JPS6245623A - 光ディスク基板の製造方法 - Google Patents
光ディスク基板の製造方法Info
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- JPS6245623A JPS6245623A JP60186961A JP18696185A JPS6245623A JP S6245623 A JPS6245623 A JP S6245623A JP 60186961 A JP60186961 A JP 60186961A JP 18696185 A JP18696185 A JP 18696185A JP S6245623 A JPS6245623 A JP S6245623A
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- resin
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、カーボネート結合を構成する単位の中で懸
垂する芳香族基を少なくとも１個以上含む単位が全カー
ボネート結合構成単位に対してコ！〜１００重量％含ま
れるポリカーボネート樹脂に関するものである。なかで
も耐熱性や光学的特性の優れた成形物の製造に用いられ
る材料、特に透明性が優れ、光学的な歪みが小さい光デ
イスク基板を製造するのに適する材料に関する。
垂する芳香族基を少なくとも１個以上含む単位が全カー
ボネート結合構成単位に対してコ！〜１００重量％含ま
れるポリカーボネート樹脂に関するものである。なかで
も耐熱性や光学的特性の優れた成形物の製造に用いられ
る材料、特に透明性が優れ、光学的な歪みが小さい光デ
イスク基板を製造するのに適する材料に関する。
従来カーボネート結合を構成する単位の中で懸垂する芳
香族基を少なくとも１個以上含むポリカーボネート樹脂
は文献等には記載されているが物性値としてはＴｇｏ
Ｔｍなどが記載されているにすぎず、成形体として実用
的に優れた物性を有するのか、加工が実質的に可能なの
かどうかまったくわからないのが現状である。ところで
光学的用途に使用する成形物、例えば、板状、シート状
の成形物は透明でちると共に光学的歪みの小さいもので
あることが必要とされる。
香族基を少なくとも１個以上含むポリカーボネート樹脂
は文献等には記載されているが物性値としてはＴｇｏ
Ｔｍなどが記載されているにすぎず、成形体として実用
的に優れた物性を有するのか、加工が実質的に可能なの
かどうかまったくわからないのが現状である。ところで
光学的用途に使用する成形物、例えば、板状、シート状
の成形物は透明でちると共に光学的歪みの小さいもので
あることが必要とされる。
特にディジタル信号を利用して光情報材料すなわち光デ
ィスクとして供する場合１例えばディジタルオーディオ
ディスク、ディジタルビデオディスク、更には情報読み
取り、書き込みを目的としたディスクにおいては透明性
の要求が極めて厳格であり、光学的歪みについては実成
形品において複屈折にしてｔ ｘ ｔｏ 以下である
ことが要求される。
ィスクとして供する場合１例えばディジタルオーディオ
ディスク、ディジタルビデオディスク、更には情報読み
取り、書き込みを目的としたディスクにおいては透明性
の要求が極めて厳格であり、光学的歪みについては実成
形品において複屈折にしてｔ ｘ ｔｏ 以下である
ことが要求される。
通常、このような形状のものを成形するには、簡便な方
法として、射出成形法が採用されるのであるが、光学的
歪みを少なくする方法として溶融樹脂温度を上げて、お
るいは樹脂の分子量を下げて溶融流動性をよくする方法
がとられる。
法として、射出成形法が採用されるのであるが、光学的
歪みを少なくする方法として溶融樹脂温度を上げて、お
るいは樹脂の分子量を下げて溶融流動性をよくする方法
がとられる。
また、長期に亘り連続使用されるディスクの場合過酷な
使用環境にも耐える必要から耐熱性の要求も厳格である
。
使用環境にも耐える必要から耐熱性の要求も厳格である
。
光学的歪みを少なくする方法として溶融樹脂温度を上げ
ると樹脂の熱劣化に伴なう種々のトラブルを生起する。
ると樹脂の熱劣化に伴なう種々のトラブルを生起する。
また樹脂の分子量を下げるとディスクの強度が低下して
満足な成形片が得られない。
満足な成形片が得られない。
更に耐熱性の尺度となるガラス転移温度は。
樹脂が個有の値を持つ為改良の余地はない。以上の様に
従来の技術では充分な解決に到っていない。
従来の技術では充分な解決に到っていない。
本発明者らは、コ、２−ビス−（≠ヒドロキシフェニル
）−プロパンからのポリカーボネートに比べて、光学的
特性、耐熱性等に優れ、かつ溶融成形が可能であるポリ
カーボネート樹脂を鋭意検討したところ、カーボネート
結合を構成する単位の中で懸垂する芳香族基を少なくと
も１個以上含むポリカーボネート樹脂で特定の分子量の
ものが本発明の目的に合致することを見い出し、上記従
来技術の問題点を解決したものである。
）−プロパンからのポリカーボネートに比べて、光学的
特性、耐熱性等に優れ、かつ溶融成形が可能であるポリ
カーボネート樹脂を鋭意検討したところ、カーボネート
結合を構成する単位の中で懸垂する芳香族基を少なくと
も１個以上含むポリカーボネート樹脂で特定の分子量の
ものが本発明の目的に合致することを見い出し、上記従
来技術の問題点を解決したものである。
すなわち、カーボネート結合を構成する単位の中で懸垂
する芳香族基を少なくとも７個以上含む単位（以下カー
ボネート結合単位Ａと略称する）が、全カーボネート結
合構成単位に対して−２ｊ〜１００重量％好ましくはｔ
Ｏ〜ｉｏ。
する芳香族基を少なくとも７個以上含む単位（以下カー
ボネート結合単位Ａと略称する）が、全カーボネート結
合構成単位に対して−２ｊ〜１００重量％好ましくはｔ
Ｏ〜ｉｏ。
重′ｉｋ％含まれ、平均分子量がり、、、１００〜／４
１，０００範囲のポリカーボネート樹脂である。懸垂す
る芳香族基とは、アリール基及びアラルキル基を意味す
る。
１，０００範囲のポリカーボネート樹脂である。懸垂す
る芳香族基とは、アリール基及びアラルキル基を意味す
る。
ところで、この発明でぃうカーボネート結合とは、アル
コール性水酸基またはフェノール性水酸基と例えばホス
ゲンとを反応させて得られ０ ・ た、カーボネート結合を構成する単位とは、とのような
カーボネート結合間に構成される構成単位を指す。また
、このカーボネート結合間のてもさしつかえはない。
コール性水酸基またはフェノール性水酸基と例えばホス
ゲンとを反応させて得られ０ ・ た、カーボネート結合を構成する単位とは、とのような
カーボネート結合間に構成される構成単位を指す。また
、このカーボネート結合間のてもさしつかえはない。
ところで、懸垂する芳香族基を少なくとも１個以上含む
カーボネート結合構成単位とじては、下記一般式（１）
で示されるものが例示される。
カーボネート結合構成単位とじては、下記一般式（１）
で示されるものが例示される。
一般式〔１〕
ただし［”！〕式中ＸおよびＹは水素原子、炭素数／、
Ｊの脂肪族炭化水素基および炭素数４〜ｌコの７リール
またはアラルキル基より選択され、かつ、ＸおよびＹの
少なくともいずれか一つは炭素数ｔ〜１２のアリールま
たはアルキル基である。
Ｊの脂肪族炭化水素基および炭素数４〜ｌコの７リール
またはアラルキル基より選択され、かつ、ＸおよびＹの
少なくともいずれか一つは炭素数ｔ〜１２のアリールま
たはアルキル基である。
また、２およびＷは、水素原子または炭素数／−Ａの脂
肪族炭化水素基を示す。
肪族炭化水素基を示す。
また、場合により、この構成単位と共に含まれていても
よい構成単位としては、下記一般式（１）で示されるも
の等が例示される。
よい構成単位としては、下記一般式（１）で示されるも
の等が例示される。
一般式［１１１
−ｓ−１−ＳＯ＋、または−８〜−で示される２価の基
を示しく Ｒ１、Ｒ２は水素原子または炭素数／〜ｔの
アルキル基、Ｒ３は炭素数μ〜！のフルキレン基）、芳
香環はアルキル基またはハロゲ／原子を有していてもよ
い。
を示しく Ｒ１、Ｒ２は水素原子または炭素数／〜ｔの
アルキル基、Ｒ３は炭素数μ〜！のフルキレン基）、芳
香環はアルキル基またはハロゲ／原子を有していてもよ
い。
このようなポリカーボネートを製造する方法としては、
懸垂する芳香族基を少なくとも１個以上含むジオール化
合物、特に芳香族ジオール化合物の一種以上にホスゲン
を吹き込み、界面重合または溶液重合させる公知の方法
が提案される。
懸垂する芳香族基を少なくとも１個以上含むジオール化
合物、特に芳香族ジオール化合物の一種以上にホスゲン
を吹き込み、界面重合または溶液重合させる公知の方法
が提案される。
また、その際、少産のテレフタル酸クロライド、イソフ
タル酸クロライド、アジビり酸クロライドのような酸ク
ロライド、ピペラジンのようなジアミンを共存させてカ
ーボネート結合以外の結合をカーボネート結合構成単位
の中に内存させてもよい。
タル酸クロライド、アジビり酸クロライドのような酸ク
ロライド、ピペラジンのようなジアミンを共存させてカ
ーボネート結合以外の結合をカーボネート結合構成単位
の中に内存させてもよい。
懸垂する芳香族基を少なくとも１つ以上有するジオール
、とりわけ、芳香族ジオールとしてハ例、ｔ ハ、ビス
（μｍヒドロキシフェニル）フェニルメタン、Ｉ、／−
ビス（ｔＡ−ヒドロキシフェニル）−／−フェニルエタ
ン、／、／−ヒス（４ｃｍヒドロキシフェニル）−／−
フェニルプロパン、ビス（μｍヒドロキシフェニル）ジ
フェニルメタン、ビス（μｍヒドロキシフェニル）ジベ
ンジルメタン、０−クメルレゾルシン、フこＯ発明にお
いては、本発明で規定するような芳香族基を有しないカ
ーボネート結合構成単位を導入してもさしつかえない。
、とりわけ、芳香族ジオールとしてハ例、ｔ ハ、ビス
（μｍヒドロキシフェニル）フェニルメタン、Ｉ、／−
ビス（ｔＡ−ヒドロキシフェニル）−／−フェニルエタ
ン、／、／−ヒス（４ｃｍヒドロキシフェニル）−／−
フェニルプロパン、ビス（μｍヒドロキシフェニル）ジ
フェニルメタン、ビス（μｍヒドロキシフェニル）ジベ
ンジルメタン、０−クメルレゾルシン、フこＯ発明にお
いては、本発明で規定するような芳香族基を有しないカ
ーボネート結合構成単位を導入してもさしつかえない。
これは、得られるポリカーボネートの溶融流動性を高め
、成形性改良をはかる上で好ましいが懸垂する芳香族基
を有する単位が２！重量％に満たないとポリマーのガラ
ス転移温度が大ＩＩＡＫ低下し、耐熱性及び光学的特性
を低下されるので好ましくない。その際に用いられる共
重合用化合物としてハ％Ｌｔハ／、／−ビス（ｇ−ヒド
ロキシフェニルツメタン、 ｔ、ｔ−ビス（弘−ヒド
ロキシフェニル）エタン、 ｉ、ｉ−ビス（弘−ヒド
ロキシフェニル）プロパン、コ、コービス（μｍヒドロ
キシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）ｓ’、コ
ービス（μｍヒドロキシフェニル）ブタン、コ、コーヒ
ｘ （ａ−ヒドロキシフェニル）ぺ／夕／、コツ２−ビ
ス（μｍヒドロキシフェニル） −！ −メチルブタン
、コ、コービス（ｌＡ−ヒドロキシフェニル）ヘキサン
、コ、コービス（弘−ヒドロキシフェニル）−μｍメチ
ルペンタン、１．／−ビス（μｍヒドロキシフェニル）
シクロヘキ′ｔ１″ノ、コツ２−ビス（μｍヒドロキシ
−３−クロロフェニル）プロパン、２．２−ビス（μｍ
ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フロハ／、≠、４１
′−ジヒドロキシジフェニルエーテル、μ、ｆ−ジヒド
ロキシジフェニルスルフィドといったビスフェノール類
、 又ａ、 レゾルシン％ ０−メチルレゾルシンと
いったコ価のフェノール化合物等を挙げることができる
。又場合によっては、イン７タル酸クロライド、アジビ
り酸クロライド、セバシン酸クロライドのような酸クロ
ライド、ピペラジンのようなジアミンを共存させ共重合
させてもよい。
、成形性改良をはかる上で好ましいが懸垂する芳香族基
を有する単位が２！重量％に満たないとポリマーのガラ
ス転移温度が大ＩＩＡＫ低下し、耐熱性及び光学的特性
を低下されるので好ましくない。その際に用いられる共
重合用化合物としてハ％Ｌｔハ／、／−ビス（ｇ−ヒド
ロキシフェニルツメタン、 ｔ、ｔ−ビス（弘−ヒド
ロキシフェニル）エタン、 ｉ、ｉ−ビス（弘−ヒド
ロキシフェニル）プロパン、コ、コービス（μｍヒドロ
キシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）ｓ’、コ
ービス（μｍヒドロキシフェニル）ブタン、コ、コーヒ
ｘ （ａ−ヒドロキシフェニル）ぺ／夕／、コツ２−ビ
ス（μｍヒドロキシフェニル） −！ −メチルブタン
、コ、コービス（ｌＡ−ヒドロキシフェニル）ヘキサン
、コ、コービス（弘−ヒドロキシフェニル）−μｍメチ
ルペンタン、１．／−ビス（μｍヒドロキシフェニル）
シクロヘキ′ｔ１″ノ、コツ２−ビス（μｍヒドロキシ
−３−クロロフェニル）プロパン、２．２−ビス（μｍ
ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フロハ／、≠、４１
′−ジヒドロキシジフェニルエーテル、μ、ｆ−ジヒド
ロキシジフェニルスルフィドといったビスフェノール類
、 又ａ、 レゾルシン％ ０−メチルレゾルシンと
いったコ価のフェノール化合物等を挙げることができる
。又場合によっては、イン７タル酸クロライド、アジビ
り酸クロライド、セバシン酸クロライドのような酸クロ
ライド、ピペラジンのようなジアミンを共存させ共重合
させてもよい。
これらカーボネート結合単位人以外のカーボネート結合
構成単位を導入するにめたっては、本発明の要件を満た
す範囲で共重合させても又別途重合したものについて本
発明の要件を満たすようにあとから適宜混合させてもよ
い。
構成単位を導入するにめたっては、本発明の要件を満た
す範囲で共重合させても又別途重合したものについて本
発明の要件を満たすようにあとから適宜混合させてもよ
い。
本発明を実施するにあたり、懸垂する芳香族基を少なく
とも１個以上含むジオールとホスゲンからポリカーボネ
ート樹脂を製造する方法は１具体的には塩化メチレン、
ｌ、２−ジクロルメタンなどの不活性溶媒存在下ジオー
ル類に酸受容体としてアルカリ水溶液あるいはピリジ／
などを入れ、ホスゲンを導入しながら反応させる。
とも１個以上含むジオールとホスゲンからポリカーボネ
ート樹脂を製造する方法は１具体的には塩化メチレン、
ｌ、２−ジクロルメタンなどの不活性溶媒存在下ジオー
ル類に酸受容体としてアルカリ水溶液あるいはピリジ／
などを入れ、ホスゲンを導入しながら反応させる。
酸受容体としてアルカリ水溶液を使う時は触媒としてト
リメチルアミン、トリエチルアミン等の第３級アミン、
あるいはテトラブチルアンモニウムクロリド、ベンジル
トリブチルア／モニクムプロミド等第１ＩＬ級アンモニ
ウム化合物を用いると反応速度が増大する。また必要に
応じて分子量調節剤としてフェノールｐ−ターシャリ−
ブチルフェノール等−価のフェノールヲ共存させる。反
応温度はｏ−ｉ ｏ ｏ℃である。触媒は最初から入れ
てもよいし、オリゴマーを作った後に入れて高分子量化
する等任意の方法がとれる。また、前記共重合用化合物
を懸垂する芳香族基を少なくとも１つ以上有するジオー
ルと共重合する方法としては、 （イ）最初に同時にホスゲンと反応させて重合する。
リメチルアミン、トリエチルアミン等の第３級アミン、
あるいはテトラブチルアンモニウムクロリド、ベンジル
トリブチルア／モニクムプロミド等第１ＩＬ級アンモニ
ウム化合物を用いると反応速度が増大する。また必要に
応じて分子量調節剤としてフェノールｐ−ターシャリ−
ブチルフェノール等−価のフェノールヲ共存させる。反
応温度はｏ−ｉ ｏ ｏ℃である。触媒は最初から入れ
てもよいし、オリゴマーを作った後に入れて高分子量化
する等任意の方法がとれる。また、前記共重合用化合物
を懸垂する芳香族基を少なくとも１つ以上有するジオー
ルと共重合する方法としては、 （イ）最初に同時にホスゲンと反応させて重合する。
（ロ）一方をまずホスゲンと反応させある穆度反応を行
なった後他方を入れて重合する。
なった後他方を入れて重合する。
（ハ）別々にホスゲンと反応させてオリゴマーをつくり
、それらを反応させて重合する。
、それらを反応させて重合する。
等任意の方法がとれる。
更に別途重合したものについて混合する方法としては、
それぞれの粉末あるいは粒状物を混合した後押出機、ニ
ーダ−混線ロール等で溶融状態にして混合する方法溶液
ブレンド法等任意の方法がとれる。
それぞれの粉末あるいは粒状物を混合した後押出機、ニ
ーダ−混線ロール等で溶融状態にして混合する方法溶液
ブレンド法等任意の方法がとれる。
また、この発明に使用されるポリカーボネートは平均分
子量にしてタタ００ Ｓ−／ ４ｔ０００のものが好ま
しい。ここで言う平均分子量とはポリマーｔｔ７ｔの塩
化メチレン溶液を用い２０℃で測定されるηθｐから下
記の式−ｌおよび式−２より求められる値である。
子量にしてタタ００ Ｓ−／ ４ｔ０００のものが好ま
しい。ここで言う平均分子量とはポリマーｔｔ７ｔの塩
化メチレン溶液を用い２０℃で測定されるηθｐから下
記の式−ｌおよび式−２より求められる値である。
η日ｐ／ｃ＝ｃ η］（／＋Ｋ ηｅｐ） ・
・・・・・・・・（／ ）〔η）＝ＫＭ“ ・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・（コ）式中Ｃポリマー濃度 ｙ７ｔ 〔η〕 極限粘度 Ｋ’＝０．２１ Ｋ ／、２Ｊ×１０”−” （！＝（７，Ｊ’Ｊ
ｙ 平均分子量 光学的歪みの小さい成形材料を得る上で支障をきたす。
・・・・・・・・（／ ）〔η）＝ＫＭ“ ・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・（コ）式中Ｃポリマー濃度 ｙ７ｔ 〔η〕 極限粘度 Ｋ’＝０．２１ Ｋ ／、２Ｊ×１０”−” （！＝（７，Ｊ’Ｊ
ｙ 平均分子量 光学的歪みの小さい成形材料を得る上で支障をきたす。
この発明のポリカーボネート系重合体を成形するにあた
って、亜りン酸エステル類を樹脂に対し０．０７〜２重
量％添加することは樹脂の分解による着色、透明性の低
下を抑制する上で好ましい。
って、亜りン酸エステル類を樹脂に対し０．０７〜２重
量％添加することは樹脂の分解による着色、透明性の低
下を抑制する上で好ましい。
かかる亜リン酸エステルとしては、トリブチルホスファ
イト、トリス（２−エチルヘキシル）ホスファイト、ト
リデシルホスファイト、トリステアリルホスファイト、
トリフェニルホスファイト、トリクレジルホスファイト
％ｌ−エチルへキシルジフェニルホスファイト、テ゛ゝ
シルジフェニルホスファイト、トリシクロヘキシルホス
ファイト、ジステアリルペンタエリスリチルジホスファ
イト等を挙げることが出来る。かかる亜リン酸エステル
を含有させる方法としてはトライブレンドする方法、押
し出し機でベレット化する際に溶融混合する方法、ある
いはその際亜リン酸エステル濃度の高いマスターベレッ
トをつくす未添加ベレットとトライブレンドする方法を
挙げることが出来る。
イト、トリス（２−エチルヘキシル）ホスファイト、ト
リデシルホスファイト、トリステアリルホスファイト、
トリフェニルホスファイト、トリクレジルホスファイト
％ｌ−エチルへキシルジフェニルホスファイト、テ゛ゝ
シルジフェニルホスファイト、トリシクロヘキシルホス
ファイト、ジステアリルペンタエリスリチルジホスファ
イト等を挙げることが出来る。かかる亜リン酸エステル
を含有させる方法としてはトライブレンドする方法、押
し出し機でベレット化する際に溶融混合する方法、ある
いはその際亜リン酸エステル濃度の高いマスターベレッ
トをつくす未添加ベレットとトライブレンドする方法を
挙げることが出来る。
以下、この発明で用いるポリカーボネートおよびそのオ
リゴマーの具体的製造方法を実施例として例示する。な
お、以下各組成物の成分の量を示す部はすべて重量部で
ある。
リゴマーの具体的製造方法を実施例として例示する。な
お、以下各組成物の成分の量を示す部はすべて重量部で
ある。
尚、実施例、比較例で得られた樹脂はコニチルへキシル
ジフェニルホスファイトラ／ ｊ Ｏ（オンス） ｐｐｍ添加した後、成形温度３’ＡＯ℃で、／ ＯＺの
射出成形機（日精樹脂製）で表に示す成形条件で、厚さ
１．コ簡、直径１０ｃａの円板を成形した。
ジフェニルホスファイトラ／ ｊ Ｏ（オンス） ｐｐｍ添加した後、成形温度３’ＡＯ℃で、／ ＯＺの
射出成形機（日精樹脂製）で表に示す成形条件で、厚さ
１．コ簡、直径１０ｃａの円板を成形した。
また、同時に高化式フローテスターにより、２１０℃、
せん断速度１０３ｓｅｃ’ における見掛けの溶融粘
度ηａを測定し、溶融流動性の目やすとした。
せん断速度１０３ｓｅｃ’ における見掛けの溶融粘
度ηａを測定し、溶融流動性の目やすとした。
複屈折については円板中心より！、θαおよび４Ａ、ｔ
ｃｔｎ位置での複屈折（以後Δｎコ、０ 、 Δｎ４
４ｊと略記する）で評価した。複屈折は日本光学工業株
式会社裂の偏光顕微鏡により測定した。引張特性は引張
試験機により！聰／順の引張速度でＡＳＴＭ Ｄ＆ＪＩ
に準じた測定を行ない求めた。ガラス転移温度（Ｔｇ）
は示差走査熱量計（パーキンエルマー社製）により求め
た。各実施例の測定結果を後記衣−７に示す。
ｃｔｎ位置での複屈折（以後Δｎコ、０ 、 Δｎ４
４ｊと略記する）で評価した。複屈折は日本光学工業株
式会社裂の偏光顕微鏡により測定した。引張特性は引張
試験機により！聰／順の引張速度でＡＳＴＭ Ｄ＆ＪＩ
に準じた測定を行ない求めた。ガラス転移温度（Ｔｇ）
は示差走査熱量計（パーキンエルマー社製）により求め
た。各実施例の測定結果を後記衣−７に示す。
実施例／
〈ポリカーボネートの製造例〉
／、／−ビス（≠−ヒドロキシフェニル）−／−フェニ
ルエタン １００部Ｐ−ターシャリ
ーブチルフェノール ／、３部ピリジン
Ｊｏｏ部塩化メチレン
１０００部から成る混合物を攪拌機つき反応器に仕込
みｊｏ ｏ ｒｐｍで攪拌した。
ルエタン １００部Ｐ−ターシャリ
ーブチルフェノール ／、３部ピリジン
Ｊｏｏ部塩化メチレン
１０００部から成る混合物を攪拌機つき反応器に仕込
みｊｏ ｏ ｒｐｍで攪拌した。
次にホス７７１０部を１時間の間に吹き込み、溶液重量
を行なった。
を行なった。
反応終了後、塩酸水溶液で過剰のビリジ／を中和し、水
、塩酸水溶液、ついで水を用いて洗浄し、最終的には塩
化メチレンを蒸発させて樹脂を取り出した。
、塩酸水溶液、ついで水を用いて洗浄し、最終的には塩
化メチレンを蒸発させて樹脂を取り出した。
この樹脂の平均分子量はｔｏａｏｏであった。
実施例λ
くポリカーボネートの製造例〉
／、／−ビス（≠−ヒドロキシフェニル）−７−フェニ
ルエタン ｉｏｏ部コ、２−ビス（Ｉｉ＆−ヒ
ドロキシ −３−メｆ ルフェニル）プロパン ３０部ｐ−ターシ
ャリ−ブチルフェノール へＯ部ピリジン
１００部塩化メチレン
２３００部上記混合物を攪拌機つき反応器に仕込み、夕
００ ｒｐｍで攪拌した。
ルエタン ｉｏｏ部コ、２−ビス（Ｉｉ＆−ヒ
ドロキシ −３−メｆ ルフェニル）プロパン ３０部ｐ−ターシ
ャリ−ブチルフェノール へＯ部ピリジン
１００部塩化メチレン
２３００部上記混合物を攪拌機つき反応器に仕込み、夕
００ ｒｐｍで攪拌した。
次にホスデフ５０部を１時間の中に吹き込み、溶液重合
を行なった。反応終了後、塩酸水溶液で過剰のピリジン
を中和し、水、塩酸水溶液ついで水を用いて洗浄し、最
後に塩化メチレンを蒸発させて樹脂を取り出した。
を行なった。反応終了後、塩酸水溶液で過剰のピリジン
を中和し、水、塩酸水溶液ついで水を用いて洗浄し、最
後に塩化メチレンを蒸発させて樹脂を取り出した。
この樹脂の平均分子量は／１０００でおり、ＮＭＲの分
析結果より共重合されている２、２−ビス（弘−ヒドロ
キシ−３−メチルフェニル）プロパンの量は２３重量％
であった。
析結果より共重合されている２、２−ビス（弘−ヒドロ
キシ−３−メチルフェニル）プロパンの量は２３重量％
であった。
実施例３
〈ポリカーボネートのオリゴマーの製造例〉／、／−ビ
ス（≠−ヒドロキシフェ ニル） −／−フェニルエタｙ ｉｏｏ部水酸化ナ
トリウム ≠Ｏ部水
ｔｏｏ部塩化メチレン
３７１部上記混合物を攪拌機付反応器に仕
込み１１００ｒｐで攪拌した。これにホスデフ５フ部を
１時間の間に吹き込み、界面重合を行なった。反応終了
後ポリカーボネートオリゴマーを含有する塩化メチレン
溶液のみを捕集した。得られたオリゴマーの塩化メチレ
ン溶液の分析結果は下記のとおりであった。
ス（≠−ヒドロキシフェ ニル） −／−フェニルエタｙ ｉｏｏ部水酸化ナ
トリウム ≠Ｏ部水
ｔｏｏ部塩化メチレン
３７１部上記混合物を攪拌機付反応器に仕
込み１１００ｒｐで攪拌した。これにホスデフ５フ部を
１時間の間に吹き込み、界面重合を行なった。反応終了
後ポリカーボネートオリゴマーを含有する塩化メチレン
溶液のみを捕集した。得られたオリゴマーの塩化メチレ
ン溶液の分析結果は下記のとおりであった。
オリゴマー濃度 ２２．ｊ重量％
（注ｌ〕
末端クロロホーメート基濃度 ０．≠２規定（注２）
末端フェノール性水酸基４度 ０．０２０規定（注３
） 以上の方法で得られたオリゴマー溶液を以下オリゴマー
溶液−八と略称する。
） 以上の方法で得られたオリゴマー溶液を以下オリゴマー
溶液−八と略称する。
注／）蒸発乾固させて測定。
−ａＸ）アニリンと反応させて得られるアニリ／塩酸塩
をＯ，コ規定水酸化ナトリウム水溶液で中和滴定。
をＯ，コ規定水酸化ナトリウム水溶液で中和滴定。
往３）四塩化チタン、酢酸溶液に溶解させたときの発色
を！μ＆ ｎｍ で比色定量。
を！μ＆ ｎｍ で比色定量。
実施例≠
〈ポリカーボネートの製造例〉
ポリカーボネートオリゴマー
溶液−Ａ １ＩＡＯ部Ｐ−ターシ
ャリーブチルフェノール ハタ部 塩化メチン／ ｌｒＱ部上記混合物を
攪拌機付反応器に仕込みｊｔｊＯｒｐｍで攪拌した。更
に下記組成の水溶液すなわち、 水酸化ナトリウムの７．３％水溶液 １０部トリエチル
アミンの２％水溶液 １部を加え、３時間界面重合
を行ない反応混合物を分液し、ポリカーボネート樹脂を
含む塩化メチレン溶液を、水、塩酸水溶液ついで水を用
いて洗浄し最後に塩化メチレンを蒸発させて樹脂を取り
出した。この樹脂の平均分子量は／／、２００であった
。
ャリーブチルフェノール ハタ部 塩化メチン／ ｌｒＱ部上記混合物を
攪拌機付反応器に仕込みｊｔｊＯｒｐｍで攪拌した。更
に下記組成の水溶液すなわち、 水酸化ナトリウムの７．３％水溶液 １０部トリエチル
アミンの２％水溶液 １部を加え、３時間界面重合
を行ない反応混合物を分液し、ポリカーボネート樹脂を
含む塩化メチレン溶液を、水、塩酸水溶液ついで水を用
いて洗浄し最後に塩化メチレンを蒸発させて樹脂を取り
出した。この樹脂の平均分子量は／／、２００であった
。
比較例１
くポリカーボネートの製造例〉
Ｐ−ターシャリ−グチルフェノールをｌＪ部に変更する
以外は上記実施例μと同様の方法によりポリカーボネー
トを製造した。この樹脂の平均分子量は７ｒθ０であっ
た。
以外は上記実施例μと同様の方法によりポリカーボネー
トを製造した。この樹脂の平均分子量は７ｒθ０であっ
た。
比較例２
〈ポリカーボネートの製造例〉
Ｐ−ターシャリ−ブチルフェノールを０．！部に変更す
る以外は上記実施例グと同様の方法によりポリカーボネ
ートを製造した。この樹脂の平均分子量は／ Ａ、りＯ
Ｏであった。
る以外は上記実施例グと同様の方法によりポリカーボネ
ートを製造した。この樹脂の平均分子量は／ Ａ、りＯ
Ｏであった。
比較例３
〈ポリカーボネートオリゴマーの製造例〉水酸化ナトリ
ウム水溶液にビスフェノールＡを溶解して調整したビス
フェノールＡ ナトリウム塩の７４．＆％水溶液 ｉｏｏ部Ｐ−ター
シャリ−ブチルフェノ ール ０．２３部塩化メチ
レ／ μＱ部ホスゲン
７部上記組成の混合物を定量的にパイプリ
アクターへ供給し、界面重合を行なった。
ウム水溶液にビスフェノールＡを溶解して調整したビス
フェノールＡ ナトリウム塩の７４．＆％水溶液 ｉｏｏ部Ｐ−ター
シャリ−ブチルフェノ ール ０．２３部塩化メチ
レ／ μＱ部ホスゲン
７部上記組成の混合物を定量的にパイプリ
アクターへ供給し、界面重合を行なった。
反応混合物を分液し、ポリカーボネートオリゴマーを含
有する塩化メチレン溶液のみを捕集した。
有する塩化メチレン溶液のみを捕集した。
得られたオリゴマーの塩化メチレン溶液の分析結果は下
記のとおりであった。（測定方法は前述の通＃）） オリゴマー濃度 ２≠、！重量チ末端りロロホ
ーメート基濃度 ／、３規定 末端フェノール性水酸基濃度 ０．３規定 以上の方法で得られたオリゴマー溶液を以下オリゴマー
溶液−Ｂと略称する。
記のとおりであった。（測定方法は前述の通＃）） オリゴマー濃度 ２≠、！重量チ末端りロロホ
ーメート基濃度 ／、３規定 末端フェノール性水酸基濃度 ０．３規定 以上の方法で得られたオリゴマー溶液を以下オリゴマー
溶液−Ｂと略称する。
比較例μ
〈ポリカーボネートの製造例〉
ポリカーボネートオリゴマー溶液−３
１６０部
Ｐ−ターシャリ−ブチルフェノール
０．７部
塩化メチレン ／３０部上記混合物を、
攪拌機付反応器に仕込み、ｊ ｊ Ｏｒｐｍで攪拌した
。更に下記組成の水溶液、すなわち、 ビスフェノールＡナトリウム塩の ／６．ｔチ水溶液 ｔｏ部 水酸化す） ＩＪウムの２！チ水溶液 ｒ部トリエチル
アミンの ２慢水溶液 １部を加え、約／、Ｊ′時間界
面重合を行ない、反応混合物を分液し、ポリカーボネー
ト樹脂を含む塩化メチレン溶液を、水、塩酸水溶液、つ
いで水を用いて洗浄し、最後に塩化メチン／を蒸発させ
て樹脂を取シ出した。
攪拌機付反応器に仕込み、ｊ ｊ Ｏｒｐｍで攪拌した
。更に下記組成の水溶液、すなわち、 ビスフェノールＡナトリウム塩の ／６．ｔチ水溶液 ｔｏ部 水酸化す） ＩＪウムの２！チ水溶液 ｒ部トリエチル
アミンの ２慢水溶液 １部を加え、約／、Ｊ′時間界
面重合を行ない、反応混合物を分液し、ポリカーボネー
ト樹脂を含む塩化メチレン溶液を、水、塩酸水溶液、つ
いで水を用いて洗浄し、最後に塩化メチン／を蒸発させ
て樹脂を取シ出した。
この樹脂の平均分子量は１７≠００であった。
比較例！
くポリカーボネートの製造例〉
Ｐ−ターシャリ−ブチルフェノールをへ３部に変更する
以外は上記比較例μと同様の方法によりポリカーボネー
トを製造した。
以外は上記比較例μと同様の方法によりポリカーボネー
トを製造した。
この樹脂の平均分子量は／４ｔ７００であった。
比較例≦
〈ポリカーボネートの製造例〉
Ｐ−ターシャリ−ブチルフェノールを４．９部に変更す
る以外は上記比較例弘と同様の方法Ｋｊ リｙＮ １７
カーボネートを製造した。この樹脂の平均分子量はｉ３
．ｏｏｏであった。
る以外は上記比較例弘と同様の方法Ｋｊ リｙＮ １７
カーボネートを製造した。この樹脂の平均分子量はｉ３
．ｏｏｏであった。
この表に示される様に本発明のポリカーボネートｗ脂は
ビスフェノールＡのポリカーボネート樹脂に比較して溶
融流動性は低下しているにもかかわらず、複屈折がかな
シ低くなることおよびΔｎ■変化が極めて小さいことが
認められまた耐熱性についても大巾に改善されている。
ビスフェノールＡのポリカーボネート樹脂に比較して溶
融流動性は低下しているにもかかわらず、複屈折がかな
シ低くなることおよびΔｎ■変化が極めて小さいことが
認められまた耐熱性についても大巾に改善されている。
一方平均分子量がり、ｊｏｏに満たないと強度の面で好
ましくなくｌμ、０００を越えると光学的歪みの小さい
成形材料を得る上で支障をきたす。
ましくなくｌμ、０００を越えると光学的歪みの小さい
成形材料を得る上で支障をきたす。
以上説明したように本発明の成形材料は耐熱性光学的特
性に優れかつ溶融成形が可能なポリカーボネート樹脂で
あり、優れた光情報材料の製造に用いることができる。
性に優れかつ溶融成形が可能なポリカーボネート樹脂で
あり、優れた光情報材料の製造に用いることができる。
出 願 人 三菱化成工業株式会社
代 理 人 弁理士 長谷用 −ほかｔ名
Claims (1)
- （１）カーボネート結合を構成する単位の中で懸垂する
芳香族基を少なくとも１個以上含む単位が、全カーボネ
ート結合構成単位に対して２５〜１００重量％含有され
、且つ、平均分子量が９，５００〜１４，０００である
ポリカーボネート
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60186961A JPH0668021B2 (ja) | 1985-08-26 | 1985-08-26 | 光ディスク基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60186961A JPH0668021B2 (ja) | 1985-08-26 | 1985-08-26 | 光ディスク基板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6245623A true JPS6245623A (ja) | 1987-02-27 |
| JPH0668021B2 JPH0668021B2 (ja) | 1994-08-31 |
Family
ID=16197755
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60186961A Expired - Lifetime JPH0668021B2 (ja) | 1985-08-26 | 1985-08-26 | 光ディスク基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0668021B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6356523A (ja) * | 1986-08-27 | 1988-03-11 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 新規共重合体とその製造法 |
| JPS6368632A (ja) * | 1986-09-10 | 1988-03-28 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 新規重合体とその製造方法 |
| JPS6389527A (ja) * | 1986-10-02 | 1988-04-20 | Daicel Chem Ind Ltd | 光学式デイスク |
| JPS6395227A (ja) * | 1986-10-09 | 1988-04-26 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 重合体とその製造法 |
| JPS6395228A (ja) * | 1986-10-09 | 1988-04-26 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 重合体とその製造方法 |
| JPS63154729A (ja) * | 1986-12-19 | 1988-06-28 | Daicel Chem Ind Ltd | 光学式デイスク |
| EP0508775A2 (en) * | 1991-04-09 | 1992-10-14 | Ge Plastics Japan Limited | Method of producing copolymerized polycarbonates |
| EP0508774A2 (en) * | 1991-04-09 | 1992-10-14 | Ge Plastics Japan Limited | Copolymerized polycarbonates |
| JPH10109950A (ja) * | 1996-10-03 | 1998-04-28 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 光学部品 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS5098332A (ja) * | 1973-12-26 | 1975-08-05 | ||
| EP0089801A1 (en) * | 1982-03-18 | 1983-09-28 | Konica Corporation | Optical element and optical resin composition for the preparation thereof |
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| JPS6011530A (ja) * | 1983-06-29 | 1985-01-21 | Sumitomo Chem Co Ltd | ポリカ−ボネ−ト共縮合体の製造法 |
-
1985
- 1985-08-26 JP JP60186961A patent/JPH0668021B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| EP0508775A2 (en) * | 1991-04-09 | 1992-10-14 | Ge Plastics Japan Limited | Method of producing copolymerized polycarbonates |
| EP0508774A2 (en) * | 1991-04-09 | 1992-10-14 | Ge Plastics Japan Limited | Copolymerized polycarbonates |
| US5384388A (en) * | 1991-04-09 | 1995-01-24 | Ge Plastics Japan | Method of producing copolymerized polycarbonates |
| US5405933A (en) * | 1991-04-09 | 1995-04-11 | General Electric Company | Copolymerized polycarbonates |
| US5606009A (en) * | 1991-04-09 | 1997-02-25 | General Electric Company | Copolymerized polycarbonates |
| JPH10109950A (ja) * | 1996-10-03 | 1998-04-28 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 光学部品 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0668021B2 (ja) | 1994-08-31 |
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