャップスペーサ５とする
。
磁性膜をスパッタリングしてギャップスペーサ５とする
。
（ｄｌキャップスペーサ５をスパッタリングした後、全
体の上面に第２の軟磁性膜３′を蒸着。
体の上面に第２の軟磁性膜３′を蒸着。
スパッタリング等によりトラック幅相当分まで一層もし
くは５ｉ偽等の非磁性層間膜４′ヲ介して多層積層する
。
くは５ｉ偽等の非磁性層間膜４′ヲ介して多層積層する
。
１４１ ギャップスペーサ５によって形成されるギャッ
プ６上端より上部の軟ｄ性膜５’ｆＵ字状バイトにより
除去する。
プ６上端より上部の軟ｄ性膜５’ｆＵ字状バイトにより
除去する。
び） 軟磁性８５’をＵ字状に除去した後、全体の上面
に保護用非磁性膜７を被着させ１巻線用窓穴８をあける
。
に保護用非磁性膜７を被着させ１巻線用窓穴８をあける
。
以上により、高精度の狭ギャップ長の薄膜磁気ヘッドを
製造することができるが、上記によす製造される磁気ヘ
ッドはシングルアジマスヘラトチある。そのため、ダブ
ルアジマスヘッドを製造する場合には、アジマス角度が
異なる２つのｒ字状バイトを用いて、２回バイト切削を
行って、２つの異なるアジマス角度の動作ギャップを持
つダブルアジマスヘッドを製作しなければならなＡｏし
たがって、左右の動作ギャップの位置精度出しが困難と
なり、歩留まりが悪かった。
製造することができるが、上記によす製造される磁気ヘ
ッドはシングルアジマスヘラトチある。そのため、ダブ
ルアジマスヘッドを製造する場合には、アジマス角度が
異なる２つのｒ字状バイトを用いて、２回バイト切削を
行って、２つの異なるアジマス角度の動作ギャップを持
つダブルアジマスヘッドを製作しなければならなＡｏし
たがって、左右の動作ギャップの位置精度出しが困難と
なり、歩留まりが悪かった。
また、第２図に示すように、２つの異なるアジマス角度
θ、θ′を持つ台形状バイトを用いて。
θ、θ′を持つ台形状バイトを用いて。
２つの異なるアジマス角度を持つ動作ギャップを一拍作
成することができる。この場合、まず第３図ｔａ＋に示
すように、ガラス等の非磁性基板１上に切削容易なステ
ンレス等の非出性ｆｌ［２をスパッタリング等により被
覆させ、その上にセンダスト、アモルファス等の軟磁性
膜３を蒸着。
成することができる。この場合、まず第３図ｔａ＋に示
すように、ガラス等の非磁性基板１上に切削容易なステ
ンレス等の非出性ｆｌ［２をスパッタリング等により被
覆させ、その上にセンダスト、アモルファス等の軟磁性
膜３を蒸着。
スパッタリング等によりトラック幅相当分まで一層もし
くはＳｔＱ等の非磁性層間膜４を介して多層積層する。
くはＳｔＱ等の非磁性層間膜４を介して多層積層する。
次に、同図（Ａｌに示すように、軟磁性膜３の一部を第
２図に示す形状のダイヤモンドバイトにより台形状に切
削し、そのときの切８１」面をそれぞれ＋−アジマスの
動作ギャップ面６．６′とすることか考えられる。
２図に示す形状のダイヤモンドバイトにより台形状に切
削し、そのときの切８１」面をそれぞれ＋−アジマスの
動作ギャップ面６．６′とすることか考えられる。
しかしながら、上記方法によるバイト切削では、切削時
にかなりの切削抵抗があり、しかも切削時の切り粉が切
削面上を上方向に流れるため、切削面が荒れ、また、切
削面上部にパリが生ずるなどの問題を生ずる。
にかなりの切削抵抗があり、しかも切削時の切り粉が切
削面上を上方向に流れるため、切削面が荒れ、また、切
削面上部にパリが生ずるなどの問題を生ずる。
本発明は上記に鑑みてなされたもので、その；目的とす
るところは、２つの異なるアジマス角をもった一対の動
作ギャップを高精度で炸裂でキ、シかも、量産性に優れ
たダブルアジマス薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する
ことにある〔発明の概要〕 本発明の特徴は、非磁性基板上に第１の軟磁性膜を被層
し、こ引Ｉの軟磁性膜にあらかじめ定めた幅の直憇状の
パターン溝を形成し、このパターン溝に沿って上記第１
の軟磁性膜の一部を両側がそれぞれ異なるアジマス角度
の台形状のバイトを用いて切削して除去し、切削した部
分の斜面上にギャップスペーサを被着し、さらにその上
に第２の軟磁性膜を被層し、この纂２の軟磁性膜の上面
と上記第１の軟磁性膜の上面を厚さがトラック幅相当分
となるように研暦し、上記第１の軟磁性膜と上記第２の
軟磁性膜とがはさんだそれぞれの上記ギャップスペーサ
が磁気ヘッドの２つの異なるアジマス角度の動作キャッ
プとなるようにした点にある。
るところは、２つの異なるアジマス角をもった一対の動
作ギャップを高精度で炸裂でキ、シかも、量産性に優れ
たダブルアジマス薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する
ことにある〔発明の概要〕 本発明の特徴は、非磁性基板上に第１の軟磁性膜を被層
し、こ引Ｉの軟磁性膜にあらかじめ定めた幅の直憇状の
パターン溝を形成し、このパターン溝に沿って上記第１
の軟磁性膜の一部を両側がそれぞれ異なるアジマス角度
の台形状のバイトを用いて切削して除去し、切削した部
分の斜面上にギャップスペーサを被着し、さらにその上
に第２の軟磁性膜を被層し、この纂２の軟磁性膜の上面
と上記第１の軟磁性膜の上面を厚さがトラック幅相当分
となるように研暦し、上記第１の軟磁性膜と上記第２の
軟磁性膜とがはさんだそれぞれの上記ギャップスペーサ
が磁気ヘッドの２つの異なるアジマス角度の動作キャッ
プとなるようにした点にある。
以下本発明の方法の一実施例″４を第４図を周込て詳細
に説明する。
に説明する。
編４図は本発明のダブルアジマス薄膜出猟ヘッドの製造
方法の一実施例を説明するための製造工程図である。
方法の一実施例を説明するための製造工程図である。
（イ）まず、兜４図（α）に示すように、ガラス、セラ
シックス等の耐摩耗性に優れた非磁性基板１上の一部に
ＰＩＱ等のパターン材をあらかじめ定めた幅に直線状に
塗布し、その上を含めて上記非磁性基板１上に切削容易
なステンレス等の非磁性膜２を蒸着、スパッタリング等
により５μｍ厚さに被着し、その上にセンダスト、アモ
ルファス等の第１の軟磁性＊５に蒸着、スパッタリング
等によりトラック幅相当分まで一層もしくはＳ１ｑ等の
非磁性層間膜４を介して多層積層し、その後、パターン
材の上部の第１の軟磁性膜３をラップにより除去し、続
いて上記パターン材を除去して直線状の溝９を形状する
。
シックス等の耐摩耗性に優れた非磁性基板１上の一部に
ＰＩＱ等のパターン材をあらかじめ定めた幅に直線状に
塗布し、その上を含めて上記非磁性基板１上に切削容易
なステンレス等の非磁性膜２を蒸着、スパッタリング等
により５μｍ厚さに被着し、その上にセンダスト、アモ
ルファス等の第１の軟磁性＊５に蒸着、スパッタリング
等によりトラック幅相当分まで一層もしくはＳ１ｑ等の
非磁性層間膜４を介して多層積層し、その後、パターン
材の上部の第１の軟磁性膜３をラップにより除去し、続
いて上記パターン材を除去して直線状の溝９を形状する
。
（口１ 次に、第４崗（ｂｌに示すように、溝９に沿っ
て第１の軟磁性Ｍ３の一部を兜２図に示した形状のダイ
ヤモンドバイトにより台形状に切削する。このとき、切
削面がそれぞれ＋−アジマスの動作ギャップ面ｉｏ 、
ｉｏ’となる。なお、この場合、ダイヤモンドバイト
の先端は第１の軟磁性膜５を貫通するが、非磁性基板１
には達しないようにする。
て第１の軟磁性Ｍ３の一部を兜２図に示した形状のダイ
ヤモンドバイトにより台形状に切削する。このとき、切
削面がそれぞれ＋−アジマスの動作ギャップ面ｉｏ 、
ｉｏ’となる。なお、この場合、ダイヤモンドバイト
の先端は第１の軟磁性膜５を貫通するが、非磁性基板１
には達しないようにする。
（ハ）次に、第４図（Ｃ１に示すように、動作ギャップ
面１０ 、１０’上にＳ番ｑ等のギャップスペーサ５を
所足のギャップ長になるようにスパッタリング等により
被着する。
面１０ 、１０’上にＳ番ｑ等のギャップスペーサ５を
所足のギャップ長になるようにスパッタリング等により
被着する。
に） 次に、第４図（ｄｉに示すように、すべての上面
に第２の軟磁性膜６′を蒸着、スパッタリング等により
トラック幅相当分まで一層もしくはＳ番ｑ等の非磁性層
間膜４′ヲ介して多層積層する。
に第２の軟磁性膜６′を蒸着、スパッタリング等により
トラック幅相当分まで一層もしくはＳ番ｑ等の非磁性層
間膜４′ヲ介して多層積層する。
旧 次に、第４図（ｇｌに示すように、第２の軟磁性膜
３の上面をスズ定盤上で粒径６μｍ、５μｍ。
３の上面をスズ定盤上で粒径６μｍ、５μｍ。
１μｍのダイヤペーストにより上記の順忙順次研磨し、
目的のトラック幅相当にする。
目的のトラック幅相当にする。
ｆＸｌ 次に、第４因（７”ｌに示すように、研磨した
上面にＡＩ、Ｏ，等の保饅用非磁性膜７を５０μｍ厚さ
に被着し、その後１巻線用窓穴７を超音波加工によって
設ける。
上面にＡＩ、Ｏ，等の保饅用非磁性膜７を５０μｍ厚さ
に被着し、その後１巻線用窓穴７を超音波加工によって
設ける。
上記した本＠明の製造方法の実施例によればバイト左右
の切削面の切り粉は、バイト内側に。
の切削面の切り粉は、バイト内側に。
逃けることができ、パリの発生を抑えることができる。
さらに、切削面積が溝９の分だけ少なくてすむので、そ
れだけ切削抵抗が小さくなり。
れだけ切削抵抗が小さくなり。
切削面精度が同上する。これにともない、２つ１の異な
ったアジマス角を持つ高精度の動作ギャップ面１０．１
０’ｌ’ １回のバイト切削により形成することができ
る。しかも、ギャップ面間隔の制御が容易である。以上
により量産性に優れ声ものとなる。
ったアジマス角を持つ高精度の動作ギャップ面１０．１
０’ｌ’ １回のバイト切削により形成することができ
る。しかも、ギャップ面間隔の制御が容易である。以上
により量産性に優れ声ものとなる。
第３図に示す方法によるバイト切削においては１面精度
０．１Ｓ以下にはできず、ギャップ面としては使用でき
なかったが１本発明に係る方法によれば１面精ｇ ｏ、
ｏｓ ｓ以下とすることが可能であり、十分にギャップ
面として使用可能である。また、切削抵抗は第３図の場
合の１Ａ以下にできる。
０．１Ｓ以下にはできず、ギャップ面としては使用でき
なかったが１本発明に係る方法によれば１面精ｇ ｏ、
ｏｓ ｓ以下とすることが可能であり、十分にギャップ
面として使用可能である。また、切削抵抗は第３図の場
合の１Ａ以下にできる。
以上説明したように、本発明によれば、２つの異なるア
ジマス角を持った一対の動作ギャップを高精度で作製で
き、高精度ダブルアジミス薄腹出気ヘッドとすることが
でき、しかも、量産性に優れているという効果がある。
ジマス角を持った一対の動作ギャップを高精度で作製で
き、高精度ダブルアジミス薄腹出気ヘッドとすることが
でき、しかも、量産性に優れているという効果がある。
第１因は従来の薄膜磁気ヘッドの製造工程図。
第２図はダブルアンマスギヤラグ作成用バイト・の要部
説明図、第３図は第２図のバイトを用いた従来のダブル
アンマスギャップ形成の工程図、。 謔４図は本発明のダブルアジマス薄膜磁気ヘッドの製造
方法の一実施例を説明するための製造工程図である。 １・・・非出性基板 ２・・・非磁性膜３．３′・・・
第１の軟磁性膜 ４．４′・・・非磁性層間ＩＸ５・・・ギャップスペー
サ７・・・保護用非殊性属 ８・・・巻線用窓穴？・・
・溝 １０ 、 Ｉ Ｑ’・・・動作ギヤツブ面’Ｆｉ
ｔ図 第２図 （α） （し） 閉４図
説明図、第３図は第２図のバイトを用いた従来のダブル
アンマスギャップ形成の工程図、。 謔４図は本発明のダブルアジマス薄膜磁気ヘッドの製造
方法の一実施例を説明するための製造工程図である。 １・・・非出性基板 ２・・・非磁性膜３．３′・・・
第１の軟磁性膜 ４．４′・・・非磁性層間ＩＸ５・・・ギャップスペー
サ７・・・保護用非殊性属 ８・・・巻線用窓穴？・・
・溝 １０ 、 Ｉ Ｑ’・・・動作ギヤツブ面’Ｆｉ
ｔ図 第２図 （α） （し） 閉４図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ｔ 非磁性基板よに第１の軟磁性Ｊ［を被層し。 該第１の軟磁性膜にあらかじめ定めた幅の直線状のパタ
ーン＃ｌを形成し、該パターン溝に沿って前記第１の軟
磁性膜の一部を両側がそれぞれ異なるアジマス角度の台
形状のバイトを用いて切削して除去し、切削した部分の
斜面上にギャップスペーサを被着し、さらにその上に纂
２の軟磁性膜を被着し、該第２の軟磁性膜の上面と前記
第１の軟磁性膜の上面な厚さがトラック幅相当分となる
ように研磨し前記第１の軟磁性膜と前記第２の軟磁性膜
とがはさんだそれぞれの上記ギャップスペーサが磁気ヘ
ッドの２つの異なるアジマス１１［の動作ギャップとな
るようにしたことを特徴とするダブルアジマス薄膜磁気
ヘッドの製造方法。 ２、 前記第１の軟磁性膜へのパターン溝の形成は、前
記非磁性基板上の一部にパターン材をあらかじめ定めた
幅に直線状に塗布し、その上を含めて前記非磁性基板上
Ｋｍ記第１の軟磁性膜を被着し、その後、前記パターン
材の上部の前記第１の軟性性Ｍをラップにより除去し、
続いて前記パターン材を除去して形成する特許請求の範
囲藁１項記載のダブルアジマス薄膜磁気ヘッドの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22686683A JPS60119612A (ja) | 1983-12-02 | 1983-12-02 | ダブルアジマス薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22686683A JPS60119612A (ja) | 1983-12-02 | 1983-12-02 | ダブルアジマス薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60119612A true JPS60119612A (ja) | 1985-06-27 |
Family
ID=16851796
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22686683A Pending JPS60119612A (ja) | 1983-12-02 | 1983-12-02 | ダブルアジマス薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60119612A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0233086A2 (en) * | 1986-02-13 | 1987-08-19 | Sony Corporation | Thin film magnetic head |
| JPH0363912A (ja) * | 1989-08-02 | 1991-03-19 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘッド |
| EP0508533A2 (en) * | 1991-04-12 | 1992-10-14 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of manufacturing a magnetic head, and magnetic head and magnetic head cluster obtainable by said method |
-
1983
- 1983-12-02 JP JP22686683A patent/JPS60119612A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0233086A2 (en) * | 1986-02-13 | 1987-08-19 | Sony Corporation | Thin film magnetic head |
| JPH0363912A (ja) * | 1989-08-02 | 1991-03-19 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘッド |
| EP0508533A2 (en) * | 1991-04-12 | 1992-10-14 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of manufacturing a magnetic head, and magnetic head and magnetic head cluster obtainable by said method |
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